JPH10252943A - 真空バルブ - Google Patents
真空バルブInfo
- Publication number
- JPH10252943A JPH10252943A JP8211997A JP8211997A JPH10252943A JP H10252943 A JPH10252943 A JP H10252943A JP 8211997 A JP8211997 A JP 8211997A JP 8211997 A JP8211997 A JP 8211997A JP H10252943 A JPH10252943 A JP H10252943A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- bellows
- vacuum
- inner space
- communication hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Details Of Valves (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空バルブの摺動部から発生したパーティク
ルがバルブ外部に拡散し、真空処理装置の置かれたクリ
ーンルーム内を汚染する事を防止する。 【解決手段】 バルブシャフトの摺動部をOリング等の
軸シールと、ベローズを用いて二重シールした超高真空
用真空バルブに於いて、ベローズの内側空間部とバルブ
外の大気空間部とを結ぶ連通孔にエアフィルタを設け
た。
ルがバルブ外部に拡散し、真空処理装置の置かれたクリ
ーンルーム内を汚染する事を防止する。 【解決手段】 バルブシャフトの摺動部をOリング等の
軸シールと、ベローズを用いて二重シールした超高真空
用真空バルブに於いて、ベローズの内側空間部とバルブ
外の大気空間部とを結ぶ連通孔にエアフィルタを設け
た。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空バルブに関
し、特に薄膜作製の為の半導体製造装置に使用される真
空バルブの改良に関する。
し、特に薄膜作製の為の半導体製造装置に使用される真
空バルブの改良に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置は、その多くの工程を真
空雰囲気中で行うものが多いが、最近の超LSIでは、
集積度の高まりにつれて、装置が実現できる真空のレベ
ル(いわゆる真空度)は勿論の事、製造装置中の塵(パ
ーティクル)が製品歩留まりに与える影響が益々大きな
比重を占める様になっている。そこで、パーティクルに
よる悪影響を避け、製品歩留まりの向上を図るため、半
導体製造中の真空雰囲気のパーティクルの厳しい管理が
要求されている。
空雰囲気中で行うものが多いが、最近の超LSIでは、
集積度の高まりにつれて、装置が実現できる真空のレベ
ル(いわゆる真空度)は勿論の事、製造装置中の塵(パ
ーティクル)が製品歩留まりに与える影響が益々大きな
比重を占める様になっている。そこで、パーティクルに
よる悪影響を避け、製品歩留まりの向上を図るため、半
導体製造中の真空雰囲気のパーティクルの厳しい管理が
要求されている。
【0003】ところで、これら半導体製造装置は通常数
多くの部品から構成されているが、製造装置全体のクリ
ーン度を高める為には、これらの構成部品もパーティク
ルの発生が少ないクリーンなものが求められてきている
し、出来上がった製造装置全体を清浄に保つ為には、パ
ーティクルの発生を押さえた特別の部屋(クリーンルー
ム)内に設置する必要もある。そして、クリーンルーム
内に置かれた製造装置を運転する上で必要となる種々の
ガスを制御する為に用いられるバルブ類も、当然前述の
目的に沿った特別仕様の弁(真空バルブ)が用いられて
いる。
多くの部品から構成されているが、製造装置全体のクリ
ーン度を高める為には、これらの構成部品もパーティク
ルの発生が少ないクリーンなものが求められてきている
し、出来上がった製造装置全体を清浄に保つ為には、パ
ーティクルの発生を押さえた特別の部屋(クリーンルー
ム)内に設置する必要もある。そして、クリーンルーム
内に置かれた製造装置を運転する上で必要となる種々の
ガスを制御する為に用いられるバルブ類も、当然前述の
目的に沿った特別仕様の弁(真空バルブ)が用いられて
いる。
【0004】従来、この種の真空バルブにはバルブ摺動
部から発生した塵の拡散を押さえるためとか、摺動部か
らの真空漏れを極力低減させ、装置の超高真空を実現
(通常10-7Toor以下)するために、種々の工夫が
施されてきており、その一つがOリングとベローズの二
重シールを用いる方法である。この方法が用いられた真
空バルブでは、バルブシャフトの摺動部の真空シールに
関して、Oリング等の軸シールを用いて封止し、その上
から更にベローズを用いて封止し、二重にシールしてい
た。
部から発生した塵の拡散を押さえるためとか、摺動部か
らの真空漏れを極力低減させ、装置の超高真空を実現
(通常10-7Toor以下)するために、種々の工夫が
施されてきており、その一つがOリングとベローズの二
重シールを用いる方法である。この方法が用いられた真
空バルブでは、バルブシャフトの摺動部の真空シールに
関して、Oリング等の軸シールを用いて封止し、その上
から更にベローズを用いて封止し、二重にシールしてい
た。
【0005】従来からあるこの種の真空バルブでは、バ
ルブ組立後や、バルブを装置組み込み後に、バルブのベ
ローズ部から漏れが無いかどうかをHeリークディテク
タ等で検査するために、バルブの外からベローズの大気
側の内側空間部にHeガス等を導入するための連通孔を
有していた。この連通孔は、又、弁体の上下動に伴うベ
ローズの伸縮でベローズの内側空間部の内容積が変化
し、このため内圧が変動し、ベローズが短寿命とならな
いように、ベローズの内側空間部の大気がバルブの外部
と自由に出入できるようにする機能上の観点からも必要
なものであった。
ルブ組立後や、バルブを装置組み込み後に、バルブのベ
ローズ部から漏れが無いかどうかをHeリークディテク
タ等で検査するために、バルブの外からベローズの大気
側の内側空間部にHeガス等を導入するための連通孔を
有していた。この連通孔は、又、弁体の上下動に伴うベ
ローズの伸縮でベローズの内側空間部の内容積が変化
し、このため内圧が変動し、ベローズが短寿命とならな
いように、ベローズの内側空間部の大気がバルブの外部
と自由に出入できるようにする機能上の観点からも必要
なものであった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造装置、特に
薄膜作製の為の真空装置はパーティクルが少ない特別の
クリーンルーム内に設置される。しかし、上記従来の真
空バルブは、連通孔があるためバルブ開閉に伴い、ベロ
ーズの内側空間部における摺動部から発生するパーテイ
クルをバルブの外へ排出し、クリーンルームを汚染して
しまうといった欠点があった。製品歩留まりを大きく左
右するこのパーティクルは出来るだけ発生を押さえる
か、又は押さえられない時は拡散を防止することが要求
されるが、連通孔を無くしてしまえば、ベローズ部のH
eリークテストができなくなり、またバルブ開閉に伴い
ベローズの内側空間部の圧力が変化し、ベローズに力が
掛かり、ベローズの寿命が短くなる。
薄膜作製の為の真空装置はパーティクルが少ない特別の
クリーンルーム内に設置される。しかし、上記従来の真
空バルブは、連通孔があるためバルブ開閉に伴い、ベロ
ーズの内側空間部における摺動部から発生するパーテイ
クルをバルブの外へ排出し、クリーンルームを汚染して
しまうといった欠点があった。製品歩留まりを大きく左
右するこのパーティクルは出来るだけ発生を押さえる
か、又は押さえられない時は拡散を防止することが要求
されるが、連通孔を無くしてしまえば、ベローズ部のH
eリークテストができなくなり、またバルブ開閉に伴い
ベローズの内側空間部の圧力が変化し、ベローズに力が
掛かり、ベローズの寿命が短くなる。
【0007】本発明の目的は、上記の問題を解決するこ
とにあり、ベローズの内側空間部と大気空間部とを通じ
る連通孔を有する真空バルブの開閉に伴い、ベローズの
内側空間部から発生するパーティクルを、バルブ外へ排
出しない真空バルブを提供することにある。
とにあり、ベローズの内側空間部と大気空間部とを通じ
る連通孔を有する真空バルブの開閉に伴い、ベローズの
内側空間部から発生するパーティクルを、バルブ外へ排
出しない真空バルブを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段および作用】上記の目的を
達成するために、本発明の真空バルブは、バルブシャフ
トを介して弁体を駆動させる真空バルブのバルブシャフ
ト摺動部を軸封材で真空封止し、その上からベローズで
被い、当該ベローズの内側空間部とバルブ外の大気空間
部とを連通孔で連通した真空バルブにおいて、該連通孔
にエアフィルタを設けたものである。このエアフィルタ
を設けることにより、ベローズの内側空間部で発生する
パーティクルをバルブ外のクリーンルーム内へ排出する
ことが防げられる。
達成するために、本発明の真空バルブは、バルブシャフ
トを介して弁体を駆動させる真空バルブのバルブシャフ
ト摺動部を軸封材で真空封止し、その上からベローズで
被い、当該ベローズの内側空間部とバルブ外の大気空間
部とを連通孔で連通した真空バルブにおいて、該連通孔
にエアフィルタを設けたものである。このエアフィルタ
を設けることにより、ベローズの内側空間部で発生する
パーティクルをバルブ外のクリーンルーム内へ排出する
ことが防げられる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に本発明の真空バルブの好適
な実施形態を図面に基づいて説明する。図1はいわゆる
自動L型真空バルブと呼ばれるものである。3はシリン
ダであり、隔壁19を挟み込んで、バルブボディ15と
ボルト20で固定されており、該シリンダ3内にはピス
トン2が納められている。1及び14はピストン2を動
作させるための圧搾気体(エア)の出入口ポート、4は
シリンダに設けられた上部ストツパ部である。ピストン
2の中心にはバルブシャフト6の一端がナット5を用い
て固定され、該シャフトは隔壁19を摺動自在に貫通し
てバルブボディ15内に延び、他端で弁体7部とつなが
っている。12及び13の部分はバルブボディ15の一
部を形成し、本発明の真空バルブで制御すべき被制御流
体が流れる為の流通口である。弁体7がバルブボディ1
5の弁座16に対面する部分には真空シール材17が付
設されている。又、弁体7と隔壁19との間にはバルブ
シャフト6を包んでベローズ8が設けられ、ベローズ8
の一端は隔壁19に、他端は弁体7に固定されている。
10はベローズ8の内部側空間9とバルブ外の大気空間
部とを結ぶ連通孔、11はその連通孔10に設けられた
エアフィルタである。
な実施形態を図面に基づいて説明する。図1はいわゆる
自動L型真空バルブと呼ばれるものである。3はシリン
ダであり、隔壁19を挟み込んで、バルブボディ15と
ボルト20で固定されており、該シリンダ3内にはピス
トン2が納められている。1及び14はピストン2を動
作させるための圧搾気体(エア)の出入口ポート、4は
シリンダに設けられた上部ストツパ部である。ピストン
2の中心にはバルブシャフト6の一端がナット5を用い
て固定され、該シャフトは隔壁19を摺動自在に貫通し
てバルブボディ15内に延び、他端で弁体7部とつなが
っている。12及び13の部分はバルブボディ15の一
部を形成し、本発明の真空バルブで制御すべき被制御流
体が流れる為の流通口である。弁体7がバルブボディ1
5の弁座16に対面する部分には真空シール材17が付
設されている。又、弁体7と隔壁19との間にはバルブ
シャフト6を包んでベローズ8が設けられ、ベローズ8
の一端は隔壁19に、他端は弁体7に固定されている。
10はベローズ8の内部側空間9とバルブ外の大気空間
部とを結ぶ連通孔、11はその連通孔10に設けられた
エアフィルタである。
【0010】上記真空バルブを開にするには、圧搾空気
(エア)をポート1に入れることにより、ピストン2を
上方向に移動させ、シリンダ3の上部ストッパ部4に接
触し停止させる。その結果、ピストン2にナット5で固
着されたバルブシャフト6を介して弁体7が上方向に移
動し、流通口12と13が連通状態となり、バルブは開
となる。
(エア)をポート1に入れることにより、ピストン2を
上方向に移動させ、シリンダ3の上部ストッパ部4に接
触し停止させる。その結果、ピストン2にナット5で固
着されたバルブシャフト6を介して弁体7が上方向に移
動し、流通口12と13が連通状態となり、バルブは開
となる。
【0011】その際ベローズ8が縮むので、ベローズ8
の大気側の内側空間9の中の大気は圧縮され、連通孔1
0からエアフィルタ11を介してバルブ外のクリーンル
ーム内に排出される。
の大気側の内側空間9の中の大気は圧縮され、連通孔1
0からエアフィルタ11を介してバルブ外のクリーンル
ーム内に排出される。
【0012】また、上記真空バルブを閉にするには、圧
搾空気(エア)をポート14に入れることにより、ピス
トン2が下方向に移動し、ピストン2にナット5にて接
続されたバルブシャフト6を介して弁体7がバルブボデ
ィ15の弁座16に接触し停止する。この際、弁体7に
付属した真空シール材17により、流通口12と13が
弁体7により気密に遮断され、バルブは閉状態となる。
搾空気(エア)をポート14に入れることにより、ピス
トン2が下方向に移動し、ピストン2にナット5にて接
続されたバルブシャフト6を介して弁体7がバルブボデ
ィ15の弁座16に接触し停止する。この際、弁体7に
付属した真空シール材17により、流通口12と13が
弁体7により気密に遮断され、バルブは閉状態となる。
【0013】その際ベローズ8は伸長し、ベローズ8の
大気側の内側空間9が減圧状態となり、バルブ外のクリ
ーンルーム内の大気がエアフィルタ11を介して連通孔
10を通りベローズの内側空間9に導入される。
大気側の内側空間9が減圧状態となり、バルブ外のクリ
ーンルーム内の大気がエアフィルタ11を介して連通孔
10を通りベローズの内側空間9に導入される。
【0014】このような構造となっているので、真空バ
ルブを開状態にする際、ベローズ8の内側空間9のパー
ティクルをバルブの外に排出することがなく、クリーン
ルームをパーティクルにより汚染することはない。
ルブを開状態にする際、ベローズ8の内側空間9のパー
ティクルをバルブの外に排出することがなく、クリーン
ルームをパーティクルにより汚染することはない。
【0015】尚、本実施形態では自動L型真空バルブの
例を説明したが、手動L型真空バルブ、手動のゲートバ
ルブ、自動のゲートバルブ等、バルブ開閉時にベローズ
伸縮を伴う真空バルブ全てに応用できることは言うまで
もない。また、図1ではエアフィルタ11を真空バルブ
の外に配置した図で示したが、連通孔10内に内蔵して
もよいことは勿論である。
例を説明したが、手動L型真空バルブ、手動のゲートバ
ルブ、自動のゲートバルブ等、バルブ開閉時にベローズ
伸縮を伴う真空バルブ全てに応用できることは言うまで
もない。また、図1ではエアフィルタ11を真空バルブ
の外に配置した図で示したが、連通孔10内に内蔵して
もよいことは勿論である。
【0016】
【発明の効果】真空バルブの開閉を行っても、ベローズ
の内側空間部から発生するパーティクルを真空バルブの
外部へ排出しないので、真空バルブでクリーンルーム内
をパーティクル汚染することが防げられる。
の内側空間部から発生するパーティクルを真空バルブの
外部へ排出しないので、真空バルブでクリーンルーム内
をパーティクル汚染することが防げられる。
【図1】本発明の一実施形態を示した真空バルブの縦断
面図である。
面図である。
1 ポート 2 ピストン 3 シリンダ 4 上部ストッパ部 5 ナット 6 バルブシャフト 7 弁体 8 ベローズ 9 ベローズの内側空間 10 連通孔 11 エアフィルタ 12 流通口 13 流通口 14 ポート 15 バルブボディ 16 弁座 17 真空シール材 18 軸シール 19 隔壁 20 ボル
Claims (1)
- 【請求項1】 真空バルブの弁体を駆動するバルブシャ
フトを導入するに際して、バルブシャフト摺動部を軸封
材で真空封止し、その上から更にベローズで封止し、当
該ベローズの内側空間部とバルブ外の大気空間部とを連
通孔で連通した真空バルブにおいて、該連通孔にエアフ
ィルタを設けたことを特徴とする真空バルブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8211997A JPH10252943A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 真空バルブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8211997A JPH10252943A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 真空バルブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10252943A true JPH10252943A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13765534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8211997A Pending JPH10252943A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 真空バルブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10252943A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001108130A (ja) * | 1999-05-25 | 2001-04-20 | Applied Materials Inc | 半導体ウェーハ処理装置用クラスタバルブ |
JP2003532842A (ja) * | 1999-11-30 | 2003-11-05 | ウエファーマスターズ, インコーポレイテッド | 小型ゲートバルブ |
US6786464B2 (en) | 2001-04-12 | 2004-09-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pneumatic valve |
JP2007162873A (ja) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Mitsumi Electric Co Ltd | エアオペレートバルブ |
CN102182856A (zh) * | 2011-02-11 | 2011-09-14 | 张家港富瑞特种装备股份有限公司 | 高真空挡板阀的阀盖 |
KR101075591B1 (ko) * | 2011-05-20 | 2011-10-20 | (주)아이엠 | 반도체 제조장비용 게이트 밸브 |
CN112228570A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-15 | 亚达管道***股份有限公司 | 高真空型压力传感器根阀 |
CN112687587A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-20 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 真空腔体晶圆传送阀门控制结构 |
KR20210149617A (ko) * | 2020-06-02 | 2021-12-09 | 주식회사 에스알티 | 진공밸브 |
-
1997
- 1997-03-14 JP JP8211997A patent/JPH10252943A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001108130A (ja) * | 1999-05-25 | 2001-04-20 | Applied Materials Inc | 半導体ウェーハ処理装置用クラスタバルブ |
JP2003532842A (ja) * | 1999-11-30 | 2003-11-05 | ウエファーマスターズ, インコーポレイテッド | 小型ゲートバルブ |
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CN112228570A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-15 | 亚达管道***股份有限公司 | 高真空型压力传感器根阀 |
CN112687587A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-20 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 真空腔体晶圆传送阀门控制结构 |
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