JPH10239834A - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents
画像形成材料及び画像形成方法Info
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- JPH10239834A JPH10239834A JP9047854A JP4785497A JPH10239834A JP H10239834 A JPH10239834 A JP H10239834A JP 9047854 A JP9047854 A JP 9047854A JP 4785497 A JP4785497 A JP 4785497A JP H10239834 A JPH10239834 A JP H10239834A
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Abstract
の画像形成材料、酸発生剤と酸分解性化合物とを含有す
る感光層を有する画像形成材料であって赤外線による露
光で画像形成が可能な画像形成材料、及び赤外線に対す
る感度が高く、かつ良好な現像性及び保存性を有するポ
ジ型の画像形成材料及びこれらを用いた画像形成方法を
提供する。 【解決手段】 支持体上に、活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物、酸の存在下で架橋しうる結合を有
する化合物及び下記一般式(1)又は(2)で表される
シアニン色素を含有する感光層を有する画像形成材料。
上記の画像形成材料に赤外線で画像露光の後、アル
カリ性現像液で未露光部を除去する工程を有する画像形
成方法。
Description
で画像形成が可能な、活性光の照射により酸を発生する
化合物、酸の存在下で架橋しうる化合物及び赤外線吸収
剤を含有するネガ型感光層を有する画像形成材料及びそ
れを用いた画像形成方法に関する。
画像形成材料として、米国特許第5,340,699号
明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂(架橋剤)、ノボ
ラック樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、
画像露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことにより
ネガ型の画像形成材料として使用され、上記加熱処理を
施さないとポジ型の画像形成材料として使用される技術
が開示されている。しかし、該画像形成いは、赤外線に
対する感度が十分でなく、半導体レーザ等による画像露
光(描画)に時間がかかる問題がある。また、現像性に
ついても、支持体上に色素が残存し印刷で地汚れが発生
するなどの問題がある。また、現像のラチチュードが狭
いためにランニング処理を続けた場合に安定した現像が
困難となる問題があった。
外線による露光で画像形成が可能なネガ型の画像形成材
料及び画像形成方法を提供することである。
下で架橋しうる化合物とを含有する感光層を有する画像
形成材料であって赤外線による露光で画像形成が可能な
画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法を提供する
ことである。
が高く、かつ良好な現像性及び保存性を有するポジ型の
画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法を提供する
ことである。
する本発明の構成は下記(1)及び(2)である。
酸を発生し得る化合物、酸の存在下で架橋しうる結合を
少なくとも1つ有する化合物及び下記一般式(1)又は
(2)で表されるシアニン色素を含有する感光層を有す
ることを特徴とする画像形成材料。
原子又はセレン原子を表し、X1及びX2は各々置換基を
有していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成
するのに必要な非金属原子群を表し、Lは炭素原子数5
〜13の共役結合の連鎖を表し、R1及びR2は各々炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコ
キシ基、−{(CH2)n−O−}k−(CH2)mOR9基
(n及びmは各々1〜3の整数を表し、kは0又は1を
表し、R9は炭素原子数1〜5のアルキル基を表
す。)、−R10−SO3M(R10は炭素原子数1〜5の
アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Mは水素
原子又はアルカリ金属原子を表す。)又は−R10−CO
OM(R10は炭素原子数1〜5のアルキレン基又はアル
キレンオキシ基を表し、Mは水素原子、アルカリ金属原
子又はカチオン性原子群を表す。)を表し、R1及びR2
のどちらか一方はアニオン性解離性基を表す。R3及び
R4は各々炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−{(C
H2)n−O−}k−(CH2)mOR9基(n及びmは各々
1〜3の整数を表し、kは0又は1を表し、R9は炭素
原子数1〜5のアルキル基を表す。)、−R10−SO3
M(R10は炭素原子数1〜5のアルキレン基又はアルキ
レンオキシ基を表し、Mは水素原子又はアルカリ金属原
子を表す。)又は−R10−COOM(R10は炭素原子数
1〜5のアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、
Mは水素原子、アルカリ金属原子又はカチオン性原子群
を表す。)を表し、R3及びR4のどちらか一方はアニオ
ン性解離性基を表し、R5、R6、R7及びR8は各々炭素
原子数1〜3のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子
を表す。〕 (2)上記(1)に記載の画像形成材料の感光層上に赤
外線を用いて画像を描画した後、アルカリ性現像液で未
露光部を除去する工程を有すことを特徴とする画像形成
方法。
酸を発生し得る化合物(以下「光酸発生剤」という)と
しては、公知の化合物及び混合物を用いることができ
る。例えばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウ
ム、及びヨードニウムのそれぞれBF4 -、PF6 -、Sb
F6 -、SiF6 2-、ClO4 -等の塩、有機ハロゲン化合
物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び
有機金属/有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に
酸を形成又は分離する活性光線感光性成分であり、本発
明において光酸発生剤として使用することができる。原
理的には遊離基形成性の光開始剤として知られるすべて
の有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形成する
化合物で、本発明の画像形成材料の光酸発生剤として使
用することができる。
の例としては、米国特許明細書第3,515,552
号、同第3,536,489号及び同第3,779,7
78号及び西ドイツ国特許公開公報第2,243,62
1号に記載されている化合物が挙げられ、また、例えば
西ドイツ国特許公開公報第2,610,842号に記載
の光分解により酸を発生させる化合物も使用することが
できる。
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドを用いることができる。
ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感
度及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機
ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有
するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有する
オキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル
基を有するs−トリアジン類が特に好ましい。
アゾール類の具体例としては、特開昭54−74728
号、特開昭55−24113号、特開昭55−7774
2号、特開昭60−3626号及び特開昭60−138
539号各公報に記載の2−ハロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。2−ハロメチ
ル−1,3,4−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ま
しい化合物例を下記に挙げる。
トリアジン類としては、下記一般式(3)で表される化
合物が好ましい。
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基(例えばフ
ェニル基、ナフチル基等)若しくはその置換体を表し、
Xはハロゲン原子を表す。
光酸発生剤の化合物例を次に示す。
その化学的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組
成あるいは物性によって広範囲に変えることができる
が、感光層の固形分の全重量に対して約0.1〜約20
重量%の範囲が適当であり、好ましくは0.2〜10重
量%の範囲である。
架橋しうる結合を少なくとも1つ有する化合物(以下
「酸架橋化合物」という)としては、官能基としてアル
コキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等
を少なくとも2個有するアミノ化合物、例えば、メラミ
ン誘導体〔ヘキサメトキシメチル化メラミン(三井サイ
アナミッド(株)製サイメル300シリーズ(1)
等)〕、ベンゾグアナミン誘導体〔メチル/エチル混合
アルキル化ベンゾグアナミン樹脂(三井サイアナミッド
(株)製サイメル1100シリーズ(2))等〕、グリ
コールウリル誘導体〔テトラメチロールグリコールウリ
ル(三井サイアナミッド(株)製サイメル1100シリ
ーズ(3))等〕、また、官能基としてアルコキシメチ
ル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を有する少
なくとも2置換の芳香族化合物、例えば、1,3,5−
トリアセトキシメチルベンゼン、1,2,4,5−テト
ラアセトキシメチルベンゼン等が挙げられ、これらはP
olym.Master.Sci.Eng.,64,2
41(1991)に記載の手法により合成することがで
きる。
ル樹脂及びフラン樹脂も使用することができる。さら
に、以下に示す単量体を含む単量体から合成されるアク
リル樹脂を使用することができる。
ロールメタクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリ
ルアミド、N,N−ジメチロールメタクリルアミド、N
−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2
−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N−ヒド
ロキシメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アクリル
アミド、N−ヒドロキシメチル−N−(2−ヒドロキシ
エチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを1〜50モル%、好ましくは
5〜30モル%共重合体させる態様である。
平3−185449号、同5−210239号、同7−
146556号、同7−104473号、同7−361
87号、同6−282072号、同6−266105
号、同6−214391号、同6−214392号、同
6−123968号、同5−249662号、同6−1
94838号、同5−232707号、同6−1386
60号各公報に記載された化合物を用いることができ
る。
粒子の表面を、以上のような酸架橋化合物に含まれる架
橋基で修飾した素材を使用することができる。
を形成する組成物の全固形分に対し、5〜60重量%が
好ましく、特に好ましくは20〜45重量%である。酸
架橋化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を
混合して用いてもよい。
(1)又は(2)で表されるシアニン色素は、前記一般
式(1)又は(2)で表されるシアニン色素がカチオン
を形成し、対アニオンを有するものを包含する。この場
合、対アニオンとしては、Cl-、Br-、ClO4 -、B
F4 -、t−ブチルトリフェニルホウ素、テトラフェニル
ホウ素等が挙げられる。
される共役結合の連鎖の炭素原子数(n)は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長830nmの半導
体レーザーを使用する場合は、nは5〜9が、発信波長
1060nmのYAGレーザーを使用する場合は、nは
9〜13が好ましい。また、この共役結合部分は任意の
置換基を有することができ、また、共役結合部分は複数
の置換基により環を形成させてもよい。
表される環及びX2で表される環には任意の置換基を有
することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコ
キシ基、−SO3M及び−COOM(Mは水素原子、ア
ルカリ金属原子又はカチオン性原子群)から選ばれる基
が好ましい。R1及びR2は、感度及び現像性の点から、
R1及びR2の一方が−R−SO3 -又は−R−COO-、
他方が−R−SO3M又は−R−COOMであることが
好ましく、R9及びR10は、感度及び現像性の点から、
R9及びR10の一方が−R−SO3 -又は−R−COO-、
他方が−R−SO3M又は−R−COOMであることが
好ましい。一般式(1)又は(2)で表されるシアニン
色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用す
る場合は750〜900nmにおいて、YAGレーザー
を使用する場合は900〜1200nmにおいて吸収ピ
ークを示し、ε>1×105のモル吸光係数を有するも
のが好ましい。
又は(2)で表されるアニン色素の代表的具体例を以下
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
ン色素は公知の方法によって合成することができる。
ン色素の添加量は、感光層に対して0.5〜5wt%の
範囲が好ましい。
を用いることができる。結合剤としては、例えば高分子
量結合剤を用いることができる。高分子量結合剤として
は、例えばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を
有する重合体や後記する一般式(4)で表される構造単
位を有する重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げ
ることができる。
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合体樹脂、特開昭55−127553号公報
に記載されているようなp−置換フェノールとフェノー
ル若しくはクレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合
体樹脂等が挙げられる。
しては、例えば特公昭52−41050号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体等を挙げることができる。
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量体の
不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位
1種以上とを組み合わせた共重合体である。
々、水素原子、メチル基やエチル基などのアルキル基又
はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。
R3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子
又はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基である。R4は水素原子、メ
チル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表す。
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換されてい
るものである。
る2価の有機基で、nは0〜5の整数を表し、好ましく
はnが0のときである。
重合体は、さらに具体的に、例えば下記(a)〜(f)
で表すことができる。
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、X
はアルキル基又はハロゲン原子を表す。またm、n、
l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を表す。
ン単位を有する重合体、一般式(4)で表される構造単
位を有する重合体及びアクリル樹脂を併用することもで
きる。
ラック樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態様が挙
げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエ
チレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸
エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミ
ン、アルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコ
ール等が挙げられる。ノボラック樹脂は感光層に対して
20〜80重量%の範囲で含有させることが好ましく、
ノニオン界面活性剤は感光層に対して0.01〜10重
量%の範囲で含有させることが好ましい。
性を向上するために親油性の樹脂を添加することができ
る。
昭50−125806号公報に記載されているような、
炭素数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類
とアルデヒドの縮合物、例えばtブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有さ
せることができる。
る各成分を溶媒に溶解させて、適当な支持体の表面に塗
布し乾燥することにより感性層を設けて製造することが
できる。
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版についていえば固形分として0.5〜
5.0g/m2が好ましい。
アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロ
ム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ
又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及び
ガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属
箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム
等が挙げられる。
き、支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要
に応じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミ
ニウム板を用いることが好ましい。これらの処理には公
知の方法を適用することができる。
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組合わせて用いることができる。
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット
処理を行い中和して水洗する。
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は1〜50m
g/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/
dm2であり、特に好ましくは25〜40mg/dm2で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液(リン酸85%液:35ml、酸化クロ
ム(IV):20gを1lの水に溶解して作製)に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
以上の光源を用い画像露光を行う。光源としては、半導
体レーザー、He−Neレーザー、YAGレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は50mW以上が
適当であり、好ましくは100mW以上である。
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.
05〜20重量%の範囲で用いるのが好適であり、より
好ましくは、0.1〜10重量%である。
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。
る。なお、以下の実施例及び比較例において「部」は
「重量部」を意味する。
質H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間
脱脂処理を行った後、0.5モル1lの塩酸水溶液中で
温度;25℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;
30秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、
5%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマッ
ト処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、
電流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の条件で陽
極酸化処理を行った。更に又、30℃の熱水で20秒
間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体であ
るアルミニウム板を作製した。
の感光層塗布液を乾燥後の膜厚が2g/m2になるよう
に回転塗布機を用いて塗布し90℃で2分間乾燥して画
像形成材料を得た。
m、出力500mW)で画像露光を行った。レーザー光
径はピークにおける強度の1/e2で13μmであっ
た。また、解像度は走査方向、副走査方向とも2000
dpiとした。画像露光の後、コニカPS版現像液SD
R−1(コニカ(株)製)を水で容積比6倍に希釈した
27℃の現像液に30秒間浸漬して現像し非画像部(非
露光部)を除去した後、水洗し平版印刷版を製造した。
れるに必要な露光エネルギー(mJ/cm2)で評価
し、現像性を印刷での地汚れで評価し、現像ラチチュー
ドを上記現像液を水で1.5倍に希釈したときの非画像
部の感度及び現像性で評価した。
のとおりに変えた外は実施例1と同様の実験を行った。
合物(レゾール樹脂)を下記表1のとおりに変えた外は
実施例1と同様の実験を行った。
入管を備えた500mlの四首フラスコ中に、アセトン
125mlとメタノール125mlの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート9.0g(0.09
mol)、エチルネタクリレート34.2g(0.30
mol)アクリロニトリル15.9g(0.30mo
l)、メタクリル酸0.86g(0.01mol)、ビ
ニルベンジルアセテート35.2g(0.2mol)、
及び4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド51.6
g(0.30mol)を溶解した。更に重合開始剤とし
てアゾビスイソブチロニトリル3.28g(0.02m
ol)を溶解し、窒素気流下で強撹拌しながら加熱し、
約60℃で6時間還流させた。反応終了後、反応液を室
温まで冷却させた後、水中に投じて高分子化合物を沈殿
させた。これをろ取し、50℃で24時間真空乾燥させ
たところ、アルカリ可溶性アクリル共重合体(樹脂1)
が100g得られた。モノマー合計量からの収率は90
%であった。
(樹脂1)の重量平均分子量は、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィー(GPC)によりプルラン標準、
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)溶媒で測定し
たところ、50000であった。
例1と同様の実験を行った。
ある。
像形成が可能なネガ型の画像形成材料、酸発生剤と酸分
解性化合物とを含有する感光層を有する画像形成材料で
あって赤外線による露光で画像形成が可能な画像形成材
料及び赤外線に対する感度が高く、かつ良好な現像性及
び保存性を有するポジ型の画像形成材料並びにこれらを
用いた画像形成方法が提供される。
Claims (2)
- 【請求項1】 支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、酸の存在下で架橋しうる結合を少な
くとも1つ有する化合物及び下記一般式(1)又は
(2)で表されるシアニン色素を含有する感光層を有す
ることを特徴とする画像形成材料。 【化1】 〔式中、Z1及びZ2は各々硫黄原子、酸素原子又はセレ
ン原子を表し、X1及びX2は各々置換基を有していても
よいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、Lは炭素原子数5〜13の共役
結合の連鎖を表し、R1及びR2は各々炭素原子数1〜5
のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−
{(CH2)n−O−}k−(CH2)mOR9基(n及びm
は各々1〜3の整数を表し、kは0又は1を表し、R9
は炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。)、−R10−
SO3M(R10は炭素原子数1〜5のアルキレン基又は
アルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子又はアルカリ
金属原子を表す。)又は−R10−COOM(R10は炭素
原子数1〜5のアルキレン基又はアルキレンオキシ基を
表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子又はカチオン性
原子群を表す。)を表し、R1及びR2のどちらか一方は
アニオン性解離性基を表す。R3及びR4は各々炭素原子
数1〜5のアルコキシ基、−{(CH2)n−O−}k−
(CH2)mOR9基(n及びmは各々1〜3の整数を表
し、kは0又は1を表し、R9は炭素原子数1〜5のア
ルキル基を表す。)、−R10−SO3M(R10は炭素原
子数1〜5のアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表
し、Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。)又は
−R10−COOM(R10は炭素原子数1〜5のアルキレ
ン基又はアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、ア
ルカリ金属原子又はカチオン性原子群を表す。)を表
し、R3及びR4のどちらか一方はアニオン性解離性基を
表し、R5、R6、R7及びR8は各々炭素原子数1〜3の
アルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。〕 - 【請求項2】 請求項1記載の画像形成材料の感光層上
に赤外線を用いて画像を描画した後、アルカリ性現像液
で未露光部を除去する工程を有すことを特徴とする画像
形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9047854A JPH10239834A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9047854A JPH10239834A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10239834A true JPH10239834A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12786965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9047854A Pending JPH10239834A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10239834A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0978375A2 (de) * | 1998-08-01 | 2000-02-09 | Agfa-Gevaert AG | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
WO2004063816A1 (en) * | 2003-01-03 | 2004-07-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for forming a lithographic printing plate |
EP1555299A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-07-20 | Kodak Polychrome Graphics, LLC | Infrared absorbing N-alkylsulfate cyanine compounds |
JP2007106899A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | メチン化合物 |
WO2009114079A1 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Eastman Kodak Company | Infrared dye for silver halide-based photographic elements |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP9047854A patent/JPH10239834A/ja active Pending
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