JPH10207035A - Photographic development processing apparatus - Google Patents
Photographic development processing apparatusInfo
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- JPH10207035A JPH10207035A JP948397A JP948397A JPH10207035A JP H10207035 A JPH10207035 A JP H10207035A JP 948397 A JP948397 A JP 948397A JP 948397 A JP948397 A JP 948397A JP H10207035 A JPH10207035 A JP H10207035A
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、フィルムや印画
紙などの感光材料を現像処理する写真現像処理装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photographic processing apparatus for developing a photosensitive material such as a film or photographic paper.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般的な写真現像処理装置を、図１およ
び図２を利用して説明すると、このものは、現像液、漂
白液、定着液、安定化液などの各種の現像処理液を複数
の処理液タンクＴ1 〜Ｔn 内に充填し、各処理液中にフ
ィルムや印画紙などの感光材料Ａの移動を案内するラッ
ク１が浸漬されたものである。2. Description of the Related Art A general photographic processing apparatus will be described with reference to FIGS. 1 and 2. This apparatus uses various developing processing solutions such as a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution and a stabilizing solution. The rack 1 is filled in a plurality of processing liquid tanks T 1 to T n and immersed in each processing liquid to guide the movement of a photosensitive material A such as a film or photographic paper.
【０００３】このような写真現像処理装置は、資材を節
減し環境を保全するために、各種の現像処理液をできる
だけ効率よく使用することが要望されており、例えば特
開平６−８３０１９号公報に記載された写真現像処理装
置は、処理液タンク内にラックを挿入し、そのラックの
周囲に形成された移送路の断面をスリット状とし、その
スリット状移送路に沿って感光材料を搬送する際に噴射
孔から感光材料の感光面に向けて処理液を噴射し、効率
よく現像処理するようにしたものである。In such a photographic processing apparatus, it is required that various developing solutions are used as efficiently as possible in order to save materials and preserve the environment. In the described photographic processing apparatus, a rack is inserted into a processing liquid tank, a cross section of a transfer path formed around the rack is formed in a slit shape, and the photosensitive material is transported along the slit transfer path. The processing liquid is sprayed from the injection holes toward the photosensitive surface of the photosensitive material, so that the developing process is performed efficiently.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来の写真現像処理装置は、その使用により感光材料を現
像処理液に接触通過させるスリット状の移送路や、現像
処理液を収容するタンク内面に、油や油状物質（ター
ル）または結晶などの汚れが付着する。By the way, the above-mentioned conventional photographic processing apparatus has a slit-shaped transfer path through which the photosensitive material is brought into contact with and passes through the developing solution, or a tank inner surface for storing the developing solution. , Stains such as oils and oils (tar) or crystals.
【０００５】このような汚れが付着した状態で装置を使
用すると、プリントの品質が悪くなったり、機械的トラ
ブルの原因になるので、定期的に、好ましくは頻繁に洗
浄する必要があった。[0005] If the apparatus is used in a state where such dirt is adhered, the quality of the print deteriorates or a mechanical trouble is caused. Therefore, it is necessary to wash the apparatus regularly, preferably frequently.
【０００６】しかし、上記写真現像処理装置のタンクの
内面やスリット状の移送路に付着した汚れは、ブラシや
布で擦り取りながら温水で洗浄するという煩雑な方法で
なければ充分に洗浄できず、この洗浄作業は容易でない
という問題点がある。However, dirt adhering to the inner surface of the tank or the slit-shaped transfer path of the photographic processing apparatus cannot be sufficiently cleaned unless a complicated method of rubbing with a brush or a cloth and washing with warm water is used. There is a problem that this cleaning operation is not easy.
【０００７】特に、間隙の狭いスリット状の移送路内の
汚れは、ラックごとタンクから取り出し、ラックを分解
して洗浄しなければならないので、洗浄作業がきわめて
煩雑である。In particular, dirt in the slit-shaped transfer path having a narrow gap must be taken out of the tank together with the rack, and the rack must be disassembled and cleaned, so that the cleaning operation is extremely complicated.
【０００８】そこで、この発明の課題は上記した問題点
を解決し、写真現像処理装置のタンクの内面やスリット
状の移送路に付着した汚れを、水洗などの可及的に簡便
な作業で洗浄できるようにすることである。Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to wash dirt adhering to the inner surface of a tank or a slit-shaped transfer path of a photographic processing apparatus by a simple operation such as washing with water. Is to be able to do it.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明においては、現像処理液を収容するタン
ク内に、感光材料を現像処理液に接触させつつ移送する
移送路を設けた写真現像処理装置において、少なくとも
前記タンク内面または移送路表面を含む処理液の接触面
に、酸化チタン系光触媒を含有する親水性被膜を設けた
写真現像処理装置としたのである。In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, a transfer path for transferring a photosensitive material while contacting the developing solution is provided in a tank containing the developing solution. In the photographic development processing apparatus, the photographic development processing apparatus is provided with a hydrophilic coating containing a titanium oxide-based photocatalyst on at least the contact surface of the processing liquid including the inner surface of the tank or the surface of the transfer path.
【００１０】前記移送路は、現像処理液を収容するタン
クそのものに形成されていてもよく、またはタンク内に
出し入れ可能なラック内に形成されていてもよい。[0010] The transfer path may be formed in the tank itself containing the developing solution, or may be formed in a rack that can be taken in and out of the tank.
【００１１】また、前記の酸化チタン系光触媒は、アナ
ターゼ型ＴｉＯ2 を採用することができる。The titanium oxide photocatalyst may employ anatase type TiO 2 .
【００１２】この発明の写真現像処理装置は、処理液の
接触面に設けた所定の親水性被膜に対して洗浄前や使用
前等に紫外線を照射することにより、被膜に付着してい
る油などの疎水性分子からなる汚れが分解され、被膜表
面に水膜が形成され、水洗いだけで前記汚れを除去可能
である。According to the photographic processing apparatus of the present invention, a predetermined hydrophilic film provided on the contact surface of the processing solution is irradiated with ultraviolet rays before washing or before use, so that oil adhering to the film is removed. Is decomposed, a water film is formed on the surface of the film, and the dirt can be removed only by washing with water.
【００１３】すなわち、展色剤に分散保持された酸化チ
タン系光触媒は、通常、その表面に化学吸着した水を介
して疏水性（有機質または無機質結晶）分子からなる汚
れが付着しているが、酸化チタン系光触媒が紫外線のエ
ネルギーを吸収した際に、光化学反応により周囲の水と
酸素を分解して活性酸素（原子状酸素）や遊離水酸基
（水酸基ラジカル）を発生させ、これらが前記疏水性分
子からなる汚れを分解する。この際に酸化チタンの表面
には、化学吸着した水からなる極薄い水層が形成され、
この水層に洗浄水がよく物理吸着されていわゆる「超親
水性」の状態になり、処理液接触面を水洗いのみで汚れ
を簡単に除去できる。That is, the titanium oxide-based photocatalyst dispersed and held in the coloring agent usually has dirt composed of hydrophobic (organic or inorganic crystal) molecules attached to the surface thereof through water chemically adsorbed. When the titanium oxide photocatalyst absorbs the energy of ultraviolet light, it decomposes surrounding water and oxygen by photochemical reaction to generate active oxygen (atomic oxygen) and free hydroxyl groups (hydroxyl radicals), which are the hydrophobic molecules. Decomposes dirt consisting of At this time, an extremely thin water layer composed of chemically adsorbed water is formed on the surface of the titanium oxide,
The washing water is often physically adsorbed to the aqueous layer to be in a so-called “super-hydrophilic” state, and the dirt can be easily removed only by washing the contact surface of the treatment liquid with water.
【００１４】なお、親水性被膜を形成した写真現像処理
装置のタンクの内面やスリット状の移送路に対し、紫外
線を含む光を照射するには、自然光を利用してもよい
が、周知の紫外線電球などを用いて適宜に照射すればよ
い。間隙の狭いスリット状の移送路内に紫外線を照射す
るには、ラックの一部または全体を分解して少なくとも
移送路などの処理液接触面を露出させて照射したり、要
所に光学的反射面を設置することが好ましい。In order to irradiate the inner surface of the tank or the slit-like transfer path of the photo-processing apparatus having the hydrophilic film formed thereon with light containing ultraviolet light, natural light may be used. Irradiation may be appropriately performed using a light bulb or the like. In order to irradiate ultraviolet light into the slit-like transfer path with a narrow gap, part or the entirety of the rack is disassembled to expose at least the treatment liquid contact surface such as the transfer path, and optical reflection is performed at important points. Preferably, a surface is provided.
【００１５】また、前記親水性被膜に一度紫外線を照射
すると、数十（３０〜６０）時間は紫外線を照射しなく
ても所要の超親水性が発揮される。このため、タンク内
にスリット状の移送路を設けたものでは、一度紫外線を
照射すると、約３０〜６０時間はラックの一部または全
体を分解せずとも、水洗いだけで洗浄作業を行なうこと
ができる。Further, once the hydrophilic film is irradiated with ultraviolet rays, the required superhydrophilicity is exhibited without irradiation with ultraviolet rays for several tens (30 to 60) hours. For this reason, in the case where the slit-shaped transfer path is provided in the tank, once the ultraviolet ray is irradiated, the washing operation can be performed only by washing with water without disassembling a part or the whole of the rack for about 30 to 60 hours. it can.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】この発明の実施形態を添付図面に
基づいて以下に説明する。図１に示すように、実施形態
の写真現像処理装置は、現像液、漂白液、定着液、安定
化液などの各種の現像処理液を複数のタンクＴ1 〜Ｔn
内に収容し、このタンクＴ1 〜Ｔn 内にフィルムや印画
紙などの感光材料Ａの移動を案内するラック１が浸漬さ
れたものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. As shown in FIG. 1, the photographic processing apparatus of the embodiment stores various developing solutions such as a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution, and a stabilizing solution in a plurality of tanks T 1 to T n.
Housed within, in which a rack 1 for guiding the movement of the photosensitive material A such as a film or photographic paper is immersed in the tank T 1 through T in n.
【００１７】図２に示すように、ラック１は、その内部
に感光材料Ａを現像処理液Ｂに接触させつつ移送するス
リット状の移送路２ａ、２ｂを設けたものであり、詳し
くは長方形状の側枠３の中央部間に一対の中間ブロック
４ａ、４ｂを上下に設け、下部中間ブロック４ｂの下方
に設けた下部ターンガイド５上に一方向に回転駆動する
ターンローラ６を配置し、そのターンローラ６の両側に
押えローラ７を接触させている。As shown in FIG. 2, the rack 1 is provided with slit-shaped transfer paths 2a and 2b for transferring the photosensitive material A while bringing the photosensitive material A into contact with the developing solution B. A pair of intermediate blocks 4a and 4b are vertically provided between the central portions of the side frames 3 and a turn roller 6 which is driven to rotate in one direction is disposed on a lower turn guide 5 provided below the lower intermediate block 4b. The pressing roller 7 is in contact with both sides of the turn roller 6.
【００１８】一対の中間ブロック４ａ、４ｂは、それぞ
れの前後方向（図中左右方向）から二対のラックプレー
ト８が接近して図外のノブで着脱可能に取りつけられて
おり、ラックプレート８と中間ブロック４ａ、４ｂとの
間に感光材料Ａの移動を案内する直線状下向きの移送路
２ａおよび直線状上向きの移送路２ｂを形成している。
このように移送路２ａ、２ｂのそれぞれは、断面がスリ
ット状をなし、その間隙は０．３ｍｍ〜５ｍｍ程度であ
る。The pair of intermediate blocks 4a and 4b are detachably mounted with two pairs of rack plates 8 approaching each other from the front and rear directions (left and right directions in the figure) with knobs (not shown). Between the intermediate blocks 4a and 4b, a linear downward transfer path 2a and a linear upward transfer path 2b for guiding the movement of the photosensitive material A are formed.
As described above, each of the transfer paths 2a and 2b has a slit-shaped cross section, and the gap is about 0.3 mm to 5 mm.
【００１９】そして、下向きの移送路２ａの上方には一
対の送り込みローラ９が設けられ、一方、上向きの移送
路２ｂの上方には一対の送り出しローラ１０が設けられ
ている。また、各移送路２ａ、２ｂの中間部には一方向
に回転駆動される送りローラ１１が設けられ、その送り
ローラ１１の両側に押えローラ１２が接触している。A pair of feed rollers 9 are provided above the downward transfer path 2a, and a pair of feed rollers 10 are provided above the upward transfer path 2b. A feed roller 11 that is driven to rotate in one direction is provided at an intermediate portion between the transfer paths 2a and 2b, and a pressing roller 12 is in contact with both sides of the feed roller 11.
【００２０】感光材料Ａは、一対の送り込みローラ９の
回転により下向き移送路２ａに沿って搬送され、下部タ
ーンガイド５とターンローラ６とによって搬送方向が１
８０°変換される。搬送方向が変換された感光材料Ａ
は、次に上向き搬送路２ｂに沿って搬送され、一対の送
り出しローラ１０の回転によりラック１から送り出され
る。The photosensitive material A is transported along the downward transport path 2a by the rotation of the pair of feed rollers 9, and is transported in one direction by the lower turn guide 5 and the turn roller 6.
Converted by 80 °. Photosensitive material A whose transport direction has been changed
Is transported along the upward transport path 2b, and is sent from the rack 1 by the rotation of the pair of sending rollers 10.
【００２１】なお、ラック１から送り出された感光材料
は、上部ターンガイド１３に誘導されて隣接する処理液
タンク内のラックに送り込まれる。The photosensitive material sent from the rack 1 is guided by the upper turn guide 13 and sent to the adjacent rack in the processing liquid tank.
【００２２】感光材料Ａがラック１内で搬送されると
き、ラックプレート８に形成した通路１４内に処理液が
圧送され、その処理液は通路１４に連通するノズル１５
から下向きの移送路２ａおよび上向きの移送路２ｂに噴
射され、その処理液との接触によって感光材料Ａは現像
処理される。When the photosensitive material A is conveyed in the rack 1, a processing liquid is fed under pressure into a passage 14 formed in the rack plate 8, and the processing liquid is supplied to a nozzle 15 communicating with the passage 14.
The photosensitive material A is injected into the downward transfer path 2a and the upward transfer path 2b, and the photosensitive material A is developed by contact with the processing liquid.
【００２３】前記ラック１における中間ブロック４ａ、
４ｂおよびラックプレート８のそれぞれは、合成樹脂の
成形品である。成形材料となる合成樹脂は、ポリフェニ
レンオキシドやポリ塩化ビニルなどの耐薬品性および成
形性に優れたものを採用することが好ましい。The intermediate block 4a in the rack 1
Each of 4b and the rack plate 8 is a molded product of a synthetic resin. As the synthetic resin to be used as a molding material, it is preferable to employ a resin having excellent chemical resistance and moldability, such as polyphenylene oxide and polyvinyl chloride.
【００２４】図３に示すように、写真現像処理装置の少
なくとも前記タンクＴ1 〜Ｔn の内面または移送路２
ａ、２ｂの表面およびその他の処理液Ｂの接触面には、
酸化チタン系光触媒を含有する親水性被膜２０を設けて
いる。上記した箇所以外に親水性被膜２０を形成するこ
とが好ましい箇所（面）としては、図２または図３に示
した中間ブロック４ａ、４ｂの表面、ラックプレート８
の表面および通路１４、ノズル１５の内面、送り込みロ
ーラ９、送り出しローラ１０、上部ターンローラ１６な
どの各種ローラの軸受部、ラック１に組み付けられる上
部ターンガイド１３および下部ターンガイド５の表面等
である。As shown in FIG. 3, photo inner surface of at least the tank T 1 through T n of the developing apparatus or the transfer path 2
a, 2b and other contact surfaces of the processing solution B
A hydrophilic coating 20 containing a titanium oxide photocatalyst is provided. The places (surfaces) where it is preferable to form the hydrophilic coating 20 other than those described above include the surfaces of the intermediate blocks 4a and 4b shown in FIG.
Surface, the passage 14, the inner surface of the nozzle 15, the bearings of various rollers such as the feed roller 9, the feed roller 10, and the upper turn roller 16, and the surfaces of the upper turn guide 13 and the lower turn guide 5 assembled to the rack 1. .
【００２５】酸化チタン系光触媒は、白色顔料等として
工業的に生産されている微粉末であり、周知の塩素法で
原料鉱石から製造したものは不純物を含まず白色度が極
めて高いので好ましいといえる。光触媒用の酸化チタン
の平均粒径は、０．０１〜０．０５μｍの微粒子あり、
表面処理剤や焼成処理剤を含むものであってよい。ま
た、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）の結晶型は、アナターゼ型
が活性が高いので好ましい。Titanium oxide-based photocatalysts are fine powders industrially produced as white pigments and the like, and those produced from a raw material ore by the well-known chlorine method are preferable because they contain no impurities and have extremely high whiteness. . The average particle diameter of titanium oxide for photocatalyst is 0.01 to 0.05 μm fine particles,
It may contain a surface treatment agent or a baking treatment agent. Further, as the crystal form of titanium oxide (TiO 2 ), an anatase type is preferable because of its high activity.
【００２６】ＴｉＯ2 を基板面に被覆する方法として
は、スパッタリングやイオンプレーティングなどの乾式
方法の他、ゾル・ゲル法やアルコキシド法などの湿式法
がある。たとえば、Ｔｉアルコキシドを用いる場合に
は、アルコール系希釈剤にＴｉアルコキシドおよび塩酸
を溶解し、基板に噴霧または浸漬して塗布した後、乾燥
し、ルチル型ＴｉＯ2 の相転移温度以下（４００〜８０
０℃）で熱処理する。As a method for coating the substrate surface with TiO 2 , there are a wet method such as a sol-gel method and an alkoxide method in addition to a dry method such as sputtering or ion plating. For example, when using a Ti alkoxide, a Ti alkoxide and hydrochloric acid are dissolved in an alcohol-based diluent, sprayed or immersed on a substrate, applied, dried, and dried at a phase transition temperature of rutile TiO 2 or lower (400 to 80 ° C.)
(0 ° C.).
【００２７】または、硝酸、塩酸などの酸性水溶液また
はアンモニアなどの塩基性水溶液中に平均粒径０．０１
〜０．０５μｍ程度のアナターゼ型ＴｉＯ2 粉末をゾル
状態で２０〜５０重量％程度混合されたＴｉＯ2 ゾルを
基板表面に被覆してもよい。その場合にも、ＴｉＯ2 ゾ
ルの被覆後、その被膜をルチル型ＴｉＯ2 の相転移温度
以下に加熱して、アナターゼ型ＴｉＯ2 を含有する被膜
を形成する。Alternatively, in an acidic aqueous solution such as nitric acid or hydrochloric acid or a basic aqueous solution such as ammonia or the like, an average particle size of 0.01
The substrate surface may be coated with a TiO 2 sol in which about 20 to 50% by weight of an anatase type TiO 2 powder of about 0.05 μm is mixed in a sol state. Also in this case, after coating the TiO 2 sol, the coating is heated to a temperature lower than the phase transition temperature of rutile TiO 2 to form a coating containing anatase TiO 2 .
【００２８】なお、基板の表面に超親水性の被膜を形成
するには、ＴｉＯ2 が被膜の表面に露出している状態が
好ましいので、釉薬や合成樹脂などのバインダを基板に
塗布した後、ＴｉＯ2 粉末をスプレーで吹き付けること
によって付着させ、完全にバインダ層内に埋没させるこ
となく、その一部を露出させて前記バインダを固化する
ことが好ましい。この場合は、バインダを４００〜８０
０℃の熱処理で固化することにより、アナターゼ型Ｔｉ
Ｏ2 を含有する被膜を形成できる。In order to form a superhydrophilic film on the surface of the substrate, it is preferable that TiO 2 is exposed on the surface of the film. Therefore, after applying a binder such as glaze or synthetic resin to the substrate, It is preferable that the TiO 2 powder is adhered by spraying, and the binder is solidified by exposing a part of the binder without completely burying it in the binder layer. In this case, the binder is 400 to 80
By solidifying by heat treatment at 0 ° C., anatase-type Ti
A coating containing O 2 can be formed.
【００２９】また、塗料の状態で上記酸化チタン粉末を
分散状態に保持する展色剤は、樹脂と溶剤からなるが、
このうちの樹脂分は紫外線透過性がよく耐薬品性に優れ
た周知の樹脂を採用できる。このような樹脂は、親水性
の樹脂ばかりでなく撥水性の樹脂を採用することもで
き、例えばシリコーン樹脂を使用して好ましい結果を得
ている。The vehicle for maintaining the titanium oxide powder in a dispersed state in the form of a paint comprises a resin and a solvent.
As the resin component, a known resin having good ultraviolet transmittance and excellent chemical resistance can be used. As such a resin, not only a hydrophilic resin but also a water-repellent resin can be employed. For example, a preferable result is obtained by using a silicone resin.
【００３０】また、酸化チタン粉末からなる光触媒に
は、波長調整のための添加物を混合することも好まし
く、例えばＳｎＯ2 、ＷＯ3 、Ｙ2 Ｏ3 、酢酸銅、炭酸
銅、硫酸銅などの銅化合物などを添加すると、光触作用
がより活発になる。It is also preferable to add an additive for adjusting the wavelength to the photocatalyst comprising titanium oxide powder, for example, SnO 2 , WO 3 , Y 2 O 3 , copper acetate, copper carbonate, copper sulfate and the like. When a copper compound or the like is added, the photocatalytic action becomes more active.
【００３１】酸化チタン粉末（アナターゼ型ＴｉＯ2 ）
および展色剤からなる親水性被膜用塗料としては、市販
品を採用してもよく、例えば展色剤としてシリコーン樹
脂を使用したＴＯＴＯ社製の光触媒酸化チタン含有塗料
を採用することもできる。親水性被膜用塗料は、シリコ
ーン樹脂塗装の常法に従って有機溶媒と混合して浸漬な
どの手法で塗装し、溶媒を乾燥除去し、必要に応じて熱
処理すればよい。Titanium oxide powder (anatase TiO 2 )
A commercially available product may be used as the coating material for a hydrophilic film composed of a vehicle and a vehicle. For example, a photocatalytic titanium oxide-containing coating manufactured by TOTO and using a silicone resin as the vehicle may be used. The coating material for a hydrophilic film may be mixed with an organic solvent according to a conventional method of silicone resin coating, applied by a method such as immersion, the solvent may be removed by drying, and heat treatment may be performed if necessary.
【００３２】このような親水性被膜を要所に形成した写
真現像処理装置は、現像処理前、または処理後に自然光
または紫外線ランプ、キセノンランプ、水銀灯、蛍光灯
などの紫外線を含む光線を照射し、その後は洗剤を使わ
ずとも常温水での水洗いだけで付着した油などの疏水性
の汚れを簡単に除去することができた。A photographic processing apparatus having such a hydrophilic film formed at a key point irradiates a natural light or a light ray containing an ultraviolet ray such as an ultraviolet lamp, a xenon lamp, a mercury lamp or a fluorescent lamp before or after the development processing. After that, it was possible to easily remove hydrophobic dirt, such as oil, that had adhered to it simply by washing with room temperature water without using a detergent.
【００３３】[0033]
【発明の効果】この発明は、以上説明したように、写真
現像処理装置の処理液の接触面に、アナターゼ型ＴｉＯ
2 などの酸化チタン系光触媒を含有する親水性被膜を設
けたので、酸化チタンの光化学反応によって被膜形成面
の汚れが分解され、またこの面が超親水性状態になって
疎水性物質からなる汚れが付着し難いので、適宜に紫外
線を照射し、水洗いするという簡便な作業によって写真
現像処理装置を洗浄できるという利点がある。According to the present invention, as described above, an anatase type TiO 2
Since a hydrophilic film containing a titanium oxide-based photocatalyst such as 2 is provided, the dirt on the surface on which the film is formed is decomposed by the photochemical reaction of titanium oxide, and this surface becomes a superhydrophilic state and becomes dirt made of a hydrophobic substance. There is an advantage that the photographic processing apparatus can be washed by a simple operation of appropriately irradiating ultraviolet rays and washing with water since the photographic processing apparatus is not easily attached.
【００３４】タンク内にスリット状の移送路を設けた写
真現像処理装置では、一度紫外線を照射すると、親水性
被膜の超親水性の状態が続く時間内でラックの一部また
は全体を、分解せずとも水洗いだけで洗浄できるものに
なる。In a photographic processing apparatus having a slit-shaped transfer path in a tank, once irradiated with ultraviolet light, a part or the whole of the rack is disassembled within a time period in which the super-hydrophilic state of the hydrophilic film continues. It can be washed with just water.
【図１】実施形態の写真現像処理装置の概略図FIG. 1 is a schematic diagram of a photographic processing apparatus according to an embodiment.
【図２】同上のラックの縦断側面図FIG. 2 is a longitudinal side view of the same rack.
【図３】同上のラックの要部を拡大して示す縦断側面図FIG. 3 is a longitudinal sectional side view showing an enlarged main part of the rack.
Ｔ1 〜Ｔn タンク Ａ 感光材料 Ｂ 処理液 １ ラック ２ａ、２ｂ 移送路 ３ 側枠 ４ａ、４ｂ 中間ブロック ５ 下部ターンガイド ６ ターンローラ ７、１２ 押えローラ ８ ラックプレート ９ 送り込みローラ １０ 送り出しローラ １１ 送りローラ １３ 上部ターンガイド １４ 通路 １５ ノズル １６ 上部ターンローラ ２０ 親水性被膜T 1 to T n tank A photosensitive material B processing liquid 1 rack 2a, 2b transfer path 3 side frame 4a, 4b intermediate block 5 lower turn guide 6 turn roller 7, 12 holding roller 8 rack plate 9 feed roller 10 feed roller 11 feed Roller 13 Upper turn guide 14 Passage 15 Nozzle 16 Upper turn roller 20 Hydrophilic coating
Claims (3)
材料を現像処理液に接触させつつ移送する移送路を設け
た写真現像処理装置において、少なくとも前記タンク内
面または移送路表面を含む処理液の接触面に、酸化チタ
ン系光触媒を含有する親水性被膜を設けたことを特徴と
する写真現像処理装置。1. A photographic developing apparatus in which a transfer path for transferring a photosensitive material while contacting the developing solution is provided in a tank containing the developing solution, wherein the processing solution includes at least the inner surface of the tank or the surface of the transfer path. A photographic development processing device, wherein a hydrophilic film containing a titanium oxide-based photocatalyst is provided on the contact surface of the photographic processing device.
なラック内に形成されていることを特徴とする請求項１
記載の写真現像処理装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the transfer path is formed in a rack that can be taken in and out of the tank.
A photographic processing apparatus as described in the above.
ｉＯ2 である請求項１記載の写真現像処理装置。3. The titanium oxide-based photocatalyst is an anatase type T
2. The photographic processing apparatus according to claim 1, wherein the photographic processing apparatus is iO2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP948397A JPH10207035A (en) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | Photographic development processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP948397A JPH10207035A (en) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | Photographic development processing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10207035A true JPH10207035A (en) | 1998-08-07 |
Family
ID=11721497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP948397A Withdrawn JPH10207035A (en) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | Photographic development processing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10207035A (en) |
-
1997
- 1997-01-22 JP JP948397A patent/JPH10207035A/en not_active Withdrawn
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