KR100646421B1 - A method for improvement of the surface of polymer film - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등과 같은 고분자막 표면에 계면활성제가 함유된 광촉매분산용액을 도포 또는 침지하고, 도포 또는 침지된 고분자막 표면에 자외선을 조사함으로써 고분자막 표면을 세정 및 개질하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for cleaning and modifying a polymer film surface by applying or immersing a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant to a polymer film surface such as polyethylene or polypropylene, and irradiating ultraviolet rays to the coated or immersed polymer film surface.

고분자막, 계면활성제, 광촉매Polymer membrane, surfactant, photocatalyst

Description

고분자막의 표면개질방법{A method for improvement of the surface of polymer film}A method for improvement of the surface of polymer film

도 1은 본 발명의 제1양태를 보여주는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1양태를 변형시킨 모식도이다.2 is a schematic diagram of a modification of the first aspect of the present invention.

도 3a는 본 발명의 제2양태를 보여주는 모식도이다.3A is a schematic diagram showing a second aspect of the present invention.

도 3b는 본 발명의 제2양태를 변형시킨 모식도이다.3B is a schematic diagram of a modification of the second aspect of the present invention.

도 4는 본 발명의 표면개질에 사용된 광촉매의 회수방법을 보여주는 모식도이다.Figure 4 is a schematic diagram showing a method for recovering the photocatalyst used in the surface modification of the present invention.

도 5는 본 발명에서 회수된 광촉매분산용액의 농도조정방법을 보여주는 개략도이다.5 is a schematic view showing a method for adjusting the concentration of the photocatalyst dispersion solution recovered in the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1:고분자막 2:광촉매1: polymer membrane 2: photocatalyst

3:광촉매분산용액 4:롤러3: Photocatalyst Dispersion Solution 4: Roller

5:광촉매분산용액 6:전극5: Photocatalyst Dispersion Solution 6: Electrode

7:펌프 8:스퀴지7: pump 8: squeegee

본 발명은, 고분자막 표면의 개질방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광촉매의 존재하에 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등과 같은 고분자막에 자외선을 조사함으로써 고분자막 표면을 세정 및 개질하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for modifying the surface of a polymer film, and more particularly, to a method for cleaning and modifying the surface of a polymer film by irradiating ultraviolet light to a polymer film such as polyethylene and polypropylene in the presence of a photocatalyst.

일반적으로, 고분자막은 그 자체의 소망하는 특성 및 성질을 보다 완벽하게 제공하기 위하여, 우선 막표면을 세정 및 개질하는 단계를 거치는 것이 필수적이다. 이는 막표면에 부착되어 있는 이물질 또는 손상자국 등을 미리 제거하여 막표면을 고르게 유지함으로써, 고분자막의 친수성 또는 소수성 등의 막의 구조적 특성들을 더 향상시켜 후공정에서 고분자막에 코팅되는 재료와의 밀착성을 증대시키고 보다 장기간 코팅상태를 유지할 수 있도록 하는 효과를 발휘할 수 있다. In general, it is essential that the polymer membrane undergo a first step of cleaning and modifying the membrane surface in order to more fully provide its desired properties and properties. This removes foreign substances or damage marks on the surface of the membrane in advance to maintain the surface of the membrane evenly, thereby further improving the structural characteristics of the membrane such as hydrophilicity or hydrophobicity of the polymer membrane, thereby increasing adhesion to the material coated on the polymer membrane in a later step. To maintain the coating state for a longer period of time.

이와 같은, 고분자막의 표면개질방법으로는, 미국특허 제4,340,482호에 개시된 것으로, 막표면에서 친수성을 지닌 단량체 또는 고분자를 직접 화학결합시키는 방법이 있다. 그러나, 이 방법은 상기 화학결합 외에 다른 여러 부수적인 화학반응들을 수반하여 고분자막의 분자량을 감소시키기 때문에 개질공정이 완료된 막의 내구성이 약해지는 문제점이 있으며, 또한 이러한 방법들을 사용하는 제조공정이 복잡하여 비용 및 대량생산 등 경제적 측면에서도 불리한 점이 있다. As such a method of modifying the surface of the polymer film, disclosed in US Patent No. 4,340,482, there is a method of directly chemically bonding a monomer or a polymer having a hydrophilic property on the surface of the film. However, this method has a problem that the durability of the membrane after the reforming process is weakened because the molecular weight of the polymer membrane is reduced along with several other chemical reactions besides the chemical bond, and the manufacturing process using these methods is complicated and costly. And economic aspects, such as mass production, are disadvantageous.

또한, 한국공개특허공보 제1996-37742호에는, 진공분위기 하에서 고분자막 표면에 에너지를 가진 이온입자를 조사하는 동시에, 고분자막 표면에 반응성가스를 주입함으로써 고분자막 표면의 접촉각을 감소시키거나 접착력을 증대시키는 방법에 대하여 개시되어 있다. 이 공보에는, 상기 방법을 사용할 경우, 표면이 개질된 고 분자막 중 폴리메틸메타아크릴산(PMMA)의 경우 접촉각을 8°까지 감소시킬 수 있으며, 폴리카본산(PC)의 경우 물방울이 계속 흘러 접촉각을 측정할 수 없을 정도로 고분자 표면의 접촉각을 낮출 수 있다고 기재되어 있다. 그러나, 상기와 같이, 이온빔을 조사하는 동시에 반응성가스를 주입하는 경우, 이온빔 조사시 고분자막 표면의 자유라디칼 형성 이외에, 함께 존재하는 반응성가스의 부수적인 이온화가 진행되고 이로 인해 고분자막 표면이 에칭될 수 있는 문제점을 수반한다. In addition, Korean Patent Publication No. 1996-37742 discloses a method of reducing the contact angle or increasing the adhesion of the surface of a polymer membrane by irradiating ion particles having energy on the surface of the polymer membrane under a vacuum atmosphere and injecting a reactive gas to the surface of the polymer membrane. Is disclosed. In this publication, the above method can reduce the contact angle for polymethylmethacrylic acid (PMMA) in the surface-modified high molecular film to 8 °, and for polycarboxylic acid (PC), water droplets continue to flow. It is described that the contact angle of the surface of the polymer can be lowered to such an extent that it cannot be measured. However, as described above, in the case of irradiating an ion beam and simultaneously injecting a reactive gas, in addition to free radical formation on the surface of the polymer membrane during ion beam irradiation, incidental ionization of the reactive gases present together proceeds, thereby causing the surface of the polymer membrane to be etched. It entails a problem.

또한, 일본공개특허공보 평11-312413호에는, 광촉매를 이용한 습식세정방법을 통하여 플라스틱광학부재의 기재표면을 세정 및 개질하는 방법에 대하여 기재되어 있다. 여기에는, 플라스틱렌즈의 표면에 광촉매를 함유한 액체를 얇게 도포하여 정치 또는 회전시키는 동시에 필요한 광에너지를 공급하여 표면을 세정 및 개질하는 방법에 대하여 기재되어 있다. 그러나, 상기 방법을 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 소수성고분자막에 적용하는 경우에는, 고분자막 표면과 잉크와 같은 코팅재료 사이에 분리가 되어 밀착력이 약해지고 전체적으로 불균일하게 도포되는 문제점이 있다.Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-312413 discloses a method for cleaning and modifying the substrate surface of a plastic optical member by a wet cleaning method using a photocatalyst. Here, a method is described in which a liquid containing a photocatalyst is applied to a surface of a plastic lens in a thin film to be left standing or rotating, and at the same time supplying necessary optical energy to clean and modify the surface. However, when the method is applied to a hydrophobic polymer film such as polyethylene or polypropylene, there is a problem in that the adhesion is weakened between the surface of the polymer film and the coating material such as ink, resulting in weak adhesion and overall non-uniform coating.

따라서, 상기 문제점들을 해결할 수 있는 보다 효과적인 고분자막의 개질방법이 요구되고 있다. Therefore, there is a need for a more effective method of modifying a polymer membrane that can solve the above problems.

본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 고려하여, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등을 포함한 모든 종류의 고분자막의 표면을 보다 균일하고 보다 효과적으로 세정 및 개질할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a method for more uniformly and effectively cleaning and modifying the surface of all kinds of polymer films including polyethylene, polypropylene, and the like.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 다음과 같은 구성을 가진다.In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

본 발명의 제1양태는, 고분자막에 계면활성제를 함유한 광촉매분산용액을 도포하는 제1단계, 및 광촉매용액이 도포된 상기 고분자막에 자외선을 조사하여 표면을 개질하는 제2단계를 포함하는 고분자막의 표면개질방법을 제공한다.A first aspect of the present invention provides a polymer film comprising a first step of applying a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant to a polymer film, and a second step of modifying a surface by irradiating ultraviolet light to the polymer film to which the photocatalyst solution is applied. It provides a surface modification method.

또한, 상기 제1양태에서, 상기 제1단계 후 분산용액 중의 용매를 제거하기 위한 고분자막의 건조단계를 더 포함할 수도 있다.In the first aspect, the method may further include a drying step of the polymer membrane for removing the solvent in the dispersion solution after the first step.

또한, 상기 제1양태에서, 상기 제2단계 전에 롤러를 이용하여 광촉매가 도포된 고분자막을 가압하는 단계를 더 포함할 수도 있다.In the first aspect, the method may further include pressing the polymer film coated with the photocatalyst using a roller before the second step.

본 발명의 제2양태는, 계면활성제를 함유한 광촉매분산용액에 고분자막을 침지하는 단계, 및 상기 고분자막에 자외선을 조사하여 표면을 개질하는 단계를 포함하는 고분자막의 표면개질방법을 제공한다.The second aspect of the present invention provides a method for surface modification of a polymer membrane comprising immersing a polymer membrane in a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant, and modifying the surface by irradiating the polymer membrane with ultraviolet rays.

또한, 상기 제2양태에서, 상기 광촉매분산용액에 전극을 삽입하여 광촉매분산용액 중 물의 전기분해를 일으키는 단계를 더 포함할 수도 있다.In the second aspect, the method may further include inserting an electrode into the photocatalyst dispersion solution to cause electrolysis of water in the photocatalyst dispersion solution.

이하, 본 발명의 제1양태에 대하여는 도 1 및 2를 참조하여 구체적으로 서술한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the 1st aspect of this invention is described concretely with reference to FIGS.

본 발명의 제1양태는, 고분자막에 계면활성제를 함유한 광촉매분산용액을 도포하는 제1단계, 및 상기 광촉매용액이 도포된 상기 고분자막에 자외선을 조사하여 표면을 개질하는 제2단계로 구성된다. The first aspect of the present invention comprises a first step of applying a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant to a polymer film, and a second step of modifying a surface by irradiating the polymer film to which the photocatalyst solution is applied.

상기 광촉매는 태양 또는 형광등 등에서 조사되는 자외선을 받아서 전자와 정공을 형성하여 촉매역할을 하는 물질로, 일반적으로 TiO2, ZnO, SnO, RuO2, CoO, Ce2O3, Cr2O3, Rh2O3, V2O 5 등이 사용될 수 있고, 그 중 본 발명에서는 화학적으로 안정하고 무해하며 저가인 이산화티타늄(TiO2)이 특히 바람직하게 사용된다. 이는 빛에너지를 화학에너지로 변환하는 원리에 기인한 것으로, 그 물리적 원리는 다음과 같다. 산화물반도체의 에너지밴드는 가전자대(valance band), 전도대(conduction band) 및 이것들 사이의 에너지갭을 포함하는데, 예컨대 산화티탄의 경우 상기 에너지갭이 약 3.2eV로, 그 이상의 에너지를 흡수하는 경우 가전자대의 전자가 여기되어 전도대로 이동하게 되고 그에 따라 가전자대에는 정공이 형성되어 그 이동이 자유롭게 된다. 상기 에너지갭은, 광의 경우 약 380㎚ 이하의 파장에 해당하기 때문에, 자외선(UV)을 조사하게 되면 여기상태 즉, 활성상태로 된다. 여기서 형성된 전자 및 정공은 표면으로 이동하여 각각 산소(O2-) 및 히드록시기(OH-)와 결합하여 라디칼을 형성한다. 산화티탄의 경우 정공의 산화력이 보다 강력하기 때문에, 주로 히드록시라디컬(ㆍOH) 및 수퍼옥사이드음이온(ㆍO2-)이 오염물 등의 유기물질을 산화시켜 탄산가스(CO2)와 물(H2O)로 산화분해한다. The photocatalyst is a material that acts as a catalyst by receiving ultraviolet rays irradiated from the sun or a fluorescent lamp to form electrons and holes, and generally TiO 2 , ZnO, SnO, RuO 2 , CoO, Ce 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Rh 2 O 3 , V 2 O 5 and the like can be used, and among these, chemically stable, harmless and inexpensive titanium dioxide (TiO 2 ) is particularly preferably used. This is due to the principle of converting light energy into chemical energy, and the physical principle is as follows. The energy band of an oxide semiconductor includes a valence band, a conduction band and an energy gap between them, for example, in the case of titanium oxide, the energy gap is about 3.2 eV, and when absorbing more energy The electrons of the magnetic field are excited to move to the conduction band, whereby holes are formed in the valence band to free the movement. Since the energy gap corresponds to a wavelength of about 380 nm or less in the case of light, upon irradiation with ultraviolet (UV) light, the energy gap becomes an excited state, that is, an active state. The electrons and holes formed here travel to the surface and combine with oxygen (O 2- ) and hydroxyl groups (OH − ) to form radicals, respectively. In the case of titanium oxide, the oxidizing power of holes is stronger, and mainly hydroxy radical (· OH) and superoxide anion (· O 2- ) oxidize organic substances such as contaminants, so that carbon dioxide (CO 2 ) and water ( Oxidize to H 2 O).

또한 본원발명에서의 광촉매는 미립자 형상을 사용하며, 바람직하게는 0.5㎛ 이하의 입자크기를 갖는 것을 선택한다. 광촉매분산용액 제조시, 상기 광촉매를 초순수에 현탁시켜 10 내지 100g/ℓ농도로 조정한다. 또한, 상기 광촉매분산용액은 산성, 바람직하게는 pH 5 이하로 유지되는 것이 바람직하다.  In addition, the photocatalyst in the present invention uses a particulate shape, preferably selected to have a particle size of 0.5㎛ or less. In preparing a photocatalyst dispersion solution, the photocatalyst is suspended in ultrapure water and adjusted to a concentration of 10 to 100 g / l. In addition, the photocatalyst dispersion solution is preferably acidic, preferably maintained at pH 5 or less.

특히, 본원발명에서는, 상기 광촉매분산용액에, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등과 같은 소수성 고분자막에 균일하게 도포될 수 있도록 미량의 계면활성제를 첨가한다. 계면활성제는, 한 분자 내에 친수기 및 소수기를 모두 가진 화합물을 일컫는 것으로, 묽은 용액에서 계면에 흡착하여 그 표면장력을 감소시키는 역할을 한다. 따라서, 광촉매분산용액에 상기 계면활성제를 미량 첨가함으로써, 소수성의 고분자막에 상기 용액이 균일하게 도포될 수 있다. 계면활성제로는, 일반적으로 널리 사용되는 공지의 계면활성제 중 임의의 것이 사용되어도 무방하다. 이상과 같이, 계면활성제가 미량 첨가된 광촉매분산용액을 고분자막에 도포한다.  In particular, in the present invention, a small amount of surfactant is added to the photocatalyst dispersion solution so as to be uniformly applied to a hydrophobic polymer film such as polyethylene or polypropylene. Surfactant refers to a compound having both a hydrophilic group and a hydrophobic group in one molecule, and serves to reduce the surface tension by adsorbing to the interface in a dilute solution. Therefore, by adding a small amount of the surfactant to the photocatalyst dispersion solution, the solution can be uniformly applied to the hydrophobic polymer film. As surfactant, any of the well-known surfactant generally widely used may be used. As described above, the photocatalyst dispersion solution containing a small amount of the surfactant is applied to the polymer membrane.

그 다음, 상기 도포된 고분자막에 자외선을 조사한다. 일반적으로, 전자를 여기시키기 위해서는, 예컨대 이산화티타늄(TiO2)은 387nm 이하, 산화주석(SnO)은 344nm 이하, 산화아연(ZnO)은 387nm 이하 파장의 자외선을 필요로 한다. 자외선 광원으로는 자외선램프, 수은등, 염화메틸램프 등을 사용할 수 있고, 자외선 조사시 자외선 강도는 10000mW/㎠으로 조정된다. 또한, 온도의 지나친 상승을 방지하기 위해서 단속적으로 복수의 횟수로 조사하는 것이 바람직하다.Then, the coated polymer film is irradiated with ultraviolet light. In general, in order to excite electrons, for example, titanium dioxide (TiO 2 ) requires ultraviolet rays having a wavelength of 387 nm or less, tin oxide (SnO) of 344 nm or less, and zinc oxide (ZnO) of 387 nm or less. An ultraviolet light source, a mercury lamp, a methyl chloride lamp, etc. can be used as an ultraviolet light source, The ultraviolet light intensity is adjusted to 10000mW / cm <2> at the time of ultraviolet irradiation. In addition, in order to prevent excessive rise of temperature, it is preferable to irradiate several times intermittently.

또한, 상기 제1양태에 있어서, 상기 고분자막에 광촉매분산용액을 도포하는 단계 후에, 상기 용액의 용매를 제거하기 위한 건조단계를 더 포함할 수도 있다.In addition, in the first aspect, after the step of applying the photocatalyst dispersion solution to the polymer film, it may further comprise a drying step for removing the solvent of the solution.

또한, 도 2에서 보는 바와 같이, 상기 제2단계인 자외선 조사 전에 광촉매가 도포된 고분자막을 롤러로 가압하는 단계를 더 포함할 수도 있다. 이 단계를 통하여, 미립자인 광촉매에 의해 고분자막 표면이 연마되는 효과를 더 얻을 수 있다. 게다가, 상기 구성에서, 두 개의 롤러를 전극으로 하여, 두 개의 롤러 사이에 고분자막이 개재될 수 있도록 배치한 후 그 롤러 사이로 고분자막을 통과시켜 자외선을 조사함으로써, 고분자막 표면에서 광촉매분산용액의 전기분해를 일으켜, 고분자막 표면 및 롤러의 접촉부에 발생하는 발생기의 산소에 의해 표면개질을 더 효과적으로 실현할 수도 있다. In addition, as shown in Figure 2, may further comprise the step of pressing the polymer film coated with a photocatalyst before the second step of ultraviolet irradiation with a roller. Through this step, the effect of polishing the surface of the polymer film by the photocatalyst as fine particles can be further obtained. In addition, in the above configuration, two rollers are used as electrodes, and the polymer film is interposed between the two rollers, and then the polymer film is passed between the rollers to irradiate ultraviolet rays, thereby electrolysis of the photocatalyst dispersion solution on the surface of the polymer film. It is possible to realize surface modification more effectively by oxygen of the generator generated in the contact portion between the surface of the polymer film and the roller.

이하, 본 발명의 제2양태에 대하여 도 3a 및 3b를 참조하여 설명한다.Hereinafter, a second aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 3A and 3B.

본 발명의 제2양태는, 상기 제1양태와 비교하여, 광촉매를 함유한 분산용액을 도포하는 대신, 광촉매를 함유한 분산용액에 상기 고분자막을 침지하는 방식을 이용한다. 도 3a에서 보는 바와 같이, 수조에 상기 제1양태에서 제조된 것과 동일한 광촉매분산용액을 채운 후 그 안에 고분자막이 충분히 잠기도록 담금으로써, 고분자막 표면과 광촉매분산용액이 충분히 접촉되도록 한다. 그 후 자외선을 조사함으로써 고분자막 표면에서 산소를 발생시켜 표면개질의 효과를 얻을 수 있다.Compared with the first aspect, the second aspect of the present invention uses a method of immersing the polymer film in the dispersion solution containing the photocatalyst, instead of applying the dispersion solution containing the photocatalyst. As shown in Figure 3a, by filling the same photocatalyst dispersion solution prepared in the first embodiment in the water bath so that the polymer film is sufficiently submerged therein, the surface of the polymer membrane and the photocatalyst dispersion solution is sufficiently in contact. Thereafter, by irradiating with ultraviolet rays, oxygen can be generated on the surface of the polymer film to obtain the effect of surface modification.

또한, 도 3b에서 보는 바와 같이, 상기 수조 내에 한 쌍의 전극을 투입하는 동시에 자외선을 조사하여 광촉매분산용액 중 물의 전기분해를 일으킬 수 있고, 그에 따라 고분자막 표면에 발생기의 산소를 발생시켜 고분자막의 표면개질효과를 더욱 배가시킬 수 있다.In addition, as shown in Figure 3b, by introducing a pair of electrodes in the tank at the same time irradiated with ultraviolet light may cause electrolysis of water in the photocatalyst dispersion solution, thereby generating oxygen of the generator on the surface of the polymer membrane surface The modification effect can be further doubled.

상기와 같은 광촉매를 함유한 분산용액에 상기 고분자막을 침지하는 방식은, 고분자막의 양 표면에 동시에 적용할 수 있어 효율성 면에서 좋다.The method of immersing the polymer film in the dispersion solution containing the photocatalyst as described above can be applied to both surfaces of the polymer film at the same time, which is good in terms of efficiency.

도 4는, 본 발명의 제1양태에 따라 실시된 표면개질방법에 있어서, 사용된 광촉매분산용액의 회수방법을 보여주는 개략도이다. 여기서, 광촉매분산용액은 고 분자막 표면에 도포되고, 도포되고 남은 광촉매분산용액(9)은 펌프(7)를 통과하여 도포된 막의 건조시 증발된 수분(10)과 함께, 자외선 조사가 완료된 고분자막 표면 위로 공급되어 고분자막 표면을 세정한다. 그 다음, 상기 고분자막은 스퀴지(8)를 통과하여 잔존하는 수분이 제거되고, 사용된 세정액은 수조에 모아져 펌프를 통해 다시 광촉매분산용매 용기로 공급되어진다. 이로써, 광촉매분산용액은 전량 회수된다. 4 is a schematic view showing a method for recovering the photocatalyst dispersion solution used in the surface modification method according to the first aspect of the present invention. Here, the photocatalyst dispersion solution is applied to the surface of the high molecular film, and the remaining photocatalyst dispersion solution 9 is passed through the pump 7 together with the moisture 10 evaporated during drying of the coated film, and the polymer film is irradiated with ultraviolet rays. It is fed over the surface to clean the polymer membrane surface. Then, the polymer film is passed through the squeegee 8 to remove residual water, and the used cleaning liquid is collected in a water tank and supplied to the photocatalyst dispersion solvent container through a pump. As a result, the total amount of the photocatalyst dispersion solution is recovered.

도 5는, 본 발명의 표면개질방법에 있어서, 회수된 광촉매분산용액의 농도를 조정하는 방법을 보여주는 개략도이다. 본 발명에서 광촉매는 전량회수될 수 있기 때문에, 최초의 용액량과 동일한 양의 물을 첨가하는 것으로 용액농도의 조정이 가능하다. 도 5에서는, 광촉매의 용액을 고분자막에 도포하고 건조한 경우의 증기를 회수하여 사용하는 것도 아울러 보여준다.5 is a schematic view showing a method of adjusting the concentration of the recovered photocatalyst dispersion solution in the surface modification method of the present invention. Since the photocatalyst can be recovered in its entirety in the present invention, the solution concentration can be adjusted by adding the same amount of water as the initial solution amount. In FIG. 5, the solution of the photocatalyst is also applied to the polymer membrane and also shows the use of steam in the case of drying.

상기와 같이, 계면활성제를 함유한 광촉매분산용액에 고분자막을 도포 또는 침지하는 방법을 사용함으로써, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 소수성 고분자막을 포함한 모든 종류의 고분자막의 표면을 보다 균일하고 보다 효과적으로 세정 및 개질할 수 있다.As described above, by using a method of applying or immersing a polymer film in a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant, it is possible to more uniformly and effectively clean and modify the surface of all kinds of polymer films including hydrophobic polymer films such as polyethylene and polypropylene. Can be.

Claims (6)

고분자막의 표면개질방법에 있어서,In the surface modification method of the polymer film, 상기 고분자막 표면에 계면활성제를 함유한 광촉매분산용액을 도포하는 제1단계;A first step of applying a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant on the surface of the polymer film; 롤러를 이용하여 광촉매가 도포된 고분자막 표면을 가압하는 제2단계; 및Pressurizing the surface of the polymer film to which the photocatalyst is applied by using a roller; And 상기 광촉매가 도포된 고분자막 표면에 자외선을 조사하여 표면을 개질하는 제3단계를 포함하는 고분자막의 표면개질방법.And a third step of modifying the surface by irradiating the surface of the polymer film coated with the photocatalyst with ultraviolet rays. 제1항에 있어서, 상기 제1단계 후 제2단계 전에 건조단계를 더 포함하는 고분자막의 표면개질방법.The method of claim 1, further comprising a drying step before the second step after the first step. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 롤러는 전극으로 작용하여 광촉매분산용액의 전기분해를 일으키는 고분자막의 표면개질방법.The method of claim 1, wherein the roller acts as an electrode to cause electrolysis of the photocatalyst dispersion solution. 고분자막의 표면개질방법에 있어서,In the surface modification method of the polymer film, 상기 고분자막을 계면활성제가 함유된 광촉매분산용액에 침지하는 제1단계;A first step of immersing the polymer membrane in a photocatalyst dispersion solution containing a surfactant; 상기 광촉매분산용액에 전극을 삽입하여 광촉매분산용액의 전기분해를 일으키는 제2단계; 및Inserting an electrode into the photocatalyst dispersion solution to cause electrolysis of the photocatalyst dispersion solution; And 상기 고분자막 표면에 자외선을 조사하여 표면을 개질하는 제3단계를 포함하는 고분자막의 표면개질방법.Surface modification method of the polymer membrane comprising a third step of modifying the surface by irradiating the surface of the polymer membrane with ultraviolet rays. 삭제delete
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