JPH09253642A - 純水製造装置 - Google Patents
純水製造装置Info
- Publication number
- JPH09253642A JPH09253642A JP8070173A JP7017396A JPH09253642A JP H09253642 A JPH09253642 A JP H09253642A JP 8070173 A JP8070173 A JP 8070173A JP 7017396 A JP7017396 A JP 7017396A JP H09253642 A JPH09253642 A JP H09253642A
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- Japan
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- exchange resin
- water
- cation exchange
- pure water
- resin column
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- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水中の酸素、炭酸及び電解質を効率的に除去
する。 【解決手段】 強酸性陽イオン交換樹脂塔１と膜式脱気
装置４と、強塩基性陰イオン交換樹脂塔３とからなる純
水製造装置。 【効果】 強酸性陽イオン交換樹脂塔で水中のカチオン
が除去される。強酸性陽イオン交換樹脂塔におけるイオ
ン交換で溶出したＨ+ イオンにより、強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水のｐＨは低下（ｐＨ＝２〜４程度）す
るため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離炭酸
（炭酸ガス）となる。この炭酸ガスと共に、溶存酸素等
の他の溶存気体も膜式脱気装置で効率的に除去される。
残りのアニオン成分は強塩基性陰イオン交換樹脂塔で除
去される。純水製造装置の後段に更に脱気装置を設ける
必要がなくなり、エネルギーコスト、装置コストが低減
すると共に、装置を小型化することが可能となる。
する。 【解決手段】 強酸性陽イオン交換樹脂塔１と膜式脱気
装置４と、強塩基性陰イオン交換樹脂塔３とからなる純
水製造装置。 【効果】 強酸性陽イオン交換樹脂塔で水中のカチオン
が除去される。強酸性陽イオン交換樹脂塔におけるイオ
ン交換で溶出したＨ+ イオンにより、強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水のｐＨは低下（ｐＨ＝２〜４程度）す
るため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離炭酸
（炭酸ガス）となる。この炭酸ガスと共に、溶存酸素等
の他の溶存気体も膜式脱気装置で効率的に除去される。
残りのアニオン成分は強塩基性陰イオン交換樹脂塔で除
去される。純水製造装置の後段に更に脱気装置を設ける
必要がなくなり、エネルギーコスト、装置コストが低減
すると共に、装置を小型化することが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は純水製造装置に係
り、特に、水中の酸素、炭酸及び電解質を効率的に除去
することができる純水製造装置に関する。
り、特に、水中の酸素、炭酸及び電解質を効率的に除去
することができる純水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のボイラ給水用又は半導体プロセス
用の純水製造装置は、一般に強酸性陽イオン交換樹脂塔
及び強塩基性陰イオン交換樹脂塔を備え、強酸性陽イオ
ン交換樹脂塔でカチオンが除去され、強塩基性陰イオン
交換樹脂塔でアニオンが除去されて純水が製造されてい
る。
用の純水製造装置は、一般に強酸性陽イオン交換樹脂塔
及び強塩基性陰イオン交換樹脂塔を備え、強酸性陽イオ
ン交換樹脂塔でカチオンが除去され、強塩基性陰イオン
交換樹脂塔でアニオンが除去されて純水が製造されてい
る。
【０００３】図２は、このような従来の純水製造装置の
一例を示す二床三塔式純水製造装置の系統図であり、こ
の純水製造装置は、強酸性陽イオン交換樹脂塔１と、脱
炭酸塔２と、強塩基性陰イオン交換樹脂塔３とで構成さ
れている。この純水製造装置では、まず、強酸性陽イオ
ン交換樹脂塔１でカチオンを除去する。強酸性陽イオン
交換樹脂塔１におけるイオン交換で溶出したＨ+ イオン
により、強酸性陽イオン交換換脂塔１の処理水のｐＨは
低下するため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離
炭酸（炭酸ガス）となる。この炭酸ガスを脱炭酸塔２で
除去し、残りのアニオン成分を強塩基性陰イオン交換樹
脂塔３で除去する。
一例を示す二床三塔式純水製造装置の系統図であり、こ
の純水製造装置は、強酸性陽イオン交換樹脂塔１と、脱
炭酸塔２と、強塩基性陰イオン交換樹脂塔３とで構成さ
れている。この純水製造装置では、まず、強酸性陽イオ
ン交換樹脂塔１でカチオンを除去する。強酸性陽イオン
交換樹脂塔１におけるイオン交換で溶出したＨ+ イオン
により、強酸性陽イオン交換換脂塔１の処理水のｐＨは
低下するため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離
炭酸（炭酸ガス）となる。この炭酸ガスを脱炭酸塔２で
除去し、残りのアニオン成分を強塩基性陰イオン交換樹
脂塔３で除去する。
【０００４】なお、従来、膜を介して液中の溶存気体を
減圧の気相側へ透過させて除去する膜式脱気装置は、特
開平５−１８５０６８号公報等に記載されて公知である
が、膜式脱気装置では電解質成分の除去は行えない。
減圧の気相側へ透過させて除去する膜式脱気装置は、特
開平５−１８５０６８号公報等に記載されて公知である
が、膜式脱気装置では電解質成分の除去は行えない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】純水製造装置の原水と
なる市水等には、電解質及び溶存酸素等の溶存気体が含
有されており、このうち、電解質は主に強酸性陽イオン
交換樹脂塔及び強塩基性陰イオン交換樹脂塔で除去され
る。しかしながら、図２に示すような従来の純水製造装
置には、水中の溶存酸素の除去機能はない。このため、
溶存酸素の除去のために、更に純水製造装置の後段に脱
気装置を設置する必要があり、エネルギーコスト、設備
コストが高騰し、また、装置が大型化するという欠点が
ある。
なる市水等には、電解質及び溶存酸素等の溶存気体が含
有されており、このうち、電解質は主に強酸性陽イオン
交換樹脂塔及び強塩基性陰イオン交換樹脂塔で除去され
る。しかしながら、図２に示すような従来の純水製造装
置には、水中の溶存酸素の除去機能はない。このため、
溶存酸素の除去のために、更に純水製造装置の後段に脱
気装置を設置する必要があり、エネルギーコスト、設備
コストが高騰し、また、装置が大型化するという欠点が
ある。
【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決し、水中
の酸素、炭酸及び電解質を効率的に除去することができ
る純水製造装置を提供することを目的とする。
の酸素、炭酸及び電解質を効率的に除去することができ
る純水製造装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の純水製造装置
は、強酸性陽イオン交換樹脂塔と、該強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水が導入される膜式脱気装置と、該膜式
脱気装置の処理水が導入される強塩基性陰イオン交換樹
脂塔とを備えてなることを特徴とする。
は、強酸性陽イオン交換樹脂塔と、該強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水が導入される膜式脱気装置と、該膜式
脱気装置の処理水が導入される強塩基性陰イオン交換樹
脂塔とを備えてなることを特徴とする。
【０００８】本発明の純水製造装置では、まず、強酸性
陽イオン交換樹脂塔で水中のカチオンが除去される。前
述の如く、この強酸性陽イオン交換樹脂塔におけるイオ
ン交換で溶出したＨ+ イオンにより、強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水のｐＨは低下（ｐＨ＝２〜４程度）す
るため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離炭酸と
なる。この炭酸ガスは膜式脱気装置で除去されるが、そ
の際に、溶存酸素等の他の溶存気体も膜式脱気装置で効
率的に除去される。そして、残りのアニオン成分は強塩
基性陰イオン交換樹脂塔で除去される。
陽イオン交換樹脂塔で水中のカチオンが除去される。前
述の如く、この強酸性陽イオン交換樹脂塔におけるイオ
ン交換で溶出したＨ+ イオンにより、強酸性陽イオン交
換樹脂塔の処理水のｐＨは低下（ｐＨ＝２〜４程度）す
るため、水中の炭酸イオンや重炭酸イオンは遊離炭酸と
なる。この炭酸ガスは膜式脱気装置で除去されるが、そ
の際に、溶存酸素等の他の溶存気体も膜式脱気装置で効
率的に除去される。そして、残りのアニオン成分は強塩
基性陰イオン交換樹脂塔で除去される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１０】図１は本発明の純水製造装置の一実施例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【００１１】図示の如く、本発明の純水製造装置は、強
酸性陽イオン交換樹脂塔１、膜式脱気装置４及び強塩基
性陰イオン交換樹脂塔３で構成される。
酸性陽イオン交換樹脂塔１、膜式脱気装置４及び強塩基
性陰イオン交換樹脂塔３で構成される。
【００１２】強酸性陽イオン交換樹脂塔１及び強塩基性
陰イオン交換樹脂塔３としては、従来の純水製造装置に
一般的に用いられているものを使用することができる。
陰イオン交換樹脂塔３としては、従来の純水製造装置に
一般的に用いられているものを使用することができる。
【００１３】膜式脱気装置４としては、膜の気相側を真
空ポンプで減圧するか、又は、窒素ガス等を使用して炭
酸及び酸素分圧を下げるか、真空ポンプと窒素ガス等を
併用する脱気方式を用いることができる。
空ポンプで減圧するか、又は、窒素ガス等を使用して炭
酸及び酸素分圧を下げるか、真空ポンプと窒素ガス等を
併用する脱気方式を用いることができる。
【００１４】このような本発明の純水製造装置では、強
酸性陽イオン交換樹脂塔１でカチオン成分が、膜式脱気
装置４で炭酸ガス、酸素、その他の溶存気体が、更に、
強塩基性陰イオン交換樹脂塔３でアニオン成分が除去さ
れることにより、高純度の純水が製造される。
酸性陽イオン交換樹脂塔１でカチオン成分が、膜式脱気
装置４で炭酸ガス、酸素、その他の溶存気体が、更に、
強塩基性陰イオン交換樹脂塔３でアニオン成分が除去さ
れることにより、高純度の純水が製造される。
【００１５】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００１６】説明の便宜上、まず、比較例を挙げる。
【００１７】比較例１ 図２に示す従来の純水製造装置（栗田工業株式会社製
上向流再生式純水装置「ＫＴＳ ＣＲ−８」）を用い、
表１に示す水質の原水を１０ｍ3 ／ｈｒの流量で処理し
て純水の製造を行った。得られた処理水の水質を表１に
示す。
上向流再生式純水装置「ＫＴＳ ＣＲ−８」）を用い、
表１に示す水質の原水を１０ｍ3 ／ｈｒの流量で処理し
て純水の製造を行った。得られた処理水の水質を表１に
示す。
【００１８】実施例１ 比較例１で用いた純水製造装置の脱炭酸塔を１０インチ
モジュール２本からなる膜脱気装置（栗田工業株式会社
製「ウォーターサーバ ＷＳ−２ＯＷＮ（真空ポンプと
窒素ガスを併用するタイプ）」）に変更し、図１に示す
構成とした純水製造装置を用い、比較例１で処理した原
水と同水質の原水を１０ｍ3 ／ｈｒの流量で処理して純
水の製造を行った。得られた処理水の水質を表１に示
す。
モジュール２本からなる膜脱気装置（栗田工業株式会社
製「ウォーターサーバ ＷＳ−２ＯＷＮ（真空ポンプと
窒素ガスを併用するタイプ）」）に変更し、図１に示す
構成とした純水製造装置を用い、比較例１で処理した原
水と同水質の原水を１０ｍ3 ／ｈｒの流量で処理して純
水の製造を行った。得られた処理水の水質を表１に示
す。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１より、本発明の純水製造装置によれ
ば、溶存酸素を極低濃度にまで除去できる上に、炭酸ガ
ス除去効率も向上し、後処理装置を設けることなく、高
純度の純水を製造することができることが明らかであ
る。
ば、溶存酸素を極低濃度にまで除去できる上に、炭酸ガ
ス除去効率も向上し、後処理装置を設けることなく、高
純度の純水を製造することができることが明らかであ
る。
【００２１】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の純水製造装
置によれば、膜式脱気装置で炭酸ガスと共に、溶存酸素
等の他の溶存気体も効率的に除去することができ、しか
も炭酸ガスの除去性能も従来の純水製造装置に比較して
向上する。
置によれば、膜式脱気装置で炭酸ガスと共に、溶存酸素
等の他の溶存気体も効率的に除去することができ、しか
も炭酸ガスの除去性能も従来の純水製造装置に比較して
向上する。
【００２２】このため、純水製造装置の後段に更に脱気
装置を設ける必要がなくなり、エネルギーコスト、装置
コストが低減すると共に、装置を小型化することが可能
となる。
装置を設ける必要がなくなり、エネルギーコスト、装置
コストが低減すると共に、装置を小型化することが可能
となる。
【００２３】本発明は、市水等を原水とするボイラ給水
用又は半導体プロセス用の純水製造装置等として、工業
的に極めて有用である。
用又は半導体プロセス用の純水製造装置等として、工業
的に極めて有用である。
【図１】本発明の純水製造装置の一実施例を示す系統図
である。
である。
【図２】従来の純水製造装置を示す系統図である。
１ 強酸性陽イオン交換樹脂塔 ２ 脱炭酸塔 ３ 強塩基性陰イオン交換樹脂塔 ４ 膜式脱気装置
Claims (1)
- 【請求項１】 強酸性陽イオン交換樹脂塔と、 該強酸性陽イオン交換樹脂塔の処理水が導入される膜式
脱気装置と、 該膜式脱気装置の処理水が導入される強塩基性陰イオン
交換樹脂塔とを備えてなる純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8070173A JPH09253642A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8070173A JPH09253642A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09253642A true JPH09253642A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13423883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8070173A Pending JPH09253642A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09253642A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001205297A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-31 | Japan Organo Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003031255A (ja) * | 2001-07-18 | 2003-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 燃料電池発電装置、及び凝縮水の貯水タンクへの供給方法 |
| JP2003080245A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-18 | Nippon Rensui Co Ltd | 純水製造装置 |
| EP1396285A1 (en) * | 2002-09-06 | 2004-03-10 | Rohm And Haas Company | Fluid treatment system |
| JP2005334798A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Miura Co Ltd | 給水システム |
| WO2007094242A1 (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-23 | Arkray, Inc. | 脱気装置およびそれを備えた液体クロマトグラフィ装置 |
| CN101508473A (zh) * | 2009-04-08 | 2009-08-19 | 夏玉利 | 净化器设备 |
| JP2014168743A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造方法 |
-
1996
- 1996-03-26 JP JP8070173A patent/JPH09253642A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001205297A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-31 | Japan Organo Co Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003031255A (ja) * | 2001-07-18 | 2003-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 燃料電池発電装置、及び凝縮水の貯水タンクへの供給方法 |
| JP2003080245A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-18 | Nippon Rensui Co Ltd | 純水製造装置 |
| EP1396285A1 (en) * | 2002-09-06 | 2004-03-10 | Rohm And Haas Company | Fluid treatment system |
| KR100965489B1 (ko) * | 2002-09-06 | 2010-06-24 | 롬 앤드 하스 캄파니 | 유체 처리 시스템 |
| JP2005334798A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Miura Co Ltd | 給水システム |
| WO2007094242A1 (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-23 | Arkray, Inc. | 脱気装置およびそれを備えた液体クロマトグラフィ装置 |
| US8495906B2 (en) | 2006-02-16 | 2013-07-30 | Arkray, Inc. | Degasifier and liquid chromatograph equipped therewith |
| JP5324913B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2013-10-23 | アークレイ株式会社 | 脱気装置およびそれを備えた液体クロマトグラフィ装置 |
| CN101508473A (zh) * | 2009-04-08 | 2009-08-19 | 夏玉利 | 净化器设备 |
| JP2014168743A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051122 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070116 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070522 |