JPH09184987A - 光遅延装置 - Google Patents
光遅延装置Info
- Publication number
- JPH09184987A JPH09184987A JP8000869A JP86996A JPH09184987A JP H09184987 A JPH09184987 A JP H09184987A JP 8000869 A JP8000869 A JP 8000869A JP 86996 A JP86996 A JP 86996A JP H09184987 A JPH09184987 A JP H09184987A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light flux
- incident
- light
- flux
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/02—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
- G02B26/04—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light by periodically varying the intensity of light, e.g. using choppers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/147—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using averaging effects by spatially variable reflectivity on a microscopic level, e.g. polka dots, chequered or discontinuous patterns, or rapidly moving surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １つの光軸上に互いに異なる遅延を有する光
束を周期的に交互に出力するとともに、少なくとも一方
の光束の遅延量を可変設定することができる光遅延装置
を提供することを目的とする。 【解決手段】 反射部と透過部とが円周方向に周期的に
交互に形成された回転板１１１はモータ１１２で回転駆
動される。入射光束Ｉ０が回転板１１１の反射部に入射
した時には、反射されて光束Ｉ１が生成される。入射光
束Ｉ０が回転板１１１の透過部に入射した時には、透過
した光束Ｉ２は反射鏡１２０で反射して光束Ｉ３とな
り、その光束Ｉ３は回転板１１１の透過部を再び透過す
る。この光束Ｉ３は、光束Ｉ１とは異なる遅延を有する
ものであり、光束Ｉ１と同一光軸上を同一方向に周期的
に交互に進む。更に、反射鏡１２０は移動ステージ１３
０によって移動可能であり、この移動に伴って光束Ｉ３
の遅延量は変化する。
束を周期的に交互に出力するとともに、少なくとも一方
の光束の遅延量を可変設定することができる光遅延装置
を提供することを目的とする。 【解決手段】 反射部と透過部とが円周方向に周期的に
交互に形成された回転板１１１はモータ１１２で回転駆
動される。入射光束Ｉ０が回転板１１１の反射部に入射
した時には、反射されて光束Ｉ１が生成される。入射光
束Ｉ０が回転板１１１の透過部に入射した時には、透過
した光束Ｉ２は反射鏡１２０で反射して光束Ｉ３とな
り、その光束Ｉ３は回転板１１１の透過部を再び透過す
る。この光束Ｉ３は、光束Ｉ１とは異なる遅延を有する
ものであり、光束Ｉ１と同一光軸上を同一方向に周期的
に交互に進む。更に、反射鏡１２０は移動ステージ１３
０によって移動可能であり、この移動に伴って光束Ｉ３
の遅延量は変化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、互いに異なる遅延
を有し少なくとも一方の遅延量が可変である２光束を交
互に発生させる光遅延装置に関するものである。
を有し少なくとも一方の遅延量が可変である２光束を交
互に発生させる光遅延装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、パルス光を用いた光学実験や光学
測定では、パルス光が測定対象物に到達するタイミング
を変化させる為に光遅延装置が用いられる（例えば、特
開平１−２８６４３１号公報、IEEE J. of Quantum Ele
ctronics, Vol.QE-22, No.1 (1986) pp.69-78 ）。図１
３は、従来の光遅延装置が用いられている電界測定装置
の構成図である。
測定では、パルス光が測定対象物に到達するタイミング
を変化させる為に光遅延装置が用いられる（例えば、特
開平１−２８６４３１号公報、IEEE J. of Quantum Ele
ctronics, Vol.QE-22, No.1 (1986) pp.69-78 ）。図１
３は、従来の光遅延装置が用いられている電界測定装置
の構成図である。
【０００３】この電界測定装置では、まず、ピコ秒パル
スレーザ光源１から出射された光束は、ハーフミラー２
で２つの光束に分割される。一方の光束は、透過および
遮断を周期的に交互に繰り返す光変調器３を介して、例
えばホトコンダクティブ光スイッチなどのピコ秒回路で
ある測定対象物４に、トリガ光として入射する。測定対
象物４にトリガ光が入射すると光電変換によって電気パ
ルスが発生し、この電気パルスは、印加されている電圧
に依存して屈折率が変化する電気光学材料５に印加され
る。
スレーザ光源１から出射された光束は、ハーフミラー２
で２つの光束に分割される。一方の光束は、透過および
遮断を周期的に交互に繰り返す光変調器３を介して、例
えばホトコンダクティブ光スイッチなどのピコ秒回路で
ある測定対象物４に、トリガ光として入射する。測定対
象物４にトリガ光が入射すると光電変換によって電気パ
ルスが発生し、この電気パルスは、印加されている電圧
に依存して屈折率が変化する電気光学材料５に印加され
る。
【０００４】ハーフミラー２で分割された他方の光束
は、光遅延装置６、偏光子７および位相補償板８を通
り、レンズ９で集光されて、サンプリング光として電気
光学材料５に入射し透過する。この時、サンプリング光
は、電気光学材料５を印加された電圧に依存した屈折率
変化によって、その偏光状態が変化する。そのサンプリ
ング光の偏光状態の変化は、検光子１０を通過すること
によって、サンプリング光の強度変化に変換される。し
たがって、このサンプリング光の強度を光検出器１１で
測定して得られる値は、電気光学材料５に印加された電
圧値に依存したものである。
は、光遅延装置６、偏光子７および位相補償板８を通
り、レンズ９で集光されて、サンプリング光として電気
光学材料５に入射し透過する。この時、サンプリング光
は、電気光学材料５を印加された電圧に依存した屈折率
変化によって、その偏光状態が変化する。そのサンプリ
ング光の偏光状態の変化は、検光子１０を通過すること
によって、サンプリング光の強度変化に変換される。し
たがって、このサンプリング光の強度を光検出器１１で
測定して得られる値は、電気光学材料５に印加された電
圧値に依存したものである。
【０００５】この光検出器１１の出力値はロックインア
ンプ１２によって光変調器３の変調タイミングで同期検
出され、トリガ光が測定対象物４に入射している時と入
射していない時それぞれの光検出器１１出力値の差が検
出される。ロックインアンプ１２からの出力は、加算平
均器１３でノイズが低減された後、波形表示部１４に入
力される。また、光遅延装置６によって、トリガ光が測
定対象物４に入射するタイミングに対して、サンプリン
グ光が電気光学材料５に入射するタイミングを変化さ
せ、そのタイミング差に応じた信号も波形表示部１４に
掃引信号として入力される。このようにして、トリガ光
が入射した後のピコ秒回路における電圧波形を測定する
ことができる。
ンプ１２によって光変調器３の変調タイミングで同期検
出され、トリガ光が測定対象物４に入射している時と入
射していない時それぞれの光検出器１１出力値の差が検
出される。ロックインアンプ１２からの出力は、加算平
均器１３でノイズが低減された後、波形表示部１４に入
力される。また、光遅延装置６によって、トリガ光が測
定対象物４に入射するタイミングに対して、サンプリン
グ光が電気光学材料５に入射するタイミングを変化さ
せ、そのタイミング差に応じた信号も波形表示部１４に
掃引信号として入力される。このようにして、トリガ光
が入射した後のピコ秒回路における電圧波形を測定する
ことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の電界測定装
置に用いられている光遅延装置は、トリガ光が測定対象
物４に入射する時刻を基準として、サンプリング光が電
気光学材料５に入射するタイミングを調整するものであ
って、サンプリング光は定常的に電気光学材料５に入射
する。したがって、ロックインアンプ１２でサンプリン
グ光強度の同期検出を行うためには、トリガ光は光変調
器３で光変調される必要がある。しかし、トリガ光が透
過／遮断の変調がなされて測定対象物４に入射すると、
測定対象物４の動作が乱れ、光電変換によって発生する
電気パルスも不安定になる場合があり、この場合、正確
な測定ができないという問題点があった。
置に用いられている光遅延装置は、トリガ光が測定対象
物４に入射する時刻を基準として、サンプリング光が電
気光学材料５に入射するタイミングを調整するものであ
って、サンプリング光は定常的に電気光学材料５に入射
する。したがって、ロックインアンプ１２でサンプリン
グ光強度の同期検出を行うためには、トリガ光は光変調
器３で光変調される必要がある。しかし、トリガ光が透
過／遮断の変調がなされて測定対象物４に入射すると、
測定対象物４の動作が乱れ、光電変換によって発生する
電気パルスも不安定になる場合があり、この場合、正確
な測定ができないという問題点があった。
【０００７】ところで、電界測定装置ではないが、電界
測定装置の構成と類似する別の従来例として、２つの反
射型光チョッパを用いて、光源から出力された光束に基
づいて異なる２光束を交互に生成し、２光束それぞれを
異なる光路を経た後に再び同一の光軸上に出力する方法
が、図１４に示す分光光度計（特開平４−１３０２３３
号公報）に開示されている。
測定装置の構成と類似する別の従来例として、２つの反
射型光チョッパを用いて、光源から出力された光束に基
づいて異なる２光束を交互に生成し、２光束それぞれを
異なる光路を経た後に再び同一の光軸上に出力する方法
が、図１４に示す分光光度計（特開平４−１３０２３３
号公報）に開示されている。
【０００８】この分光光度計では、光源３０から出力さ
れた光束は、モノクロメータ３１を介して光路３２を経
て、第１の反射型光チョッパ２２の回転板２２ｂに到達
する。この回転板２２ｂは、透光部２２ｂａと反射部２
２ｂｂとが円周方向について交互に形成され、回転に伴
って入射した光束の透過と反射とを周期的に交互に行う
ものである。回転板２２ｂの透光部２２ｂａを透過した
光束は、光路３２ａを経て、参照セル３３およびウェッ
ジフィルタ３４を透過し、反射鏡３５ａで反射され、第
２の反射型光チョッパ２３の回転板２３ｂに到達する。
一方、回転板２２ｂの反射部２２ｂｂで反射した光束
は、光路３２ｂを経て、反射鏡３５ｂで反射され試料セ
ル３６を透過して、第２の反射型光チョッパ２３の回転
板２３ｂに到達する。
れた光束は、モノクロメータ３１を介して光路３２を経
て、第１の反射型光チョッパ２２の回転板２２ｂに到達
する。この回転板２２ｂは、透光部２２ｂａと反射部２
２ｂｂとが円周方向について交互に形成され、回転に伴
って入射した光束の透過と反射とを周期的に交互に行う
ものである。回転板２２ｂの透光部２２ｂａを透過した
光束は、光路３２ａを経て、参照セル３３およびウェッ
ジフィルタ３４を透過し、反射鏡３５ａで反射され、第
２の反射型光チョッパ２３の回転板２３ｂに到達する。
一方、回転板２２ｂの反射部２２ｂｂで反射した光束
は、光路３２ｂを経て、反射鏡３５ｂで反射され試料セ
ル３６を透過して、第２の反射型光チョッパ２３の回転
板２３ｂに到達する。
【０００９】第１の反射型光チョッパ２２および第２の
反射型光チョッパ２３は、駆動装置３７によって、同一
回転速度で互いに１８０゜の位相差で回転駆動される。
すなわち、第１の反射型光チョッパ２２の回転板２２ｂ
が光束を反射させる時には、第２の反射型光チョッパ２
３の回転板２３ｂが光束を透過させ、第１の反射型光チ
ョッパ２２の回転板２２ｂが光束を透過させる時には、
第２の反射型光チョッパ２３の回転板２３ｂが光束を反
射させる。このようにして、２つの反射型光チョッパ２
２および２３の回転によって、光束は、光路３２ａと光
路３２ｂとを周期的に交互に進み、参照セル３３を通る
光束と試料セル３６を通る光束は光検出器３８に交互に
到達する。そして、光検出器３８の出力値は、駆動装置
３７による反射型光チョッパ２２および２３を回転駆動
するタイミングで、ロックインアンプ３９によって同期
検出され、双方の光束の強度の比に応じた出力が得られ
る。
反射型光チョッパ２３は、駆動装置３７によって、同一
回転速度で互いに１８０゜の位相差で回転駆動される。
すなわち、第１の反射型光チョッパ２２の回転板２２ｂ
が光束を反射させる時には、第２の反射型光チョッパ２
３の回転板２３ｂが光束を透過させ、第１の反射型光チ
ョッパ２２の回転板２２ｂが光束を透過させる時には、
第２の反射型光チョッパ２３の回転板２３ｂが光束を反
射させる。このようにして、２つの反射型光チョッパ２
２および２３の回転によって、光束は、光路３２ａと光
路３２ｂとを周期的に交互に進み、参照セル３３を通る
光束と試料セル３６を通る光束は光検出器３８に交互に
到達する。そして、光検出器３８の出力値は、駆動装置
３７による反射型光チョッパ２２および２３を回転駆動
するタイミングで、ロックインアンプ３９によって同期
検出され、双方の光束の強度の比に応じた出力が得られ
る。
【００１０】この分光光度計は、反射型チョッパとロッ
クインアンプとを用いており、電界測定装置とは構成が
類似している。しかし、分光光度計は、光路を周期的に
切換えてはいるが、その光路差を時間変化させるための
光遅延装置を有するものではなく、何ら記載も示唆もさ
れていない。
クインアンプとを用いており、電界測定装置とは構成が
類似している。しかし、分光光度計は、光路を周期的に
切換えてはいるが、その光路差を時間変化させるための
光遅延装置を有するものではなく、何ら記載も示唆もさ
れていない。
【００１１】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、１つの光軸上に互いに異なる遅延を有
する光束を周期的に交互に出力するとともに、少なくと
も一方の光束の遅延量を可変設定することができる光遅
延装置を提供することを目的とする。
れたものであり、１つの光軸上に互いに異なる遅延を有
する光束を周期的に交互に出力するとともに、少なくと
も一方の光束の遅延量を可変設定することができる光遅
延装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る光遅延装
置は、(1) 入射光束を入力して、入射光束とは反対方向
に進む第１の光束および入射光束と同一方向に進む第２
の光束を交互に生成するとともに、第２の光束とは反対
方向に進む第３の光束を入力して、第１の光束が生成さ
れている時には第１の光束を、そうでない時には第３の
光束を、同一光軸上で同一方向に交互に出力する光束分
割合成手段と、(2) 第２の光束に基づいて第３の光束を
出力する反射手段と、(3) 少なくとも反射手段を第２の
光束の光軸方向に移動させる移動手段と、を備えること
を特徴とする。
置は、(1) 入射光束を入力して、入射光束とは反対方向
に進む第１の光束および入射光束と同一方向に進む第２
の光束を交互に生成するとともに、第２の光束とは反対
方向に進む第３の光束を入力して、第１の光束が生成さ
れている時には第１の光束を、そうでない時には第３の
光束を、同一光軸上で同一方向に交互に出力する光束分
割合成手段と、(2) 第２の光束に基づいて第３の光束を
出力する反射手段と、(3) 少なくとも反射手段を第２の
光束の光軸方向に移動させる移動手段と、を備えること
を特徴とする。
【００１３】この光遅延装置では、入射光束が光束分割
合成手段に入力すると、入射光束とは反対方向に進む第
１の光束および同一方向に進む第２の光束が交互に生成
される。第２の光束が反射手段に入射すると、これに基
づいて第３の光束が生成され、この第３の光束は光束分
割合成手段に入射する。そして、光束分割合成手段から
は、互いに異なる遅延を有する第１の光束と第３の光束
とが、交互に出力される。反射手段が移動手段によって
移動することにより、第３の光束の遅延は変化する。
合成手段に入力すると、入射光束とは反対方向に進む第
１の光束および同一方向に進む第２の光束が交互に生成
される。第２の光束が反射手段に入射すると、これに基
づいて第３の光束が生成され、この第３の光束は光束分
割合成手段に入射する。そして、光束分割合成手段から
は、互いに異なる遅延を有する第１の光束と第３の光束
とが、交互に出力される。反射手段が移動手段によって
移動することにより、第３の光束の遅延は変化する。
【００１４】請求項２に係る光遅延装置は、光束分割合
成手段から出力された第１および第３の光束それぞれの
一部を入射方向とは異なる方向に反射させる半透鏡を更
に備え、光束分割合成手段は、(a) 反射部と透過部とが
入射光束の光軸に垂直な平面上に中心点を中心とする円
周上に周期的に交互に形成され、入射光束が反射部に入
射した時には入射光束を反射させて第１の光束を生成
し、入射光束が透過部に入射した時には入射光束を透過
させて第２の光束を生成するとともに第３の光束を透過
させる回転板と、(b) 回転板を平面上で中心点を中心と
して等速度回転させる回転駆動部と、を備え、反射手段
は、第２の光束の光軸に垂直な反射面を有する反射鏡で
ある。この場合、光束分割合成手段から出力された第１
および第３の光束は、回転板の回転に伴って交互に生成
されて、入射光束と同一の光軸上を反対方向に進み、半
透鏡によって一部反射されて入射光束とは異なる光軸上
を進む。
成手段から出力された第１および第３の光束それぞれの
一部を入射方向とは異なる方向に反射させる半透鏡を更
に備え、光束分割合成手段は、(a) 反射部と透過部とが
入射光束の光軸に垂直な平面上に中心点を中心とする円
周上に周期的に交互に形成され、入射光束が反射部に入
射した時には入射光束を反射させて第１の光束を生成
し、入射光束が透過部に入射した時には入射光束を透過
させて第２の光束を生成するとともに第３の光束を透過
させる回転板と、(b) 回転板を平面上で中心点を中心と
して等速度回転させる回転駆動部と、を備え、反射手段
は、第２の光束の光軸に垂直な反射面を有する反射鏡で
ある。この場合、光束分割合成手段から出力された第１
および第３の光束は、回転板の回転に伴って交互に生成
されて、入射光束と同一の光軸上を反対方向に進み、半
透鏡によって一部反射されて入射光束とは異なる光軸上
を進む。
【００１５】請求項３に係る光遅延装置では、反射手段
は、複数の反射面を備え、第２の光束を入力して、第２
の光束の光軸とは異なる光軸の第３の光束を生成する。
この場合、光束分割合成手段から出力された第１および
第３の光束は、入射光束とは異なる光軸上を反対方向に
進む。
は、複数の反射面を備え、第２の光束を入力して、第２
の光束の光軸とは異なる光軸の第３の光束を生成する。
この場合、光束分割合成手段から出力された第１および
第３の光束は、入射光束とは異なる光軸上を反対方向に
進む。
【００１６】請求項４に係る光遅延装置では、光束分割
合成手段は、(a) 第１の反射部と第１の透過部とが入射
光束の光軸とは垂直でない第１の平面上に第１の中心点
を中心とする円周上に周期的に交互に形成され、入射光
束が第１の反射部に入射した時には入射光束を反射させ
て第４の光束を生成し、入射光束が第１の透過部に入射
した時には入射光束を透過させて第２の光束を生成する
第１の回転板と、(b)第２の反射部と第２の透過部とが
第１の平面と直交する第２の平面上に第２の中心点を中
心とする円周上に周期的に交互に形成され、第４の光束
が第２の反射部に入射した時には第４の光束を反射させ
て第１の光束を生成し、第３の光束が第２の透過部に入
射した時には第３の光束を透過させる第２の回転板と、
(c) 第１の回転板を第１の平面上で第１の中心点を中心
として等速度回転させる第１の回転駆動部と、(d) 第２
の回転板を第２の平面上で第２の中心点を中心として等
速度回転させる第２の回転駆動部と、(e) 第１および第
２の回転駆動部を制御して、第１の回転板が第４の光束
を生成した時には第２の回転板で第４の光束を反射させ
て第１の光束を生成し、そうでない時には第２の回転板
で第３の光束を透過させる回転制御部と、を備える。こ
の場合、第１および第２の回転板の同期回転に伴って、
入射光束が第１の回転板で反射されて第４の光束となり
更に第２の回転板で反射されて生成された第１の光束、
および、入射光束が第１の回転板を透過して第２の光束
となり更に反射手段で生成されて第２の回転板を透過し
た第３の光束が、交互に生成される。
合成手段は、(a) 第１の反射部と第１の透過部とが入射
光束の光軸とは垂直でない第１の平面上に第１の中心点
を中心とする円周上に周期的に交互に形成され、入射光
束が第１の反射部に入射した時には入射光束を反射させ
て第４の光束を生成し、入射光束が第１の透過部に入射
した時には入射光束を透過させて第２の光束を生成する
第１の回転板と、(b)第２の反射部と第２の透過部とが
第１の平面と直交する第２の平面上に第２の中心点を中
心とする円周上に周期的に交互に形成され、第４の光束
が第２の反射部に入射した時には第４の光束を反射させ
て第１の光束を生成し、第３の光束が第２の透過部に入
射した時には第３の光束を透過させる第２の回転板と、
(c) 第１の回転板を第１の平面上で第１の中心点を中心
として等速度回転させる第１の回転駆動部と、(d) 第２
の回転板を第２の平面上で第２の中心点を中心として等
速度回転させる第２の回転駆動部と、(e) 第１および第
２の回転駆動部を制御して、第１の回転板が第４の光束
を生成した時には第２の回転板で第４の光束を反射させ
て第１の光束を生成し、そうでない時には第２の回転板
で第３の光束を透過させる回転制御部と、を備える。こ
の場合、第１および第２の回転板の同期回転に伴って、
入射光束が第１の回転板で反射されて第４の光束となり
更に第２の回転板で反射されて生成された第１の光束、
および、入射光束が第１の回転板を透過して第２の光束
となり更に反射手段で生成されて第２の回転板を透過し
た第３の光束が、交互に生成される。
【００１７】請求項５に係る光遅延装置では、光束分割
合成手段は、(a) 反射部と透過部とが入射光束の光軸と
は垂直でない平面上に中心点を中心とする円周上に周期
的に交互に形成され、入射光束が反射部に入射した時に
は入射光束を反射させて第４の光束を生成するとともに
第４の光束とは反対方向に進んで入射した第５の光束を
反射させて第１の光束を生成し、入射光束が透過部に入
射した時には入射光束を透過させて第２の光束を生成す
る回転板と、(b) 回転板を平面上で中心点を中心として
等速度回転させる回転駆動部と、(c) 複数の反射面を備
え、第４の光束に基づいて第５の光束を生成する反射部
と、を備える。この場合、回転板の回転に伴って、入射
光束が回転板で反射されて第４の光束となり続いて反射
部で生成された第５の光束が再び回転板で反射されて生
成された第１の光束、および、入射光束が回転板を透過
して第２の光束となり更に反射手段で生成されて回転板
を再び透過した第３の光束が、交互に生成される。
合成手段は、(a) 反射部と透過部とが入射光束の光軸と
は垂直でない平面上に中心点を中心とする円周上に周期
的に交互に形成され、入射光束が反射部に入射した時に
は入射光束を反射させて第４の光束を生成するとともに
第４の光束とは反対方向に進んで入射した第５の光束を
反射させて第１の光束を生成し、入射光束が透過部に入
射した時には入射光束を透過させて第２の光束を生成す
る回転板と、(b) 回転板を平面上で中心点を中心として
等速度回転させる回転駆動部と、(c) 複数の反射面を備
え、第４の光束に基づいて第５の光束を生成する反射部
と、を備える。この場合、回転板の回転に伴って、入射
光束が回転板で反射されて第４の光束となり続いて反射
部で生成された第５の光束が再び回転板で反射されて生
成された第１の光束、および、入射光束が回転板を透過
して第２の光束となり更に反射手段で生成されて回転板
を再び透過した第３の光束が、交互に生成される。
【００１８】請求項６に係る光遅延装置では、移動手段
は、光束分割合成手段を反射手段と一体として移動させ
る。この場合、第１および第３の光束は、両者間の遅延
差が一定に維持されて、それぞれの遅延量が変化する。
は、光束分割合成手段を反射手段と一体として移動させ
る。この場合、第１および第３の光束は、両者間の遅延
差が一定に維持されて、それぞれの遅延量が変化する。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。
【００２０】（第１の実施形態）先ず、第１の実施形態
について説明する。図１は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
について説明する。図１は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
【００２１】本実施形態に係る光遅延装置は、(1) 入射
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ１と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ１１０と、(2) 反射型光チョッパ１１０を透過した光
束Ｉ２を垂直に反射させて再び反射型光チョッパ１１０
に向かう光束Ｉ３を生成する反射鏡１２０と、(3) 反射
鏡１２０をその上に固定し、光束Ｉ２の光軸方向に往復
移動し得る移動ステージ１３０と、(4) 反射型光チョッ
パ１１０で反射された光束Ｉ１および反射鏡１２０で反
射され生成された光束Ｉ３のそれぞれの一部を、入射光
束Ｉ０の光軸方向とは異なる方向に反射させるハーフミ
ラー１４０と、(5) 入射光束Ｉ０がハーフミラー１４０
で一部反射された光束を遮光する遮光板１５０と、(6)
反射型光チョッパ１１０、ハーフミラー１４０および遮
光板１５０を固定し、移動ステージ１３０をその上で移
動させ得る固定ステージ１６０と、を備える。
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ１と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ１１０と、(2) 反射型光チョッパ１１０を透過した光
束Ｉ２を垂直に反射させて再び反射型光チョッパ１１０
に向かう光束Ｉ３を生成する反射鏡１２０と、(3) 反射
鏡１２０をその上に固定し、光束Ｉ２の光軸方向に往復
移動し得る移動ステージ１３０と、(4) 反射型光チョッ
パ１１０で反射された光束Ｉ１および反射鏡１２０で反
射され生成された光束Ｉ３のそれぞれの一部を、入射光
束Ｉ０の光軸方向とは異なる方向に反射させるハーフミ
ラー１４０と、(5) 入射光束Ｉ０がハーフミラー１４０
で一部反射された光束を遮光する遮光板１５０と、(6)
反射型光チョッパ１１０、ハーフミラー１４０および遮
光板１５０を固定し、移動ステージ１３０をその上で移
動させ得る固定ステージ１６０と、を備える。
【００２２】入射光束Ｉ０から反射光束Ｉ１と透過光束
Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッパ（光束分割合
成手段）１１０は、中心点１１１ａを中心にして回転す
る回転板１１１と、その回転板を一定速度で回転させる
モータ１１２とからなる。回転板１１１は、図２に示す
ように、中心点１１１ａを中心とする円周方向につい
て、光束を透過させる透過部１１１ｂと光束を反射させ
る反射部１１１ｃとが、周期的に交互に設けられてい
る。そして、この回転板１１１は、入射光束Ｉ０の光軸
方向に垂直に配置され、かつ、回転に伴って入射光束Ｉ
０を透過／反射を交互に繰り返すことができる位置に配
置される。したがって、回転板１１１が一定速度で回転
するに伴って、入射光束が透過部１１１ｂを透過すれ
ば、透過光束Ｉ２が生成されて、その光束Ｉ２は反射鏡
１２０の方向に進み、入射光束が反射部１１１ｃで反射
すれば、反射光束Ｉ１が生成されて、その光束Ｉ１はハ
ーフミラー１４０の方向に進む。すなわち、これら反射
光束Ｉ１と透過光束Ｉ２とを周期的に交互に生成するこ
とになる。なお、透過部１１１ｂは、孔が設けられてい
てもよいし、光束を透過させる透明ガラス等の部材で構
成されていてもよい。
Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッパ（光束分割合
成手段）１１０は、中心点１１１ａを中心にして回転す
る回転板１１１と、その回転板を一定速度で回転させる
モータ１１２とからなる。回転板１１１は、図２に示す
ように、中心点１１１ａを中心とする円周方向につい
て、光束を透過させる透過部１１１ｂと光束を反射させ
る反射部１１１ｃとが、周期的に交互に設けられてい
る。そして、この回転板１１１は、入射光束Ｉ０の光軸
方向に垂直に配置され、かつ、回転に伴って入射光束Ｉ
０を透過／反射を交互に繰り返すことができる位置に配
置される。したがって、回転板１１１が一定速度で回転
するに伴って、入射光束が透過部１１１ｂを透過すれ
ば、透過光束Ｉ２が生成されて、その光束Ｉ２は反射鏡
１２０の方向に進み、入射光束が反射部１１１ｃで反射
すれば、反射光束Ｉ１が生成されて、その光束Ｉ１はハ
ーフミラー１４０の方向に進む。すなわち、これら反射
光束Ｉ１と透過光束Ｉ２とを周期的に交互に生成するこ
とになる。なお、透過部１１１ｂは、孔が設けられてい
てもよいし、光束を透過させる透明ガラス等の部材で構
成されていてもよい。
【００２３】透過光束Ｉ２を入射して光束Ｉ３を生成す
る反射鏡１２０の反射面は、透過光束Ｉ２の光軸方向に
対して垂直であり、従って、光束Ｉ３は透過光束Ｉ２と
同一光軸上を反対方向に進む。この反射鏡１２０を移動
させる移動ステージ１３０は、透過光束Ｉ２の光軸方向
に移動させるものであり、例えば、ラックピニオン構造
で構成される。
る反射鏡１２０の反射面は、透過光束Ｉ２の光軸方向に
対して垂直であり、従って、光束Ｉ３は透過光束Ｉ２と
同一光軸上を反対方向に進む。この反射鏡１２０を移動
させる移動ステージ１３０は、透過光束Ｉ２の光軸方向
に移動させるものであり、例えば、ラックピニオン構造
で構成される。
【００２４】本実施形態に係る光遅延装置は以下のよう
に作用する。図３は、本実施形態に係る光遅延装置の動
作の説明図である。
に作用する。図３は、本実施形態に係る光遅延装置の動
作の説明図である。
【００２５】ハーフミラー１４０を一部透過した入射光
束Ｉ０が回転板１１１の反射部１１１ｃに入射した場合
（図３（ａ））には、その入射光束Ｉ０は反射部１１１
ｃで反射され、反射光束Ｉ１が生成される。その反射光
束Ｉ１は、入射光束Ｉ０の光軸と同一の光軸を反対方向
に進んでハーフミラー１４０に到達し、ハーフミラー１
４０で一部反射される。
束Ｉ０が回転板１１１の反射部１１１ｃに入射した場合
（図３（ａ））には、その入射光束Ｉ０は反射部１１１
ｃで反射され、反射光束Ｉ１が生成される。その反射光
束Ｉ１は、入射光束Ｉ０の光軸と同一の光軸を反対方向
に進んでハーフミラー１４０に到達し、ハーフミラー１
４０で一部反射される。
【００２６】一方、ハーフミラー１４０を一部透過した
入射光束Ｉ０が回転板１１１の透過部１１１ｂに入射し
た場合（図３（ｂ））には、その入射光束Ｉ０は透過部
１１１ｂを透過し、透過光束Ｉ２が生成される。その透
過光束Ｉ２は、反射鏡１２０に到達して反射されて、光
束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３は、透過光束Ｉ２の
光軸と同一の光軸を反対方向に進んで、再び回転板１１
１の透過部１１１ｂを透過し、ハーフミラー１４０に到
達し、そしてハーフミラー１４０で一部反射される。
入射光束Ｉ０が回転板１１１の透過部１１１ｂに入射し
た場合（図３（ｂ））には、その入射光束Ｉ０は透過部
１１１ｂを透過し、透過光束Ｉ２が生成される。その透
過光束Ｉ２は、反射鏡１２０に到達して反射されて、光
束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３は、透過光束Ｉ２の
光軸と同一の光軸を反対方向に進んで、再び回転板１１
１の透過部１１１ｂを透過し、ハーフミラー１４０に到
達し、そしてハーフミラー１４０で一部反射される。
【００２７】回転板１１１がモータ１１２によって一定
速度で回転するのに伴って、光束Ｉ１と光束Ｉ３とは、
周期的に交互に生成され、しかも、同一光軸上に出力さ
れる。また、回転板１１１の反射部１１１ｃと反射鏡１
２０の反射面との間の距離をＬとすると、固定された光
路を有する光束Ｉ１と比較して、光束Ｉ３は光路長差２
Ｌだけ長く、そして、その光路長差は移動ステージ１３
０によって反射鏡１２０の位置を移動させることによっ
て変化させることができる。更に、反射部１１１ｃと透
過部１１１ｂとの切り替え周波数がｆ（Ｈｚ）となるよ
うに、モータ１１２によって回転板１１１を一定速度で
回転させれば、両者間に光路長差２Ｌを有する光束Ｉ１
と光束Ｉ３とが、繰り返し周波数ｆ（Ｈｚ）で交互に生
成される。
速度で回転するのに伴って、光束Ｉ１と光束Ｉ３とは、
周期的に交互に生成され、しかも、同一光軸上に出力さ
れる。また、回転板１１１の反射部１１１ｃと反射鏡１
２０の反射面との間の距離をＬとすると、固定された光
路を有する光束Ｉ１と比較して、光束Ｉ３は光路長差２
Ｌだけ長く、そして、その光路長差は移動ステージ１３
０によって反射鏡１２０の位置を移動させることによっ
て変化させることができる。更に、反射部１１１ｃと透
過部１１１ｂとの切り替え周波数がｆ（Ｈｚ）となるよ
うに、モータ１１２によって回転板１１１を一定速度で
回転させれば、両者間に光路長差２Ｌを有する光束Ｉ１
と光束Ｉ３とが、繰り返し周波数ｆ（Ｈｚ）で交互に生
成される。
【００２８】（第２の実施形態）次に、第２の実施形態
について説明する。図４は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
について説明する。図４は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
【００２９】本実施形態に係る光遅延装置は、(1) 入射
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ２１０と、(2) 反射型光チョッパ２１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する反射鏡２２０および２
２１と、(3) 反射型光チョッパ２１０で反射された光束
Ｉ４が入射したときには光束Ｉ４を反射させ、反射鏡２
２１で反射された光束Ｉ３が入射したときには光束Ｉ４
を透過させる反射型光チョッパ２１５と、(4) 反射鏡２
２０および２２１を固定し、光束Ｉ２の光軸方向に移動
し得る移動ステージ２３０と、(5) 反射型光チョッパ２
１０，２１５を固定し、移動ステージ２３０をその上で
移動させ得る固定ステージ２６０と、(6) ２つの反射型
光チョッパ２１０および２１５における光束の反射／透
過について同期した回転を制御するチョッパコントロー
ラ２７０と、を備える。
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ２１０と、(2) 反射型光チョッパ２１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する反射鏡２２０および２
２１と、(3) 反射型光チョッパ２１０で反射された光束
Ｉ４が入射したときには光束Ｉ４を反射させ、反射鏡２
２１で反射された光束Ｉ３が入射したときには光束Ｉ４
を透過させる反射型光チョッパ２１５と、(4) 反射鏡２
２０および２２１を固定し、光束Ｉ２の光軸方向に移動
し得る移動ステージ２３０と、(5) 反射型光チョッパ２
１０，２１５を固定し、移動ステージ２３０をその上で
移動させ得る固定ステージ２６０と、(6) ２つの反射型
光チョッパ２１０および２１５における光束の反射／透
過について同期した回転を制御するチョッパコントロー
ラ２７０と、を備える。
【００３０】透過光束と反射光束とをそれぞれ生成する
反射型光チョッパ２１０および２１５それぞれは、第１
の実施形態で述べた反射型光チョッパ１１０と同様の構
成である。但し、本実施形態においては、入射する光束
の光軸に対する配置角度が異なる。すなわち、反射型光
チョッパ２１０の回転板２１１は、その垂線が入射光束
Ｉ０の光軸に対して角度α度に配置され、反射型光チョ
ッパ２１５の回転板２１６は、その垂線が光束Ｉ４の光
軸に対して角度（９０−α）度に配置される。そして、
回転板２１６は、回転板２１１で反射された光束Ｉ４を
反射させることができる位置に配置される。したがっ
て、入射光束Ｉ０が回転板２１１の反射部に入射して反
射され生成された光束Ｉ４が回転板２１６の反射部に到
達すると、その光束Ｉ４は、その回転板２１６の反射部
で反射され、光束Ｉ１が生成される。この光束Ｉ１の光
軸は、入射光束Ｉ０の光軸と平行であり、且つ、光束Ｉ
１は、入射光束Ｉ０の入射方向とは反対方向に進む。
反射型光チョッパ２１０および２１５それぞれは、第１
の実施形態で述べた反射型光チョッパ１１０と同様の構
成である。但し、本実施形態においては、入射する光束
の光軸に対する配置角度が異なる。すなわち、反射型光
チョッパ２１０の回転板２１１は、その垂線が入射光束
Ｉ０の光軸に対して角度α度に配置され、反射型光チョ
ッパ２１５の回転板２１６は、その垂線が光束Ｉ４の光
軸に対して角度（９０−α）度に配置される。そして、
回転板２１６は、回転板２１１で反射された光束Ｉ４を
反射させることができる位置に配置される。したがっ
て、入射光束Ｉ０が回転板２１１の反射部に入射して反
射され生成された光束Ｉ４が回転板２１６の反射部に到
達すると、その光束Ｉ４は、その回転板２１６の反射部
で反射され、光束Ｉ１が生成される。この光束Ｉ１の光
軸は、入射光束Ｉ０の光軸と平行であり、且つ、光束Ｉ
１は、入射光束Ｉ０の入射方向とは反対方向に進む。
【００３１】反射型光チョッパ２１０の回転板２１１の
透過部を透過した光束Ｉ２を反射させる反射鏡２２０
は、その反射面の垂線が光束Ｉ２の光軸に対して角度β
度に配置され、反射鏡２２１は、その反射面の垂線が、
反射鏡２２０で反射されて到達する光束の光軸に対して
角度（９０−β）度に配置される。したがって、反射鏡
２２１で反射されて生成される光束Ｉ３の光軸は、反射
鏡２２０に入射する光束Ｉ２の光軸と平行であり、且
つ、光束Ｉ３は、光束Ｉ２とは反対方向に進む。
透過部を透過した光束Ｉ２を反射させる反射鏡２２０
は、その反射面の垂線が光束Ｉ２の光軸に対して角度β
度に配置され、反射鏡２２１は、その反射面の垂線が、
反射鏡２２０で反射されて到達する光束の光軸に対して
角度（９０−β）度に配置される。したがって、反射鏡
２２１で反射されて生成される光束Ｉ３の光軸は、反射
鏡２２０に入射する光束Ｉ２の光軸と平行であり、且
つ、光束Ｉ３は、光束Ｉ２とは反対方向に進む。
【００３２】更に、反射鏡２２１で反射されて生成され
る光束Ｉ３の光軸と、回転板２１６で反射されて生成さ
れる光束Ｉ１の光軸とは、反射型光チョッパ２１５を経
た後は同一光軸上を進むように、反射鏡２２０，２２１
それぞれは配置される。
る光束Ｉ３の光軸と、回転板２１６で反射されて生成さ
れる光束Ｉ１の光軸とは、反射型光チョッパ２１５を経
た後は同一光軸上を進むように、反射鏡２２０，２２１
それぞれは配置される。
【００３３】反射型光チョッパ２１０および２１５を回
転制御するチョッパコントローラ２７０は、回転板２１
１が入射光束Ｉ０を反射させるときには回転板２１６も
光束Ｉ４を反射させ、回転板２１１が入射光束Ｉ０を透
過させるときには回転板２１６も光束Ｉ３を透過させる
ように、回転板２１１および２１６それぞれを回転させ
るモータ２１２および２１７の回転を制御する。
転制御するチョッパコントローラ２７０は、回転板２１
１が入射光束Ｉ０を反射させるときには回転板２１６も
光束Ｉ４を反射させ、回転板２１１が入射光束Ｉ０を透
過させるときには回転板２１６も光束Ｉ３を透過させる
ように、回転板２１１および２１６それぞれを回転させ
るモータ２１２および２１７の回転を制御する。
【００３４】本実施形態に係る光遅延装置は以下のよう
に作用する。図５は、本実施形態に係る光遅延装置の動
作の説明図である。
に作用する。図５は、本実施形態に係る光遅延装置の動
作の説明図である。
【００３５】入射光束Ｉ０が回転板２１１の反射部に入
射した場合（図５（ａ））には、その入射光束Ｉ０は回
転板２１１の反射部で反射され、光束Ｉ４が生成され
る。その光束Ｉ４は回転板２１６の反射部に入射して反
射され、光束Ｉ１が生成される。この光束Ｉ１は、入射
光束Ｉ０の光軸と平行な光軸上を、入射光束Ｉ０とは反
対の方向に進む。
射した場合（図５（ａ））には、その入射光束Ｉ０は回
転板２１１の反射部で反射され、光束Ｉ４が生成され
る。その光束Ｉ４は回転板２１６の反射部に入射して反
射され、光束Ｉ１が生成される。この光束Ｉ１は、入射
光束Ｉ０の光軸と平行な光軸上を、入射光束Ｉ０とは反
対の方向に進む。
【００３６】一方、入射光束Ｉ０が回転板２１１の透過
部に入射した場合（図５（ｂ））には、その入射光束Ｉ
０は回転板２１１の透過部を透過し、光束Ｉ２が生成さ
れる。その光束Ｉ２は、反射鏡２２０および２２１それ
ぞれで反射され、光束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３
は、回転板２１６の透過部を透過し、光束Ｉ１と同一の
光軸上を進む。
部に入射した場合（図５（ｂ））には、その入射光束Ｉ
０は回転板２１１の透過部を透過し、光束Ｉ２が生成さ
れる。その光束Ｉ２は、反射鏡２２０および２２１それ
ぞれで反射され、光束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３
は、回転板２１６の透過部を透過し、光束Ｉ１と同一の
光軸上を進む。
【００３７】回転板２１１および２１６それぞれがチョ
ッパコントローラ２７０で回転制御されたモータ２２２
および２１７によって回転するのに伴って、固定光路長
を有する光束Ｉ１および光束Ｉ１とは異なる光路長を有
する光束Ｉ３が周期的に交互に生成され同一光軸上に出
力される。また、移動ステージ２３０によって反射鏡２
２０および２２１を移動させることによって、光束Ｉ１
と光束Ｉ３との間の光路長差を変化させることができ
る。
ッパコントローラ２７０で回転制御されたモータ２２２
および２１７によって回転するのに伴って、固定光路長
を有する光束Ｉ１および光束Ｉ１とは異なる光路長を有
する光束Ｉ３が周期的に交互に生成され同一光軸上に出
力される。また、移動ステージ２３０によって反射鏡２
２０および２２１を移動させることによって、光束Ｉ１
と光束Ｉ３との間の光路長差を変化させることができ
る。
【００３８】本実施形態に係る光遅延装置では、第１の
実施形態に係る光遅延装置では必要であったハーフミラ
ーを用いる必要がないので、入射光束Ｉ０の光量を損失
させることなく、出射光束（光束Ｉ１または光束Ｉ３）
を得ることができる。
実施形態に係る光遅延装置では必要であったハーフミラ
ーを用いる必要がないので、入射光束Ｉ０の光量を損失
させることなく、出射光束（光束Ｉ１または光束Ｉ３）
を得ることができる。
【００３９】（第３の実施形態）次に、第３の実施形態
について説明する。図６は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
について説明する。図６は、本実施形態に係る光遅延装
置の斜視図である。
【００４０】本実施形態に係る光遅延装置は、(1) 入射
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ３１０と、(2) 反射型光チョッパ３１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する反射鏡３２０および３
２１と、(3) 反射型光チョッパ３１０で反射した光束Ｉ
４を反射させ、光束Ｉ４の光軸と平行であって反対の方
向に進む光束Ｉ５を生成する反射鏡３２２および３２３
と、(4) 反射鏡３２０および３２１を固定し、光束Ｉ２
の光軸方向に移動し得る移動ステージ３３０と、(5) 入
射光束Ｉ０および出力光束Ｉ１，Ｉ３それぞれに対する
アパーチャ３８０ないし３８３と、(6) 反射型光チョッ
パ３１０、反射鏡３２２，３２３およびアパーチャ３８
０ないし３８３を固定し、移動ステージ３３０をその上
で移動させ得る固定ステージ３６０と、を備える。
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ３１０と、(2) 反射型光チョッパ３１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する反射鏡３２０および３
２１と、(3) 反射型光チョッパ３１０で反射した光束Ｉ
４を反射させ、光束Ｉ４の光軸と平行であって反対の方
向に進む光束Ｉ５を生成する反射鏡３２２および３２３
と、(4) 反射鏡３２０および３２１を固定し、光束Ｉ２
の光軸方向に移動し得る移動ステージ３３０と、(5) 入
射光束Ｉ０および出力光束Ｉ１，Ｉ３それぞれに対する
アパーチャ３８０ないし３８３と、(6) 反射型光チョッ
パ３１０、反射鏡３２２，３２３およびアパーチャ３８
０ないし３８３を固定し、移動ステージ３３０をその上
で移動させ得る固定ステージ３６０と、を備える。
【００４１】本実施形態で用いられる反射型光チョッパ
３１０は、第１の実施形態で述べた反射型光チョッパ１
１０と同様の構成である。但し、本実施形態において
は、入射光束Ｉ０の光軸に対して所定角度だけ傾いて配
置される。
３１０は、第１の実施形態で述べた反射型光チョッパ１
１０と同様の構成である。但し、本実施形態において
は、入射光束Ｉ０の光軸に対して所定角度だけ傾いて配
置される。
【００４２】また、本実施形態で用いられる反射鏡３２
０および３２１は、第２の実施形態で述べた反射鏡２２
０および２２１と同様の配置と作用である。但し、本実
施形態においては、反射鏡３２１で生成された光束Ｉ３
は、透過光束Ｉ２を生成した回転板３１１の透過部に向
かいその透過部を透過する。光束Ｉ３が透過する透過部
と光束Ｉ２が透過する透過部とは、同一であってもよい
し、異なるものであってもよい。
０および３２１は、第２の実施形態で述べた反射鏡２２
０および２２１と同様の配置と作用である。但し、本実
施形態においては、反射鏡３２１で生成された光束Ｉ３
は、透過光束Ｉ２を生成した回転板３１１の透過部に向
かいその透過部を透過する。光束Ｉ３が透過する透過部
と光束Ｉ２が透過する透過部とは、同一であってもよい
し、異なるものであってもよい。
【００４３】回転板３１１の反射部で反射された光束Ｉ
４を入射する反射鏡３２２は、その光束Ｉ４を反射鏡３
２３の方に向けて反射し、その反射鏡３２２で反射した
光束を入射する反射鏡３２３は、その光束を反射させて
光束Ｉ５を生成する。この光束Ｉ５の光軸は、光束Ｉ４
の光軸と平行であり、且つ、光束Ｉ５は、光束Ｉ４とは
反対方向に進む。
４を入射する反射鏡３２２は、その光束Ｉ４を反射鏡３
２３の方に向けて反射し、その反射鏡３２２で反射した
光束を入射する反射鏡３２３は、その光束を反射させて
光束Ｉ５を生成する。この光束Ｉ５の光軸は、光束Ｉ４
の光軸と平行であり、且つ、光束Ｉ５は、光束Ｉ４とは
反対方向に進む。
【００４４】更に、反射鏡３２１で反射されて生成され
る光束Ｉ３の光軸と、光束Ｉ５が入射して回転板３１１
で反射されて生成される光束Ｉ１の光軸とは、反射型光
チョッパ２１０を経た後は同一光軸上を進むように、反
射鏡３２０ないし３２４それぞれは配置される。したが
って、入射光束Ｉ０が回転板３１１の透過部に入射して
透過光束Ｉ２が生成された場合には、反射鏡３２１で生
成された光束Ｉ３は、回転板３１１の透過部を透過し、
入射光束Ｉ０が回転板３１１の反射部に入射して反射光
束Ｉ４が生成された場合には、反射鏡３２３で生成され
た光束Ｉ５は、回転板３１１の反射部で反射して光束Ｉ
１となる。
る光束Ｉ３の光軸と、光束Ｉ５が入射して回転板３１１
で反射されて生成される光束Ｉ１の光軸とは、反射型光
チョッパ２１０を経た後は同一光軸上を進むように、反
射鏡３２０ないし３２４それぞれは配置される。したが
って、入射光束Ｉ０が回転板３１１の透過部に入射して
透過光束Ｉ２が生成された場合には、反射鏡３２１で生
成された光束Ｉ３は、回転板３１１の透過部を透過し、
入射光束Ｉ０が回転板３１１の反射部に入射して反射光
束Ｉ４が生成された場合には、反射鏡３２３で生成され
た光束Ｉ５は、回転板３１１の反射部で反射して光束Ｉ
１となる。
【００４５】入射光束Ｉ０を通過させるアパーチャ３８
０および３８１は、光遅延装置の入射光軸に対して入射
光束Ｉ０の光軸の位置決めを行うためのものであり、出
射光束Ｉ１およびＩ３を通過させるアパーチャ３８２お
よび３８３は、光遅延装置の出射光軸に対して出射光束
Ｉ１およびＩ３の光軸の位置決めを行うためのものであ
り、本実施形態に係る光遅延装置は以下のように作用す
る。図７は、本実施形態に係る光遅延装置の動作の説明
図である。
０および３８１は、光遅延装置の入射光軸に対して入射
光束Ｉ０の光軸の位置決めを行うためのものであり、出
射光束Ｉ１およびＩ３を通過させるアパーチャ３８２お
よび３８３は、光遅延装置の出射光軸に対して出射光束
Ｉ１およびＩ３の光軸の位置決めを行うためのものであ
り、本実施形態に係る光遅延装置は以下のように作用す
る。図７は、本実施形態に係る光遅延装置の動作の説明
図である。
【００４６】アパーチャ３８０および３８１を通過した
入射光束Ｉ０が回転板３１１の反射部に入射した場合
（図７（ａ））には、その入射光束Ｉ０は、回転板３１
１の反射部で反射され、反射光束Ｉ４が生成される。そ
の光束Ｉ４は反射鏡３２２および３２３それぞれで反射
され、光束Ｉ４の光軸と平行な光軸上を光束Ｉ４とは反
対の方向に進む光束Ｉ５が生成される。そして、その光
束Ｉ５は回転板３１１の反射部で反射され、入射光束Ｉ
０の光軸と平行な光軸上を入射光束Ｉ０とは反対の方向
に進む光束Ｉ１が生成される。
入射光束Ｉ０が回転板３１１の反射部に入射した場合
（図７（ａ））には、その入射光束Ｉ０は、回転板３１
１の反射部で反射され、反射光束Ｉ４が生成される。そ
の光束Ｉ４は反射鏡３２２および３２３それぞれで反射
され、光束Ｉ４の光軸と平行な光軸上を光束Ｉ４とは反
対の方向に進む光束Ｉ５が生成される。そして、その光
束Ｉ５は回転板３１１の反射部で反射され、入射光束Ｉ
０の光軸と平行な光軸上を入射光束Ｉ０とは反対の方向
に進む光束Ｉ１が生成される。
【００４７】一方、入射光束Ｉ０が回転板３１１の透過
部に入射した場合（図７（ｂ））には、その入射光束Ｉ
０は回転板３１１の透過部を透過し、光束Ｉ２が生成さ
れる。その光束Ｉ２は、反射鏡３２０および３２１それ
ぞれで反射され、光束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３
は、回転板３１６の透過部を透過し、光束Ｉ１と同一の
光軸上を進む。
部に入射した場合（図７（ｂ））には、その入射光束Ｉ
０は回転板３１１の透過部を透過し、光束Ｉ２が生成さ
れる。その光束Ｉ２は、反射鏡３２０および３２１それ
ぞれで反射され、光束Ｉ３が生成される。その光束Ｉ３
は、回転板３１６の透過部を透過し、光束Ｉ１と同一の
光軸上を進む。
【００４８】回転板３１１がモータ３１２によって回転
するのに伴って、固定光路長を有する光束Ｉ１および光
束Ｉ１とは異なる光路長を有する光束Ｉ３が周期的に交
互に生成され同一光軸上に出力される。また、移動ステ
ージ３３０によって反射鏡３２０および３２１を移動さ
せることによって、光束Ｉ１と光束Ｉ３との間の光路長
差を変化させることができる。
するのに伴って、固定光路長を有する光束Ｉ１および光
束Ｉ１とは異なる光路長を有する光束Ｉ３が周期的に交
互に生成され同一光軸上に出力される。また、移動ステ
ージ３３０によって反射鏡３２０および３２１を移動さ
せることによって、光束Ｉ１と光束Ｉ３との間の光路長
差を変化させることができる。
【００４９】なお、反射鏡３２０および３２１に替え
て、図８に示すようなリトロリフレクタを用いてもよ
い。リトロリフレクタは、３枚の反射面で構成されたコ
ーナーキューブであり、光束Ｉ２が入射すると、その光
軸と平行で反対方向に進む光束Ｉ３を出力するものであ
る。これを用いれば、入射する光束Ｉ２の光軸と出射す
る光束Ｉ３の光軸との距離を容易に短くすることができ
るので、反射型光チョッパ３１１の同一の透過部に両者
の光束を透過させることができる。また、反射鏡３２２
および３２３に替えてリトロリフレクタを用いても同様
である。
て、図８に示すようなリトロリフレクタを用いてもよ
い。リトロリフレクタは、３枚の反射面で構成されたコ
ーナーキューブであり、光束Ｉ２が入射すると、その光
軸と平行で反対方向に進む光束Ｉ３を出力するものであ
る。これを用いれば、入射する光束Ｉ２の光軸と出射す
る光束Ｉ３の光軸との距離を容易に短くすることができ
るので、反射型光チョッパ３１１の同一の透過部に両者
の光束を透過させることができる。また、反射鏡３２２
および３２３に替えてリトロリフレクタを用いても同様
である。
【００５０】第２の実施形態に係る光遅延装置では２つ
の反射型光チョッパが必要であり、しかも、両者の同期
をとって回転させる必要があったのに対して、本実施形
態に係る光遅延装置では、１つの反射型光チョッパを使
用するだけでよいので構成が簡単で制御が容易である。
の反射型光チョッパが必要であり、しかも、両者の同期
をとって回転させる必要があったのに対して、本実施形
態に係る光遅延装置では、１つの反射型光チョッパを使
用するだけでよいので構成が簡単で制御が容易である。
【００５１】（第４の実施形態）次に、第４の実施形態
について説明する。図９は、本実施形態に係る光遅延装
置の平面図である。
について説明する。図９は、本実施形態に係る光遅延装
置の平面図である。
【００５２】本実施形態に係る光遅延装置は、(1) 入射
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ４１０と、(2) 反射型光チョッパ４１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する直角プリズム４２０
と、(3) 反射型光チョッパ４１０で反射された光束Ｉ４
が入射したときには光束Ｉ４を反射させ、直角プリズム
４２０で反射された光束Ｉ３が入射したときには光束Ｉ
４を透過させる反射型光チョッパ４１５と、(4) 反射型
光チョッパ４１０，４１５および直角プリズム４２０を
固定し、入射光束Ｉ０の光軸方向に移動し得る移動ステ
ージ４３０と、(5) 移動ステージ４３０をその上で移動
させ得る固定ステージ４６０と、(6) ２つの反射型光チ
ョッパ４１０および４１５における光束の反射／透過に
ついて同期した回転を制御するチョッパコントローラ４
７０と、を備える。
光束Ｉ０に対して反射と透過とを交互に行って反射光束
Ｉ４と透過光束Ｉ２とを交互に生成する反射型光チョッ
パ４１０と、(2) 反射型光チョッパ４１０を透過した光
束Ｉ２を反射させ、光束Ｉ２の光軸と平行であって反対
の方向に進む光束Ｉ３を生成する直角プリズム４２０
と、(3) 反射型光チョッパ４１０で反射された光束Ｉ４
が入射したときには光束Ｉ４を反射させ、直角プリズム
４２０で反射された光束Ｉ３が入射したときには光束Ｉ
４を透過させる反射型光チョッパ４１５と、(4) 反射型
光チョッパ４１０，４１５および直角プリズム４２０を
固定し、入射光束Ｉ０の光軸方向に移動し得る移動ステ
ージ４３０と、(5) 移動ステージ４３０をその上で移動
させ得る固定ステージ４６０と、(6) ２つの反射型光チ
ョッパ４１０および４１５における光束の反射／透過に
ついて同期した回転を制御するチョッパコントローラ４
７０と、を備える。
【００５３】本実施形態に用いられる反射型光チョッパ
４１０，４１５およびチョッパコントローラ４７０は、
第２の実施形態における反射型光チョッパ２１０，２１
５およびチョッパコントローラ２７０と同様の構成であ
り、同様の動作を行う。
４１０，４１５およびチョッパコントローラ４７０は、
第２の実施形態における反射型光チョッパ２１０，２１
５およびチョッパコントローラ２７０と同様の構成であ
り、同様の動作を行う。
【００５４】また、本実施形態に用いられる直角プリズ
ム４２０は、第２の実施形態における２つの反射鏡２１
０および２１１に替わるもので、同様の作用を行う。す
なわち、光束Ｉ２が入射すると、互いに直交する２面そ
れぞれで反射して、光束Ｉ２の光軸と平行で反対方向に
進む光束Ｉ３を生成する。
ム４２０は、第２の実施形態における２つの反射鏡２１
０および２１１に替わるもので、同様の作用を行う。す
なわち、光束Ｉ２が入射すると、互いに直交する２面そ
れぞれで反射して、光束Ｉ２の光軸と平行で反対方向に
進む光束Ｉ３を生成する。
【００５５】本実施形態が第２の実施形態と最も大きく
異なる点は、２つの反射型光チョッパ４１０，４１５お
よび直角プリズム４２０が移動ステージ４３０上で固定
され、これらが一体として、固定ステージ４６０上を入
射光束Ｉ０の光軸方向に移動する点である。したがっ
て、移動ステージ４３０が固定ステージ４６０上を移動
しても、入射光束Ｉ０が回転板４１１の反射部で反射さ
れ続いて回転板４１６の反射部で反射された光束Ｉ１
（図１０（ａ））と、入射光束Ｉ０が回転板４１１の透
過部を透過し直角プリズム４３０で反射し回転板４１６
の透過部を透過した光束Ｉ３（図１０（ｂ））とは、そ
れぞれの光路長は変化するが、両者の間の光路長差は一
定である。
異なる点は、２つの反射型光チョッパ４１０，４１５お
よび直角プリズム４２０が移動ステージ４３０上で固定
され、これらが一体として、固定ステージ４６０上を入
射光束Ｉ０の光軸方向に移動する点である。したがっ
て、移動ステージ４３０が固定ステージ４６０上を移動
しても、入射光束Ｉ０が回転板４１１の反射部で反射さ
れ続いて回転板４１６の反射部で反射された光束Ｉ１
（図１０（ａ））と、入射光束Ｉ０が回転板４１１の透
過部を透過し直角プリズム４３０で反射し回転板４１６
の透過部を透過した光束Ｉ３（図１０（ｂ））とは、そ
れぞれの光路長は変化するが、両者の間の光路長差は一
定である。
【００５６】すなわち、第１ないし第３の実施形態に係
る光遅延装置は、互いに異なる遅延を有する光束Ｉ１と
光束Ｉ３とを周期的に交互に同一光軸上で出力するもの
であって、基準遅延を有する基準光束Ｉ１に対して光束
Ｉ３の遅延を変化させることができるものであるが、本
実施形態に係る光遅延装置は、互いに異なる遅延を有す
る光束Ｉ１と光束Ｉ３とを周期的に交互に同一光軸上で
出力する点では同じであるが、光束Ｉ１と光束Ｉ３との
間の遅延差を一定に維持したまま、両光束の遅延それぞ
れを変化させることができるものである。
る光遅延装置は、互いに異なる遅延を有する光束Ｉ１と
光束Ｉ３とを周期的に交互に同一光軸上で出力するもの
であって、基準遅延を有する基準光束Ｉ１に対して光束
Ｉ３の遅延を変化させることができるものであるが、本
実施形態に係る光遅延装置は、互いに異なる遅延を有す
る光束Ｉ１と光束Ｉ３とを周期的に交互に同一光軸上で
出力する点では同じであるが、光束Ｉ１と光束Ｉ３との
間の遅延差を一定に維持したまま、両光束の遅延それぞ
れを変化させることができるものである。
【００５７】（第５の実施形態）次に、第５の実施形態
について説明する。本実施形態は、第２の実施形態に係
る光遅延装置を電界測定装置に用いたものである。図１
１は、第２の実施形態に係る光遅延装置を用いた電界測
定装置の構成図である。
について説明する。本実施形態は、第２の実施形態に係
る光遅延装置を電界測定装置に用いたものである。図１
１は、第２の実施形態に係る光遅延装置を用いた電界測
定装置の構成図である。
【００５８】本実施形態に係る電界測定装置は、(1) ピ
コ秒パルスレーザ光を出力するレーザ光源５１０と、
(2) そのレーザ光を一部透過し残部を反射するハーフミ
ラー５２０と、(3) ハーフミラー５２０で反射したレー
ザ光（トリガ光）を測定対象物５３０に導き入射させる
反射鏡５２１および５２２と、(4) ハーフミラー５２０
を透過したレーザ光を入力し、異なる光路長を有する２
光束を周期的に交互に出力する光遅延装置２００と、
(5) 光遅延装置２００から出力された光束（サンプリン
グ光）を一方向の直線偏光成分のみを透過させる偏光子
５２４と、(6) その直線偏光となったサンプリング光を
円偏光に変換する位相補償板５２５と、(7)その円偏光
となったサンプリング光を集光して電気光学材料５４０
に入射させるレンズ５２６と、(8) 測定対象物５３０の
電圧または電界に応じて屈折率が変化し、サンプリング
光を入力して、その屈折率変化に応じて偏光状態が変化
した光束を出力する電気光学材料５４０と、(9) 電気光
学材料５４０から出力された光束を平行光にするレンズ
５５０と、(10)レンズ５５０を通った光束のうち一方向
の直線偏光成分のみを出力する検光子５５１と、(11)検
光子５５１から出力された光束の強度を測定し、その強
度に応じた電圧信号を出力する光検出器５５２と、(12)
光遅延装置２００における２光束切り替えタイミングに
同期して、光検出器５５２から出力された電圧信号を検
出するロックインアンプ５６０と、(13)ロックインアン
プ５６０からの出力値を所定回数だけ加算し平均値を求
めて出力する加算平均器５７０と、(14)光遅延装置２０
０において生成される２光束間の光路長差を変化させる
ステージコントローラ５８０と、(15)その光路長差に応
じた電圧信号と、加算平均器５７０から出力された電圧
信号とを入力し、電気光学材料５４０に印加される電界
強度の波形を表示する波形表示部５９０と、を備える。
コ秒パルスレーザ光を出力するレーザ光源５１０と、
(2) そのレーザ光を一部透過し残部を反射するハーフミ
ラー５２０と、(3) ハーフミラー５２０で反射したレー
ザ光（トリガ光）を測定対象物５３０に導き入射させる
反射鏡５２１および５２２と、(4) ハーフミラー５２０
を透過したレーザ光を入力し、異なる光路長を有する２
光束を周期的に交互に出力する光遅延装置２００と、
(5) 光遅延装置２００から出力された光束（サンプリン
グ光）を一方向の直線偏光成分のみを透過させる偏光子
５２４と、(6) その直線偏光となったサンプリング光を
円偏光に変換する位相補償板５２５と、(7)その円偏光
となったサンプリング光を集光して電気光学材料５４０
に入射させるレンズ５２６と、(8) 測定対象物５３０の
電圧または電界に応じて屈折率が変化し、サンプリング
光を入力して、その屈折率変化に応じて偏光状態が変化
した光束を出力する電気光学材料５４０と、(9) 電気光
学材料５４０から出力された光束を平行光にするレンズ
５５０と、(10)レンズ５５０を通った光束のうち一方向
の直線偏光成分のみを出力する検光子５５１と、(11)検
光子５５１から出力された光束の強度を測定し、その強
度に応じた電圧信号を出力する光検出器５５２と、(12)
光遅延装置２００における２光束切り替えタイミングに
同期して、光検出器５５２から出力された電圧信号を検
出するロックインアンプ５６０と、(13)ロックインアン
プ５６０からの出力値を所定回数だけ加算し平均値を求
めて出力する加算平均器５７０と、(14)光遅延装置２０
０において生成される２光束間の光路長差を変化させる
ステージコントローラ５８０と、(15)その光路長差に応
じた電圧信号と、加算平均器５７０から出力された電圧
信号とを入力し、電気光学材料５４０に印加される電界
強度の波形を表示する波形表示部５９０と、を備える。
【００５９】測定対象物５３０に入射するトリガ光は、
レーザ光源５１０から出力され、ハーフミラー５２０で
一部反射され、反射鏡５２１および５２２で反射され
て、測定対象物５３０に入射する。測定対象物５３０
は、例えば、ホトコンダクティブ光スイッチなどのピコ
秒回路であり、トリガ光が入射すると光電変換によって
電気パルスが発生し、この電気パルスは、電気光学材料
５４０に印加される。この電気光学材料５４０は、それ
に印加された電圧に依存して屈折率が変化する性質を有
するものである。このトリガ光には、何等変調が加えら
れておらず、測定対象物５３０には定常的にトリガ光が
入射されて電気パルスが発生し、かつ、電気光学材料５
４０にも定常的にその電気パルスに応じた電圧が印加さ
れる。
レーザ光源５１０から出力され、ハーフミラー５２０で
一部反射され、反射鏡５２１および５２２で反射され
て、測定対象物５３０に入射する。測定対象物５３０
は、例えば、ホトコンダクティブ光スイッチなどのピコ
秒回路であり、トリガ光が入射すると光電変換によって
電気パルスが発生し、この電気パルスは、電気光学材料
５４０に印加される。この電気光学材料５４０は、それ
に印加された電圧に依存して屈折率が変化する性質を有
するものである。このトリガ光には、何等変調が加えら
れておらず、測定対象物５３０には定常的にトリガ光が
入射されて電気パルスが発生し、かつ、電気光学材料５
４０にも定常的にその電気パルスに応じた電圧が印加さ
れる。
【００６０】なお、測定対象物５３０と電気光学材料５
４０とは信号線でつなげられて電圧が直接印加されても
よいし、また、測定対象物５３０と電気光学材料５４０
とは接近して置かれてそのもれ電界が印加されてもよ
い。
４０とは信号線でつなげられて電圧が直接印加されても
よいし、また、測定対象物５３０と電気光学材料５４０
とは接近して置かれてそのもれ電界が印加されてもよ
い。
【００６１】レーザ光源５１０から出力されハーフミラ
ー５２０を透過したレーザ光束は、先ず、光遅延装置２
００に入力する。ここで用いられている光遅延装置２０
０は、第２の実施形態に係る光遅延装置である。すなわ
ち、レーザ光源５１０から出力されハーフミラー５２０
を一部透過したレーザ光束が遅延装置２００に入力する
と、チョッパコントローラ２７０で同期回転制御された
モータ２１２および２１７それぞれによって回転板２１
１および２１６が回転するに伴って、回転板２１１の透
過部を透過し反射鏡２２０および２２１で反射し更に回
転板２１６の透過部を透過したレーザ光束、および、回
転板２１１の反射部で反射し続いて回転板２１６の反射
部で反射したレーザ光束が、周期的に交互に出力され、
これがサンプリング光となる。なお、このレーザ光束が
交互に出力される繰り返し周波数は、一般には数百Ｈｚ
から数ｋＨｚであるが、この繰り返し周波数はロックイ
ンアンプの性能に依存するものであり、数Ｈｚから数百
ｋＨｚまで可能である。そして、このサンプリング光
は、光遅延装置２００に入射するレーザ光束の光軸と平
行で反対方向に出力される。また、２つの反射鏡２２０
および２２１をその上に固定する移動ステージ２３０
は、ステージコントローラ５８０によって入射レーザ光
束の光軸方向に移動可能であり、この移動によってサン
プリング光を形成する２光束の内の一方の光束の遅延を
変化させることができる。
ー５２０を透過したレーザ光束は、先ず、光遅延装置２
００に入力する。ここで用いられている光遅延装置２０
０は、第２の実施形態に係る光遅延装置である。すなわ
ち、レーザ光源５１０から出力されハーフミラー５２０
を一部透過したレーザ光束が遅延装置２００に入力する
と、チョッパコントローラ２７０で同期回転制御された
モータ２１２および２１７それぞれによって回転板２１
１および２１６が回転するに伴って、回転板２１１の透
過部を透過し反射鏡２２０および２２１で反射し更に回
転板２１６の透過部を透過したレーザ光束、および、回
転板２１１の反射部で反射し続いて回転板２１６の反射
部で反射したレーザ光束が、周期的に交互に出力され、
これがサンプリング光となる。なお、このレーザ光束が
交互に出力される繰り返し周波数は、一般には数百Ｈｚ
から数ｋＨｚであるが、この繰り返し周波数はロックイ
ンアンプの性能に依存するものであり、数Ｈｚから数百
ｋＨｚまで可能である。そして、このサンプリング光
は、光遅延装置２００に入射するレーザ光束の光軸と平
行で反対方向に出力される。また、２つの反射鏡２２０
および２２１をその上に固定する移動ステージ２３０
は、ステージコントローラ５８０によって入射レーザ光
束の光軸方向に移動可能であり、この移動によってサン
プリング光を形成する２光束の内の一方の光束の遅延を
変化させることができる。
【００６２】光遅延装置２００から出力されたサンプリ
ング光は、偏光子５２４に入力され、直線偏光とされて
出力される。続いて、その直線偏光となったサンプリン
グ光は、偏光子５２４の光学軸に対して４５度傾いた光
学軸を有しそれぞれの光学軸の方向の成分間に１／４波
長の位相差を生じさせる位相補償板５２５に入力され、
円偏光とされて出力される。
ング光は、偏光子５２４に入力され、直線偏光とされて
出力される。続いて、その直線偏光となったサンプリン
グ光は、偏光子５２４の光学軸に対して４５度傾いた光
学軸を有しそれぞれの光学軸の方向の成分間に１／４波
長の位相差を生じさせる位相補償板５２５に入力され、
円偏光とされて出力される。
【００６３】この円偏光とされたサンプリング光がレン
ズ５２６で集光されて電気光学材料５４０に入射されて
透過する間に、電気光学材料５４０の屈折率変化に応じ
て偏光状態が変化し一般に楕円偏光となる。その楕円偏
光のサンプリング光はレンズ５５０で平行光にされて検
光子５５１に入射され、一方向の直線偏光成分のみが出
力され、その強度が光検出器５５２で測定される。
ズ５２６で集光されて電気光学材料５４０に入射されて
透過する間に、電気光学材料５４０の屈折率変化に応じ
て偏光状態が変化し一般に楕円偏光となる。その楕円偏
光のサンプリング光はレンズ５５０で平行光にされて検
光子５５１に入射され、一方向の直線偏光成分のみが出
力され、その強度が光検出器５５２で測定される。
【００６４】したがって、光検出器５５２から出力され
る電圧信号は、トリガ光の入射に伴って測定対象物５３
０で発生した電気パルスの電圧強度に応じたものとな
る。ロックインアンプ５６０は、この光検出器５５２か
ら出力された電圧信号を、サンプリング光を形成する２
光束の生成に関してチョッパコントローラ２７０から出
力されたタイミング信号で同期検出し、サンプリング光
の２光束それぞれにおける光検出器５５２出力値の差を
検出する。
る電圧信号は、トリガ光の入射に伴って測定対象物５３
０で発生した電気パルスの電圧強度に応じたものとな
る。ロックインアンプ５６０は、この光検出器５５２か
ら出力された電圧信号を、サンプリング光を形成する２
光束の生成に関してチョッパコントローラ２７０から出
力されたタイミング信号で同期検出し、サンプリング光
の２光束それぞれにおける光検出器５５２出力値の差を
検出する。
【００６５】このロックインアンプ５６０からの出力
は、加算平均器５７０において所定回数加算されて平均
化されることによってノイズが低減され、その後に、波
形表示部５９０に入力される。一方、光遅延装置２００
の移動ステージ２３０の位置、すなわち、サンプリング
光を形成する２光束の間の遅延時間差に応じた信号が、
ステージコントローラ５８０から出力されて、波形表示
部５９０に掃引信号として入力される。したがって、波
形表示部５９０には、トリガ光の入射に伴って測定対象
物５３０で発生した電気パルスの波形が表示されること
になる。
は、加算平均器５７０において所定回数加算されて平均
化されることによってノイズが低減され、その後に、波
形表示部５９０に入力される。一方、光遅延装置２００
の移動ステージ２３０の位置、すなわち、サンプリング
光を形成する２光束の間の遅延時間差に応じた信号が、
ステージコントローラ５８０から出力されて、波形表示
部５９０に掃引信号として入力される。したがって、波
形表示部５９０には、トリガ光の入射に伴って測定対象
物５３０で発生した電気パルスの波形が表示されること
になる。
【００６６】このようにしてサンプリング光を形成する
２光束それぞれのタイミングにおける電圧信号の差を求
める方式は、半導体レーザを光源とする電界測定装置に
おける点灯タイミングコントロール方式（例えば、特開
平３−１３１７７２号公報、1994 Asia Pacific Microw
ave Conference Proceedings, pp.1167-1170）と同等の
ものである。図１２は、電界測定装置における点灯タイ
ミング方式の説明図である。
２光束それぞれのタイミングにおける電圧信号の差を求
める方式は、半導体レーザを光源とする電界測定装置に
おける点灯タイミングコントロール方式（例えば、特開
平３−１３１７７２号公報、1994 Asia Pacific Microw
ave Conference Proceedings, pp.1167-1170）と同等の
ものである。図１２は、電界測定装置における点灯タイ
ミング方式の説明図である。
【００６７】この方式では、トリガ信号発生装置６１０
から出力されたトリガ信号を入力した被測定電気信号発
生装置６２０は、そのトリガ信号入力に応じて被測定電
気信号を発生し、その被測定電気信号は電気光学材料６
３０に印加される。一方、同じくトリガ信号発生装置６
１０から出力されたトリガ信号を入力したパルス光源駆
動装置６４０は、そのトリガ信号入力のタイミングか
ら、ある基準タイミングと次第に遅延していく測定タイ
ミングとの２つの点灯タイミングで交互にレーザ光源６
５０を点灯させる。レーザ光源６５０から出力されたサ
ンプリング光は、偏光子６５２、電気光学材料６３０お
よび検光子６５４をこの順に透過した後、その強度が光
検出器６５６で測定される。光検出器６５６から出力さ
れた光強度に応じた電圧信号は、ロックインアンプ６６
０で、パルス光源駆動装置６４０から出力されたレーザ
光源６５０点灯タイミング信号に同期して検出される。
そして、ロックインアンプ６６０から出力された電圧信
号は波形表示部６７０に入力され、また、パルス光源駆
動装置６４０で生成されたレーザ光源６５０点灯タイミ
ングに応じた電圧信号が掃引信号として波形表示部６７
０に入力される。パルス光源駆動装置６４０によってレ
ーザ光源６５０を点灯させるタイミングを順次変更する
ことによって、波形表示部６７０には、被測定電気信号
発生装置６２０で発生した被測定電気信号の波形が表示
される。
から出力されたトリガ信号を入力した被測定電気信号発
生装置６２０は、そのトリガ信号入力に応じて被測定電
気信号を発生し、その被測定電気信号は電気光学材料６
３０に印加される。一方、同じくトリガ信号発生装置６
１０から出力されたトリガ信号を入力したパルス光源駆
動装置６４０は、そのトリガ信号入力のタイミングか
ら、ある基準タイミングと次第に遅延していく測定タイ
ミングとの２つの点灯タイミングで交互にレーザ光源６
５０を点灯させる。レーザ光源６５０から出力されたサ
ンプリング光は、偏光子６５２、電気光学材料６３０お
よび検光子６５４をこの順に透過した後、その強度が光
検出器６５６で測定される。光検出器６５６から出力さ
れた光強度に応じた電圧信号は、ロックインアンプ６６
０で、パルス光源駆動装置６４０から出力されたレーザ
光源６５０点灯タイミング信号に同期して検出される。
そして、ロックインアンプ６６０から出力された電圧信
号は波形表示部６７０に入力され、また、パルス光源駆
動装置６４０で生成されたレーザ光源６５０点灯タイミ
ングに応じた電圧信号が掃引信号として波形表示部６７
０に入力される。パルス光源駆動装置６４０によってレ
ーザ光源６５０を点灯させるタイミングを順次変更する
ことによって、波形表示部６７０には、被測定電気信号
発生装置６２０で発生した被測定電気信号の波形が表示
される。
【００６８】このような点灯タイミングコントロール方
式では、レーザ光源６５０は、サンプリング光出力タイ
ミングを電気的に制御することが可能であることが必要
であり、それが可能である半導体レーザに限られてい
た。例えば、チタンサファイアレーザのような大出力の
レーザ光源は、点灯タイミングを電気的に精度良く制御
することは不可能であるので、この方式を用いることは
できない。
式では、レーザ光源６５０は、サンプリング光出力タイ
ミングを電気的に制御することが可能であることが必要
であり、それが可能である半導体レーザに限られてい
た。例えば、チタンサファイアレーザのような大出力の
レーザ光源は、点灯タイミングを電気的に精度良く制御
することは不可能であるので、この方式を用いることは
できない。
【００６９】これに対して、上述のように本発明に係る
光遅延装置を用いれば、レーザ光源におけるレーザ光発
生タイミングを容易に制御することができるので、チタ
ンサファイアレーザ等の大出力レーザ光源を用いること
ができる。
光遅延装置を用いれば、レーザ光源におけるレーザ光発
生タイミングを容易に制御することができるので、チタ
ンサファイアレーザ等の大出力レーザ光源を用いること
ができる。
【００７０】また、トリガ光は、測定対象物に連続的に
入射され、測定対象物は定常的に動作するので、不良動
作を起こして電気パルス波形が歪むおそれはない。した
がって、例えば、数十ＧＨｚ帯域のマイクロ波用デジタ
ルＩＣ等の精密なデバイスの評価に好適に用いることが
できる。
入射され、測定対象物は定常的に動作するので、不良動
作を起こして電気パルス波形が歪むおそれはない。した
がって、例えば、数十ＧＨｚ帯域のマイクロ波用デジタ
ルＩＣ等の精密なデバイスの評価に好適に用いることが
できる。
【００７１】なお、第１および第３の実施形態に係る光
遅延装置を用いてサンプリング光を形成しても、同様の
作用を得ることができる。また、第４の実施形態に係る
光遅延装置を用いてサンプリング光を形成してもよい。
この場合には、サンプリング光を形成する２光束は、両
者間の遅延差が一定に維持されて両者それぞれの遅延時
間が変化するものであるから、波形表示部５９０に表示
される波形は、測定対象物５３０で発生した電気パルス
波形の時間微分波形となる。したがって、波形表示部５
９０に表示された波形を積分することによって、測定対
象物５３０で発生した電気パルス波形を得ることができ
る。
遅延装置を用いてサンプリング光を形成しても、同様の
作用を得ることができる。また、第４の実施形態に係る
光遅延装置を用いてサンプリング光を形成してもよい。
この場合には、サンプリング光を形成する２光束は、両
者間の遅延差が一定に維持されて両者それぞれの遅延時
間が変化するものであるから、波形表示部５９０に表示
される波形は、測定対象物５３０で発生した電気パルス
波形の時間微分波形となる。したがって、波形表示部５
９０に表示された波形を積分することによって、測定対
象物５３０で発生した電気パルス波形を得ることができ
る。
【００７２】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく種々の変形が可能である。例えば、入射する光
束に対して光軸が平行で反対方向に進む光束を生成する
為に、１つまたは２つの反射鏡、リトロリフレクタまた
は直角プリズムを用いたが、これに限られるものではな
く、例えば、３つ以上の反射鏡を用いてもよいし、コー
ナーキューブプリズムを用いてもよい。
ではなく種々の変形が可能である。例えば、入射する光
束に対して光軸が平行で反対方向に進む光束を生成する
為に、１つまたは２つの反射鏡、リトロリフレクタまた
は直角プリズムを用いたが、これに限られるものではな
く、例えば、３つ以上の反射鏡を用いてもよいし、コー
ナーキューブプリズムを用いてもよい。
【００７３】また、第２の実施形態では、２つの回転板
それぞれにモータを直結してチョッパコントローラで同
期をとって回転駆動したが、２つの回転板をギヤやベル
トを介して１つのモータで回転駆動してもよい。この場
合、２つの回転板は常に同期して回転するので、チョッ
パコントローラは不要である。
それぞれにモータを直結してチョッパコントローラで同
期をとって回転駆動したが、２つの回転板をギヤやベル
トを介して１つのモータで回転駆動してもよい。この場
合、２つの回転板は常に同期して回転するので、チョッ
パコントローラは不要である。
【００７４】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり本発明によ
れば、光束分割合成手段によって、入射光束に基づいて
入射光束とは反対方向に進む第１の光束および入射光束
と同一方向に進む第２の光束を交互に生成するととも
に、第２の光束と反対方向に進む第３の光束を入力し
て、第１の光束が生成されている時にはその第１の光束
を、そうでない時には第３の光束を交互に出力し、反射
手段によって、その第２の光束を反射して反対方向に進
む第３の光束を生成し、移動手段によって、少なくとも
反射手段を第２の光軸方向に移動させる。
れば、光束分割合成手段によって、入射光束に基づいて
入射光束とは反対方向に進む第１の光束および入射光束
と同一方向に進む第２の光束を交互に生成するととも
に、第２の光束と反対方向に進む第３の光束を入力し
て、第１の光束が生成されている時にはその第１の光束
を、そうでない時には第３の光束を交互に出力し、反射
手段によって、その第２の光束を反射して反対方向に進
む第３の光束を生成し、移動手段によって、少なくとも
反射手段を第２の光軸方向に移動させる。
【００７５】このような構成としたので、互いに異なる
遅延を有する第１および第３の光束を同一光軸上に交互
に得ることができ、さらに、第３の光束の遅延量は可変
設定が可能である。
遅延を有する第１および第３の光束を同一光軸上に交互
に得ることができ、さらに、第３の光束の遅延量は可変
設定が可能である。
【００７６】本発明に係る光遅延装置を電界測定装置に
適用して、この光遅延装置で一方の光束の遅延が可変設
定されて生成されたサンプリング光を電気光学材料に入
射し、電気光学材料を透過したサンプリング光強度を２
光束交互形成のタイミングでロックインアンプで同期検
出することによって、トリガ光が測定対象物に入射して
発生した電気パルスの波形を測定することができる。こ
の場合、測定対象物に入射するトリガ光を変調する必要
がなく、トリガ光は定常的に測定対象物に入射するの
で、測定対象物の動作は安定したものとなり、したがっ
て、正確な測定を行うことができる。
適用して、この光遅延装置で一方の光束の遅延が可変設
定されて生成されたサンプリング光を電気光学材料に入
射し、電気光学材料を透過したサンプリング光強度を２
光束交互形成のタイミングでロックインアンプで同期検
出することによって、トリガ光が測定対象物に入射して
発生した電気パルスの波形を測定することができる。こ
の場合、測定対象物に入射するトリガ光を変調する必要
がなく、トリガ光は定常的に測定対象物に入射するの
で、測定対象物の動作は安定したものとなり、したがっ
て、正確な測定を行うことができる。
【図１】第１の実施形態に係る光遅延装置の斜視図であ
る。
る。
【図２】反射型光チョッパの回転板の説明図である。
【図３】第１の実施形態に係る光遅延装置の動作の説明
図である。
図である。
【図４】第２の実施形態に係る光遅延装置の斜視図であ
る。
る。
【図５】第２の実施形態に係る光遅延装置の動作の説明
図である。
図である。
【図６】第３の実施形態に係る光遅延装置の斜視図であ
る。
る。
【図７】第３の実施形態に係る光遅延装置の動作の説明
図である。
図である。
【図８】リトロリフレクタの斜視図である。
【図９】第４の実施形態に係る光遅延装置の平面図であ
る。
る。
【図１０】第４の実施形態に係る光遅延装置の動作の説
明図である。
明図である。
【図１１】第２の実施形態に係る光遅延装置を用いた電
界測定装置の構成図である。
界測定装置の構成図である。
【図１２】電界測定装置における点灯タイミング方式の
説明図である。
説明図である。
【図１３】従来の光遅延装置が用いられている電界測定
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図１４】従来の分光光度計の構成図である。
１１０…反射型光チョッパ、１２０…反射鏡、１３０…
移動ステージ、１４０…半透鏡、１５０…遮光板、１６
０…固定ステージ、２００…光遅延装置、２１０，２１
５…反射型光チョッパ、２２０，２２１…反射鏡、２３
０…移動ステージ、２６０…固定ステージ、２７０…チ
ョッパコントローラ、３１０…反射型光チョッパ、３２
０，３２１，３２２，３２３…反射鏡、３３０…移動ス
テージ、３６０…固定ステージ、３８０，３８１，３８
２，３８３…アパーチャ、４１０，４１５…反射型光チ
ョッパ、４２０…直角プリズム、４３０…移動ステー
ジ、４６０…固定ステージ、４７０…チョッパコントロ
ーラ、５１０…レーザ光源、５２０…ハーフミラー、５
２１，５２２，５２３…反射鏡、５２４…偏光子、５２
５…位相補償板、５２６…レンズ、５３０…測定対象
物、５４０…電気光学材料、５５０…レンズ、５５１…
検光子、５５２…光検出器、５６０…ロックインアン
プ、５７０…加算平均器、５８０…ステージコントロー
ラ、５９０…波形表示部。
移動ステージ、１４０…半透鏡、１５０…遮光板、１６
０…固定ステージ、２００…光遅延装置、２１０，２１
５…反射型光チョッパ、２２０，２２１…反射鏡、２３
０…移動ステージ、２６０…固定ステージ、２７０…チ
ョッパコントローラ、３１０…反射型光チョッパ、３２
０，３２１，３２２，３２３…反射鏡、３３０…移動ス
テージ、３６０…固定ステージ、３８０，３８１，３８
２，３８３…アパーチャ、４１０，４１５…反射型光チ
ョッパ、４２０…直角プリズム、４３０…移動ステー
ジ、４６０…固定ステージ、４７０…チョッパコントロ
ーラ、５１０…レーザ光源、５２０…ハーフミラー、５
２１，５２２，５２３…反射鏡、５２４…偏光子、５２
５…位相補償板、５２６…レンズ、５３０…測定対象
物、５４０…電気光学材料、５５０…レンズ、５５１…
検光子、５５２…光検出器、５６０…ロックインアン
プ、５７０…加算平均器、５８０…ステージコントロー
ラ、５９０…波形表示部。
Claims (6)
- 【請求項１】 入射光束を入力して、前記入射光束とは
反対方向に進む第１の光束および前記入射光束と同一方
向に進む第２の光束を交互に生成するとともに、前記第
２の光束とは反対方向に進む第３の光束を入力して、前
記第１の光束が生成されている時には前記第１の光束
を、そうでない時には前記第３の光束を、同一光軸上で
同一方向に交互に出力する光束分割合成手段と、 前記第２の光束に基づいて前記第３の光束を出力する反
射手段と、 少なくとも前記反射手段を前記第２の光束の光軸方向に
移動させる移動手段と、 を備えることを特徴とする光遅延装置。 - 【請求項２】 前記光束分割合成手段から出力された前
記第１および前記第３の光束それぞれの一部を入射方向
とは異なる方向に反射させる半透鏡を更に備え、 前記光束分割合成手段は、反射部と透過部とが前記入射
光束の光軸に垂直な平面上に中心点を中心とする円周上
に周期的に交互に形成され、前記入射光束が前記反射部
に入射した時には前記入射光束を反射させて前記第１の
光束を生成し、前記入射光束が前記透過部に入射した時
には前記入射光束を透過させて前記第２の光束を生成す
るとともに前記第３の光束を透過させる回転板と、前記
回転板を前記平面上で前記中心点を中心として等速度回
転させる回転駆動部と、を備え、 前記反射手段は、前記第２の光束の光軸に垂直な反射面
を有する反射鏡である、 ことを特徴とする請求項１記載の光遅延装置。 - 【請求項３】 前記反射手段は、複数の反射面を備え、
前記第２の光束を入力して、前記第２の光束の光軸とは
異なる光軸の前記第３の光束を生成する、ことを特徴と
する請求項１記載の光遅延装置。 - 【請求項４】 前記光束分割合成手段は、 第１の反射部と第１の透過部とが前記入射光束の光軸と
は垂直でない第１の平面上に第１の中心点を中心とする
円周上に周期的に交互に形成され、前記入射光束が前記
第１の反射部に入射した時には前記入射光束を反射させ
て第４の光束を生成し、前記入射光束が前記第１の透過
部に入射した時には前記入射光束を透過させて前記第２
の光束を生成する第１の回転板と、 第２の反射部と第２の透過部とが前記第１の平面と直交
する第２の平面上に第２の中心点を中心とする円周上に
周期的に交互に形成され、前記第４の光束が前記第２の
反射部に入射した時には前記第４の光束を反射させて前
記第１の光束を生成し、前記第３の光束が前記第２の透
過部に入射した時には前記第３の光束を透過させる第２
の回転板と、 前記第１の回転板を前記第１の平面上で前記第１の中心
点を中心として等速度回転させる第１の回転駆動部と、 前記第２の回転板を前記第２の平面上で前記第２の中心
点を中心として等速度回転させる第２の回転駆動部と、 前記第１および前記第２の回転駆動部を制御して、前記
第１の回転板が前記第４の光束を生成した時には前記第
２の回転板で前記第４の光束を反射させて前記第１の光
束を生成し、そうでない時には前記第２の回転板で前記
第３の光束を透過させる回転制御部と、 を備えることを特徴とする請求項３記載の光遅延装置。 - 【請求項５】 前記光束分割合成手段は、 反射部と透過部とが前記入射光束の光軸とは垂直でない
平面上に中心点を中心とする円周上に周期的に交互に形
成され、前記入射光束が前記反射部に入射した時には前
記入射光束を反射させて第４の光束を生成するとともに
前記第４の光束とは反対方向に進んで入射した第５の光
束を反射させて前記第１の光束を生成し、前記入射光束
が前記透過部に入射した時には前記入射光束を透過させ
て前記第２の光束を生成する回転板と、 前記回転板を前記平面上で前記中心点を中心として等速
度回転させる回転駆動部と、 複数の反射面を備え、前記第４の光束に基づいて前記第
５の光束を生成する反射部と、 を備えることを特徴とする請求項３記載の光遅延装置。 - 【請求項６】 前記移動手段は、前記光束分割合成手段
を前記反射手段と一体として移動させる、ことを特徴と
する請求項１記載の光遅延装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00086996A JP3596964B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光遅延装置 |
| US08/779,605 US5751419A (en) | 1996-01-08 | 1997-01-07 | Optical delay apparatus |
| EP97300071A EP0784222B1 (en) | 1996-01-08 | 1997-01-08 | Optical delay apparatus |
| DE69719829T DE69719829T2 (de) | 1996-01-08 | 1997-01-08 | Optisches Zeitverzögerungsgerät |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00086996A JP3596964B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光遅延装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09184987A true JPH09184987A (ja) | 1997-07-15 |
| JP3596964B2 JP3596964B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=11485686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00086996A Expired - Fee Related JP3596964B2 (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光遅延装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5751419A (ja) |
| EP (1) | EP0784222B1 (ja) |
| JP (1) | JP3596964B2 (ja) |
| DE (1) | DE69719829T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191862B1 (en) * | 1999-01-20 | 2001-02-20 | Lightlab Imaging, Llc | Methods and apparatus for high speed longitudinal scanning in imaging systems |
| US6552796B2 (en) | 2001-04-06 | 2003-04-22 | Lightlab Imaging, Llc | Apparatus and method for selective data collection and signal to noise ratio enhancement using optical coherence tomography |
| US7046412B2 (en) * | 2003-06-09 | 2006-05-16 | Dorney Timothy D | Scanning optical delay line using a reflective element arranged to rotate |
| US7611966B2 (en) * | 2005-05-05 | 2009-11-03 | Intel Corporation | Dual pulsed beam laser micromachining method |
| US10724945B2 (en) * | 2016-04-19 | 2020-07-28 | Cascade Technologies Holdings Limited | Laser detection system and method |
| CN108227079A (zh) * | 2016-12-09 | 2018-06-29 | 上海信及光子集成技术有限公司 | 一种高精度N-bit可调光延时器 |
| GB201700905D0 (en) | 2017-01-19 | 2017-03-08 | Cascade Tech Holdings Ltd | Close-Coupled Analyser |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5623906U (ja) * | 1979-07-30 | 1981-03-04 | ||
| JPS60223691A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-08 | アマダ エンジニアリング アンド サ−ビス カンパニ− インコ−ポレ−テツド | レ−ザビ−ムの分配方法及び装置 |
| JPH01286431A (ja) * | 1988-04-29 | 1989-11-17 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電気導体上の電圧波形の電気―光学的測定方法および装置 |
| JPH02201127A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-09 | Hitachi Ltd | 光遅延時間原点検出器 |
| JPH03131772A (ja) * | 1989-10-18 | 1991-06-05 | Hamamatsu Photonics Kk | 電圧検出装置 |
| JPH03215718A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-09-20 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 二本の光線を使用する光度計 |
| JPH04130233A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-01 | N F Kairo Sekkei Block:Kk | 可搬型光チョッパー装置の駆動装置」と訂正する。 |
| JPH05323125A (ja) * | 1992-05-18 | 1993-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子機器 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB921743A (en) * | 1960-12-12 | 1963-03-20 | Courtaulds Ltd | Improvements in photometric measurements |
| GB1283241A (en) * | 1969-07-18 | 1972-07-26 | Pye Ltd | Improvements in or relating to spectrophotometers |
| US4000946A (en) * | 1974-01-14 | 1977-01-04 | Beckman Instruments, Inc. | Stepper motor tracking accuracy control for spectrophotometers |
| US4168910A (en) * | 1978-04-27 | 1979-09-25 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical beam-switching chopper |
| JPH05323215A (ja) * | 1992-05-26 | 1993-12-07 | Ando Electric Co Ltd | ２つの光路をチョッパでオンオフする光スイッチ |
-
1996
- 1996-01-08 JP JP00086996A patent/JP3596964B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-07 US US08/779,605 patent/US5751419A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-08 EP EP97300071A patent/EP0784222B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-08 DE DE69719829T patent/DE69719829T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5623906U (ja) * | 1979-07-30 | 1981-03-04 | ||
| JPS60223691A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-08 | アマダ エンジニアリング アンド サ−ビス カンパニ− インコ−ポレ−テツド | レ−ザビ−ムの分配方法及び装置 |
| JPH01286431A (ja) * | 1988-04-29 | 1989-11-17 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電気導体上の電圧波形の電気―光学的測定方法および装置 |
| JPH02201127A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-09 | Hitachi Ltd | 光遅延時間原点検出器 |
| JPH03215718A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-09-20 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 二本の光線を使用する光度計 |
| JPH03131772A (ja) * | 1989-10-18 | 1991-06-05 | Hamamatsu Photonics Kk | 電圧検出装置 |
| JPH04130233A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-01 | N F Kairo Sekkei Block:Kk | 可搬型光チョッパー装置の駆動装置」と訂正する。 |
| JPH05323125A (ja) * | 1992-05-18 | 1993-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0784222A2 (en) | 1997-07-16 |
| DE69719829T2 (de) | 2003-12-24 |
| EP0784222A3 (en) | 1998-08-12 |
| EP0784222B1 (en) | 2003-03-19 |
| US5751419A (en) | 1998-05-12 |
| JP3596964B2 (ja) | 2004-12-02 |
| DE69719829D1 (de) | 2003-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100253496B1 (ko) | 절대 거리를 위한 전기 광학적 측정기 | |
| US5585913A (en) | Ultrashort pulsewidth laser ranging system employing a time gate producing an autocorrelation and method therefore | |
| US3891321A (en) | Optical method and apparatus for measuring the relative displacement of a diffraction grid | |
| US5583638A (en) | Angular michelson interferometer and optical wavemeter based on a rotating periscope | |
| JPH01141388A (ja) | 光電距離測定方法 | |
| JP3596964B2 (ja) | 光遅延装置 | |
| US3635552A (en) | Optical interferometer | |
| US5089698A (en) | Interferometric optical system for measuring linear or angular displacements by beat signals | |
| JP2004163384A (ja) | 時間分解・非線形複素感受率測定装置 | |
| JP2012132711A (ja) | パルス間位相ズレ測定装置、オフセット周波数制御装置、パルス間位相ズレ測定方法、オフセット周波数制御方法 | |
| JP2000352558A (ja) | テラヘルツ波分光器 | |
| JP3428067B2 (ja) | 変位測定方法及びそれに用いる変位測定装置 | |
| JP2004055775A (ja) | 波長モニタ及びモータ駆動制御装置 | |
| JP3322385B2 (ja) | ２周波レーザ光源の波長測定装置 | |
| JP2000147122A (ja) | 光波測距装置 | |
| JPH01320473A (ja) | 電気光学効果素子及びそれを用いた電気信号波形測定装置 | |
| WO2022175471A1 (en) | Method of creating a local oscillator light beam and local oscillator source apparatus for phase-resolved spectroscopy | |
| JP2002250675A (ja) | 低コヒーレントリフレクトメータ | |
| JP2636744B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JPH07229713A (ja) | 変位測定方法及びそれを用いた変位測定装置 | |
| Azzam | Polarization Michelson interferometer (POLMINT): its use for polarization modulation and temporal pulse shearing | |
| JP2691899B2 (ja) | 干渉計 | |
| Wasylczyk | Compact, alignment-free autocorrelator for femtosecond laser pulses | |
| SU1252677A1 (ru) | Устройство дл измерени амплитудной и фазовой анизотропии отражателей | |
| SU712655A1 (ru) | Калибратор фазовых сдвигов |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040827 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040831 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040907 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070917 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090917 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120917 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120917 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |