JPH09166783A - 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示性能の低下を可及的に防止することを可
能にする。 【解決手段】 透明電極が形成された透明基板上に配向
膜材料を塗布することによって配向膜を成膜する工程
と、塗布された前記配向膜の膜厚を計測する工程と、計
測された前記膜厚が所定値未満の場合に、インクジェッ
トノズルを用いて配向膜材料を塗布することにより前記
配向膜の膜厚が所定値未満の箇所を補修する工程と、を
備えていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の配向
膜形成方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄型軽量、低消費電力という大き
な利点をもつ液晶表示素子は、日本語ワードプロセッサ
やデスクトップパーソナルコンピュータ等のパーソナル
ＯＡ機器の表示装置として積極的に用いられている。液
晶表示素子（以下ＬＣＤともいう）のほとんどは、捩れ
ネマティック液晶を用いており、表示方式としては、こ
の中でも旋光モードと複屈折モードとの２つの方式に大
別できる。

【０００３】旋光モードのＬＣＤは、例えば９０度捩れ
た分子配列をもつツイステッドネマティック（ＴＮ）形
液晶であり、原理的に白黒表示で、高いコントラスト比
と良好な階調表示性を示す。また応答速度が速い（数十
ミリ秒）ことから、時計や電卓、単純マトリクス駆動
や、スイッチング素子を各画素毎に具備したアクティブ
マトリクス駆動で、また、カラーフィルタと組み合わせ
たフルカラーの表示の液晶テレビなど（ＴＦＴ（Thin F
ilm Transistor）−ＬＣＤやＭＩＭ（Metal Insulator
Metal ）−ＬＣＤ）に応用されている。

【０００４】一方、複屈折モードの表示方式のＬＣＤ
は、一般に９０度以上捩れた分子配列をもつスーパーツ
イスト（ＳＴ）形液晶で、急唆な電気光学特性をもつた
め、各画素ごとにスイッチング素子（薄膜トランジスタ
やダイオード）がなくても単純なマトリクス状の電極構
造でも時分割駆動により容易に大容量表示が得られる。
これらの液晶表示素子の表示を均一に行うためには基板
表面全面に液晶分子を均一に配向させることが必要であ
る。

【０００５】液晶表示素子は、２枚の基板の電極の間に
液晶組成物を挟持し、２枚の基板の電極から液晶組成物
に電圧を印加し表示を行うものであり、電圧を印加した
時に均一な表示を行うためには、液晶分子にプレチルト
角（液晶分子の分子軸と配向膜表面とのなす角）を予め
与えることが必要である。このように、配向膜はプレチ
ルト角を与えることも重要な役割として担っている。

【０００６】従来、これらの液晶表示素子の配向膜の形
成は、電極等が形成された基板上に例えばポリイトミド
等の有機高分子化合物からなる薄膜をオフセット印刷に
より形成した後、布などで軽く摩擦すること（ラビング
処理）によって行うのが一般的である。

【０００７】オフセット印刷によって配向膜を形成する
方法は、図８に示すように、まずアニロックスローラ５
２上にノズル５０を介して配向膜材料、例えばポリイミ
ドを滴下し、ドクターローラ５１をアニロックスローラ
５２に押付けることによって上記滴下されたポリイミド
の厚さが均一となるように伸ばす。そしてこの均一とな
るように伸ばされたポリイミド膜を、版胴５３上に設け
られた印刷版５４上に転写し、印刷版５４上に転写され
たポリイミド膜を基板２０の表面に更に転写し、配向膜
２２を形成する。

【０００８】また、電極等が形成された基板表面に例え
ばポリイミド等の高分子化合物を直接に散布することに
よって配向膜を形成する方法も考えられている（特開昭
５４−２１８６２号公報、特開昭６３−１０６７２７号
公報参照）。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】オフセット印刷によっ
て配向膜を形成する方法は、印刷版５４上に平坦化され
た配向膜材料の膜を基板表面に転写することにより配向
膜を形成するため、膜厚の均一性は一般的に良い。しか
し、図９に示すように印刷版５４の表面に異物６０が付
着している場合には、印刷版５４上に転写された配向膜
材料２２は平坦化されず（図９（ａ）参照）、これによ
り印刷版５４から基板２０の表面に転写された配向膜２
２には膜厚の薄い箇所が発生するという問題がある。ま
た、この方法はドクタローラ５１とアニロックスローラ
５２に配向膜材料を塗布する必要があるため、配向膜材
料の使用効率が低いという問題がある。

【００１０】一方、配向膜材料を基板表面に散布するこ
とによって配向膜を形成する方法は、配向膜材料の使用
効率はかなり良いが、配向膜材料の液滴が均一に噴射さ
れず、膜厚の薄い箇所が発生する場合がある。

【００１１】このように膜厚の薄い箇所が発生した場
合、液晶表示素子の表示性能が悪くなり、歩留りを低下
させるという問題を引起こす。

【００１２】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、表示性能の低下を可及的に防止することので
きる液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置を提供する
ことを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の配向膜形成方法の第１の態様は、透明電極が形成さ
れた透明基板上に配向膜材料を塗布することによって配
向膜を成膜する工程と、塗布された前記配向膜の膜厚を
計測する工程と、計測された前記膜厚が所定値未満の場
合に、インクジェットノズルを用いて配向膜材料を塗布
することにより前記配向膜の膜厚が所定値未満の箇所を
補修する工程と、を備えていることを特徴とする。

【００１４】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第２の態様は第１の態様の形成方法において、
前記配向膜材料を塗布することによって成膜する工程は
インクジェットノズルを用いて行うことを特徴とする。

【００１５】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第３の態様は、第１又は第２の態様の形成方法
において、前記配向膜の膜厚を計測する工程は干渉計を
用いて行うことを特徴とする。

【００１６】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第４の態様は、第１乃至第３の態様のいずれか
の形成方法において、前記補修する工程の後に乾燥処理
を行って前記配向膜の溶媒を除去する工程を備えている
ことを特徴とする。

【００１７】本発明による液晶表示素子の配向膜形成装
置の第１の態様は、透明電極が形成された透明基板上に
配向膜材料を塗布する手段と、塗布された配向膜材料の
膜厚を計測する手段と、前記計測する手段の出力に基づ
いて前記計測された膜厚が所定値未満となっている箇所
を検出する手段と、前記検出する手段の検出出力に基づ
いて前記膜厚が所定値未満となっている箇所にインクジ
ェットノズルを用いて配向膜材料を塗布することにより
配向膜の膜厚を補修する手段と、を備えていることを特
徴とする。

【００１８】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第２の態様は第１の態様の形成装置において、
前記配向膜材料を塗布する手段はインクジェットノズル
を有していることを特徴とする。

【００１９】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第３の態様は、第１又は第２の態様の形成装置
において、前記膜厚を計測する手段は干渉計であること
を特徴とする。

【００２０】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第４の態様は、第１乃至第３の態様のいずれか
の形成装置において、前記補修された配向膜の溶媒を乾
燥処理することによって除去する手段を更に備えている
ことを特徴とする。

【００２１】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第５の態様は、インクジェットノズルを清浄化
する工程と、透明電極が形成された透明基板上に前記イ
ンクジェットノズルを用いて配向膜材料の溶液を噴射塗
布し、前記溶液の膜を前記基板上に形成する工程と、を
備えていることを特徴とする。

【００２２】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第６の態様は、第５の態様の形成方法におい
て、前記清浄化する工程は、前記配向膜材料の溶液の溶
媒を用いることを特徴とする。

【００２３】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第７の態様は、第１または第２の態様の形成方
法において、前記配向膜材料を塗布する前に前記インク
ジェットノズルを清浄化することを特徴とする。

【００２４】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第８の態様は、透明電極が形成された透明基板
上以外の場所でインクジェットノズルを用いて配向膜材
料の溶液を噴射する工程と、前記インクジェットノズル
を用いて前記透明基板上に前記配向膜材料の溶液を噴射
塗布することにより前記溶液の膜を前記基板上に形成す
る工程と、を備えていることを特徴とする。

【００２５】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第９の態様は、透明電極が形成された透明基板
上にインクジェットノズルを用いて配向膜材料を塗布す
ることによって配向膜を形成する液晶表示素子の配向膜
形成方法において、少なくとも２個のインクジェットノ
ズルを用意し、１個のインクジェットノズルによって配
向膜の形成された前記透明基板の枚数が所定値に達した
場合に、他のインクジェットノズルに交換することを特
徴とする。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１乃至図
７を参照して説明する。図１は本発明による液晶表示素
子の配向膜形成方法の第１の実施の形態の形成工程を示
すフローチャート、図２はこの実施の形態の形成方法を
実施する装置の一具体例の構成図である。

【００２７】まず、透明電極が形成されたガラス基板２
０を中性洗剤を用いて洗浄後、１２０℃で２０分間乾燥
させる。この乾燥させたガラス基板２０の表面に、配向
膜材料、例えばＡＬ−１０５１（商品名（日本合成ゴム
社製））の２．０重量％溶液を噴射塗布することによっ
て配向膜を形成する（図１のステップＦ１参照）。この
溶液の塗布は３０孔のピエゾ式インクジェットノズルを
用い、配向膜材料の供給量が０．０５ｍｌ／ｍｉｎ、塗
布時間５秒（基板２０のサイズが１０．４インチの場
合）の条件下で行う。

【００２８】次に配向膜が形成された基板２０を図２に
示すようにゲージングピン６によって押圧することによ
りステージ２上に固定する。この固定は、基板２０上の
四隅に形成されている合わせマーク２５をＣＣＤカメラ
４で撮影し、このＣＣＤカメラ４の映像信号に基づいて
行う。

【００２９】基板２０が固定されたステージ２はレール
１７ａ、１７ｂ上を、図示しない駆動装置によって図面
上で右から左に移動させられる。そして、ステージ２上
の基板２０の先端が干渉膜厚計測装置８に到達すると、
基板２０上に形成された配向膜の膜厚が干渉膜厚計測装
置８によって測定される（図１のステップＦ２参照）。

【００３０】この干渉膜厚計測装置８はステージ２の進
行方向と直交する位置に、形成すべき液晶表示素子の画
素ピッチ（例えば１００μｍ）にほぼ等しい間隔で一列
に配置された複数個の膜厚計測素子８ａを有している。
そして膜厚の測定は図３（ａ）に示すように、ステージ
２上に固定された基板２０の表面に形成された配向膜２
２に膜厚計測素子８ａから光を照射する。そして配向膜
２２の表面からの反射光と、配向膜２２と基板２０との
界面からの反射光との干渉を観測することによって配向
膜２２の膜厚の計測が行われる。なお、基板２０の移動
方向の測定ピッチは画素ピッチにほぼ等しくなるように
して行う。

【００３１】この計測結果は図示しないコンピュータに
送られ、計測された膜厚が所定値未満となる箇所がある
かどうか判定される（図１のステップＦ３参照）。膜厚
が所定値未満となる箇所がある場合には膜厚不良位置が
上記コンピュータによって計算され（図１のステップＦ
４参照）、この計算結果はインクジェットノズル駆動部
１０に送られる。

【００３２】インクジェットノズル駆動部１０は上記計
算結果に基づいてインクジェットノズル９を、膜厚不良
と判定された箇所上に移動する。なおノズル９はステー
ジ２の進行方向と直交する方向に移動可能なように構成
されている。

【００３３】そして、インクジェットノズル９が配向膜
材料を基板２０上の膜厚不良箇所に噴射することにより
（図３（ｂ）参照）、膜厚が不良と判定された箇所を補
修する（図１のステップＦ５参照）。

【００３４】補修された基板２０は干渉膜厚計測装置１
２に送られ、膜厚が再測定される（図１のステップＦ６
参照）。なお、干渉膜厚計測装置１２は干渉膜厚計測装
置８と同一の構成となっている。そしてこの測定結果
は、上記図示しないコンピュータに送られ、測定された
膜厚が所定値未満となる箇所があるかどうか判定される
（図１のステップＦ７参照）。

【００３５】膜厚が所定値未満となる箇所がある場合に
は基板２０はステージ２から取外され回収される（図１
のステップＦ９参照）。膜厚が所定値未満となる箇所が
ない場合には膜厚が厚過ぎる箇所があるかどうかが上記
コンピュータにおいて判定され（図１のステップＦ８参
照）、厚過ぎる箇所がある場合にはステップＦ９に進み
回収される。膜厚が所定の範囲にある場合にはステップ
Ｆ１０に進む。

【００３６】なお、ステップＦ３、すなわち、干渉膜厚
計測装置８において計測された膜厚が所定値以上の場合
には、ステップＦ８に進み上述の工程が行われる。この
場合、基板２０はインクジェットノズル駆動部１０、干
渉膜厚計測装置１２を単に通過するのみとなる。

【００３７】ステップＦ１０においては、基板２０上に
形成された配向膜２２内の溶媒（例えばγ−ブチルラク
トン）を除去する。この溶媒の除去は１００℃で１５秒
間の乾燥処理を行った後に、１８０℃で３０分間の加熱
焼成処理を行うことによって達成される。

【００３８】本実施の形態の形成方法を用いて配向膜を
形成した液晶表示素子の構成断面図を図４に示す。この
液晶表示素子はまず、ＴＦＴ３２、透明電極３３が形成
されたガラス基板３１ａ上に本実施の形態の製造方法に
よって配向膜３８ａが形成される。また遮光膜３４およ
び着色層３５が形成されたガラス基板３１ｂ上にオーバ
コート層３６が形成され、このオーバーコート層３６上
に透明電極３７が形成される。続いて透明電極３７が形
成されたガラス基板３１ｂ上に本実施の形態の形成方法
にって配向膜３８ｂを形成する。

【００３９】このようにして形成された配向膜３８ａ、
３８ｂにラビング処理を施し、液晶分子が９０度捩れる
ように配向膜３８ａ、３８ｂ同士を内側にしてスペーサ
４０を介してガラス基板３１ａ、３１ｂを対向配置す
る。そしてシール剤３９により周囲をシールし、液晶組
成物４１を封入する。なお液晶組成物としてはＺＬＩ−
１１３２（E.Merck 社製）を用いた。ガラス基板３１
ａ、３１ｂの外側の表面には偏光板４２ａ、４２ｂが貼
着され、更に偏光板４２ａの外側にはバックライト４５
が設けられている。またガラス基板３１ａ上には外部電
源との接続を取るためのＴＡＢ（Tape Automated Bondi
ng）配線４４が設けられている。

【００４０】このようにして構成された液晶表示素子の
液晶のプレチルト角は約１．５度であった。そしてプレ
チルトの方向はラビング方向に従う方向であった。また
液晶の配向を調べたところ、９０度捩れた均一な配向が
実現されていることが確認された。

【００４１】また上記液晶表示素子を駆動してその表示
性能を検証したところ、液晶配向膜の膜厚の異常に起因
するような表示不良のない、良好な表示が得られた。

【００４２】また、配向膜の形成にインクジェット方式
を用いているため、配向膜材料の使用効率は約７０％程
度と高く、配向膜材料の供給系に残留したもの以外は全
て有効に成膜に用いられていることが分かった。

【００４３】なお、参考までに本実施の形態の形成方法
において、配向膜の補修工程を行わないで配向膜を形成
した場合には、膜厚が均一でないものが１〜２％の割合
で出現した。なお、本実施の形態の形成方法を用いた場
合は膜厚が均一でないものの出現率はほぼ零％であっ
た。

【００４４】なお、本実施の形態の形成方法において
は、配向膜の膜厚測定に干渉計を用いたが他の方式の膜
厚計測装置を用いても良い。例えば、配向膜が形成され
た基板に斜め方向から光を照射し、配向膜の表面をＣＣ
Ｄカメラで撮影し、このＣＣＤカメラの出力信号に基づ
いて配向膜の膜厚を求めても良い。

【００４５】また、本実施の形態の形成方法において
は、配向膜の補修は、配向膜の乾燥前に行ったが、乾燥
後に行っても良い。なお乾燥前に補修を行ったほうが補
修後の配向膜の平坦性が良好となる。

【００４６】また本実施の形態の形成方法においては、
図１に示すステップＦ１における配向膜の形成はインク
ジェット方式を用いたが、他の方式、例えばオフセット
印刷方式を用いても良い。ただし、オフセット印刷方式
を用いた場合は配向膜材料の使用効率は１０％程度とな
り、インクジェット方式を用いた場合に比べて使用効率
はかなり悪くなる。

【００４７】次に本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第２の実施の形態を図５を参照して説明する。
この実施の形態の形成方法は、図５に示すようにライン
型のインクジェットノズル７を用いて、配向膜材料の溶
液１１を基板上に噴射塗布して基板上に上記溶液１１の
膜を基板上に形成する前に、上記インクジェットノズル
７を清浄化するものである。この清浄化はインクジェッ
トノズル７を塗布ポジション（上記溶液を塗布する位
置）から洗浄ポジションに移動させて上記溶液の溶媒が
染み込んだ無塵布１３でインクジェットノズル７を拭う
ことによって行われる。この清浄化を行った後にインク
ジェットノズル７を塗布ポジションに戻し、インクジェ
ットノズル７の供給口７ａから配向膜材料の溶液１１を
注入してこの溶液１１を基板（図示せず）に噴射塗布
し、基板上に上記溶液１１の膜を形成する。続いて上記
膜が形成された基板を１００℃で１５秒間乾燥させた
後、１８０℃で３０分間加熱することにより上記膜中の
溶媒を除去し、基板上に配向膜を形成する。

【００４８】この第２の実施の形態の形成方法において
は噴射塗布する前にインクジェットノズル７を配向膜材
料の溶媒を用いて清浄化するため、インクジェットノズ
ルの目詰まりによる塗布不良を防止することが可能とな
り、均一な膜厚の配向膜を得ることができ、これにより
表示性能の低下を防止することができる。

【００４９】なお、上記第２の実施の形態の形成方法に
おいては、単一のインクジェットノズルが一列に配置さ
れたライン型インクジェットノズルを用いたが単一のイ
ンクジェットノズルを用いても良いことは云うまでもな
い。

【００５０】なお、第２の実施の形態の形成方法におい
ては、インクジェットノズルの清浄化する工程は、１枚
の基板毎に行ったが、複数枚の基板に配向膜材料の溶液
を噴射塗布した後に行っても良い。

【００５１】また、上記清浄化する工程は、図１に示す
第１の実施の形態の形成方法において、ステップＦ１お
よびステップＦ５のうちの少なくとも一方のステップを
行う前に用いることも可能である。

【００５２】次に本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第３の実施の形態を図６を参照して説明する。
この実施の形態の形成方法は、図６に示すようにライン
型のインクジェットノズル７を用いて配向膜材料の溶液
を基板上に噴射塗布して基板上に上記溶液の膜を基板上
に形成する前に、捨て打ち工程を行うものである。この
捨て打ち工程はインクジェットノズル７を塗布ポジショ
ンから捨て打ちポジションに移動させ、配向膜材料の溶
液の捨て打ちを行うものである。そしてこの捨て打ち行
った後にインクジェットノズル７を塗布ポジションに戻
し、インクジェットノズル７の供給口７ａから配向膜材
料の溶液１１を注入してこの溶液１１を基板（図示せ
ず）に噴射塗布し、上記基板上に上記溶液１１の膜を形
成する。続いて上記膜が形成された基板を１００℃で１
５秒間乾燥させた後、１８０℃で３０分間加熱すること
により、上記膜中の溶媒を除去し、基板上に配向膜を形
成する。

【００５３】この第３の実施の形態の形成方法も第２の
実施の形態の形成方法と同様の効果を有することは云う
までもない。

【００５４】なお、上記第３の実施の形態の形成方法に
おいては、ライン型インクジェットノズルを用いたが、
単一のインクジェットノズルを用いても良いことは云う
までもない。

【００５５】また上記第３の実施の形態の形成方法のよ
うに噴射塗布する前に捨て打ちを行う工程は、図１に示
す第１の実施の形態の形成方法において、ステップＦ１
およびステップＦ５のうちの少なくとも一方のステップ
を行う前に実施しても良い。

【００５６】なお、第３の実施の形態の形成方法におい
ては、インクジェットノズルの捨て打ち工程は１枚の基
板毎に行ったが、複数枚の基板に配向膜材料の溶液を噴
射塗布した後に行っても良い。

【００５７】また第２および第３の実施の形態の形成方
法の清浄化工程と捨て打ち工程を組み合せて行っても良
い。

【００５８】次に本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第４の実施の形態を図７を参照して説明する。
この実施の形態の形成方法は、図７に示すように配向膜
材料の溶液を噴射塗布するインクジェットノズル７₁ 、
７₂ を複数個備え、１個のインクジェットノズル７₁ を
用いて所定枚数の基板２０に噴射塗布した後は、他のイ
ンクジェットノズル７₂ を用いて上記溶液を基板２０に
噴射塗布し、上記溶液の膜を形成するものである。なお
インクジェットノズルの交換は例えば基板２０のサイズ
が１０．４インチの場合は２００枚の塗布が終了した後
に行う。なお、交換されたインクジェットノズル７₁ は
目詰まりの有無が点検され、必要ならば第２の実施の形
態の清浄化工程が行われる。

【００５９】この第４の実施の形態の形成方法によれ
ば、所定枚数の基板２０に噴射塗布したインクジェット
ノズルは他のインクジェットノズル７₂ に交換されるた
め、インクジェットノズルの目詰まりが発生するのを可
及的に防止することが可能となり、均一な膜厚の配向膜
を得ることができ、これにより表示性能の低下を可及的
に防止することができる。

【００６０】なお、第４の実施の形態の形成方法におい
て、インクジェットノズルの交換はインクジェットノズ
ルの目詰まりを検出した時点で行っても良い。

【００６１】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、膜厚
を均一にすることが可能となり、表示性能の低下を可及
的に防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
第１の実施の形態の工程を示すフローチャート。

【図２】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
第１の実施の形態を実現する装置の一具体例の構成を示
す斜視図。

【図３】図２に示す装置の動作を説明する説明図。

【図４】図１に示す実施の形態の形成方法を用いて配向
膜が形成された液晶表示素子の構成断面図。

【図５】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
第２の実施の形態を説明する説明図。

【図６】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
第３の実施の形態を説明する説明図。

【図７】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
第４の実施の形態を説明する説明図。

【図８】オフセット印刷方式による配向膜の形成を説明
する説明図。

【図９】オフセット印刷方式の問題点を説明する説明
図。

【符号の説明】

２ ステージ ４ ＣＣＤカメラ ６ ゲージングピン ７ ライン型インクジェットノズル ７ａ 供給口 ８ 干渉膜厚計測装置 ８ａ 干渉膜厚計測素子 ９ インクジェットノズル １０ インクジェットノズル駆動部 １１ 配向膜材料の溶液 １２ 干渉膜厚計測装置 １３ 溶媒が染み込んだ無塵布 １７ａ、１７ｂ レール ２０ 基板 ２２ 配向膜 ２５ 合わせマーク ３１ａ、３１ｂ ガラス基板 ３２ ＴＦＴ ３３ 透明電極 ３４ 遮光膜 ３５ 着色層 ３６ オーバーコート層 ３７ 透明電極 ３８ａ、３８ｂ 配向膜 ３９ シール剤 ４０ スペーサ ４１ 液晶組成物 ４２ａ、４２ｂ 偏光板 ４４ ＴＡＢ配線 ４５ バックライト ５０ ノズル ５１ ドクタローラ ５２ アニロックスローラ ５３ 版胴 ５４ 印刷版 ６０ 異物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 誠 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 秋 吉 宗 治 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明電極が形成された透明基板上に配向膜
   材料を塗布することによって配向膜を成膜する工程と、 塗布された前記配向膜の膜厚を計測する工程と、 計測された前記膜厚が所定値未満の場合に、インクジェ
   ットノズルを用いて配向膜材料を塗布することにより前
   記配向膜の膜厚が所定値未満の箇所を補修する工程と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の配向膜形
   成方法。
2. 【請求項２】前記配向膜材料を塗布することによって成
   膜する工程はインクジェットノズルを用いて行うことを
   特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の配向膜形成方
   法。
3. 【請求項３】前記配向膜の膜厚を計測する工程は干渉計
   を用いて行うことを特徴とする請求項１または２記載の
   液晶表示素子の配向膜形成方法。
4. 【請求項４】前記補修する工程の後に乾燥処理を行って
   前記配向膜の溶媒を除去する工程を備えていることを特
   徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶表示素
   子の配向膜形成方法。
5. 【請求項５】透明電極が形成された透明基板上に配向膜
   材料を塗布する手段と、 塗布された配向膜材料の膜厚を計測する手段と、 前記計測する手段の出力に基づいて前記計測された膜厚
   が所定値未満となっている箇所を検出する手段と、 前記検出する手段の検出出力に基づいて前記膜厚が所定
   値未満となっている箇所にインクジェットノズルを用い
   て配向膜材料を塗布することにより配向膜の膜厚を補修
   する手段と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の配向膜形
   成装置。
6. 【請求項６】前記配向膜材料を塗布する手段はインクジ
   ェットノズルを有していることを特徴とする請求項５記
   載の液晶表示素子の配向膜形成装置。
7. 【請求項７】前記膜厚を計測する手段は干渉計であるこ
   とを特徴とする請求項５又は６記載の液晶表示素子の配
   向膜形成装置。
8. 【請求項８】前記補修された配向膜を乾燥処理すること
   によって前記配向膜材料の溶媒を除去する手段を更に備
   えていることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに
   記載の液晶表示素子の配向膜形成装置。
9. 【請求項９】インクジェットノズルを清浄化する工程
   と、 透明電極が形成された透明基板上に前記インクジェット
   ノズルを用いて配向膜材料の溶液を噴射塗布し、前記溶
   液の膜を前記基板上に形成する工程と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の配向膜形
   成方法。
10. 【請求項１０】前記清浄化する工程は、前記配向膜材料
    の溶液の溶媒を用いることを特徴とする請求項９記載の
    液晶表示素子の配向膜形成方法。
11. 【請求項１１】前記配向膜材料を塗布する前に前記イン
    クジェットノズルを清浄化することを特徴とする請求項
    １または２記載の液晶表示素子の配向膜形成方法。
12. 【請求項１２】透明電極が形成された透明基板上以外の
    場所でインクジェットノズルを用いて配向膜材料の溶液
    を噴射する工程と、 前記インクジェットノズルを用いて前記透明基板上に前
    記配向膜材料の溶液を噴射塗布することにより前記溶液
    の膜を前記基板上に形成する工程と、を備えていること
    を特徴とする液晶表示素子の配向膜形成方法。
13. 【請求項１３】透明電極が形成された透明基板上にイン
    クジェットノズルを用いて配向膜材料を塗布することに
    よって配向膜を形成する液晶表示素子の配向膜形成方法
    において、 少なくとも２個のインクジェットノズルを用意し、１個
    のインクジェットノズルによって配向膜の形成された前
    記透明基板の枚数が所定値に達した場合に、他のインク
    ジェットノズルに交換することを特徴とする液晶表示素
    子の配向膜形成方法。