JPH09129811A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

Info

Publication number
JPH09129811A
JPH09129811A JP7281873A JP28187395A JPH09129811A JP H09129811 A JPH09129811 A JP H09129811A JP 7281873 A JP7281873 A JP 7281873A JP 28187395 A JP28187395 A JP 28187395A JP H09129811 A JPH09129811 A JP H09129811A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
island
film material
semiconductor device
resin
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7281873A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuichiro Mori
隆一郎 森
Shunichi Abe
俊一 阿部
Tatsuhiko Akiyama
龍彦 秋山
Michitaka Kimura
通孝 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7281873A priority Critical patent/JPH09129811A/ja
Priority to US08/629,149 priority patent/US5659199A/en
Priority to DE19618976A priority patent/DE19618976C2/de
Priority to KR1019960017588A priority patent/KR100229520B1/ko
Priority to CN96108109A priority patent/CN1061784C/zh
Publication of JPH09129811A publication Critical patent/JPH09129811A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49503Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49503Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
    • H01L23/49513Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad having bonding material between chip and die pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/27Manufacturing methods
    • H01L2224/27011Involving a permanent auxiliary member, i.e. a member which is left at least partly in the finished device, e.g. coating, dummy feature
    • H01L2224/27013Involving a permanent auxiliary member, i.e. a member which is left at least partly in the finished device, e.g. coating, dummy feature for holding or confining the layer connector, e.g. solder flow barrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/3205Shape
    • H01L2224/32057Shape in side view
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83385Shape, e.g. interlocking features
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15151Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージクラックの発生がほとんど無く、
しかも製造コストの安価な樹脂封止型半導体装置を提供
する。 【解決手段】 リードフレームのアイランドの半導体素
子が載置される部分に複数のスルーホールが形成され、
前記半導体素子は樹脂製フィルム材により前記アイラン
ドに接着されている。また、前記フィルム材は、その各
辺の寸法が、半導体素子の各辺の寸法よりも、少なくと
も0.5mm以上短く形成されているのがよい。また、
前記複数のスルーホールは、互いの間隔が少なくとも
1.0mm以下に近づけられて形成されているのがよ
い。さらに、本発明においては、前記フィルム材の弾性
率は、200°Cの温度下で10MPa以下であるのが
よい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、リードフレーム
のアイランドに半導体素子が載置され、それらが樹脂で
封止されて成る樹脂封止型半導体装置に係るものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来の樹脂封止型半導体装置では、金属
製のアイランドと封止樹脂との間の剥離によるパッケー
ジクラックの発生が大きな問題とされている。そのた
め、従来より、このパッケージクラックを防ぐための様
々な提案が行われている。図4はその一例を示すもの
で、図において、1はリードフレームのアイランド、2
は半導体素子、3は半導体素子2をアイランド1に接着
するための半田、4はアイランド1の裏面に多数形成さ
れたディンプルである。この図4に示す例では、多数の
ディンプル4により封止樹脂(図示せず)に対するアン
カー効果が生じるので、アイランド1と封止樹脂のと剥
離がかなり発生し難くなり、パッケージクラックもある
程度防ぐことができるようになる。しかし、この半導体
装置では、ディンプル4の形成はエッチング方法でしか
できないため、アイランド1を含むリードフレームの製
造コストが高くなってしまうという問題がある。
【0003】そこで、従来より、図5に示すように、ア
イランド1に複数のスルーホール5を形成することによ
り、アイランド1と封止樹脂(図示せず)との間でアン
カー効果を発揮させるようにした半導体装置も提案され
いる(例えば、特開昭56−104459号公報、特開
昭63−249341号公報、特開平2−246359
号公報など)。このアイランド1に複数のスルーホール
5を形成した半導体装置では、これらのスルーホール5
の形成はパンチング法で可能であるので、リードフレー
ムも低コストで製造することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の半導体装置では、半導体素子2をアイランド
1に接着する材料としてペースト材6又は半田を用いる
と、図5に示すように、ペースト材6又は半田がアイラ
ンド1のスルーホール5に埋ってしまい、封止樹脂がス
ルーホール5を充填しなくなる、その結果、スルーホー
ル5によるアンカー効果が得られなくなる、という問題
がある。
【0005】また、上記のペースト材6又は半田がアイ
ランド1のスルーホール5に埋ってしまうことを防ぐた
め、従来より、アイランド1の半導体素子2が載せられ
ない周辺部分にのみスルーホール5を形成するようにし
た半導体装置も知られている。しかしながら、このよう
な半導体装置では、アイランド1の半導体素子2の裏面
に対応する部分にはスルーホールが形成されないため、
このアイランド1のスルーホールが形成されていない部
分と封止樹脂との間で剥離が生じやすいという問題があ
る。
【0006】また、従来より、アイランド1に、スルー
ホール5を、互いの間隔を比較的広く確保して形成し、
その確保した間隔のスペースに前記ペースト材6又は半
田を点在させることにより、ペースト材6又は半田が前
記スルーホール5に埋まらないようにした半導体装置も
知られている。しかし、この半導体装置では、スルーホ
ール5間の間隔を比較的広くとる必要があるため、スル
ーホール5の数が少なくなり、封止樹脂とアイランド1
との剥離が生じやすくなる。また、スルーホール5に入
り込んだ封止樹脂が半導体素子2の裏面に直接に接する
ことになり、半導体素子2の裏面と封止樹脂との間の剥
離が生じやすくなり、パッケージクラックが生じやすく
なる、という問題もある。
【0007】本発明はこのような従来技術の課題に着目
してなされたもので、パッケージクラックの発生を抑え
ることができ、しかも製造コストを安価にすることがで
きる、樹脂封止型半導体装置を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記のような課題を解決
するための本発明による樹脂封止型半導体装置は、リー
ドフレームのアイランドの半導体素子が載置される部分
に複数のスルーホールが形成され、前記半導体素子は樹
脂製フィルム材により前記アイランドに接着されている
ことを特徴としている。
【0009】また、本発明においては、前記フィルム材
は、その各辺の寸法が、半導体素子の各辺の寸法より
も、少なくとも0.5mm以上短く形成されているのが
よい。
【0010】また、本発明においては、前記複数のスル
ーホールは、互いの間隔が少なくとも1.0mm以下に
近づけられて形成されているのがよい。
【0011】また、本発明においては、前記フィルム材
の弾性率は、200°Cの温度下で10MPa以下であ
るのがよい。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明による樹脂封止型半導体装
置では、半導体素子のアイランドへの接着を樹脂製フィ
ルム材により行っているので、アイランドに多数のスル
ーホールを狭ピッチで最密に形成しても、従来のように
ペースト材や半田がスルーホールに入り込むことがなく
なる。よって、アイランドに多数のスルーホールを最密
に形成することができるので、アイランドと封止樹脂と
の剥離を少なくしてパッケージクラックの発生を抑える
ことができるようになる。また、半導体素子とアイラン
ドとの間にフィルム材を介在させているので、従来のよ
うに半導体素子の裏面と封止樹脂とが直接に接して両者
間が剥離しやすくなるということがなくなる。さらにま
た、この半導体素子とアイランドとの間に介在させたフ
ィルム材は樹脂製なので、このフィルム材と封止樹脂と
間の界面接着力が増大し、両者間の剥離の発生が大幅に
減少し、パッケージクラックが大幅に減少するようにな
る。また、アイランドにディンプルでなくスルーホール
を形成するようにしているので、アイランド(リードフ
レーム)をコストの安いパンチング方法で製造すること
ができるようになる。
【0013】また、本発明において、前記フィルム材の
各辺の寸法を、半導体素子の各辺の寸法よりも少なくと
も0.5mm以上短く形成するようにすることにより、
フィルム材の半導体素子との接着面からはみ出す部分
(縁部)がアイランドから剥がれて行きアイランドと半
導体素子との接着性が悪化してしまうことが、防止され
るようになる。
【0014】また、本発明において、前記複数のスルー
ホールを、互いの間隔が少なくとも1.0mm以下とな
るように近づけて最密に、多数形成するようにすれば、
スルーホールによるアンカー効果が増大し、封止樹脂が
吸湿している場合でも、封止樹脂とアイランドとの剥離
が防止できるようになる。
【0015】また、本発明において、前記フィルム材の
弾性率を、200°Cの温度下で10MPa以下とする
ようにすれば、シリコン系の半導体素子の熱膨張係数と
銅系合金製のアイランドの熱膨張係数との差はこのフィ
ルム材で吸収されるようになり、従来の半導体装置にお
いて半導体素子とアイランドとの熱膨張係数の差により
生じていた反りの発生が、防止されるようになる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図1は、本実施例による樹脂封止型半導体装置の半
導体素子を載置するためのアイランドを示す平面図、図
2は図1のアイランドに半導体素子を接着した例を示す
断面図である。図1及び図2において、2は半導体素
子、11はアイランド、15はスルーホールである。こ
の本実施例では、図2に示すように、半導体素子2とア
イランド11は、表面が平坦で厚みが均一な樹脂製フィ
ルム材12で接着されている。
【0017】このフィルム材12として、この本実施例
では、例えば次のようなものを使用している。すなわ
ち、図2のフィルム材12は、厚さが約25μmであ
り、銀フィラーを含有しているが、非導電性である。こ
のフィルム材12は一層構造であり、熱硬化の特性を保
持し、フィルム表面及び裏面に接着性を有する。このフ
ィルム材12に半導体素子2をダイボンドするときは、
フィルム材12を約230℃前後に加熱し、約50gの
荷重で押さえ付けることによって接着を確保するように
している。この他に、フィルム材12として、銀フィラ
ー含有率を増加させることにより導電性を確保したも
の、一層構造でなく基材の両表面に接着層を有する三層
構造のもの、熱硬化性ではなく熱可塑性の特性を有する
樹脂成分のもの、等の仕様のものを使用することも可能
である。また、この本実施例では、前記フィルム材12
として、例えば特開平6−145639号公報に開示さ
れているような、接着時の熱処理を従来の銀ペーストと
同じように比較的低温で行うことができるダイボンド用
導電性接着フィルムを使用してもよい。
【0018】また本実施例では、図2に示すように、フ
ィルム材12の各辺の長さlは、半導体素子2の各辺の
長さLよりも小さく形成されている。これは、フィルム
材12の各辺の長さが半導体素子2のそれよりも大きい
と、図3に示すように、フィルム材12の半導体素子2
の接着面からはみ出した部分12aがアイランド11か
ら剥がれてしまい、半導体素子2とアイランド12の接
着性が悪化してしまうからである。本実施例において
は、通常、半導体素子2の位置精度は±0.1mm、フ
ィルム材12の位置精度は±0.2mm程度であるの
で、片側(0.12+0.221/2=0.22mmの相
対ズレが発生することから、両側で0.5mm(>0.
22mm×2)以上、フィルム材12の各辺の長さを半
導体素子2の各辺の長さよりも小さくするようにしてい
る。
【0019】また本実施例では、スルーホール15間の
距離d(図1参照)は、1.0mm以下としている。こ
の距離dが1.0mmより大きくなると、ユーザーがこ
の半導体装置を基板に実装するときに、封止樹脂が吸湿
していると、アイランド11の裏面から封止樹脂が剥離
し、パッケージクラックを生じることがあるからであ
る。
【0020】また、本実施例では、スルーホール15の
径D(図1参照)は、1.0mm以下としている。この
径Dが1.0mmよりも大きくなると、フィルム材12
がスルーホール15内に垂れ下がってしまい、フィルム
材12と半導体素子2の間に気泡が入ってしまうからで
ある。
【0021】さらにこの本実施例では、特にアイランド
11が銅系合金でできている場合、半導体素子2のシリ
コンの熱膨張係数(約3.5×10-6 1/°C)と、
リードフレームを形成する銅合金の熱膨張係数(約17
×10-6 1/°C)とが、互いに大きく異なっている
ため、接合後の温度変化により反りを生じることがある
(例えば特公平5−79173号公報の図5参照)。そ
こで、この反りの発生を防ぐため、本実施例では、フィ
ルム材12を、その弾性率が200°Cの高温下で10
MPa以下であるように形成するようにしている。フィ
ルム材12の高温(200℃)での弾性率が10Mpa
以下であれば、表1に示すように、フィルム材12がシ
リコンと銅系合金との熱膨張係数の差を吸収してくれる
ので、半導体装置の接合後の温度変化に伴う反りを抑え
ることが可能になる。
【0022】
【表1】
【0023】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、アイラ
ンド全面に最密に(狭ピッチで)スルーホールを設け、
半導体素子とアイランドを樹脂製のフィルム材で接着し
ているので、アイランド(リードフレーム)をコストの
安いパンチング方法で製造することができ、しかもパッ
ケージクラックに強い樹脂封止型半導体装置を得られる
ようになる。
【0024】また、前記フィルム材の各辺の寸法を、半
導体素子の各辺の寸法よりも少なくとも0.5mm以上
短く形成するようにすることにより、フィルム材の半導
体素子の接着面からはみ出した部分がアイランドから剥
がれて行き半導体素子とアイランドとの接着性が悪化し
てしまうことが、防止されるようになる。
【0025】また、前記複数のスルーホールを、互いの
間隔が少なくとも1.0mm以下となるように近づけて
最密に、多数形成するようにすれば、スルーホールによ
るアンカー効果が増大し、封止樹脂が吸湿している場合
でも、封止樹脂とアイランドとの剥離が防止できるよう
になる。
【0026】また、前記フィルム材の弾性率を、200
°Cの温度下で10MPa以下とするようにすれば、半
導体素子の熱膨張係数と銅系合金のアイランドの熱膨張
係数との差をこのフィルム材で吸収できるようになり、
従来の半導体装置において半導体素子とアイランドとの
熱膨張係数の差により生じていた反りの発生が、防止さ
れるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例による樹脂封止型半導体装
置のアイランドを示す平面図である。
【図2】 本実施例による樹脂封止型半導体装置の断面
図である。
【図3】 本実施例による樹脂封止型半導体装置におい
て、フィルム材の各辺の寸法を半導体素子の各辺の寸法
よりも大きくしたときの不具合を説明するための断面図
である。
【図4】 従来のディンプルが形成されたアイランドを
有する樹脂封止型半導体装置の断面図である。
【図5】 従来のスルーホールが形成されたアイランド
を有する樹脂封止型半導体装置の断面図である。
【符号の説明】
2 半導体素子. 11 アイランド. 12 フィル
ム材.15 スルーホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋山 龍彦 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 木村 通孝 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームのアイランドに半導体素
    子が載置され、それらが樹脂で封止されて成る樹脂封止
    型半導体装置において、 前記アイランドの半導体素子が載置される部分に複数の
    スルーホールが形成され、前記半導体素子は樹脂製フィ
    ルム材により前記アイランドに接着されている、樹脂封
    止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の樹脂封止型半導体装置におい
    て、前記フィルム材は、その各辺の寸法が、半導体素子
    の各辺の寸法よりも、少なくとも0.5mm以上短く形
    成されている、樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2の樹脂封止型半導体装置
    において、前記複数のスルーホールは、互いの間隔が少
    なくとも1.0mm以下となるように近づけられて形成
    されている、樹脂封止型半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1、2又は3の樹脂封止型半導体
    装置において、前記フィルム材の弾性率は、200°C
    の温度下で10MPa以下である、樹脂封止型半導体装
    置。
JP7281873A 1995-10-30 1995-10-30 樹脂封止型半導体装置 Pending JPH09129811A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7281873A JPH09129811A (ja) 1995-10-30 1995-10-30 樹脂封止型半導体装置
US08/629,149 US5659199A (en) 1995-10-30 1996-04-08 Resin sealed semiconductor device
DE19618976A DE19618976C2 (de) 1995-10-30 1996-05-10 Mit Harz abgedichtete Halbleitervorrichtung
KR1019960017588A KR100229520B1 (ko) 1995-10-30 1996-05-23 수지봉지형 반도체장치
CN96108109A CN1061784C (zh) 1995-10-30 1996-05-28 树脂密封型半导体器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7281873A JPH09129811A (ja) 1995-10-30 1995-10-30 樹脂封止型半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09129811A true JPH09129811A (ja) 1997-05-16

Family

ID=17645170

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7281873A Pending JPH09129811A (ja) 1995-10-30 1995-10-30 樹脂封止型半導体装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5659199A (ja)
JP (1) JPH09129811A (ja)
KR (1) KR100229520B1 (ja)
CN (1) CN1061784C (ja)
DE (1) DE19618976C2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006351755A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2008270237A (ja) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Steel Chem Co Ltd 半導体装置の製造方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3170182B2 (ja) 1995-08-15 2001-05-28 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
US5929511A (en) * 1996-07-15 1999-07-27 Matsushita Electronics Corporation Lead frame for resin sealed semiconductor device
US5902959A (en) * 1996-09-05 1999-05-11 International Rectifier Corporation Lead frame with waffled front and rear surfaces
US6812562B2 (en) * 1999-12-30 2004-11-02 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for surface mounted power transistor with heat sink
US6759278B2 (en) * 2000-12-22 2004-07-06 Texas Instruments Incorporated Method for surface mounted power transistor with heat sink
US7122884B2 (en) * 2002-04-16 2006-10-17 Fairchild Semiconductor Corporation Robust leaded molded packages and methods for forming the same
US6867481B2 (en) * 2003-04-11 2005-03-15 Fairchild Semiconductor Corporation Lead frame structure with aperture or groove for flip chip in a leaded molded package
JP4055158B2 (ja) * 2003-05-28 2008-03-05 ヤマハ株式会社 リードフレーム及びリードフレームを備えた半導体装置
DE102004029586A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Infineon Technologies Ag Substratbasiertes Gehäusesbauelement mit einem Halbleiter-Chip
JP4168984B2 (ja) * 2004-06-28 2008-10-22 セイコーエプソン株式会社 配線基板の形成方法
US20080157307A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Lead frame
CN102163580B (zh) * 2011-03-15 2014-10-22 上海凯虹电子有限公司 一种薄型封装体及其制作方法
CN115732453A (zh) * 2021-08-31 2023-03-03 恩智浦美国有限公司 用于改进接合的封装半导体装置、引线框和方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56104459A (en) * 1980-01-25 1981-08-20 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPS63278236A (ja) * 1987-02-18 1988-11-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH07105405B2 (ja) * 1987-04-06 1995-11-13 株式会社巴川製紙所 半導体装置
US4952999A (en) * 1988-04-26 1990-08-28 National Semiconductor Corporation Method and apparatus for reducing die stress
JP2569763B2 (ja) * 1988-10-14 1997-01-08 日立電線株式会社 半導体装置用リードフレーム
JPH02246359A (ja) * 1989-03-20 1990-10-02 Fujitsu Ltd 半導体装置
US5021864A (en) * 1989-09-05 1991-06-04 Micron Technology, Inc. Die-mounting paddle for mechanical stress reduction in plastic IC packages
JPH07111171B2 (ja) * 1989-11-02 1995-11-29 株式会社豊田自動織機製作所 連続可変容量型斜板式圧縮機
JP2515036B2 (ja) * 1990-05-09 1996-07-10 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置
JP2679365B2 (ja) * 1990-07-23 1997-11-19 松下電器産業株式会社 表裏箔接続部品
JPH053280A (ja) * 1991-06-26 1993-01-08 Hitachi Ltd 半導体装置
JP3288146B2 (ja) * 1992-09-16 2002-06-04 日立化成工業株式会社 導電性接着フィルム、接着法、導電性接着フィルム付き支持部材及び半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006351755A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2008270237A (ja) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Steel Chem Co Ltd 半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE19618976C2 (de) 2002-06-27
KR970024070A (ko) 1997-05-30
KR100229520B1 (ko) 1999-11-15
CN1149766A (zh) 1997-05-14
DE19618976A1 (de) 1997-05-07
CN1061784C (zh) 2001-02-07
US5659199A (en) 1997-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06105721B2 (ja) 半導体装置
JPH09129811A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3046024B1 (ja) リ―ドフレ―ムおよびそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JPH1012773A (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3892359B2 (ja) 半導体チップの実装方法
JP2013258354A (ja) モールドパッケージおよびその製造方法
JP4334047B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
JP2006237503A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2009099709A (ja) 半導体装置
JP3899755B2 (ja) 半導体装置
JP4979661B2 (ja) 半導体装置の製造方法
CN113257766A (zh) 半导体装置及其制造方法
JP2006286679A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS63190363A (ja) パワ−パツケ−ジ
JP3229816B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP3642545B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2954297B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2001077266A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP3482837B2 (ja) 半導体装置
JP2008311326A (ja) 半導体装置
JP3841038B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2596387B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3783497B2 (ja) 半導体素子搭載用配線テープとそれを用いた半導体装置
JP4071121B2 (ja) 半導体装置
JP3145892B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置