JPH0896711A - Phosphor pattern forming method - Google Patents

Abstract

PURPOSE: To form a phosphor pattern excellent in close adhesiveness and shape stability by applying a cross linking agent to a substrate surface, laminating a phosphor-contained photosensitive resin composition layer on this applied surface, and performing exposure through a pattern mask. CONSTITUTION: A cross linking agent is applied to a surface of a glass substrate provided with a conductive circuit of an ITO film. As this cross linking agent, any of a silane compound, aluminum compound and a titanate compound is preferable. A phosphor-contained photosensitive resin composition layer is applied by a liquid state or preformed into a film, pasted and laminated to this cross linking agent applied surface. Next on this photosensitive layer, a pattern mask is provided by dry film resist and exposed by applying an ultraviolet ray. Thereafter, the mask is removed, to perform developing by an alkali diluted water solution, further to perform burning at about 500 to 550 deg.C, and to fix a phosphor. In this way, a high accurate phosphor pattern, excellent in adhesiveness with the glass substrate and in stability of pattern shape, is formed in good workability.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、蛍光表示体用の蛍光体
パターンの形成方法に関し、更に詳しくは、プラズマデ
ィスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置、蛍光表示
装置、混成集積回路等の蛍光表示体の製造時に有用な蛍
光体パターンの形成方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a phosphor pattern for a fluorescent display, and more specifically, a fluorescent display such as a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display device, a fluorescent display device, a hybrid integrated circuit or the like. The present invention relates to a method for forming a phosphor pattern that is useful when manufacturing a body.

【０００２】[0002]

【従来の技術】最近、各種平板ディスプレイの開発が盛
んに行われており、中でもＰＤＰが注目を浴びており、
今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、各種電光
掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へとその用
途は拡大しつつある。そして、このＰＤＰの表示パネル
のセル内には、色表示のための蛍光体が塗布されてお
り、加電圧によりセル内の封入ガスで発生した紫外線で
該蛍光体が発色するのである。この蛍光体の塗布方法と
しては、各色蛍光体を分散させたフォトレジストのスラ
リー液をスクリーン印刷により塗布する方法（特開平１
−１１５０２７号公報、特開平１−１２４９２８号公
報）やセルの内部に該スラリー液を流し込む方法（特開
平２−１５５１４２号公報）等が試みられている。2. Description of the Related Art Recently, various flat panel displays have been actively developed, and among them, PDPs have attracted attention.
In the future, the application will be expanded from the display screen of a laptop computer to various electronic bulletin boards and further to a so-called "wall TV". The cells of the display panel of the PDP are coated with phosphors for color display, and the phosphors develop color by the ultraviolet rays generated by the enclosed gas in the cells due to the applied voltage. As a method of applying this phosphor, a method of applying a slurry liquid of a photoresist in which phosphors of respective colors are dispersed by screen printing (Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI-1)
-115027, JP-A-1-124928), a method of pouring the slurry liquid into the cell (JP-A-2-155142), and the like have been tried.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法では、ガラス基板に直接蛍光体含有の液状フォトレジ
ストを塗布しているため、ガラス基板と該フォトレジス
ト或いはガラス基板と現像後の蛍光体との密着性は十分
ではなく、長期間の使用或いは苛酷な使用条件において
は蛍光体の脱落の恐れがあり、その結果良好なパターン
形状が得られないという問題が生じる。However, in the above method, since the liquid photoresist containing the phosphor is directly applied to the glass substrate, the glass substrate and the photoresist or the glass substrate and the phosphor after the development are separated from each other. Adhesion is not sufficient, and the phosphor may fall off under long-term use or severe use conditions, resulting in a problem that a good pattern shape cannot be obtained.

【０００４】[0004]

【問題を解決するための手段】本発明者等は、かかる問
題点を解決すべく鋭意研究をした結果、蛍光表示体用の
蛍光体パターンを形成するにあたり、基板表面にあらか
じめ架橋剤を塗布した後、蛍光体含有感光性樹脂組成物
層を積層し、次いでパターンマスクを介して露光を行う
ことにより、ガラス基板と蛍光体含有感光性樹脂組成物
或いは現像後の蛍光体との密着性が優れ、かつ焼成によ
り形成された蛍光体のパターン形状の安定性にも優れ、
更には、該蛍光体含有感光性樹脂組成物をあらかじめフ
ォトレジストフィルムとしてから上記の如く蛍光体パタ
ーンを形成すれば、液状レジストよりも輝度のバラツキ
が少なく、パターン形成精度にも優れ、作業性も良好で
あることを見いだし、本発明を完成するに至った。以下
に、本発明を詳細に述べる。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies as a solution to such problems, and as a result, in forming a phosphor pattern for a fluorescent display, a cross-linking agent was previously applied to the substrate surface. After that, by stacking a phosphor-containing photosensitive resin composition layer and then performing exposure through a pattern mask, excellent adhesion between the glass substrate and the phosphor-containing photosensitive resin composition or the phosphor after development is excellent. Also, the stability of the pattern shape of the phosphor formed by firing is excellent,
Furthermore, if the phosphor-containing photosensitive resin composition is used as a photoresist film in advance and then the phosphor pattern is formed as described above, there is less variation in brightness than the liquid resist, excellent pattern formation accuracy, and workability. It was found to be good, and the present invention was completed. The present invention is described in detail below.

【０００５】本発明に用いる架橋剤とは、無機材料と有
機材料を化学的に結合する機能を有する化合物で、一般
的にカップリング剤と称されるもので、具体的にはシラ
ン系化合物であるシラン系カップリング剤、アルミ系化
合物であるアルミ系カップリング剤及びチタネート系化
合物であるチタネート系カップリング剤等が挙げられ、
シラン系カップリング剤としては、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、β−（３，４エポキシシクロヘキシ）
−エチルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキシシ
クロヘキシ）−エチルトリエトキシシラン等のエポキシ
シランやＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）
γ−アミノプロピルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノ
エチル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシ
ランやγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等
のメタクリロキシシランが挙げられ、アルミ系カップリ
ング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソ
プロピレートエチル等が挙げられ、チタネート系カップ
リング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイル
チタネート等が挙げられる。中でも、現像時のパターン
形状が良好な点で、エポキシシラン、アミノシラン等の
シラン系カップリング剤の使用が好ましい。The cross-linking agent used in the present invention is a compound having a function of chemically bonding an inorganic material and an organic material, which is generally called a coupling agent, specifically, a silane compound. There is a silane coupling agent, an aluminum coupling agent that is an aluminum compound, and a titanate coupling agent that is a titanate compound.
As the silane coupling agent, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β -(3,4 epoxy cyclohexyl)
-Epoxysilanes such as -ethyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxycyclohexyl) -ethyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ- Aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl)
γ-aminopropyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiethoxysilane,
Examples include aminosilanes such as γ-aminopropyltriethoxysilane and N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and methacryloxysilanes such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltriethoxysilane. Examples of the coupling agent include acetoalkoxyaluminum diisopropylate and the like, and examples of the titanate coupling agent include isopropyltriisostearoyl titanate. Above all, it is preferable to use a silane-based coupling agent such as epoxysilane or aminosilane in that the pattern shape during development is good.

【０００６】また、これらのカップリング剤は、２種類
以上併用することも可能である。本発明の蛍光体含有感
光性樹脂組成物層は、感光性樹脂組成物に蛍光体を配合
した組成物よりなるもので、該感光性樹脂組成物はベー
スポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光
重合開始剤（Ｃ）からなる。該ベースポリマー（Ａ）と
しては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂などが用いられるが、これらの中でも、
（メタ）アクリレートを主成分とし、必要に応じてエチ
レン性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノマーを
共重合したアクリル系共重合体が重要である。アセトア
セチル基含有アクリル系共重合体を用いることもでき
る。Two or more of these coupling agents can be used in combination. The phosphor-containing photosensitive resin composition layer of the present invention comprises a composition in which a phosphor is mixed with a photosensitive resin composition, and the photosensitive resin composition comprises a base polymer (A) and an ethylenically unsaturated compound. (B) and a photopolymerization initiator (C). As the base polymer (A), acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins and the like are used, and among these,
An acrylic copolymer having (meth) acrylate as a main component and optionally an ethylenically unsaturated carboxylic acid or another copolymerizable monomer is important. An acetoacetyl group-containing acrylic copolymer can also be used.

【０００７】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ートなどが例示される。Examples of the (meth) acrylic acid ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and 2
-Ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate and the like are exemplified. It

【０００８】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。稀アルカリ現像型とするときは、エチレン性不飽和
カルボン酸を１５〜３０重量％程度（酸価で１００〜２
００ｍｇKOH／ｇ程度）共重合することが必要である。
他の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテルなどが例示できる。As the ethylenically unsaturated carboxylic acid, monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid are preferably used, and in addition, dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, or their anhydrides. A thing and a half ester can also be used. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferable. When the dilute alkali developing type is used, ethylenically unsaturated carboxylic acid is contained in an amount of about 15 to 30% by weight (acid value of 100 to 2).
It is necessary to copolymerize (about 00 mgKOH / g).
Examples of other copolymerizable monomers include acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, alkyl vinyl ether and the like.

【０００９】エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの多官
能モノマーがあげられる。これらの多官能モノマーと共
に、単官能モノマーを適当量併用することもできる。As the ethylenically unsaturated compound (B),
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl Glycol di (meta)
Acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 2,2-bis (4 -(Meth) acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3-
(Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di (meth) acrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth ) Examples include polyfunctional monomers such as acrylate. An appropriate amount of a monofunctional monomer may be used together with these polyfunctional monomers.

【００１０】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。Examples of monofunctional monomers are 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate and 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate. , 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate,
Examples thereof include glycerin mono (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative, and N-methylol (meth) acrylamide.

【００１１】ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対す
るエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｂ）の過少は硬
化不良、可撓性の低下、現像速度の遅延を招き、エチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）の過多は粘着性の増大、コール
ドフロー、硬化レジストの剥離速度低下を招く。The ratio of the ethylenically unsaturated compound (B) to 100 parts by weight of the base polymer (A) is 10 to 20.
It is desirable to select from 0 part by weight, particularly 40 to 100 parts by weight. An insufficient amount of the ethylenically unsaturated compound (B) leads to poor curing, a decrease in flexibility, and a delay in the developing rate. An excessive amount of the ethylenically unsaturated compound (B) increases the tackiness, cold flow, and peeling of the cured resist. This leads to a decrease in speed.

【００１２】更に、光重合開始剤（Ｃ）としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジク
ロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−
ジエチルチオキサントン、２，２’−ジエトキシアセト
フェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２’−ジクロロ−４−フェノキシアセト
フェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロ
モフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン、などが例示される。このときの、光重合開始剤
（Ｃ）の総配合割合は、ベースポリマー（Ａ）とエチレ
ン性不飽和化合物（Ｂ）との合計量１００重量部に対し
１〜２０重量部程度とするのが適当である。Further, as the photopolymerization initiator (C), benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin phenyl ether,
Benzyl diphenyl disulfide, benzyl dimethyl ketal, dibenzyl, diacetyl, anthraquinone, naphthoquinone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, p, p′-bis (dimethylamino) benzophenone, p, p′-bis (diethylamino) ) Benzophenone, p, p'-diethylaminobenzophenone, pivaloin ethyl ether, 1,1-dichloroacetophenone, p-t-butyldichloroacetophenone, hexaarylimidazole dimer, 2,2 '
-Bis (o-chlorophenyl) 4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-
Diethylthioxanthone, 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxyacetophenone, phenylglyoxylate, α-hydroxyisobutylphenone, dibezosparone, 1 -(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1
-Propanone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, tribromophenyl sulfone, tribromomethylphenyl sulfone and the like are exemplified. At this time, the total mixing ratio of the photopolymerization initiator (C) is about 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the base polymer (A) and the ethylenically unsaturated compound (B). Appropriate.

【００１３】また、蛍光体含有感光性樹脂組成物に配合
される蛍光体（Ｄ）としては、特に限定されないが、希
土類オキシハライド等を母体とし、この母体を付活剤で
付活したものが好ましく、例えば紫外線励起型蛍光体と
しては、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）
ＢＯ₃：Ｅｕ（以上赤色）、Ｚｎ₂ＧｅＯ₂：Ｍｎ、Ｂａ
Ａｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＬａＰＯ₄：
Ｔｂ（以上緑色）、Ｓｒ₅（ＰＯ₄）₃ＣＩ：Ｅｕ、Ｂａ
ＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ（以
上青色）等が挙げられ、その他の蛍光体としては、Ｙ₂
Ｏ₃Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、（ＺｎＣ
ｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃（以上赤色）、ＺｎＳ：Ｃｕ，
Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃ
ｕ，Ａｌ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ，Ａｓ，Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：
Ｃｅ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｔｂ、Ｚｎ
Ｏ：Ｚｎ（以上緑色）、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ₂
ＳｉＯ₃：Ｃｅ（以上青色）等を使用することもでき
る。The phosphor (D) to be incorporated in the phosphor-containing photosensitive resin composition is not particularly limited, but a phosphor having a rare earth oxyhalide or the like as a base material and the base material activated with an activator is used. Preferably, for example, as the ultraviolet excitation type phosphor, Y ₂ O ₃ : Eu, YVO ₄ : Eu, (Y, Gd)
BO ₃ : Eu (above red), Zn ₂ GeO ₂ : Mn, Ba
_{Al 12 O 19: Mn, Zn} 2 SiO 4: Mn, LaPO 4:
Tb (above green), Sr ₅ (PO ₄ ) ₃ CI: Eu, Ba
MgAl ₁₄ O ₂₃ : Eu, BaMgAl ₁₆ O ₂₇ : Eu (above blue), and the like. Other phosphors include Y ₂
O ₃ S: Eu, γ-Zn ₃ (PO ₄ ) ₂ : Mn, (ZnC
d) S: Ag + In ₂ O ₃ (above red), ZnS: Cu,
Al, ZnS: Au, Cu, Al, (ZnCd) S: C
u, Al, Zn ₂ SiO ₄ : Mn, As, Y ₃ Al ₅ O ₁₂ :
Ce, Gd ₂ O ₂ S: Tb, Y ₃ Al ₅ O ₁₂ : Tb, Zn
O: Zn (above green), ZnS: Ag + red pigment, Y ₂
SiO ₃ : Ce (above blue) or the like can also be used.

【００１４】本発明の感光性樹脂組成物に蛍光体（Ｄ）
を配合させる方法としては、特に限定されず公知の方
法、例えば上記の感光性樹脂組成物に所定量の蛍光体
（Ｄ）を添加して、十分混合撹拌して蛍光体（Ｄ）を均
一に分散させる方法等がある。この場合の蛍光体（Ｄ）
の含有量は、感光性樹脂組成物中のベースポリマー
（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の総量１００重
量部に対して１〜５０重量部が好ましく、より好ましく
は１０〜３０重量部である。本発明の蛍光体含有感光性
樹脂組成物には、そのほか、染料（着色、発色）、密着
性付与剤、可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、
表面張力改質材、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃
剤、などの添加剤を適宜添加することができる。A phosphor (D) is added to the photosensitive resin composition of the present invention.
There is no particular limitation on the method of blending the above-mentioned compound, and a known method such as adding a predetermined amount of the phosphor (D) to the above-mentioned photosensitive resin composition and mixing and stirring the mixture to make the phosphor (D) uniform. There is a method of dispersing. Phosphor (D) in this case
1 to 50 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the base polymer (A) and the ethylenically unsaturated compound (B) in the photosensitive resin composition. Is. In addition to the phosphor-containing photosensitive resin composition of the present invention, other dyes (coloring, coloring), adhesion promoters, plasticizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, solvents,
Additives such as a surface tension modifier, a stabilizer, a chain transfer agent, an antifoaming agent, and a flame retardant can be added as appropriate.

【００１５】本発明の蛍光体含有感光性樹脂組成物層を
形成するにあたっては、上記の蛍光体含有感光性樹脂組
成物を液状レジストとして用いることは、勿論可能であ
るが、蛍光体の分散安定性、塗布厚の均一性、貯蔵安定
性、作業性等を考慮すれば、該樹脂組成物をあらかじめ
フィルム化して、ドライフィルムレジスト用積層体（フ
ォトレジストフィルム）としたものを用いて該組成物層
を基板表面上に形成してパターン形成に供した方が有利
である。また、該樹脂組成物を用いてパターンを形成す
るガラス基板としては、電極を配したガラス製基板、ガ
ラス隔壁を形成したガラス製基板、電極を配したセラミ
ック基板等が挙げられるが、中でもＰＤＰ製造時に用い
る電極を配したガラス製基板である所謂ＩＴＯ膜基板に
特に有用である。以下、本発明の蛍光体含有感光性樹脂
組成物を用いたドライフィルムレジスト用積層体の製造
方法及びそれを用いた蛍光体のパターン形成方法につい
て説明する。In forming the phosphor-containing photosensitive resin composition layer of the present invention, it is of course possible to use the above-mentioned phosphor-containing photosensitive resin composition as a liquid resist, but the dispersion stability of the phosphor is stable. In consideration of the properties, uniformity of coating thickness, storage stability, workability, etc., the resin composition is formed into a film in advance to obtain a dry film resist laminate (photoresist film). It is advantageous to form the layer on the surface of the substrate for patterning. Further, examples of the glass substrate for forming a pattern using the resin composition include a glass substrate having electrodes, a glass substrate having glass partition walls, a ceramic substrate having electrodes, and the like. Among them, PDP production It is particularly useful for a so-called ITO film substrate which is a glass substrate on which electrodes used at times are arranged. Hereinafter, a method for producing a dry film resist laminate using the phosphor-containing photosensitive resin composition of the present invention and a phosphor pattern forming method using the same will be described.

【００１６】（ドライフィルムレジスト用積層体の作
製）上記の蛍光体含有感光性樹脂組成物をポリエステル
フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィ
ルムなどのベースフィルム面に塗布した後、その塗布面
の上からポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール
系フィルムなどの保護フィルムを被覆してドライフィル
ムレジスト用積層体とする。この時の該感光性樹脂組成
物の膜厚は、蛍光体（Ｄ）の含有量やＰＤＰ等の構造に
よっても異なり一概に言えないが、通常は１０〜２００
μｍの中から好適に選択される。 （ガラス基板へのラミネート）本発明の最大の特徴は、
上記ドライフィルムレジストをガラス基板にラミネート
する前に、あらかじめ架橋剤（カップリング剤）を該基
板表面（ラミネート面）に塗布しておくことである。該
化合物は、水やエタノール、メタノール、イソプロピル
アルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン
等の有機溶剤に溶解又は分散された０．１〜５重量％程
度の溶液又は分散液で塗布に供され、スプレー法、スク
リーン印刷法、ロールコーター法等の公知の方法によっ
て塗布される。塗布厚みは、０．００１〜１μｍの中か
ら好適に選択される。(Preparation of Laminate for Dry Film Resist) After coating the above phosphor-containing photosensitive resin composition on the surface of a base film such as polyester film, polypropylene film, polystyrene film, etc., a polyethylene film is applied on the coated surface. Then, a protective film such as a polyvinyl alcohol film is coated to obtain a dry film resist laminate. The film thickness of the photosensitive resin composition at this time varies depending on the content of the phosphor (D) and the structure of PDP or the like and cannot be generally stated, but is usually 10 to 200.
It is preferably selected from among μm. (Lamination on glass substrate) The greatest feature of the present invention is
Before laminating the dry film resist on a glass substrate, a cross-linking agent (coupling agent) is applied to the surface (laminating surface) of the substrate in advance. The compound is sprayed by applying a solution or dispersion of about 0.1 to 5% by weight dissolved or dispersed in an organic solvent such as water, ethanol, methanol, isopropyl alcohol, benzene, toluene, xylene, or acetone. Method, screen printing method, roll coater method, or other known method. The coating thickness is suitably selected from 0.001 to 1 μm.

【００１７】（露光）ドライフィルムレジストによって
画像を形成させるには、ベースフィルムと該感光性樹脂
組成物層との接着力及び保護フィルムと該感光性樹脂組
成物層との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルム
を剥離してから該感光性樹脂組成物層の側を、例えば透
過型パネルを用いたＰＤＰの場合であれば、前面ガラス
の陽極固定面に貼り付けた後、他方のフィルム上にパタ
ーンマスクを密着させて露光する。この時必要に応じ
て、該ドライフィルムレジストを２枚以上積層すること
も可能である。また、該感光性樹脂組成物が粘着性を有
しないときは、前記他方のフィルムを剥離してからパタ
ーンマスクを該感光性樹脂組成物層に直接接触させて露
光することもできる。露光は、通常紫外線照射により行
い、その際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドラ
ンプ、ケミカルランプなどが用いられる。紫外線照射後
は、必要に応じ加熱を行って、硬化の完全を図ることも
できる。(Exposure) To form an image with a dry film resist, the adhesive force between the base film and the photosensitive resin composition layer and the adhesive force between the protective film and the photosensitive resin composition layer are compared, After peeling off the film having the lower adhesive strength, the photosensitive resin composition layer side is adhered to the anode fixing surface of the front glass, for example, in the case of a PDP using a transmission type panel, and then the other side The pattern mask is brought into close contact with the above film and exposed. At this time, two or more dry film resists can be laminated if necessary. Further, when the photosensitive resin composition does not have tackiness, the other film may be peeled off, and then the pattern mask may be brought into direct contact with the photosensitive resin composition layer for exposure. The exposure is usually carried out by irradiation with ultraviolet rays, and as the light source at that time, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp and the like are used. After irradiation with ultraviolet rays, heating can be performed as necessary to achieve complete curing.

【００１８】（現像）露光後は、レジスト上のフィルム
を剥離除去してから現像を行う。本発明の蛍光体含有感
光性樹脂組成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後
の現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ１
〜２重量％程度の稀薄水溶液を用いて行う。 （焼成）上記処理後のセル形成基板を５００〜５５０℃
で焼成を行い、セル内部に蛍光体（Ｄ）を固定する。こ
のようにして、ガラス基板上に蛍光体（Ｄ）を固定する
ことができるのである。フルカラーのＰＤＰを形成する
ためには、赤色、青色、緑色のそれぞれの蛍光体（Ｄ）
を含有するフォトレジストフィルムを用いて上記の（露
光）〜（焼成）を繰り返し行うことで作製することがで
きる。(Development) After the exposure, the film on the resist is peeled off and then developed. Since the phosphor-containing photosensitive resin composition of the present invention is a dilute alkali developing type, the development after exposure is carried out with an alkali 1 such as sodium carbonate or potassium carbonate.
It is performed using a dilute aqueous solution of about 2% by weight. (Firing) The cell-formed substrate after the above treatment is 500 to 550 ° C.
Is baked to fix the phosphor (D) inside the cell. In this way, the phosphor (D) can be fixed on the glass substrate. In order to form a full color PDP, red, blue and green phosphors (D) are used.
It can be produced by repeating the above (exposure) to (baking) using a photoresist film containing a.

【００１９】また、あらかじめガラス隔壁によってセル
が形成されたＰＤＰ用平面基板に、本発明のフォトレジ
ストフィルムを用いて蛍光体（Ｄ）を固定すること（反
射型パネル）も可能である。例えば、該ＰＤＰ用平面基
板上に本発明のフォトレジストフィルムを積層し、上部
よりセルの凹形状に合致する凸形状をもつ金型等で押圧
してセル形状に該フォトレジストフィルムを追従させた
後に上記の（露光）〜（焼成）工程により、セル内部に
蛍光体（Ｄ）を固定することができる。この時は、該フ
ォトレジストフィルムに柔軟性が要求されるためベース
フィルムあるいは保護フィルムも柔軟性に富んだポリビ
ニルアルコール、ナイロン、セルロース等のフィルムを
用いることが好ましい。Further, it is also possible to fix the phosphor (D) using the photoresist film of the present invention to a flat substrate for a PDP in which cells are formed in advance by glass partition walls (reflection type panel). For example, the photoresist film of the present invention was laminated on the flat substrate for PDP, and pressed from above with a mold or the like having a convex shape that matches the concave shape of the cell, and the photoresist film was made to follow the cell shape. After that, the phosphor (D) can be fixed inside the cell by the above steps of (exposure) to (baking). At this time, since flexibility is required for the photoresist film, it is preferable to use a flexible film such as polyvinyl alcohol, nylon, or cellulose as the base film or the protective film.

【００２０】[0020]

【作用】本発明の蛍光体パターンを形成法は、あらかじ
めシラン系化合物を塗布した基板表面に、蛍光体含有感
光性樹脂組成物層を積層し、その後パターンマスクを介
して露光するので、ガラス基板と蛍光体含有感光性樹脂
組成物或いは現像後の蛍光体との密着性が優れ、かつ焼
成により形成された蛍光体のパターン形状の安定性にも
優れ、ＰＤＰ、蛍光表示装置、混成集積回路等の蛍光表
示体の製造時に使用でき、特にＩＴＯ膜基板を用いたＰ
ＤＰの製造に大変有用である。According to the method of forming a phosphor pattern of the present invention, a phosphor-containing photosensitive resin composition layer is laminated on the surface of a substrate coated with a silane compound in advance, and then exposed through a pattern mask. And the phosphor-containing photosensitive resin composition or the phosphor after development are excellent in adhesion, and the stability of the pattern shape of the phosphor formed by baking is also excellent, and thus PDP, fluorescent display device, hybrid integrated circuit, etc. Can be used when manufacturing the fluorescent display of,
Very useful for DP production.

【００２１】[0021]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、実施例中「％」、「部」とあるのは、断り
のない限り重量基準を意味する。 実施例１ （ドープの調整）下記のベースポリマー（Ａ）４６部、
下記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）５４部、下記処方
の光重量開始剤（Ｃ）８部、下記の蛍光体（Ｄ）２６部
を混合して樹脂組成物を調製した。ベースポリマー（Ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５５／８／１５／２２である共重合体
（酸価１４３．３、ガラス転移点６６．３℃、重量平均
分子量８万）EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. In the examples, "%" and "parts" mean weight basis unless otherwise specified. Example 1 (Adjustment of dope) 46 parts of the following base polymer (A),
A resin composition was prepared by mixing 54 parts of the following ethylenically unsaturated compound (B), 8 parts of the photogravimetric initiator (C) having the following formulation, and 26 parts of the following phosphor (D). Base polymer (A) methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / 2
-A copolymer in which the copolymerization ratio of ethylhexyl acrylate / methacrylic acid is 55/8/15/22 on a weight basis (acid value 143.3, glass transition point 66.3 ° C, weight average molecular weight 80,000).

【００２２】エチレン性不飽和化合物（Ｂ） トリメチロールプロパントリアクリレート／ポリエチレ
ングリコール（６００）ジメタクリレート／エチレンオ
キサイド変性フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株
式会社製）の重量比２０／１０／６の混合物光重合開始剤（Ｃ） ベンゾフェノン／ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン／２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ルの重量比８／０．１５／１の混合物蛍光体（Ｄ） （Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ／Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ／Ｂａ
ＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺＝３３／５０／１７（重量比）
のブレンド物 （平均粒径；４±２μｍ）The mixture light weight 20/10/6 ethylenically unsaturated compound (B) trimethylolpropane triacrylate / polyethylene glycol (600) dimethacrylate / ethylene oxide-modified phthalic acid acrylate (manufactured by Kyoeisha Yushi Kogyo Co., Ltd.) Polymerization initiator (C) benzophenone / p, p′-diethylaminobenzophenone / 2,2-bis (o-chlorophenyl) 4,5,
4 ', 5'-tetraphenyl-1,2' mixture phosphor bicycloalkyl weight ratio 8 / 0.15 / 1 imidazole (D) (Y, Gd) BO 3: Eu / Zn 2 SiO 4: Mn / Ba
MgAl ₁₄ O ₂₃ : Eu ²⁺ = 33/50/17 (weight ratio)
Blend (average particle size: 4 ± 2μm)

【００２３】（ドライフィルムの作製）上記のドープ
を、ギャップ４ミルのアプリケーターを用いて厚さ２０
μｍのポリエステルフイルム上に塗工し、室温で１分３
０秒放置した後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブン
でそれぞれ３分間ずつ乾燥して、レジスト厚２０μｍの
ドライフイルムとなした（ただし保護フイルムは設けて
いない）。 （ガラス基板へのラミネート）ガラス基板（厚みが０．
１〜０．２μｍ程度の導電性回路が表面に形成されたＩ
ＴＯ膜基板，２００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍ）表面に
カップリング剤（架橋剤）としてγ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン（固形分１％のエタノール溶
液）を塗布・乾燥後オーブンで１１０℃に加熱し、６０
℃になってから、上記のドライフィルムをラミネートロ
ール温度１００℃、同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ²、ラミネ
ート速度１．５ｍ／ｓｅｃにてラミネートした。(Preparation of Dry Film) The dope described above was applied to a thickness of 20 using an applicator with a gap of 4 mils.
Coating on μm polyester film, 1 min 3 at room temperature
After leaving it for 0 second, it was dried in an oven at 60 ° C., 90 ° C. and 110 ° C. for 3 minutes each to give a dry film having a resist thickness of 20 μm (however, a protective film was not provided). (Lamination on glass substrate) Glass substrate (with a thickness of 0.
I having a conductive circuit of about 1 to 0.2 μm formed on the surface
TO film substrate, 200 mm × 200 mm × 2 mm) surface is coated with γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (ethanol solution having a solid content of 1%) as a coupling agent (crosslinking agent), dried and heated to 110 ° C in an oven. , 60
After reaching 0 ° C., the above dry film was laminated at a laminating roll temperature of 100 ° C., the same roll pressure of 3 kg / cm ² , and a laminating speed of 1.5 m / sec.

【００２４】（露光，現像）ラミネート後、全面に２０
０μｍ角上下左右２６０μｍピッチの露光部分が形成さ
れるようにパターンをレジスト表面において、オーク製
作所製の露光機ＨＭＷ−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀
灯で４０ｍｊの露光を行った。露光後１５分間のホール
ドタイムを取った後、２０℃において１％Ｎａ₂ＣＯ₃水
溶液を用いて、最少現像時間の１．５倍の時間で現像し
た。 （焼成）現像後に焼成炉内で、室温から５５０℃まで１
時間で上昇させ樹脂分を焼失させた。評価内容とその評
価基準を以下に示す。(Exposure, development) After laminating, 20
The resist surface was exposed to 40 mj with a 3 kW ultra-high pressure mercury lamp using an exposure machine HMW-532D manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. on the resist surface so as to form an exposed portion having a pitch of 0 μm square and up / down / left / right 260 μm pitch. After a hold time of 15 minutes after exposure, development was carried out at 20 ° C. using a 1% Na ₂ CO ₃ aqueous solution for 1.5 times the minimum development time. (Baking) In the baking oven after development, from room temperature to 550 ° C 1
The resin content was burned up by raising the temperature over time. The evaluation details and the evaluation criteria are shown below.

【００２５】ａ．輝度 上記のガラス基板を用いてＰＤＰパネルを作製し、この
パネルで四隅と中央の計５カ所の蛍光体部分の輝度をス
ポット輝度計にて測定して、そのバラツキ及び平均輝度
を調べた。ｂ．保存安定性 上記のドライフィルムを４０℃，６０％ＲＨの遮光下で
１カ月放置し、その後上記同様の（ガラス基板へのラミ
ネート）〜（焼成）を行い、同様に輝度のバラツキ及び
平均輝度を調べた。ｃ．密着性 焼成後の蛍光体パターン（２００μｍ角）をＳＥＭ（走
査電子顕微鏡）にて観察して、蛍光体パターン端部
（角）のガラス基材からの浮き上がり高さ（μｍ）を調
べた。評価基準は以下の通り。 ◎ −−− 全く浮き上がりが認められず ○ −−− 浮き上がり高さが１０μｍ未満 × −−− 浮き上がり高さが１０μｍ以上 A. Luminance A PDP panel was produced using the above-mentioned glass substrate, and the luminance of the phosphor portions at the four corners and the center at a total of 5 places was measured with a spot luminance meter, and the variation and the average luminance were examined. b. Storage stability The above dry film is allowed to stand for 1 month in the dark at 40 ° C. and 60% RH, and then (lamination on a glass substrate) to (baking) is carried out in the same manner as above to obtain the variation in brightness and the average brightness. Examined. c. The phosphor pattern (200 μm square) after the adhesive firing was observed with an SEM (scanning electron microscope) to examine the height (μm) of the edge (corner) of the phosphor pattern lifted from the glass substrate. The evaluation criteria are as follows. ◎ --- No lift is observed at all ○ --- Lifting height is less than 10 μm × --- Lifting height is 10 μm or more

【００２６】実施例２〜５ 実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランに代えてγ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン（実施例２）、β−（３，４エポキシシ
クロヘキシ）−エチルトリメトキシシラン（実施例
３）、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン（実施例４）、Ｎ−フェニル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン（実施例５）を用いた以
外は、実施例１と同様の評価を行った。 比較例１ 実施例１において、カップリング剤（架橋剤）を塗布し
なかった以外は、実施例１と同様の評価を行った。 比較例２ 実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランに代えてポリビニルアルコール（１０％水溶
液）を用いた以外は、実施例１と同様の評価を行った。
実施例及び比較例の評価結果を表１に示す。Examples 2 to 5 In Example 1, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was replaced with γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (Example 2), β- (3,4 epoxycyclohexyl). ) -Ethyltrimethoxysilane (Example 3), N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (Example 4), N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (Example 5) The same evaluation as in Example 1 was carried out except that Comparative Example 1 The same evaluation as in Example 1 was performed, except that the coupling agent (crosslinking agent) was not applied in Example 1. Comparative Example 2 The same evaluation as in Example 1 was performed except that polyvinyl alcohol (10% aqueous solution) was used in place of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the examples and comparative examples.

【００２７】[0027]

【表１】 ａ項目 ｂ項目 ｃ項目 バラツキ 平均 バラツキ 平均 実施例１ ３ ３５ ３ ３５ ◎ 実施例２ ３ ３０ ３ ２９ ◎ 実施例３ ５ ２８ ４ ２９ ◎ 実施例４ ５ ２８ ５ ２８ ○ 実施例５ ４ ２８ ４ ２９ ○ 比較例１ ５ ２５ ５ ２３ × 比較例２ １０ １０ ７ １１ × 註）上記ａ、ｂ項目のバラツキとは、それぞれ５カ所の測定値の最大値と最小値 の差を、平均とは５カ所の測定値の平均値をそれぞれ表し、これらの単位は ｃｄ／ｍ²である。[Table 1] Item a Item b Item c Item Variance Average Variance Average Example 1 3 35 3 35 ◎ Example 2 3 30 30 3 29 ◎ Example 3 5 28 4 29 29 ◎ Example 4 5 28 5 28 28 ○ Example 5 4 28 4 29 ○ Comparative Example 1 5 25 5 23 × Comparative Example 2 10 10 7 11 × Note) The variations in the items a and b are the difference between the maximum value and the minimum value of the measured values at 5 points and the average. Represents the average value of the measured values at 5 points, and these units are cd / m ² .

【００２８】[0028]

【発明の効果】本発明の蛍光体パターンを形成法は、あ
らかじめシラン系カップリング剤等の架橋剤を塗布した
基板表面に、蛍光体含有感光性樹脂組成物層を積層し、
その後パターンマスクを介して露光するので、ガラス基
板と蛍光体含有感光性樹脂組成物或いは現像後の蛍光体
との密着性が優れ、かつ焼成により形成された蛍光体の
パターン形状の安定性にも優れ、ＰＤＰ、ＶＦＤ（蛍光
表示装置）、混成集積回路等の蛍光表示体の製造時に使
用でき、特にＩＴＯ膜基板を用いたＰＤＰの製造に大変
有用である。The method of forming a phosphor pattern of the present invention comprises laminating a phosphor-containing photosensitive resin composition layer on the surface of a substrate coated with a crosslinking agent such as a silane coupling agent in advance,
Since it is exposed through a pattern mask after that, the adhesion between the glass substrate and the phosphor-containing photosensitive resin composition or the phosphor after development is excellent, and the stability of the pattern shape of the phosphor formed by firing is also excellent. It is excellent and can be used at the time of manufacturing a fluorescent display such as a PDP, VFD (fluorescent display device), and a hybrid integrated circuit, and is very useful particularly for manufacturing a PDP using an ITO film substrate.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 蛍光表示体用の蛍光体パターンを形成す
るにあたり、架橋剤を塗布した基板表面に蛍光体含有感
光性樹脂組成物層を積層し、次いでパターンマスクを介
して露光を行うことを特徴とする蛍光体パターン形成
法。1. In forming a phosphor pattern for a fluorescent display, a phosphor-containing photosensitive resin composition layer is laminated on the surface of a substrate coated with a cross-linking agent and then exposed through a pattern mask. Characteristic phosphor pattern forming method. 【請求項２】 架橋剤がシラン系化合物、アルミ系化合
物及びチタネート系化合物のいずれかであることを特徴
とする請求項１記載の蛍光体パターン形成法。2. The phosphor pattern forming method according to claim 1, wherein the crosslinking agent is any one of a silane compound, an aluminum compound and a titanate compound. 【請求項３】 基板が電極を配したガラス製基板である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の蛍光体パター
ン形成法。3. The phosphor pattern forming method according to claim 1, wherein the substrate is a glass substrate on which electrodes are arranged. 【請求項４】 蛍光体含有感光性樹脂組成物があらかじ
めフィルム化されていることを特徴とする請求項１〜３
いずれかに記載の蛍光体パターン形成法。4. The phosphor-containing photosensitive resin composition is formed into a film in advance.
The method for forming a phosphor pattern according to any one of claims.