JPH0867522A - 感光性ガラスの加工方法 - Google Patents
感光性ガラスの加工方法Info
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- JPH0867522A JPH0867522A JP6202220A JP20222094A JPH0867522A JP H0867522 A JPH0867522 A JP H0867522A JP 6202220 A JP6202220 A JP 6202220A JP 20222094 A JP20222094 A JP 20222094A JP H0867522 A JPH0867522 A JP H0867522A
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- photosensitive glass
- exposure
- cutting
- excimer laser
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- Impact Printers (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 感光性ガラスの加工精度を向上させる。
【構成】 感光性ガラスの透過分光特性は、エキシマレ
ーザの総露光量を大きくして照射した場合に、波長が4
00nm近辺の光の透過率が著しく低下してこのガラス
が変色することが認められる。この変色を利用して感光
性ガラス素材に位置決めマークを設けることにより、切
断または露光の精度を高くできるので、感光性ガラス製
品の加工歩留りを向上させることが可能である。また、
位置決めマークは露光用のフォトマスクに位置決めマー
ク用パターンを形成して、このパターンによって形成す
る方法もある。これは露光部と切断位置との関係が1つ
のマスク上で予め決まっているので、精度の高い切断が
可能になる。また、露光用光源としてエキシマレーザを
採用することにより、これらの位置決めマークと製品パ
ターニングとを同じ光源により形成することが可能であ
り、加工能率が向上する。
ーザの総露光量を大きくして照射した場合に、波長が4
00nm近辺の光の透過率が著しく低下してこのガラス
が変色することが認められる。この変色を利用して感光
性ガラス素材に位置決めマークを設けることにより、切
断または露光の精度を高くできるので、感光性ガラス製
品の加工歩留りを向上させることが可能である。また、
位置決めマークは露光用のフォトマスクに位置決めマー
ク用パターンを形成して、このパターンによって形成す
る方法もある。これは露光部と切断位置との関係が1つ
のマスク上で予め決まっているので、精度の高い切断が
可能になる。また、露光用光源としてエキシマレーザを
採用することにより、これらの位置決めマークと製品パ
ターニングとを同じ光源により形成することが可能であ
り、加工能率が向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性ガラスの加工方
法に関するものである。
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】イン
クジェットヘッドの流路基板やノズルプレートあるいは
ワイヤドットプリンタのワイヤガイドなどは高精密かつ
高硬度を要求されている。上記両要求に応じるものとし
て感光性ガラスが多く採用されている。
クジェットヘッドの流路基板やノズルプレートあるいは
ワイヤドットプリンタのワイヤガイドなどは高精密かつ
高硬度を要求されている。上記両要求に応じるものとし
て感光性ガラスが多く採用されている。
【0003】感光性ガラスの加工工程の概略は、(1)
露光、(2)熱現像、(3)再露光、(4)エッチン
グ、(5)結晶化(熱処理)、(6)積層・組立ての工
程を含んでいる。工程(2)において露光された感光性
ガラスは変色する。これらの工程において、インクジェ
ットヘッドのノズルプレートや流路基板などの小さい部
品を加工する場合には、図4に示すように10cm角程
度の大きさの感光性ガラス素材41に、多数のパターン
42を有するフォトマスク43を被せて上記の露光を行
う。その後に、2点鎖線で示す分離線44に沿って分離
して複数の部品素材45…を得ている。
露光、(2)熱現像、(3)再露光、(4)エッチン
グ、(5)結晶化(熱処理)、(6)積層・組立ての工
程を含んでいる。工程(2)において露光された感光性
ガラスは変色する。これらの工程において、インクジェ
ットヘッドのノズルプレートや流路基板などの小さい部
品を加工する場合には、図4に示すように10cm角程
度の大きさの感光性ガラス素材41に、多数のパターン
42を有するフォトマスク43を被せて上記の露光を行
う。その後に、2点鎖線で示す分離線44に沿って分離
して複数の部品素材45…を得ている。
【0004】上記した分離の方法としては、まず感光性
ガラスに切断用の印をつけ、切断する方法が考えられ
る。この方法には(1)露光前に感光性ガラスに傷をつ
け、切断用目印とし、この目印を基準にパターニング用
マスクを感光性ガラスに載置し、露光し切断する、
(2)露光前に感光性ガラスにインク等を塗布すること
により切断用の印とし、切断する、(3)感光性ガラス
全面にフォトレジストを塗布し、マスクによりパターン
露光,現像(パターニング)し、残存したフォトレジス
トにより切断用目印を形成し、切断する、という(1)
〜(3)の各方法が考えられる。また他の分離方法とし
て次の各方法が考えられる。(4)各分離境界にマスク
を用いて露光,エッチングを施して切り離す、(5)感
光性ガラスに切断用目印をつけず、熱現像前に切断す
る、(6)感光性ガラスに切断用目印をつけず、熱現像
後に切断する。
ガラスに切断用の印をつけ、切断する方法が考えられ
る。この方法には(1)露光前に感光性ガラスに傷をつ
け、切断用目印とし、この目印を基準にパターニング用
マスクを感光性ガラスに載置し、露光し切断する、
(2)露光前に感光性ガラスにインク等を塗布すること
により切断用の印とし、切断する、(3)感光性ガラス
全面にフォトレジストを塗布し、マスクによりパターン
露光,現像(パターニング)し、残存したフォトレジス
トにより切断用目印を形成し、切断する、という(1)
〜(3)の各方法が考えられる。また他の分離方法とし
て次の各方法が考えられる。(4)各分離境界にマスク
を用いて露光,エッチングを施して切り離す、(5)感
光性ガラスに切断用目印をつけず、熱現像前に切断す
る、(6)感光性ガラスに切断用目印をつけず、熱現像
後に切断する。
【0005】上記の従来技術によれば次のような問題点
がある。
がある。
【0006】まず(1)の方法では、感光性ガラスに傷
をつける位置の位置出しが難しく精度が悪い。また露光
前に感光性ガラスに傷をつけるためその際の削り屑が感
光性ガラス面に付着しそのためパターニング用マスクを
感光性ガラスに載置するときにマスクが感光性ガラスに
密着せず露光精度が落ちる、また。削り屑によりマスク
損傷の原因になる。したがって実際には実施不可能であ
る。つぎに(2)の方法ではインク等塗布位置の位置出
しが難しく精度が悪い。(3)の方法では切断用目印の
ためにマスクを必要とし、このマスクの感光性ガラスに
対する位置合せも必要であり、また現像工程を必要とし
工程が多くなる。以上のように感光性ガラスに切断用の
印をつけ、切断する(1)〜(3)の方法は望ましくな
い。また(4)の方法ではエッチングの手間が面倒であ
り、かつ分離線が広くなるため素材の無駄が多くなる欠
点がある。また1mm厚程度の感光性ガラス基板をエッ
チングにより分離するには1時間程度の長時間を要する
など作業能率が上げられないという問題点がある。特に
インクジェットヘッドの流路基板を製造する場合、露光
により溝パターンを形成するため、貫通しない深さで孔
(溝)を形成することになる。そこで分離のためのエッ
チング時にはパターン部がエッチングされないような保
護が必要であり工程が増大する問題点がある。また
(5)の方法では切断工程が露光パターンが変色する熱
現像工程の前なので露光パターンが見えないために、基
準点が不明となり、切断のための位置決めが困難で分離
された部品素材が不良品となり、加工歩留りを低下させ
るという問題点がある。さらに(6)の方法では、熱現
像後に切断するので、切断時露光パターンはすでに変色
しておりこれが目印になり切断はしやすいが、熱現像時
の露光部,未露光部の熱膨張係数の違いにより未露光部
がガラス厚み方向に***し、切断がしにくいという問題
がある。上述のように従来の方法(1)〜(6)は、精
度,工程数,コスト等の点から、望ましくなく、分離方
法に適切な方法がなかった。
をつける位置の位置出しが難しく精度が悪い。また露光
前に感光性ガラスに傷をつけるためその際の削り屑が感
光性ガラス面に付着しそのためパターニング用マスクを
感光性ガラスに載置するときにマスクが感光性ガラスに
密着せず露光精度が落ちる、また。削り屑によりマスク
損傷の原因になる。したがって実際には実施不可能であ
る。つぎに(2)の方法ではインク等塗布位置の位置出
しが難しく精度が悪い。(3)の方法では切断用目印の
ためにマスクを必要とし、このマスクの感光性ガラスに
対する位置合せも必要であり、また現像工程を必要とし
工程が多くなる。以上のように感光性ガラスに切断用の
印をつけ、切断する(1)〜(3)の方法は望ましくな
い。また(4)の方法ではエッチングの手間が面倒であ
り、かつ分離線が広くなるため素材の無駄が多くなる欠
点がある。また1mm厚程度の感光性ガラス基板をエッ
チングにより分離するには1時間程度の長時間を要する
など作業能率が上げられないという問題点がある。特に
インクジェットヘッドの流路基板を製造する場合、露光
により溝パターンを形成するため、貫通しない深さで孔
(溝)を形成することになる。そこで分離のためのエッ
チング時にはパターン部がエッチングされないような保
護が必要であり工程が増大する問題点がある。また
(5)の方法では切断工程が露光パターンが変色する熱
現像工程の前なので露光パターンが見えないために、基
準点が不明となり、切断のための位置決めが困難で分離
された部品素材が不良品となり、加工歩留りを低下させ
るという問題点がある。さらに(6)の方法では、熱現
像後に切断するので、切断時露光パターンはすでに変色
しておりこれが目印になり切断はしやすいが、熱現像時
の露光部,未露光部の熱膨張係数の違いにより未露光部
がガラス厚み方向に***し、切断がしにくいという問題
がある。上述のように従来の方法(1)〜(6)は、精
度,工程数,コスト等の点から、望ましくなく、分離方
法に適切な方法がなかった。
【0007】
【発明の目的】そこで本発明の目的は、露光や分離する
際の基準となる位置決めマークを設けることにより、感
光性ガラスの加工における工程数を少なくし加工性を向
上させ、かつ加工コストを下げ感光性ガラス製品の加工
における加工歩留りの向上を図ることにある。
際の基準となる位置決めマークを設けることにより、感
光性ガラスの加工における工程数を少なくし加工性を向
上させ、かつ加工コストを下げ感光性ガラス製品の加工
における加工歩留りの向上を図ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、感光性ガラス素材に所定のエネルギー量
のエキシマレーザを照射すると、照射部分が波長領域が
400nm近辺である可視光に対して、光透過率が低下
するため、この照射部が変色するのに着目して、切断前
にエキシマレーザを照射して変色させることにより、感
光性ガラスの切断や露光のための位置決めマークを設け
るようにしたところに特徴がある。
めに本発明は、感光性ガラス素材に所定のエネルギー量
のエキシマレーザを照射すると、照射部分が波長領域が
400nm近辺である可視光に対して、光透過率が低下
するため、この照射部が変色するのに着目して、切断前
にエキシマレーザを照射して変色させることにより、感
光性ガラスの切断や露光のための位置決めマークを設け
るようにしたところに特徴がある。
【0009】これをさらに敷衍すると、同時に複数個の
部品素材を露光可能なパターンを形成したフォトマスク
を用いて感光性ガラス素材を露光し、露光された感光性
ガラス素材を切断して複数個の部品素材に分離し、分離
された部品素材を熱現像及びエッチングを含む工程によ
って所望の溝部等を形成する感光性ガラスの加工方法に
おいて、切断の前でありかつ露光を行う前または後に、
感光性ガラス素材の所定位置に所定のエネルギー量でエ
キシマレーザを照射し、照射した部分の光透過率を低下
させて感光性ガラス素材を変色させることにより、露光
または切断の際に使用する位置決めマークを設ける工程
を含むようにした。
部品素材を露光可能なパターンを形成したフォトマスク
を用いて感光性ガラス素材を露光し、露光された感光性
ガラス素材を切断して複数個の部品素材に分離し、分離
された部品素材を熱現像及びエッチングを含む工程によ
って所望の溝部等を形成する感光性ガラスの加工方法に
おいて、切断の前でありかつ露光を行う前または後に、
感光性ガラス素材の所定位置に所定のエネルギー量でエ
キシマレーザを照射し、照射した部分の光透過率を低下
させて感光性ガラス素材を変色させることにより、露光
または切断の際に使用する位置決めマークを設ける工程
を含むようにした。
【0010】また、フォトマスクには、エキシマレーザ
の照射位置を決定する位置決めマスク用パターンが形成
してあり、フォトマスクにより露光と照射とを行うよう
にするとよい。
の照射位置を決定する位置決めマスク用パターンが形成
してあり、フォトマスクにより露光と照射とを行うよう
にするとよい。
【0011】さらにまた、露光はエキシマレーザを照射
することにより行われるようにすれば加工能率のなお一
層の向上が期待できる。
することにより行われるようにすれば加工能率のなお一
層の向上が期待できる。
【0012】
【作用】感光性ガラスに所定のエネルギー量でエキシマ
レーザを照射すると、熱現像無しで、400nm近辺の
波長域の可視光に対して、照射部分の光透過率が低下し
てその部分が変色する。この変色部分を位置決めマーク
として使用することにより、製品パターンニング用のフ
ォトマスクの感光性ガラスへの載置または感光性ガラス
の切断・分離の際の基準とする。
レーザを照射すると、熱現像無しで、400nm近辺の
波長域の可視光に対して、照射部分の光透過率が低下し
てその部分が変色する。この変色部分を位置決めマーク
として使用することにより、製品パターンニング用のフ
ォトマスクの感光性ガラスへの載置または感光性ガラス
の切断・分離の際の基準とする。
【0013】フォトマスクに露光用パターンと併せて位
置決めマーク用パターンを形成し、このフォトマスクに
よって紫外線による露光とエキシマレーザによる照射と
を行うようにすれば、露光パターンと切断位置との位置
関係が定まりまた1つのフォトマスクで露光と照射とが
可能となる。
置決めマーク用パターンを形成し、このフォトマスクに
よって紫外線による露光とエキシマレーザによる照射と
を行うようにすれば、露光パターンと切断位置との位置
関係が定まりまた1つのフォトマスクで露光と照射とが
可能となる。
【0014】露光パターン形成のための光源として位置
決めマーク形成用の光源と同一の光源であるエキシマレ
ーザを使用すれば、露光エネルギーの調整だけで共通の
光源によって位置決めマークと露光パターンとを設ける
ことができる。
決めマーク形成用の光源と同一の光源であるエキシマレ
ーザを使用すれば、露光エネルギーの調整だけで共通の
光源によって位置決めマークと露光パターンとを設ける
ことができる。
【0015】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。本発明の特徴は、感光性ガラス素材にエキ
シマレーザを用いて位置決めマークを設け、この位置決
めマークを基準として露光や部品素材への分離を行うと
ころにあるので、初めに位置決めマークを設ける方法に
ついて重点的に説明する。
て説明する。本発明の特徴は、感光性ガラス素材にエキ
シマレーザを用いて位置決めマークを設け、この位置決
めマークを基準として露光や部品素材への分離を行うと
ころにあるので、初めに位置決めマークを設ける方法に
ついて重点的に説明する。
【0016】図1は、厚さ1.6mmのAgベース(感
光する原子として銀を含む)の感光性ガラスの波長と光
透過率との関係を示すもので、通常の状態では波長が約
350nm前後のところで透過率が急激に変化し、約3
20nmのときには透過率が約18%であったものが、
波長が約350nmになると約85%以上に変化してい
ることが推察できる。
光する原子として銀を含む)の感光性ガラスの波長と光
透過率との関係を示すもので、通常の状態では波長が約
350nm前後のところで透過率が急激に変化し、約3
20nmのときには透過率が約18%であったものが、
波長が約350nmになると約85%以上に変化してい
ることが推察できる。
【0017】本出願人は、この感光性ガラスに対し、X
eClエキシマレーザ(発振波長λ=308nm)を照
射したものについて各波長における光透過率を測定し
た。なお、この実験におけるエキシマレーザのエネルギ
ーの強さは1.3mJ/cm2/パルスで、総エネルギ
ー量を6.5〜1300mJ/cm2 の間で段階的に透
過率の変化の状態を求めた。
eClエキシマレーザ(発振波長λ=308nm)を照
射したものについて各波長における光透過率を測定し
た。なお、この実験におけるエキシマレーザのエネルギ
ーの強さは1.3mJ/cm2/パルスで、総エネルギ
ー量を6.5〜1300mJ/cm2 の間で段階的に透
過率の変化の状態を求めた。
【0018】この実験結果によれば、波長が500nm
以上の領域では総エネルギー量を変えても透過率は殆ど
変化しないが、500nm以下の領域、殊に青−紫の可
視光範囲となる380〜420nmでは、総エネルギー
量が大きい程透過率が低下していることがわかる。例え
ば総エネルギー量が650〜1300mJ/cm2 のと
きは、波長が380nmのところにおける透過率は約6
5%となっており、この時の感光性ガラスの被照射部分
は不透明化して黄色〜茶色を帯びた色に変色する。これ
はこの被照射部分が青色の光を透過しなくなるので被照
射部分を透過する光としては赤,緑等の光が相対的に強
くなり黄〜茶色に色がついて見えるためである。そこで
本出願人は、熱現像なしにこのようにエキシマレーザに
よる露光だけで、感光性ガラス素材に着色可能となるこ
とに着目し、感光性ガラス素材の切断における位置決め
や、露光の際の位置決めマークとして利用することとし
たものである。
以上の領域では総エネルギー量を変えても透過率は殆ど
変化しないが、500nm以下の領域、殊に青−紫の可
視光範囲となる380〜420nmでは、総エネルギー
量が大きい程透過率が低下していることがわかる。例え
ば総エネルギー量が650〜1300mJ/cm2 のと
きは、波長が380nmのところにおける透過率は約6
5%となっており、この時の感光性ガラスの被照射部分
は不透明化して黄色〜茶色を帯びた色に変色する。これ
はこの被照射部分が青色の光を透過しなくなるので被照
射部分を透過する光としては赤,緑等の光が相対的に強
くなり黄〜茶色に色がついて見えるためである。そこで
本出願人は、熱現像なしにこのようにエキシマレーザに
よる露光だけで、感光性ガラス素材に着色可能となるこ
とに着目し、感光性ガラス素材の切断における位置決め
や、露光の際の位置決めマークとして利用することとし
たものである。
【0019】次に図2の工程図に沿って、上記した位置
決めマークを設ける工程を含む感光性ガラスの加工方法
について説明する。ここで使用する感光性ガラス素材
は、従来技術で採用したものと同じものであり、厚さが
1mm、大きさが100mm×100mmの正方形のも
のとする(図4参照)。図3に示すように、感光性ガラ
ス素材1の各辺に沿ってそれぞれ4等分するための切断
用マーク2a及び対角付近に十字状に設けた2つの露光
用マーク2bとを設けるものとする。位置決めマーク2
は、図示しないマスクを用いこれを付すべき位置にエネ
ルギー量が1000mJ/cm2 のエキシマレーザを照
射して設ける。マスクにはマーク2a,2bのためのパ
ターンが形成してある。上記したすべてのマークの形成
は、エキシマレーザを照射して所定位置を変色させるこ
とにより行われる(図2参照)。
決めマークを設ける工程を含む感光性ガラスの加工方法
について説明する。ここで使用する感光性ガラス素材
は、従来技術で採用したものと同じものであり、厚さが
1mm、大きさが100mm×100mmの正方形のも
のとする(図4参照)。図3に示すように、感光性ガラ
ス素材1の各辺に沿ってそれぞれ4等分するための切断
用マーク2a及び対角付近に十字状に設けた2つの露光
用マーク2bとを設けるものとする。位置決めマーク2
は、図示しないマスクを用いこれを付すべき位置にエネ
ルギー量が1000mJ/cm2 のエキシマレーザを照
射して設ける。マスクにはマーク2a,2bのためのパ
ターンが形成してある。上記したすべてのマークの形成
は、エキシマレーザを照射して所定位置を変色させるこ
とにより行われる(図2参照)。
【0020】次にこれらの位置決めマークのうちの露光
用マーク2bに合わせて露光用フォトマスク3を設置す
る(同図参照)。フォトマスク3には、位置決めマー
クと合わせるための印3bと露光用マスクパターン3a
とが形成してあり、露光用マーク2bと印3bとを位置
合わせしてフォトマスク3を設けるようにしてあるの
で、後述の露光用パターンの位置が正確になる。次に、
フォトマスク3の上方から従来技術により紫外線を照射
して露光する。フォトマスク3に形成された露光用パタ
ーン3aを通して感光性ガラス1の孔明け等の加工をす
べき部分1aに紫外線が透過し、これらの透過部分(露
光部)を変質させ露光パターンが正確な位置に形成され
る。
用マーク2bに合わせて露光用フォトマスク3を設置す
る(同図参照)。フォトマスク3には、位置決めマー
クと合わせるための印3bと露光用マスクパターン3a
とが形成してあり、露光用マーク2bと印3bとを位置
合わせしてフォトマスク3を設けるようにしてあるの
で、後述の露光用パターンの位置が正確になる。次に、
フォトマスク3の上方から従来技術により紫外線を照射
して露光する。フォトマスク3に形成された露光用パタ
ーン3aを通して感光性ガラス1の孔明け等の加工をす
べき部分1aに紫外線が透過し、これらの透過部分(露
光部)を変質させ露光パターンが正確な位置に形成され
る。
【0021】次に従来技術によりフォトマスク3を除去
して、切断用マーク2aに合わせてスライシングマシン
によって切断し、それぞれの部品素材4…に分離する
(同図参照)。
して、切断用マーク2aに合わせてスライシングマシン
によって切断し、それぞれの部品素材4…に分離する
(同図参照)。
【0022】続いて、分離した各部品素材4を熱現像す
る。熱現像は500〜700℃程度の温度に加熱して行
う。熱現像によって露光部1aはエッチングされ易い性
質となった結晶部1bに変化する(同図参照)。
る。熱現像は500〜700℃程度の温度に加熱して行
う。熱現像によって露光部1aはエッチングされ易い性
質となった結晶部1bに変化する(同図参照)。
【0023】最後に、熱現像された部品素材5に対し、
エッチングを施して溝部1cとなる部分を除去する。エ
ッチングは従来技術により行われる。例えば、フッ化水
素(HF)5〜10%溶液からなるエッチング液をシャ
ワー状に浴びせ、結晶部1bを所定の深さまで除去して
溝部1cとすることによりそれぞれの完成部品を得る
(同図参照)。
エッチングを施して溝部1cとなる部分を除去する。エ
ッチングは従来技術により行われる。例えば、フッ化水
素(HF)5〜10%溶液からなるエッチング液をシャ
ワー状に浴びせ、結晶部1bを所定の深さまで除去して
溝部1cとすることによりそれぞれの完成部品を得る
(同図参照)。
【0024】以上の工程により得られる感光性ガラス製
部品は、位置決めマークを基準にして露光や切断が行わ
れるために、孔明け位置や切断位置が正確となり、不良
品が極めて少なくなり製造歩留りが向上する。
部品は、位置決めマークを基準にして露光や切断が行わ
れるために、孔明け位置や切断位置が正確となり、不良
品が極めて少なくなり製造歩留りが向上する。
【0025】上記実施例では、位置決めマークと露光パ
ターンとを別の工程で形成するようにしているが、他の
実施例として同一のフォトマスクに露光用パターンの他
に位置決めマーク用パターンを設け、露光用パターンに
は紫外線で露光を行い、位置決めマーク用パターンでは
エキシマレーザの照射によってガラス切断のための位置
決めマークを設けるようにしてもよい。これによりフォ
トマスクが1つですみまたフォトマスクを設ける際にお
ける感光性ガラスに対する位置合せも1回ですみ加工能
率が向上する。なお、本実施例ではガラス切断のための
位置決めマークの形成を孔明け用の露光の前に行うよう
にしてあるが、これをこの露光の後に行うようにしても
よい。
ターンとを別の工程で形成するようにしているが、他の
実施例として同一のフォトマスクに露光用パターンの他
に位置決めマーク用パターンを設け、露光用パターンに
は紫外線で露光を行い、位置決めマーク用パターンでは
エキシマレーザの照射によってガラス切断のための位置
決めマークを設けるようにしてもよい。これによりフォ
トマスクが1つですみまたフォトマスクを設ける際にお
ける感光性ガラスに対する位置合せも1回ですみ加工能
率が向上する。なお、本実施例ではガラス切断のための
位置決めマークの形成を孔明け用の露光の前に行うよう
にしてあるが、これをこの露光の後に行うようにしても
よい。
【0026】また、エキシマレーザの総エネルギー量を
1000mJ/cm 2としているが、これは感光性ガラ
ス素材を熱現像なしに変色可能な強さのエネルギー量で
あれば数字には拘らない。
1000mJ/cm 2としているが、これは感光性ガラ
ス素材を熱現像なしに変色可能な強さのエネルギー量で
あれば数字には拘らない。
【0027】また、孔明け用の露光の光源として紫外線
を用いているが、これをエキシマレーザによって露光す
るようにすれば、同一の露光装置によって連続操作で位
置決めマークの形成と孔明け用露光との2つを行うこと
が可能になるので、加工能率の向上が可能である。
を用いているが、これをエキシマレーザによって露光す
るようにすれば、同一の露光装置によって連続操作で位
置決めマークの形成と孔明け用露光との2つを行うこと
が可能になるので、加工能率の向上が可能である。
【0028】なお、上記実施例ではエキシマレーザとし
てXeCl(発振波長308nm)を採用しているが、
このほかにもXeF(発振波長350nm),KrF
(発振波長248nm),ArF(発振波長193n
m)等でもよい。
てXeCl(発振波長308nm)を採用しているが、
このほかにもXeF(発振波長350nm),KrF
(発振波長248nm),ArF(発振波長193n
m)等でもよい。
【0029】
【発明の効果】本発明は、少ない工程によって感光性ガ
ラス素材に切断用位置決めマークや露光用の位置決めマ
ークを設けることができるため、切断や露光の際の位置
精度が高くできるので不良品が少なくなり、感光性ガラ
ス製品の製造歩留りが向上する。
ラス素材に切断用位置決めマークや露光用の位置決めマ
ークを設けることができるため、切断や露光の際の位置
精度が高くできるので不良品が少なくなり、感光性ガラ
ス製品の製造歩留りが向上する。
【0030】また、露光用パターンの形成されたフォト
マスクにエキシマレーザの照射位置を決定する位置決め
マーク用パターンを設けるようにすれば、切断線に対す
る露光位置が正確に決まるため、正確な切断が可能にな
る。またフォトマスクが1つですみフォトマスクの感光
性ガラスに対する位置合せも1回ですみ加工能率が向上
する。
マスクにエキシマレーザの照射位置を決定する位置決め
マーク用パターンを設けるようにすれば、切断線に対す
る露光位置が正確に決まるため、正確な切断が可能にな
る。またフォトマスクが1つですみフォトマスクの感光
性ガラスに対する位置合せも1回ですみ加工能率が向上
する。
【0031】さらに、露光にエキシマレーザを使用する
ようにすれば、露光能率が向上する他、位置決めマーク
を設けるためのエキシマレーザの照射と露光とを同一装
置によって行うことができるので加工工数が少なくな
り、感光性ガラスの加工能率向上に寄与する。
ようにすれば、露光能率が向上する他、位置決めマーク
を設けるためのエキシマレーザの照射と露光とを同一装
置によって行うことができるので加工工数が少なくな
り、感光性ガラスの加工能率向上に寄与する。
【図1】XeClエキシマレーザ照射による透過分光特
性の変化の状態を示す説明図である。
性の変化の状態を示す説明図である。
【図2】本発明の一実施例の工程の概要を示す工程図で
ある。
ある。
【図3】感光性ガラス素材に位置決めマークを設けた状
態を示す平面図である。
態を示す平面図である。
【図4】感光性ガラス素材と部品素材との関係を示す平
面図である。
面図である。
1 感光性ガラス素材 1c 溝部 2 位置決めマーク 3 フォトマスク 4 部品素材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C03C 15/00 F G03F 7/26
Claims (3)
- 【請求項1】 同時に複数個の部品素材を露光可能なパ
ターンを形成したフォトマスクを用いて感光性ガラス素
材を露光し、上記露光された上記感光性ガラス素材を切
断して複数個の部品素材に分離し、上記分離された上記
部品素材を熱現像及びエッチングを含む工程によって所
望の溝部等を形成する感光性ガラスの加工方法におい
て、 上記切断の前でありかつ上記露光を行う前または後に、
上記感光性ガラス素材の所定位置に所定のエネルギー量
でエキシマレーザを照射し、上記照射した部分の光透過
率を低下させて上記感光性ガラス素材を変色させること
により、上記露光または切断の際に使用する位置決めマ
ークを設ける工程を含むことを特徴とする感光性ガラス
の加工方法。 - 【請求項2】 請求項1において、上記フォトマスクに
は、上記エキシマレーザの照射位置を決定する位置決め
マーク用パターンが形成してあり、上記フォトマスクに
より上記露光と上記照射とを行うことを特徴とする感光
性ガラスの加工方法。 - 【請求項3】 請求項1において、上記露光はエキシマ
レーザを照射することにより行われることを特徴とする
感光性ガラスの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6202220A JP2787039B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 感光性ガラスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6202220A JP2787039B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 感光性ガラスの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0867522A true JPH0867522A (ja) | 1996-03-12 |
JP2787039B2 JP2787039B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=16453957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6202220A Expired - Fee Related JP2787039B2 (ja) | 1994-08-26 | 1994-08-26 | 感光性ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2787039B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6320158B1 (en) * | 1998-01-29 | 2001-11-20 | Fujitsu Limited | Method and apparatus of fabricating perforated plate |
KR101023794B1 (ko) * | 2009-01-20 | 2011-03-21 | 한성기성주식회사 | 원판강화유리에 경화부분과 비 경화부분이 구획되도록 유 브이 자외선으로 패턴 코팅하여 흠집 발생 없이 작은 구멍들을 가공하고 절단하는 방법 및 그 장치. |
-
1994
- 1994-08-26 JP JP6202220A patent/JP2787039B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6320158B1 (en) * | 1998-01-29 | 2001-11-20 | Fujitsu Limited | Method and apparatus of fabricating perforated plate |
KR101023794B1 (ko) * | 2009-01-20 | 2011-03-21 | 한성기성주식회사 | 원판강화유리에 경화부분과 비 경화부분이 구획되도록 유 브이 자외선으로 패턴 코팅하여 흠집 발생 없이 작은 구멍들을 가공하고 절단하는 방법 및 그 장치. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2787039B2 (ja) | 1998-08-13 |
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