JP2544266B2 - 感光性ガラスの加工方法 - Google Patents
感光性ガラスの加工方法Info
- Publication number
- JP2544266B2 JP2544266B2 JP3327762A JP32776291A JP2544266B2 JP 2544266 B2 JP2544266 B2 JP 2544266B2 JP 3327762 A JP3327762 A JP 3327762A JP 32776291 A JP32776291 A JP 32776291A JP 2544266 B2 JP2544266 B2 JP 2544266B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive glass
- exposure
- laser
- processing
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/008—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments comprising a lixiviation step
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
て加工する方法に関するものであり、詳しくは、エッチ
ングにより切削する工程を含む加工方法に関するもので
ある。
する、あるいはその後にエッチング加工する方法が知ら
れている。例えば、実務表面技術1988年第11号の
第1〜第7頁に掲載されている松浦孝氏の論文「化学切
削用感光性ガラス」(以下「文献1」と言う。)に示さ
れている。この方法は、超高圧水銀灯等の紫外線ランプ
で感光性ガラスの所望の部分を露光する露光工程と、感
光性ガラスを500〜700℃に加熱して露光部分を結
晶化させる熱現像工程と、結晶化した露光部をエッチン
グ液(フッ化水素酸溶液)により溶解させて除去するエ
ッチング工程からなる方法である。
従来の紫外線ランプ(超高圧水銀灯など)13を用いて
感光性ガラス14を露光する方法では、後述するよう
に、露光時間が長いという問題と、直進性が悪いため微
細加工ができない問題と、直進性が悪いため光の入射面
14aの反対面14b側で露光パターンがぼける問題が
あった。
る超高圧水銀ランプの分光分布を示している。これによ
ると、水銀ランプは紫外線ばかりでなく広い波長域に亘
る分光分布特性を有しているが、文献1によれば通常紫
外線光源に対する感光性ガラスの露光感度波長域は24
0〜360nmである。すなわち、水銀ランプを用いた
場合、360nm以上の波長域の分光は感光性ガラスの
露光には関与しないので、照射エネルギーのうちの多く
は無駄に消費されることになり、露光の効率は低く、露
光時間は長くなる。なお、文献1にはHg−Xeランプ
を用いて13分間の露光を行なった例などが示してあ
る。また本出願人が実験した結果によると、500Wの
超高圧水銀灯(ウシオ電機製マルチライトIIタイプ)
で感光性ガラスを露光する場合、30分間の露光が必要
であった。
毎に処理しなくてはならず、生産効率を上げるために
は、高価な露光装置を多数台用意するか、あるいは露光
時間を短くしなければならなかった。
面側でのパターンのぼけを改善するためには、光源の直
進性を良くしなくてはならず、光源を絞って理想的な点
光源に近づける必要があるが、そうすると光源の輝度が
低下しさらに数倍の露光時間がかかり、生産効率を著し
く低下させることになる。このように、感光性ガラスの
応用分野の拡大を可能にするためにも、露光時間の短縮
化が望まれている。
て、光源の直進性の比較的良い半導体加工用露光装置
(キャノン製マスクアライナーPLA:超高圧水銀灯2
50W)を使って感光性ガラスを3時間露光する実験を
行なった。このときの実験で使用した感光性ガラスの主
な組成例は以下の通りである。 SiO2 : 70〜84 % Li2 O : 5〜20 % Al2 O3 : 3〜10 % CeO2 : 0.01〜0.1% Ag : 0.05〜0.3% As2 O3 : 0.1〜0.3% なお実験においては、上記の他に、Na2 O,SnO
2 ,Cu2 O,ZnO,K2 O,PbO,CaO,Sr
O,BaO,ZrO2 などの物質を微細量添加した場合
もあった。
ング深さで幅8μm程度のパターンサイズが限界であっ
た。しかし、インクジェットプリンタヘッドやマイクロ
マシニングなどの分野では、さらなる微細感光性が望ま
れており、露光光源の直進性の悪さを原因とする上記微
細加工限界が、感光性ガラスのこれらの分野への応用を
妨げる要因となっている。
は、本出願人が実験した結果では、上記と同様な組成の
感光性ガラスで、500Wの超高圧水銀灯(ウシオ電機
製マルチライトIIタイプ)において光学系を工夫して
直進性を改善したものを用い露光した場合でも、入射方
向に対して1.4度の角度で広がった結晶部が形成され
た。つまり、1mmの板厚の感光性ガラスにおいて、1
00μmのパターンなら片側24μmずつパターンが広
がり、光入射の裏面側では148μmのパターンに広が
ってしまい実用上問題となるものであった。
においても寸法精度よく露光することができる加工方法
を提供することにある。またもう一つの目的は、効率よ
く露光が行なえ作業時間が短縮できる加工方法を提供す
ることにある。
スの加工方法の特徴は、感光性ガラスの露光感度波長域
に発振波長をもつレーザーの照射により感光性ガラスを
露光する露光工程と、露光部を結晶化する熱現像工程
と、結晶部をエッチングする工程とを行なうところにあ
る。なお、このレーザーとしてはエキシマレーザーを用
いることが好ましい。そしてこのレーザーの発振波長
は、具体的には150〜400nmの範囲内である。
面積に対して細いレーザービームを、手動により、ある
いは治具などによるガイド曲線に従って動く走査系や、
電子計算機などで生成または記憶された情報に従って動
く走査系を用いることにより、移動させながら照射して
露光パターンを形成することができる。また、このよう
なレーザービーム露光において、レーザー照射装置を相
対的に移動させながら、電子計算機などで生成または記
憶された情報に従ってレーザービーム照射のオン・オフ
を繰り返すことにより、より複雑な露光パターンを形成
することも可能である。
て非平行な方向に切断して複数に分割するようにする
と、感光性ガラスからなる部材を複数個得る場合の効率
化が図れる。
感光性ガラスに同時に露光すると、多数の感光性ガラス
に加工を施す際の効率化が可能である。
屈折率を有する液体中に感光性ガラスを配置した状態で
レーザー照射を行なうと、さらに精度よく露光できる。
照射光学系の間に露光用パターンマスクを配置すること
により、パターンマスク寸法によって制御される微細形
状を効率よく露光することができる。
ムを用いるビーム露光において、露光用パターンマスク
を用いることより、複雑な露光パターンを容易に形成す
ることができる。
て説明する。まず、図1〜図5に基づいて、本発明に係
る加工方法により感光性ガラス製のインクジェットプリ
ンタヘッドを製造する方法を工程順に説明する。まず、
図1に示すように、表裏両面1a,1bが研磨された感
光性ガラス1(本実施例においては厚さ1mm)を、移
動台2上に載置する。そしてこの上方のエキシマレーザ
ー発振器3から、XeClエキシマレーザービームを照
射する。そして、図示しない移動装置あるいは光学系に
より、移動台2を移動することあるいはレーザービーム
を走査させることによって、図2に示すように、感光性
ガラス1のエッチングを行なう範囲全てを露光する。
0〜700℃程度の高温に加熱し、図3に示すように、
露光部1cを結晶化する熱現像工程を行なう。
酸(HF)5〜10%溶液からなるエッチング液をシャ
ワー状に浴びせて、エッチングを行なう。この時、感光
性ガラスの部所によってエッチング液をかける時間を変
えることにより、エッチングされる量を変え、図4に示
すように、流路の一部が傾斜した形状のインク流路1d
を形成する。なお本実施例では、感光性ガラス1の両面
にそれぞれエッチング工程を行なうことによって、表裏
両面にインク流路1dを設けている。
基板1を形成した後に、この表裏両面のインク流路1d
を塞ぐように振動板4を貼り付け、さらに振動板4上に
圧電素子5を設けて、図5に示すインクジェットプリン
タヘッドが完成する。このプリンタヘッドは、図示しな
い供給手段からインク流路1d内にインクが充填されて
おり、圧電素子5に電力が供給されたとき、振動板4が
内方へ変形して流路内のインクが加圧されて噴出する。
ームを用いて感光性ガラス1の露光を行なっているが、
レーザー発振器より発射された光の広がりを極めて小さ
くでき、実質的に光を直進させることができる。これに
より、感光性ガラス1の厚さが多少厚くても、光の入射
面1aおよびその反対側の面1bのいずれにおいても、
精度よく露光が行なえる。従って、両面にエッチングを
施す場合、両面に同一形状の流路などを正確に形成でき
る。
ーの分光分布を、図6に示している。このXeClエキ
シマレーザーの発振波長は308nmであり、それ以外
の波長の光強度は殆ど0である。すなわち、感光性ガラ
スの感光領域以外の分光が殆どなく、発光エネルギーは
全て感光性ガラスの露光に使われる。従って、露光の効
率がよく、作業の短時間化が図れる。なお、後述する
が、レーザーは通常の紫外線ランプなどに比べて光強度
が強いため、レーザーに対する感光性ガラスの露光感度
波長域は、紫外線ランプに対するものよりも広くなり、
およそ150〜400nmの範囲である。
ムを直接照射して感光性ガラス1を露光する、いわゆる
ビーム露光を行なう例を示したが、露光しない部分をマ
スキングしてから感光性ガラスにレーザー照射を行なっ
てもよい。例えば、露光パターン中にレーザービーム径
よりも微細なパターンが含まれているような露光工程の
場合、その微細パターンの部分だけレーザービーム径を
さらに絞って細くするためにレンズを用いて光学系の焦
点位置を変化させる構成とすることが考えられるが、こ
れでは極めて複雑な構成となる。そこで、その微細パタ
ーンに対応するパターンマスクを感光性ガラス上に配置
した状態でレーザービーム露光することにより、単純な
装置で効率よく露光することができる。
ている。すなわち、インク流路1dの形状の透光部15
aとそれ以外の形状の遮光部15bとからなる露光用パ
ターンマスク15を、感光性ガラス1上に配置し、この
パターンマスク15を介してレーザーを感光性ガラス1
に照射する。そして図8に示すように、透光部15a全
域にレーザービームを走査して照射を行なう。その後
は、前述の例と同様に、図3に示す熱現像工程およびエ
ッチング工程により図4に示すインク流路1dを形成
し、振動板4,圧電素子5を固着して図5に示すインク
ジェットヘッドを完成する。
ー光を透過せずその部分の感光性ガラスは露光されない
ため、インクジェットヘッドのノズルのようにレーザー
ビーム径よりも細い溝の形成など、極めて微細な加工が
可能である。また、パターンマスク15を精度よく形成
することによって、加工精度の向上が可能である。
例は、レーザービーム径よりも広い範囲を露光する場合
にレーザービームを走査させて露光するビーム露光の例
を示しているが、レーザービーム径を露光用パターンマ
スクの大きさと同程度あるいはそれ以上に拡げて、露光
用パターンマスクの全域を一度に露光する例について以
下に詳しく説明する。
示す。すなわち、水銀ランプ16の光を楕円凹面鏡17
で反射して第1のミラー18に照射し、第1のミラー1
8による反射光をインテグレーター(フライズ・アイ・
レンズ)19を介して第2のミラー20に照射し、さら
にその反射光をコンデンサーレンズ21および露光用パ
ターンマスク22を介して感光性ガラス23に投射し露
光するものである。なお、この従来例において、第1,
2のミラー18,20は装置の光学系の小型化のため、
インテグレーター19は光強度の均一化のため、コンデ
ンサーレンズ21は光の直進性向上のためにそれぞれ用
いられている。この従来例においても水銀ランプ16を
用いているため、前記した通り、光の直進性が不十分で
あるとともに露光時間が長くかかるという不具合があっ
た。
り微細な溝を形成する感光性ガラスの加工方法を、図9
〜図11に基づいて工程順に説明する。図9に示すよう
に第1の工程では、板厚1mmの感光性ガラス1の表面
1aと裏面1bの両面を研磨し、上方にXeClエキシ
マレーザー発振器3を配置して、レーザー光を露光用パ
ターンマスク15を介して感光性ガラスの表面1aの全
面に1度に照射する。なお、ここでは単にレーザー発振
器3として示しているが、実際には細いレーザービーム
を感光性ガラスと同程度の大きさまで拡げるために、図
22の従来例と同様な光学系が内蔵されている。感光性
ガラスの組成は従来例と同様であり、通常紫外線光源に
よる分光透過率特性に基づく感光性ガラスの露光感度波
長域は240〜360nm、レーザー光に対する露光感
度波長域は150〜400nmの範囲である。
その発振器3の仕様は、発振波長308nm,1パルス
当たりのエネルギー強度80mJ/cm2 ・パルス,パ
ルス幅20nsec,繰り返し周波数200Hzであ
る。
した感光性ガラス1を500〜700°C程度の高温に
加熱し、露光部1cを結晶化する熱現像工程を行なう。
は、この感光性ガラス1にフッ化水素酸5〜10%溶液
からなるエッチング液をシャワー状に浴びせてエッチン
グを行ない、結晶化した露光部1cを溶解除去して、溝
部(インク流路など)1dを形成する。
ルス数(総露光エネルギー量)とエッチング速度比との
関係を図12に示す。1パルス当たりのエネルギー強度
80mJ/cm2 のXeClエキシマレーザーを1パル
スで、10以上の極めて高いエッチング速度比が得ら
れ、未露光部と比べエッチング速度の遥かに速い結晶が
形成できていることがわかる。
露光した場合は、上記と同程度のエッチング速度比を得
るためには約30分の露光時間が必要であったが、上記
XeClエキシマレーザーでは、200Hzで1パルス
であるので、0.005秒となり露光時間は36万分の
1に短縮されたことになる。
水銀灯の場合は、6μm程度が微細加工の限界であった
が、XeClエキシマレーザーで露光した場合は、深さ
10μm程度までのエッチング加工であれば2μmのパ
ターンサイズも可能であり、微細加工に有効であること
がわかった。
の広がりに抑えることができ、板厚1mmの感光性ガラ
スに100μmのパターンを露光した時で、片側4μm
の広がりとなるため、光入射の裏面側で108μmとな
る。これは、従来の超高圧水銀灯と比べ1/6に改善で
きたことになる。
石英などの基板15上に遮光部を設けたマスクに限ら
ず、遮光板にパターン形状の孔を形成したマスクでもよ
い。
る。図13は5mm程度の厚みをもった感光性ガラスの
ブロック6を、第1の実施例と同様にXeClレーザー
の照射により露光するものである。露光が終了すると、
露光方向に直交する切断線7に沿ってブロック6を切断
し、小片6a〜6eに分割する。ブロック6の切断に
は、半導体のウエハー切断用として周知のスライシング
マシーンまたはダイシングマシーンなどが用いられる。
そして、分割した小片6a〜6eを熱現像した後、図1
4のように小片6a〜6eを並べて片面を保護部材8で
覆った状態で、図面上方からエッチング液(図示せず)
を浴びせてエッチングする。こうして一方の面のエッチ
ングが終了したら、小片6a〜6eを反転させて他方の
面を同様にエッチングする。このようにして、表裏両面
に同一の加工を施された複数の小片6a〜6eを得る。
露光工程が同時に行なえるため、作業効率が非常に向上
し作業の短時間化が可能である。そして、図14のよう
にエッチング工程も複数個同時に行なうことにより、さ
らに作業を短時間化することができる。特に、本実施例
のように同一形状の小片を多数製造する場合は、作業が
極めて効率的である。
めに、感光性ガラスの表面は研磨加工が施されるが、従
来は複数の板部材を製造する場合には各板部材の表面に
それぞれ研磨加工を行なう必要があったが、本実施例に
よるとブロック6の表面にのみ研磨しておけばよく、研
磨加工の回数が大幅に減り、作業効率が向上する。
スクを用いて露光工程を行なう例を図15に示してい
る。すなわち、感光性ガラスのブロック6の上面に、透
光部15aと遮光部15bとからなるパターンマスク1
5を配置して、このパターンマスク15を介してブロッ
ク6にレーザー照射を行なう。その後の熱現像工程,エ
ッチング工程などは上記の例と同様である。このよう
に、パターンマスク15を用いて露光工程を行なうこと
により、極めて微細かつ精密な加工が可能である。
性ガラス板9a〜9eを積層した状態で、一度に露光を
行なう方法である。この方法でも露光工程が短縮でき、
作業効率が向上する。また図17に示すように、露光用
パターンマスク15を用いて露光工程を行い、精密な加
工を行なうこともできる。
の実施例のように感光性ガラスの厚さが厚い場合や、第
3の実施例のように複数の感光性ガラス板を積層した場
合にも、ガラス内を光が透過する際に殆ど広がらず上面
から下面に至るまで精度よく露光できる。従って、第
2,3の実施例に基づいて製造した小片6a〜6e,9
a〜9eは、寸法精度よくエッチング加工できる。
ラスを置いた状態で露光を行なっているが、感光性ガラ
スをそれと近い屈折率をもつ液体中に入れて露光を行な
うと、感光性ガラスの表面における光の反射および屈折
の影響が小さく、より精度よく露光することができる。
その一例を図18に示している。これによると、感光性
ガラス(屈折率1.51117)と近い屈折率をもつと
ともに光の透過性のよい液体10,例えばベンゼン(屈
折率1.5012)を満たした容器11内に、感光性ガ
ラス板12a〜12eを入れている。なお、本実施例で
は、図示しない治具を用いて各ガラス板12a〜12e
を間隔を置いて積層し、その間隙に液体10が介在する
ようにしている。そして、第3の実施例と同様にレーザ
ー露光を行なうと、光の反射、屈折の影響を受けず、感
光性ガラス板12a〜12eが精度よく露光される。
感光性ガラスと同程度の屈折率1.5前後で光の透過性
が高ければよく、例えば四塩化炭素(屈折率1.460
7)やパラフィン油(屈折率1.48)などの液体が利
用できる。また、この実施例では複数の感光性ガラス板
を間隔を置いて積層した状態で液体10中に入れている
が、第1の実施例のように1枚の板部材のみを露光する
場合や、第2の実施例のようにブロックの状態で露光す
る場合にも、このように液体10中で感光性ガラスを露
光することによって精度を高めることができる。
露光用パターンマスク15を介して感光性ガラス板12
a〜12eにレーザー照射を行なうことにより、より微
細な加工が可能になる。
を用いて感光性ガラスを露光すると、光の広がりが極め
て小さく加工精度が向上する。特に、パターンマスクを
介して感光性ガラスにレーザー照射を行なうと、より精
密な加工が可能になる。また、レーザーの照射エネルギ
ーの無駄がないため効率がよくなる。
実施例と同様に感光性ガラスを露光した実施例について
以下に説明する。
感光性ガラス基板の両面を研磨し、上方にXeFエキシ
マレーザー発振器を配置して、レーザー光を露光用パタ
ーンマスクを介して感光性ガラスの表面に照射する。
振器の仕様は、発振波長351nm、パルス幅20ns
ec、1パルス当たりのエネルギー強度60mJ/cm
2 ・パルス、繰り返し周波数200Hzである。
エッチング工程を行なった。すると5パルス照射以上で
安定なエッチング速度比が得られるようになった。総エ
ネルギー強度は、300mJ/cm2 以上で安定の露光
となる。微細加工性や直進性は、XeClエキシマレー
ザーの場合と同様に良好であった。
使用して測定された感光性ガラスの相対露光感度(図2
1参照)によれば、露光感度波長域外であるが、強力な
光エネルギーをもつレーザーの通常使用条件において
は、感光性ガラスに実用上十分な露光作用を与えること
が判明した。
ガラスに照射した他の実施例について説明する。上記実
施例と同様な組成で板厚1mmの感光性ガラス基板の両
面を研磨し、上方にArFエキシマレーザー発振器を配
置してレーザー光を露光用パターンマスクを介して感光
性ガラスの表面に照射する。使用したArFエキシマレ
ーザーおよび発振器の仕様は、発振波長193nm,パ
ルス幅20nsec,1パルス当たりのエネルギー強度
5mJ/cm2 ・パルス,繰り返し周波数1Hzであ
る。そして、熱現像工程とエッチング工程を行なったと
ころ50パルス照射以上で安定なエッチング速度比が得
られた。
載されている通常紫外線光源を使用して測定された感光
性ガラスの露光感度波長域(図21参照)の外にあるに
もかかわらず、その強力な光エネルギーのためにレーザ
ーとしての通常使用条件において感光性ガラスに実用上
十分な露光作用を与えうることが判明した。このよう
に、上記実施例における感光性ガラスの露光感度波長域
は、通常紫外線を使用して測定される感光性ガラスの露
光感度波長域よりも広い波長域とみなされる。
による感光性ガラスの露光感度波長域は上記実施例など
を考察することにより、150〜400nmの範囲とい
える。
用いるのが最適ではあるが、他のエキシマレーザー,す
なわちXeF,ArFさらにKrF,F2 エキシマレー
ザーなどを用いることも可能である。またN2 レーザー
を用いることも可能である。さらにNd+ :YAGレー
ザー,色素レーザー,Krイオンレーザー,Arイオン
レーザーあるいは銅蒸気レーザーの基本発振波長光を非
線形光学素子などにより紫外域波長に変換した光源を用
いることも可能である。
を用いることにより、感光性ガラスを露光する際の光の
広がりが極めて小さくなり加工精度が向上するととも
に、照射エネルギーの無駄がないため効率がよくなる。
また、厚い感光性ガラスにおいても精度よく露光できる
ため、ブロック状の感光性ガラスを露光後分割したり、
複数の感光性ガラスを積層した状態で一度に露光するこ
とによって、短時間で効率よく多数の感光性ガラス部材
が製造できる。
体中に感光性ガラスを配置した状態で露光工程を行なう
と、光の反射や屈折の影響が小さいため、より精度よく
露光が行なえる。
面図
プリンタヘッドの断面図
用いた露光工程を示す正面図
面図
用いた露光工程のもう一つの例を示す正面図
面図
の正面図
エッチング速度比との関係図
図
面図
を用いた露光工程を示す正面図
図
を用いた露光工程を示す正面図
図
を用いた露光工程を示す正面図
ラス 15 露光用パターンマスク
Claims (8)
- 【請求項1】 感光性ガラスを、発振波長が上記感光性
ガラスの露光感度波長域にあるレーザーの照射によって
露光する露光工程と、上記感光性ガラスの上記露光部を
結晶化する熱現像工程と、結晶化された上記露光部をエ
ッチングする工程とを含むことを特徴とする感光性ガラ
スの加工方法。 - 【請求項2】 上記露光工程は、上記レーザーの照射ビ
ームを上記感光性ガラスに対し相対的に移動させて露光
パターンを形成するものであることを特徴とする請求項
1に記載の感光性ガラスの加工方法。 - 【請求項3】 上記露光工程は、上記感光性ガラス上に
配置した露光用パターンマスクを介して上記レーザー照
射を行なうものであることを特徴とする請求項1または
2に記載の感光性ガラスの加工方法。 - 【請求項4】 上記レーザーはエキシマレーザーである
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の感光
性ガラスの加工方法。 - 【請求項5】 上記レーザーの上記発振波長は、150
〜400nmの範囲内であることを特徴とする請求項1
〜4のいずれかに記載の感光性ガラスの加工方法。 - 【請求項6】 露光後に上記感光性ガラスを露光方向に
対して非平行な方向に切断して複数に分割する工程を含
むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の感
光性ガラスの加工方法。 - 【請求項7】 上記露光工程は、積層された複数の上記
感光性ガラスに同時に行なうものであることを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の感光性ガラスの加工
方法。 - 【請求項8】 上記露光工程は、上記感光性ガラスと同
程度の屈折率を有する液体中に上記感光性ガラスを配置
した状態で上記レーザー照射を行なうものであることを
特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の感光性ガラ
スの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3327762A JP2544266B2 (ja) | 1990-12-13 | 1991-12-11 | 感光性ガラスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40186290 | 1990-12-13 | ||
JP2-401862 | 1991-10-18 | ||
JP3-270879 | 1991-10-18 | ||
JP27087991 | 1991-10-18 | ||
JP3327762A JP2544266B2 (ja) | 1990-12-13 | 1991-12-11 | 感光性ガラスの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06218563A JPH06218563A (ja) | 1994-08-09 |
JP2544266B2 true JP2544266B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=27335855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3327762A Expired - Fee Related JP2544266B2 (ja) | 1990-12-13 | 1991-12-11 | 感光性ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2544266B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005144622A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-09 | Seiko Epson Corp | 構造体の製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 |
EP1990125B1 (en) * | 2006-02-22 | 2011-10-12 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass processing method using laser |
JP5917355B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-05-11 | ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54106524A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-21 | Hitachi Ltd | Method of deviding brittle material |
AU584563B2 (en) * | 1986-01-31 | 1989-05-25 | Ciba-Geigy Ag | Laser marking of ceramic materials, glazes, glass ceramics and glasses |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP3327762A patent/JP2544266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06218563A (ja) | 1994-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5374291A (en) | Method of processing photosensitive glass | |
US5919607A (en) | Photo-encoded selective etching for glass based microtechnology applications | |
WO1997015533A9 (en) | Photo-encoded selective etching for glass based microtechnology applications | |
US5314522A (en) | Method of processing photosensitive glass with a pulsed laser to form grooves | |
JP5371992B2 (ja) | レーザーエッチングを用いたガラスクリシェの製造方法及びそのためのレーザー照射装置 | |
JPH05139787A (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
KR20010039813A (ko) | 반도체 박막 제조 장치 | |
JP2544266B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
JP2873412B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
JPH04349132A (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
CN206162054U (zh) | 一种双脉冲碰撞等离子体极紫外光刻光源产生装置 | |
JP2889892B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
US6008467A (en) | Laser processing method to an optical waveguide | |
JP3635701B2 (ja) | 加工装置 | |
TW200523681A (en) | Device manufacturing method and device manufactured thereby | |
EP1548804B1 (en) | Illuminating optical system, exposure system and exposure method | |
JP3041551B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
CN106444295A (zh) | 一种双脉冲碰撞等离子体极紫外光刻光源产生装置 | |
JP3143832B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
DE4141869B4 (de) | Verfahren zur Bearbeitung von lichtempfindlichem Glas | |
JP2787039B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
JPH10265243A (ja) | シリカガラスの屈折率制御方法 | |
JPH05262537A (ja) | 穴付き部材の製造方法 | |
JPH0567201B2 (ja) | ||
JP2873413B2 (ja) | 感光性ガラスの露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090725 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090725 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100725 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100725 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100725 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100725 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100725 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110725 Year of fee payment: 15 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |