JPH04357133A - 感光性ガラスの加工方法 - Google Patents
感光性ガラスの加工方法Info
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- JPH04357133A JPH04357133A JP27088091A JP27088091A JPH04357133A JP H04357133 A JPH04357133 A JP H04357133A JP 27088091 A JP27088091 A JP 27088091A JP 27088091 A JP27088091 A JP 27088091A JP H04357133 A JPH04357133 A JP H04357133A
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Links
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- HGCGQDMQKGRJNO-UHFFFAOYSA-N xenon monochloride Chemical compound [Xe]Cl HGCGQDMQKGRJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性ガラスをエッチ
ングにより加工する方法に関するものである。
ングにより加工する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性ガラスにエッチングによる
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなどを製造
する方法がある。この方法は、紫外線ランプの照射によ
り感光性ガラスの所望の部分を露光し(露光工程)、感
光性ガラスを500〜700℃に加熱して露光部を結晶
化させ(熱現像工程)、結晶化した露光部をエッチング
液(フッ化水素酸溶液)により溶解させて除去する方法
である。なお、紫外線ランプとしては、水銀ランプなど
が用いられている。
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなどを製造
する方法がある。この方法は、紫外線ランプの照射によ
り感光性ガラスの所望の部分を露光し(露光工程)、感
光性ガラスを500〜700℃に加熱して露光部を結晶
化させ(熱現像工程)、結晶化した露光部をエッチング
液(フッ化水素酸溶液)により溶解させて除去する方法
である。なお、紫外線ランプとしては、水銀ランプなど
が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】図17には、通常紫外
線ランプと称されている超高圧水銀ランプの分光分布を
示している。これによると、水銀ランプは紫外線ばかり
でなく広い波長域に亘る分光分布特性を有しているが、
感光性ガラスは280〜350nmの波長の光のみにし
か感光されない。すなわち、水銀ランプを用いた場合、
350nm以上の波長域の分光は感光性ガラスの露光に
は関与しないので、照射エネルギーのうちの多くは無駄
に消費されることになり、露光の効率は低く、露光時間
は長くなる。
線ランプと称されている超高圧水銀ランプの分光分布を
示している。これによると、水銀ランプは紫外線ばかり
でなく広い波長域に亘る分光分布特性を有しているが、
感光性ガラスは280〜350nmの波長の光のみにし
か感光されない。すなわち、水銀ランプを用いた場合、
350nm以上の波長域の分光は感光性ガラスの露光に
は関与しないので、照射エネルギーのうちの多くは無駄
に消費されることになり、露光の効率は低く、露光時間
は長くなる。
【0004】そこで露光時間を短縮するために、図16
に示すように感光性ガラス16の下方に反射鏡17を配
置して、反射光を感光性ガラスの下面に再入射させ効率
を高める方法が考えられる。しかし、水銀ランプ18を
用いる方法では、光源から放射された光の直進性が低く
、±1度程度の広がりをもって進んでいく。そのため、
露光すべき感光性ガラス16の厚さが厚い場合は、光の
入射面16aでは精度よく露光できても、ガラス内部を
透過する際に光が広がってしまう。そして、反射鏡17
で反射し、反対側の面16bから入射して再び感光性ガ
ラス内を透過し、入射面16aに戻る時には、光は入射
時の露光範囲よりも遥かに広がってしまう。このように
、露光部の寸法誤差が大きくなると、エッチング工程に
おいて所望の部分だけを正確に除去することができず、
加工した製品の寸法精度が悪くなる。以上の理由により
、従来の水銀ランプを用いる方法では、反射鏡を用いて
露光の効率を高めることは困難である。
に示すように感光性ガラス16の下方に反射鏡17を配
置して、反射光を感光性ガラスの下面に再入射させ効率
を高める方法が考えられる。しかし、水銀ランプ18を
用いる方法では、光源から放射された光の直進性が低く
、±1度程度の広がりをもって進んでいく。そのため、
露光すべき感光性ガラス16の厚さが厚い場合は、光の
入射面16aでは精度よく露光できても、ガラス内部を
透過する際に光が広がってしまう。そして、反射鏡17
で反射し、反対側の面16bから入射して再び感光性ガ
ラス内を透過し、入射面16aに戻る時には、光は入射
時の露光範囲よりも遥かに広がってしまう。このように
、露光部の寸法誤差が大きくなると、エッチング工程に
おいて所望の部分だけを正確に除去することができず、
加工した製品の寸法精度が悪くなる。以上の理由により
、従来の水銀ランプを用いる方法では、反射鏡を用いて
露光の効率を高めることは困難である。
【0005】そこで本発明の目的は、露光工程の効率向
上および短時間化が可能で、厚い感光性ガラスにおいて
も寸法精度よく露光できる加工方法を提供することにあ
る。
上および短時間化が可能で、厚い感光性ガラスにおいて
も寸法精度よく露光できる加工方法を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る感光性ガラ
スの加工方法の特徴は、発振波長が280〜350nm
のレーザーを感光性ガラスの一方の面に照射し、かつ感
光性ガラスと並置された反射鏡により感光性ガラスを透
過したレーザーを反射して感光性ガラスの他方の面に入
射させて、感光性ガラスを露光する工程と、感光性ガラ
スの露光部をエッチングする工程とを含むところにある
。なお、このレーザーとしてはXeClエキシマレーザ
ーを用いることが好ましい。
スの加工方法の特徴は、発振波長が280〜350nm
のレーザーを感光性ガラスの一方の面に照射し、かつ感
光性ガラスと並置された反射鏡により感光性ガラスを透
過したレーザーを反射して感光性ガラスの他方の面に入
射させて、感光性ガラスを露光する工程と、感光性ガラ
スの露光部をエッチングする工程とを含むところにある
。なお、このレーザーとしてはXeClエキシマレーザ
ーを用いることが好ましい。
【0007】露光後の感光性ガラスを露光方向と直交す
る方向に切断して複数に分割するようにすると、感光性
ガラスからなる部材を複数個得る場合の効率化が図れる
。
る方向に切断して複数に分割するようにすると、感光性
ガラスからなる部材を複数個得る場合の効率化が図れる
。
【0008】また、露光工程として、積層された複数の
感光性ガラスに同時に露光すると、多数の感光性ガラス
に加工を施す際の効率化が可能である。
感光性ガラスに同時に露光すると、多数の感光性ガラス
に加工を施す際の効率化が可能である。
【0009】そして、感光性ガラスと同程度の屈折率を
有する液体中に感光性ガラスを配置した状態で、レーザ
ー照射による露光を行なうと、さらに露光の精度が向上
する。
有する液体中に感光性ガラスを配置した状態で、レーザ
ー照射による露光を行なうと、さらに露光の精度が向上
する。
【0010】
【作用】レーザーは直進性がよく、例えばXeClエキ
シマレーザーの場合、光の広がりを±約0.02度にす
ることができるため、厚い感光性ガラスにおいてもガラ
ス内部での光の広がりを小さくできる。従って、レーザ
ーが感光性ガラスを透過した後反射鏡により反射させて
、再び感光性ガラス内に入射させても、当初の入射時と
同じ寸法で感光性ガラスを透過するため、露光部分の寸
法誤差が生じない。
シマレーザーの場合、光の広がりを±約0.02度にす
ることができるため、厚い感光性ガラスにおいてもガラ
ス内部での光の広がりを小さくできる。従って、レーザ
ーが感光性ガラスを透過した後反射鏡により反射させて
、再び感光性ガラス内に入射させても、当初の入射時と
同じ寸法で感光性ガラスを透過するため、露光部分の寸
法誤差が生じない。
【0011】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。
て説明する。
【0012】まず、図1〜図5に基づいて、本発明に係
る加工方法により感光性ガラス製のインクジェットプリ
ンタヘッドを製造する方法を工程順に説明する。まず、
図1に示すように、上下両面1a,1bが研磨された感
光性ガラス1(本実施例においては厚さ1mmの板部材
)の下方に、反射鏡2を間隔をおいて並置する。そして
、感光性ガラス1の上方に設けられたエキシマレーザー
発振器3から、XeClエキシマレーザーを照射する。 図1に示すように、XeClエキシマレーザーは発振器
3から発射されると直進して、感光性ガラス1の上面1
aに入射する。
る加工方法により感光性ガラス製のインクジェットプリ
ンタヘッドを製造する方法を工程順に説明する。まず、
図1に示すように、上下両面1a,1bが研磨された感
光性ガラス1(本実施例においては厚さ1mmの板部材
)の下方に、反射鏡2を間隔をおいて並置する。そして
、感光性ガラス1の上方に設けられたエキシマレーザー
発振器3から、XeClエキシマレーザーを照射する。 図1に示すように、XeClエキシマレーザーは発振器
3から発射されると直進して、感光性ガラス1の上面1
aに入射する。
【0013】感光性ガラス1内を透過すると、反射鏡2
に反射され、下面1bより感光性ガラス1内に再び入射
する。そして、レーザーは感光性ガラス1の下面1bか
ら上面1aに向けて透過し、上方へ進行する。レーザー
発振器3から反射鏡2の間を往復する間において、レー
ザーは実質的に直進する。このように往復するレーザー
光によって、感光性ガラス1は露光される。
に反射され、下面1bより感光性ガラス1内に再び入射
する。そして、レーザーは感光性ガラス1の下面1bか
ら上面1aに向けて透過し、上方へ進行する。レーザー
発振器3から反射鏡2の間を往復する間において、レー
ザーは実質的に直進する。このように往復するレーザー
光によって、感光性ガラス1は露光される。
【0014】そして図示しない移動手段により感光性ガ
ラス1を移動して、図2に示すように、エッチングを行
なう範囲全てをレーザーにより露光する。
ラス1を移動して、図2に示すように、エッチングを行
なう範囲全てをレーザーにより露光する。
【0015】露光が完了すると、感光性ガラス1を50
0〜700℃程度の高温に加熱し、図3に示すように、
露光部1cを結晶化する熱現像工程を行なう。
0〜700℃程度の高温に加熱し、図3に示すように、
露光部1cを結晶化する熱現像工程を行なう。
【0016】次に、この感光性ガラス1に、フッ化水素
酸(HF)5〜10%溶液からなるエッチング液をシャ
ワー状に浴びせて、エッチングを行なう。この時、感光
性ガラスの部所によってエッチング液をかける時間を変
えることにより、エッチングにより溶解される量を変え
、図4に示すように、所望の形状のインク流路1dを形
成する。なお本実施例では、感光性ガラス1の両面にそ
れぞれエッチング工程を行なうことによって、表裏両面
にインク流路1dを設けている。
酸(HF)5〜10%溶液からなるエッチング液をシャ
ワー状に浴びせて、エッチングを行なう。この時、感光
性ガラスの部所によってエッチング液をかける時間を変
えることにより、エッチングにより溶解される量を変え
、図4に示すように、所望の形状のインク流路1dを形
成する。なお本実施例では、感光性ガラス1の両面にそ
れぞれエッチング工程を行なうことによって、表裏両面
にインク流路1dを設けている。
【0017】このようにして感光性ガラスからなる流路
基板1を形成したら、この表裏両面のインク流路1dを
塞ぐように振動板4を貼り付け、さらに振動板4上に圧
電素子5を設けて、図5に示すインクジェットプリンタ
ヘッドが完成する。このプリンタヘッドは、図示しない
供給手段からインク流路1d内にインクが充填されてお
り、圧電素子5に電力が供給されたとき、振動板4が振
動して流路内のインクが加圧されて突出するものである
。
基板1を形成したら、この表裏両面のインク流路1dを
塞ぐように振動板4を貼り付け、さらに振動板4上に圧
電素子5を設けて、図5に示すインクジェットプリンタ
ヘッドが完成する。このプリンタヘッドは、図示しない
供給手段からインク流路1d内にインクが充填されてお
り、圧電素子5に電力が供給されたとき、振動板4が振
動して流路内のインクが加圧されて突出するものである
。
【0018】本発明では、図1に示すようにレーザーを
用いて感光性ガラス1の露光を行なっているが、レーザ
ーより発振された光の広がりは±0.02度程度(Xe
Clエキシマレーザーの場合)と極めて小さくでき、実
質的に光を直進させることができる。これにより、多少
厚い感光性ガラス1において反射鏡2を用いレーザー光
の往復による露光を行なっても、光の入射面1aおよび
その反対側の面1bのいずれも、精度よく露光が行なえ
る。従って、両面にエッチングを施す場合、両面に同一
形状の流路などを正確に形成できる。
用いて感光性ガラス1の露光を行なっているが、レーザ
ーより発振された光の広がりは±0.02度程度(Xe
Clエキシマレーザーの場合)と極めて小さくでき、実
質的に光を直進させることができる。これにより、多少
厚い感光性ガラス1において反射鏡2を用いレーザー光
の往復による露光を行なっても、光の入射面1aおよび
その反対側の面1bのいずれも、精度よく露光が行なえ
る。従って、両面にエッチングを施す場合、両面に同一
形状の流路などを正確に形成できる。
【0019】そして本発明では、発振器3から照射され
たレーザーと、反射鏡2により反射されたレーザーとに
より表裏両面から感光性ガラス1の露光が行なわれるた
め、露光時間が短縮できる。なお、感光性ガラス1は1
mmあたり約90%のレーザー光を透過することが実験
的に求められている。これに基づいて計算すると、本実
施例では、厚さ1mmの感光性ガラス1を用いており往
復の2mmで約81%のレーザー光が透過されるため、
反射鏡を用いない場合と比べて180%程度の光強度で
露光でき、露光時間は従来の55%程度に短縮できる。 また、入射面1a側と反対面1b側での光強度が均一化
されるため、露光のばらつきがなくなる。
たレーザーと、反射鏡2により反射されたレーザーとに
より表裏両面から感光性ガラス1の露光が行なわれるた
め、露光時間が短縮できる。なお、感光性ガラス1は1
mmあたり約90%のレーザー光を透過することが実験
的に求められている。これに基づいて計算すると、本実
施例では、厚さ1mmの感光性ガラス1を用いており往
復の2mmで約81%のレーザー光が透過されるため、
反射鏡を用いない場合と比べて180%程度の光強度で
露光でき、露光時間は従来の55%程度に短縮できる。 また、入射面1a側と反対面1b側での光強度が均一化
されるため、露光のばらつきがなくなる。
【0020】本実施例で用いたXeClエキシマレーザ
ーの分光分布を図6に示している。このXeClエキシ
マレーザーの発振波長は308nmであり、それ以外の
波長の光強度は殆ど0である。すなわち、感光性ガラス
の感光領域(波長280〜350nm)以外の分光が殆
どなく、照射エネルギーは全て感光性ガラスの露光に使
われる。従って、水銀ランプよりも露光の効率がよい。
ーの分光分布を図6に示している。このXeClエキシ
マレーザーの発振波長は308nmであり、それ以外の
波長の光強度は殆ど0である。すなわち、感光性ガラス
の感光領域(波長280〜350nm)以外の分光が殆
どなく、照射エネルギーは全て感光性ガラスの露光に使
われる。従って、水銀ランプよりも露光の効率がよい。
【0021】この実施例では、レーザーを直接照射して
感光性ガラス1を露光したが、露光しない部分をマスキ
ングしてから感光性ガラスにレーザー照射を行なっても
よい。そのような露光工程の例を図7,8に示している
。すなわち、インク流路1dの形状の透光部19aとそ
れ以外の形状の遮光部19bとからなるフォトマスク1
9を、感光性ガラス1上に配置し、このフォトマスク1
9を介してレーザーを感光性ガラス1に照射する。この
ときレーザーは、発振器3から感光性ガラス1に入射す
るとともに、下方の反射鏡2によって反射し感光性ガラ
ス1に再度入射するため、感光性ガラス1は効率よく露
光される。そして図8に示すように、透光部19a全域
にレーザー照射を行なう。その後は、前述の例と同様に
、図3に示す熱現像工程およびエッチング工程により図
4に示すインク流路1dを形成し、振動板4,圧電素子
5を固着して図5に示すインクジェットヘッドを完成す
る。
感光性ガラス1を露光したが、露光しない部分をマスキ
ングしてから感光性ガラスにレーザー照射を行なっても
よい。そのような露光工程の例を図7,8に示している
。すなわち、インク流路1dの形状の透光部19aとそ
れ以外の形状の遮光部19bとからなるフォトマスク1
9を、感光性ガラス1上に配置し、このフォトマスク1
9を介してレーザーを感光性ガラス1に照射する。この
ときレーザーは、発振器3から感光性ガラス1に入射す
るとともに、下方の反射鏡2によって反射し感光性ガラ
ス1に再度入射するため、感光性ガラス1は効率よく露
光される。そして図8に示すように、透光部19a全域
にレーザー照射を行なう。その後は、前述の例と同様に
、図3に示す熱現像工程およびエッチング工程により図
4に示すインク流路1dを形成し、振動板4,圧電素子
5を固着して図5に示すインクジェットヘッドを完成す
る。
【0022】この方法によると、遮光部19bはレーザ
ーを透過せずその部分の感光性ガラスは露光されないた
め、インクジェットヘッドのノズルのようにレーザーの
幅よりも細い溝の形成など、極めて微細な加工が可能で
ある。また、フォトマスク19を精度よく形成すること
によって、加工精度の向上が可能である。
ーを透過せずその部分の感光性ガラスは露光されないた
め、インクジェットヘッドのノズルのようにレーザーの
幅よりも細い溝の形成など、極めて微細な加工が可能で
ある。また、フォトマスク19を精度よく形成すること
によって、加工精度の向上が可能である。
【0023】また、上記のようにXeClエキシマレー
ザーを用いるのが最適ではあるが、発振波長が280〜
350nmであれば、他のエキシマレーザーや炭酸ガス
レーザーなどを用いることも可能である。
ザーを用いるのが最適ではあるが、発振波長が280〜
350nmであれば、他のエキシマレーザーや炭酸ガス
レーザーなどを用いることも可能である。
【0024】次に本発明の第2の実施例について説明す
る。図9は5mm程度の厚みをもった感光性ガラスのブ
ロック6を、第1の実施例と同様に、XeClレーザー
の照射および反射鏡7による反射によって露光するもの
である。露光が終了すると、切断線8に沿ってブロック
6を切断し、小片6a〜6eに分割する。ブロック6の
切断には、半導体のウエハー切断用として周知のスライ
シングマシーンまたはダイシングマシーンなどが用いら
れる。そして、分割した小片6a〜6eを熱現像した後
、図10のように小片6a〜6eを並べて片面を保護部
材9で覆った状態で、図面上方からエッチング液(図示
せず。)を浴びせてエッチングを行なう。こうして一方
の面のエッチングが終了したら、小片6a〜6eを反転
させて他方の面を同様にエッチングする。このようにし
て表裏両面に同一の加工を施された複数の小片6a〜6
eを得る。
る。図9は5mm程度の厚みをもった感光性ガラスのブ
ロック6を、第1の実施例と同様に、XeClレーザー
の照射および反射鏡7による反射によって露光するもの
である。露光が終了すると、切断線8に沿ってブロック
6を切断し、小片6a〜6eに分割する。ブロック6の
切断には、半導体のウエハー切断用として周知のスライ
シングマシーンまたはダイシングマシーンなどが用いら
れる。そして、分割した小片6a〜6eを熱現像した後
、図10のように小片6a〜6eを並べて片面を保護部
材9で覆った状態で、図面上方からエッチング液(図示
せず。)を浴びせてエッチングを行なう。こうして一方
の面のエッチングが終了したら、小片6a〜6eを反転
させて他方の面を同様にエッチングする。このようにし
て表裏両面に同一の加工を施された複数の小片6a〜6
eを得る。
【0025】これによると、多数の小片6a〜6eの露
光工程が同時に行なえるため、作業効率が非常に向上し
作業の短時間化が可能である。そして、図10のように
エッチング工程も複数個同時に行なうことにより、さら
に作業を短時間化することができる。特に、本実施例の
ように同一形状の小片を多数製造する場合には、作業が
極めて効率的である。
光工程が同時に行なえるため、作業効率が非常に向上し
作業の短時間化が可能である。そして、図10のように
エッチング工程も複数個同時に行なうことにより、さら
に作業を短時間化することができる。特に、本実施例の
ように同一形状の小片を多数製造する場合には、作業が
極めて効率的である。
【0026】また、露光時の光の入射を正常に行なうた
めに、感光性ガラスの表面には研磨加工が施されるが、
従来は複数の板部材を製造する場合には各板部材にそれ
ぞれ研磨加工を行なう必要があったが、本実施例による
とブロック6の表面にのみ研磨しておけばよく、研磨加
工の回数が大幅に減り、作業効率が向上する。
めに、感光性ガラスの表面には研磨加工が施されるが、
従来は複数の板部材を製造する場合には各板部材にそれ
ぞれ研磨加工を行なう必要があったが、本実施例による
とブロック6の表面にのみ研磨しておけばよく、研磨加
工の回数が大幅に減り、作業効率が向上する。
【0027】この実施例では5mmの感光性ガラスブロ
ック6を用いているため、往復の10mmでレーザー光
の透過率は約35%である。従って、反射鏡を用いない
場合に比べて135%の光強度で露光でき、露光時間は
74%程度に短縮できる。
ック6を用いているため、往復の10mmでレーザー光
の透過率は約35%である。従って、反射鏡を用いない
場合に比べて135%の光強度で露光でき、露光時間は
74%程度に短縮できる。
【0028】この加工方法において、フォトマスクを用
いて露光工程を行なう例を図11に示している。すなわ
ち、感光性ガラスのブロック6の上面に、透光部19a
と遮光部19bとからなるフォトマスク19を配置し、
ブロック6の下方に反射鏡7を配置して、フォトマスク
19を介してブロック6にレーザー照射を行なう。その
後の熱現像工程,エッチング工程などは上記の例と同様
である。このように、フォトマスク19を用いて露光工
程を行なうことにより、極めて微細かつ精密な加工が可
能である。
いて露光工程を行なう例を図11に示している。すなわ
ち、感光性ガラスのブロック6の上面に、透光部19a
と遮光部19bとからなるフォトマスク19を配置し、
ブロック6の下方に反射鏡7を配置して、フォトマスク
19を介してブロック6にレーザー照射を行なう。その
後の熱現像工程,エッチング工程などは上記の例と同様
である。このように、フォトマスク19を用いて露光工
程を行なうことにより、極めて微細かつ精密な加工が可
能である。
【0029】図12に示す第3の実施例は、複数の感光
性ガラス板10a〜10eを積層した状態で、これらの
下方に反射鏡11を配置し、レーザー光の照射および反
射で一度に露光を行なう方法である。この方法でも露光
工程が短縮でき、作業効率が向上する。この実施例でも
1mm厚の感光性ガラス板を5枚積層しているので、第
2の実施例と同様に約135%の光強度で露光でき、露
光時間を74%程度に短縮できる。また図13に示すよ
うに、フォトマスク19を用いて露光工程を行い、精密
な加工を行なうこともできる。
性ガラス板10a〜10eを積層した状態で、これらの
下方に反射鏡11を配置し、レーザー光の照射および反
射で一度に露光を行なう方法である。この方法でも露光
工程が短縮でき、作業効率が向上する。この実施例でも
1mm厚の感光性ガラス板を5枚積層しているので、第
2の実施例と同様に約135%の光強度で露光でき、露
光時間を74%程度に短縮できる。また図13に示すよ
うに、フォトマスク19を用いて露光工程を行い、精密
な加工を行なうこともできる。
【0030】レーザーから放射された光は極めて直進性
がよいので、第2の実施例のように感光性ガラスの厚さ
が厚い場合や、第3の実施例のように複数の感光性ガラ
ス板を積層した場合にも、ガラス内を光が透過し、さら
に反射されて再透過した後も、光は殆ど広がらず上端か
ら下端に至るまで精度よく露光できる。従って、第2,
3の実施例に基づいて製造した小片6a〜6e,10a
〜10eは、寸法精度よくエッチング加工できる。
がよいので、第2の実施例のように感光性ガラスの厚さ
が厚い場合や、第3の実施例のように複数の感光性ガラ
ス板を積層した場合にも、ガラス内を光が透過し、さら
に反射されて再透過した後も、光は殆ど広がらず上端か
ら下端に至るまで精度よく露光できる。従って、第2,
3の実施例に基づいて製造した小片6a〜6e,10a
〜10eは、寸法精度よくエッチング加工できる。
【0031】そして、レーザー光の照射とその反射とに
よって露光するため、露光部の上面側と下面側とで均一
な露光ができる。従って第2,第3の実施例によると、
同程度の露光がなされた複数の感光性ガラス片6a〜6
e、10a〜10eを得ることができる。
よって露光するため、露光部の上面側と下面側とで均一
な露光ができる。従って第2,第3の実施例によると、
同程度の露光がなされた複数の感光性ガラス片6a〜6
e、10a〜10eを得ることができる。
【0032】なお、前述のように感光性ガラスの厚さに
よってレーザー光の透過率が変わり、それに伴なって露
光効率が決まるので、照射時の光強度とガラス厚を適宜
に設定することにより、所望の露光時間とすることがで
きる。
よってレーザー光の透過率が変わり、それに伴なって露
光効率が決まるので、照射時の光強度とガラス厚を適宜
に設定することにより、所望の露光時間とすることがで
きる。
【0033】第1〜3の実施例では、空気中に感光性ガ
ラスを置いた状態で露光を行なっているが、感光性ガラ
スをそれと近い屈折率をもつ液体中に入れて露光を行な
うと、感光性ガラスの端面における光の屈折の影響が小
さく、より精度よく露光することができる。その一例を
図14に示している。これによると、感光性ガラス(屈
折率1.51117)と近い屈折率をもつとともに光の
透過性のよい液体12,例えばベンゼン(屈折率1.5
012)を満たした容器13内に、感光性ガラス板14
a〜14eを入れ、その下方に反射鏡15を並置してい
る。なお、本実施例では、図示しない治具を用いて各ガ
ラス板14a〜14eを間隔を置いて積層し、その間隙
に液体12が介在するようにしている。そして、第3の
実施例と同様にレーザーにより露光を行なうと、感光性
ガラス表面での光の屈折の影響を受けず、感光性ガラス
板14a〜14eが精度よく露光される。
ラスを置いた状態で露光を行なっているが、感光性ガラ
スをそれと近い屈折率をもつ液体中に入れて露光を行な
うと、感光性ガラスの端面における光の屈折の影響が小
さく、より精度よく露光することができる。その一例を
図14に示している。これによると、感光性ガラス(屈
折率1.51117)と近い屈折率をもつとともに光の
透過性のよい液体12,例えばベンゼン(屈折率1.5
012)を満たした容器13内に、感光性ガラス板14
a〜14eを入れ、その下方に反射鏡15を並置してい
る。なお、本実施例では、図示しない治具を用いて各ガ
ラス板14a〜14eを間隔を置いて積層し、その間隙
に液体12が介在するようにしている。そして、第3の
実施例と同様にレーザーにより露光を行なうと、感光性
ガラス表面での光の屈折の影響を受けず、感光性ガラス
板14a〜14eが精度よく露光される。
【0034】なお、感光性ガラスを入れる液体12は屈
折率が1.5前後で光の透過性が高ければよく、例えば
四塩化炭素(屈折率1.4607)やパラフィン油(屈
折率1.48)などの液体が利用できる。また、この実
施例では複数の感光性ガラス板を間隔を置いて積層した
状態で液体12中に入れているが、第1の実施例のよう
に1枚の板部材のみを露光する場合や、第2の実施例の
ようにブロックの状態で露光する場合にも、このように
液体12中で感光性ガラスを露光することによって精度
を高めることができる。
折率が1.5前後で光の透過性が高ければよく、例えば
四塩化炭素(屈折率1.4607)やパラフィン油(屈
折率1.48)などの液体が利用できる。また、この実
施例では複数の感光性ガラス板を間隔を置いて積層した
状態で液体12中に入れているが、第1の実施例のよう
に1枚の板部材のみを露光する場合や、第2の実施例の
ようにブロックの状態で露光する場合にも、このように
液体12中で感光性ガラスを露光することによって精度
を高めることができる。
【0035】もちろんこの場合も、図15に示すように
フォトマスク19を介して感光性ガラス板14a〜14
eにレーザー照射を行なうことにより、より微細な加工
が可能になる。
フォトマスク19を介して感光性ガラス板14a〜14
eにレーザー照射を行なうことにより、より微細な加工
が可能になる。
【0036】上記第1〜4の実施例のように、発振波長
が280〜350nm程度であるレーザーと反射鏡とを
用いて感光性ガラスを露光すると、光の広がりが極めて
小さく加工精度が向上するとともに、レーザーの照射エ
ネルギーに無駄がなく、しかも反射光も利用するため、
極めて効率よく露光できる。特に、フォトマスクを介し
て感光性ガラスにレーザー照射を行なうと、より精密な
加工が可能になる。
が280〜350nm程度であるレーザーと反射鏡とを
用いて感光性ガラスを露光すると、光の広がりが極めて
小さく加工精度が向上するとともに、レーザーの照射エ
ネルギーに無駄がなく、しかも反射光も利用するため、
極めて効率よく露光できる。特に、フォトマスクを介し
て感光性ガラスにレーザー照射を行なうと、より精密な
加工が可能になる。
【0037】
【発明の効果】以上のように本発明によると、感光性ガ
ラスの露光にレーザーを用いているため、感光性ガラス
を透過したレーザー光を反射鏡で反射させて感光性ガラ
スを再透過させることが可能であり、高い寸法精度でか
つ高い効率で露光を行なうことができる。従って作業時
間の短縮化も可能である。また、感光性ガラスの感度領
域外の波長の発振を行なわないレーザー発振器を用いて
いるため、照射エネルギーに無駄がなく効率的である。
ラスの露光にレーザーを用いているため、感光性ガラス
を透過したレーザー光を反射鏡で反射させて感光性ガラ
スを再透過させることが可能であり、高い寸法精度でか
つ高い効率で露光を行なうことができる。従って作業時
間の短縮化も可能である。また、感光性ガラスの感度領
域外の波長の発振を行なわないレーザー発振器を用いて
いるため、照射エネルギーに無駄がなく効率的である。
【0038】ブロック状の感光性ガラスを露光後分割し
たり、複数の感光性ガラスを積層した状態で一度に露光
すると、さらに短時間で効率よく多数の感光性ガラス部
材が製造できる。
たり、複数の感光性ガラスを積層した状態で一度に露光
すると、さらに短時間で効率よく多数の感光性ガラス部
材が製造できる。
【0039】感光性ガラスと同程度の屈折率を有する液
体中に感光性ガラスを配置した状態で露光工程を行なう
と、感光性ガラス表面での光の屈折の影響を殆ど受けず
、さらに精度よく露光が行なえる。
体中に感光性ガラスを配置した状態で露光工程を行なう
と、感光性ガラス表面での光の屈折の影響を殆ど受けず
、さらに精度よく露光が行なえる。
【図1】本発明の第1の実施例の露光工程を示す正面図
【図2】図1に示す露光工程終了時の感光性ガラスの正
面図
面図
【図3】熱現像工程における感光性ガラスの正面図
【図
4】エッチング工程後の感光性ガラスの断面図
4】エッチング工程後の感光性ガラスの断面図
【図5】
感光性ガラスを用いて製造したインクジェットプリンタ
ヘッドの断面図
感光性ガラスを用いて製造したインクジェットプリンタ
ヘッドの断面図
【図6】塩化キセノンエキシマレーザーの分光分布図
【
図7】第1の実施例においてフォトマスクを用いた露光
工程を示す正面図
図7】第1の実施例においてフォトマスクを用いた露光
工程を示す正面図
【図8】図7に示す露光工程終了時の感光性ガラスの正
面図
面図
【図9】本発明の第2の実施例の露光工程を示す正面図
【図10】第2の実施例のエッチング工程を示す縮小正
面図
面図
【図11】第2の実施例においてフォトマスクを用いた
露光工程を示す正面図
露光工程を示す正面図
【図12】本発明の第3の実施例の露光工程を示す正面
図
図
【図13】第3の実施例においてフォトマスクを用いた
露光工程を示す正面図
露光工程を示す正面図
【図14】本発明の第4の実施例の露光工程を示す正面
図
図
【図15】第4の実施例においてフォトマスクを用いた
露光工程を示す正面図
露光工程を示す正面図
【図16】従来の露光工程を示す正面図
【図17】50
0W超高圧水銀ランプの分光分布図
0W超高圧水銀ランプの分光分布図
1 感光性ガラス
2 反射鏡
3 レーザー発振器
6 感光性ガラス
7 反射鏡
10a,10b,10c,10d,10e 感光
性ガラス 11 反射鏡 12 液体 14a,14b,14c,14d,14e 感光性ガ
ラス
性ガラス 11 反射鏡 12 液体 14a,14b,14c,14d,14e 感光性ガ
ラス
Claims (5)
- 【請求項1】 発振波長が280〜350nmのレー
ザーを感光性ガラスの一方の面に照射し、かつ上記感光
性ガラスと並置された反射鏡により上記感光性ガラスを
透過した上記レーザーを反射して上記感光性ガラスの他
方の面に入射させ、上記感光性ガラスを露光する工程と
、上記感光性ガラスの上記露光部をエッチングする工程
とを含むことを特徴とする感光性ガラスの加工方法。 - 【請求項2】 上記レーザーはXeClエキシマレー
ザーであることを特徴とする請求項1に記載の感光性ガ
ラスの加工方法。 - 【請求項3】 露光後の上記感光性ガラスを露光方向
と直交する方向に切断して複数に分割する工程を含むこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の感光性ガラス
の加工方法。 - 【請求項4】 上記露光工程は、積層された複数の上
記感光性ガラスに同時に行なうものであることを特徴と
する請求項1または2に記載の感光性ガラスの加工方法
。 - 【請求項5】 上記露光工程は、上記感光性ガラスと
同程度の屈折率を有する液体中に上記感光性ガラスを配
置した状態で上記レーザー照射を行なうものであること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の感光性ガ
ラスの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27088091A JP2889892B2 (ja) | 1990-12-20 | 1991-10-18 | 感光性ガラスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40414490 | 1990-12-20 | ||
JP2-404144 | 1990-12-20 | ||
JP27088091A JP2889892B2 (ja) | 1990-12-20 | 1991-10-18 | 感光性ガラスの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04357133A true JPH04357133A (ja) | 1992-12-10 |
JP2889892B2 JP2889892B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=26549432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27088091A Expired - Fee Related JP2889892B2 (ja) | 1990-12-20 | 1991-10-18 | 感光性ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2889892B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0680804A1 (en) * | 1994-05-03 | 1995-11-08 | Ferroperm Components A/S | A method of processing oxide materials by means of a laser beam |
KR20150032864A (ko) * | 2012-07-17 | 2015-03-30 | 리젝 오스트리아 게엠베하 | 판 유리의 테두리들 상에 사면들을 생성하기 위한 방법 및 장치 |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP27088091A patent/JP2889892B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0680804A1 (en) * | 1994-05-03 | 1995-11-08 | Ferroperm Components A/S | A method of processing oxide materials by means of a laser beam |
KR20150032864A (ko) * | 2012-07-17 | 2015-03-30 | 리젝 오스트리아 게엠베하 | 판 유리의 테두리들 상에 사면들을 생성하기 위한 방법 및 장치 |
JP2015524785A (ja) * | 2012-07-17 | 2015-08-27 | リゼツク・オーストリア・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 平らなガラスのエッヂに斜面を作成する方法および装置 |
US9375806B2 (en) | 2012-07-17 | 2016-06-28 | Lisec Austria Gmbh | Method and arrangement for creating bevels on the edges of flat glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2889892B2 (ja) | 1999-05-10 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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