JPH0836752A - 磁気ディスクのエア吸着保持機構 - Google Patents
磁気ディスクのエア吸着保持機構Info
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- JPH0836752A JPH0836752A JP19282594A JP19282594A JPH0836752A JP H0836752 A JPH0836752 A JP H0836752A JP 19282594 A JP19282594 A JP 19282594A JP 19282594 A JP19282594 A JP 19282594A JP H0836752 A JPH0836752 A JP H0836752A
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Abstract
半径に微小な加工誤差がある吸着面Kに対して、エア漏
れを防止してディスク1を強く吸着するエア吸着保持機
構を提供する。 【構成】 ディスク1の外周1a に沿った円弧状の斜面
S1,S2 を有する2枚の支持板71a,71b と、これらの周
辺部の斜面S1,S2 を除く部分に嵌挿されたスペーサ72
とを重ね合わせて、周辺部をボルト73により共締めし、
両斜面S1,S2 を外周1a のチャンファCH1,CH2 に
対する吸着面Kとし、両斜面S1,S2 の左右の中心部
に、両斜面S1,S2 の間隔を調整する調整ねじ75を設け
る。
Description
するために、これをエア吸着して保持する機構に関す
る。
ド磁気ディスク(以下単に磁気ディスク、またはディス
クという)は、製作後、1枚ごとにその記憶性能が検査
装置により検査される。検査を効率化するために、コン
ピュータに制御された搬送機構が設けられ、ディスクは
そのロボットハンドによりチャックされて所定の位置間
を搬送される。なお磁気ディスクは表裏の両面が使用さ
れるので、ロボットハンドは、いずれの面にも触れない
外周チャック方式によっている。ディスクに対する搬送
機構には各種の形式があるが、その基本構成の例を図4
と図5に示し、これらにおけるディスク搬送の概略を説
明する。
れぞれの面を鉛直(Z)方向としてカセット2に収容さ
れる。これに対して設けられた搬送機構3は、そのロボ
ットハンド32がガイドレール31に沿ってX移動し、その
2本の屈曲アーム321,322 がYおよびZ移動して、最前
位(図では最後位)のディスク1をチャックする。図
(イ) はチャック状態を示し、ディスク1はその外周の3
点p1,p2,p3 が機械的にチャックされている。ディス
ク1をチャックしたロボットハンド32は、上記と逆方向
にZおよびY移動し、さらに検査装置4のスピンドル41
の位置までX移動し、水平方向をなすスピンドル41に対
してディスク1が鉛直に装着される。検査が終了する
と、ディスク1は再びロボットハンド32にチャックされ
て、図示しない検査済みカセットまで搬送されて収容さ
れる。
鉛直状態でチャックするものであるが、これに対して、
図5は水平状態のディスク1をチャックするロボットハ
ンド33を示す。カセット2は鉛直方向とされ、これに水
平に収容された最上位のディスク1に対して、ロボット
ハンド33の2本の移動アーム331,332 が互いに接近し
て、(イ) に示すように外周の4点p1 〜p4 が機械的に
チャックされ、図3と同様に検査装置4まで搬送され、
鉛直方向のスピンドル41に対して水平に装着される。
単純なものであるが、これらに方向変換機能を設け、カ
セット2に鉛直に収容されているディスク1をチャック
した後、水平方向に変換してスピンドル41に水平に装着
する場合や、またその反対の場合などがあり、これらは
検査システムに対して最適なものが選択されて使用され
ている。
ームは機械式の駆動機構により駆動されるが、駆動機構
には下記のような欠点がある。すなわち、駆動機構の機
械的動作には一定の時間が必要であるため、これに制約
されて検査のタクトタイムは短縮できない。また駆動機
構は動作中に故障や塵埃が発生し易く、故障が発生する
と修理回復に時間を要し、塵埃が発生するとディスク1
が汚染する。さらに、カセット2に収容された各ディス
ク1は、互いの間隔が狭いため、これらのうちの、最前
位または最上位のものをチャックする方式であり、任意
の位置にあるディスク1をチャックできない欠点があ
る。
これを必要としない方式として、エア吸着方式が考えら
れる。ただし、半導体ICの製造に使用されるウエハに
対して、エア吸着によるハンドリング機構がすでに考案
され、「実開平3−3743号、ウエハハンドリング装
置」として開示されている。図6は、このウエハハンド
リング装置の実施例における構造を示し、(a) は平面
図、(b) は断面図である。図6(a),(b) において、カセ
ット2にはウエハ5が鉛直方向に収容され、これに対す
るハンドリング装置6は、ウエハ5の外周5a の円弧に
沿った形状をなし、内部の真空流路61と、これに接続さ
れ、外周5a に対応して配列された複数の吸着口62、各
吸着口62の外方に設けたガイド面63、および真空流路61
に接続された吸引口64よりなり、吸引口64よりエアAを
吸引して、その負圧によりウエハ5を吸着口62に吸引
し、その外周5a をガイド面63に吸着するものである。
ング装置6はウエハに対するものであるが、磁気ディス
クに対しても基本的には適用が可能である。しかし磁気
ディスクの場合は、前記したように、鉛直または水平方
向として搬送され、さらに方向変換する場合があって、
上記のガイド面63に加わるディスクの荷重モーメントが
かなり大きいので、これに対抗できる吸着力が要求され
る。吸着力を大きくするには、ガイド面63とディスク1
の外周1a とを正確に一致させてエア漏れを防ぐことが
是非とも必要である。しかしディスク1の半径は、メー
カーまたはロットごとに、微小な相違があるうるので、
この相違にかかわらず、各ディスクの外周1a をガイド
面63に正確に一致させて、エア漏れを防止する適当な手
段が必要である。この発明は、上記の公開されたウエハ
に対するエア吸着方式を踏襲し、半径が微小に相違する
各ディスクに対するエア漏れ防止手段を有する、エア吸
着保持機構を提供することを目的とする。
クのエア吸着保持機構であって、ディスクの外周に沿っ
た円弧状の斜面をそれぞれ有する2枚の支持板と、両支
持板の周辺部の斜面を除く部分に嵌挿され、両斜面の間
隔をディスクの厚さに適応させるスペーサとを、両斜面
を互いに対向させて重ね合わせ、周辺部をボルトにより
共締めして固定する。対向した両斜面を外周のチャンフ
ァ(外周エッジの面とり部)に対する吸着面とし、スペ
ーサの内側を吸着面に対するエア流通路とし、エア流通
路に接続されたエア吸引口を設けて構成される。上記に
おいて、対向した両斜面の左右の中心部に、両斜面の間
隔を、左右の端部より中心部に向かって、漸次に小さい
間隔または漸次に大きい間隔に調整する調整ねじを設け
たものである。
持板はディスクの外周に沿った円弧状の斜面をそれぞれ
有し、両支持板の周辺部の斜面を除く部分にスペーサを
嵌挿し、両斜面を互いに対向させて両支持板の周辺がボ
ルトにより共締めして固定される。対向した両斜面は、
スペーサによりディスクの厚さに適応する間隔とされ、
これがディスクの外周のチャンファ(外周エッジの面と
り部)に対する吸着面となる。スペーサの内側はエア流
通路とされ、これに接続されたエア吸引口よりエアを吸
引するとエア流通路は負圧となり、この負圧によりディ
スクは吸引され、そのチャンファが吸着面に吸着されて
保持される。上記において、両斜面の左右の中心部に設
けた調整ねじを回転すると、両斜面の間隔は、左右の端
部より中心部に向かって、漸次に小さい間隔または漸次
に大きい間隔に変化する。以下この間隔調整の詳細を説
明する。まず調整ねじを基準位置とすると、両斜面の間
隔は全域に亘って同一となり、基準値に等しい半径を有
するディスクは、そのチャンファが吸着面に一致してエ
ア漏れなく強く吸着される。いま、ディスクの半径が基
準値に対して微小に相違すると、そのチャンファは吸着
面の円弧に一致せずエア漏れが生ずる。そこで調整ねじ
により、例えば中心部に向かって漸次に小さい間隔に調
整すると、同一の間隔点を結んだ円弧、すなわち吸着面
の曲率半径が微小に拡張し、これに対して、半径が微小
に大きいディスクのチャンファが一致するので、チャン
ファはこの拡張した曲率半径の位置にエア漏れなく強く
吸着される。これと反対に、漸次に大きい間隔に調整す
ると、同一の間隔点に対する吸着面の曲率半径は微小に
縮小し、半径が微小に小さいディスクのチャンファは、
この縮小した曲率半径の位置にエア漏れなく強く吸着さ
れる。上記のように、調整ねじの調整により、基準値に
対して半径が微妙に相違する各ディスクはエア漏れなく
吸着面に強く吸着される。これを逆にみると、基準値の
半径を有するディスクの外周に対して、これに一致すべ
き吸着面の円弧の半径に、ある程度の微小な加工誤差が
あっても、この誤差は調整ねじの調整により吸収され
て、ディスクをエア漏れなく強く吸着できるものであ
り、これにより吸着面の円弧には微小な加工誤差が許容
されて、その加工が容易となる利点がある。
7の一実施例を示し、図1は外観図、図2は断面図、図
3は調整ねじ75の作用の説明図である。図1において、
エア吸着保持機構7は、2枚の支持板71a,71b とスペー
サ72とを有し、両支持板71a,71b はフッソ樹脂やナイロ
ン樹脂などの、やや硬質で表面が平滑な材料を使用し、
その下端に、ディスク1の外周1a に沿った円弧Rをな
す斜面S1,S2 をそれぞれ形成する。両斜面S1,S2 の
幅は、外周1a の両側のチャンファCH1,CH2 の幅の
数倍とし、また両者の傾斜角は同一とすることが好まし
い。次に、スペーサ72はディスク1の厚さに対応した厚
さのものを選択して、両支持板71a,71b の斜面S1,S2
を除く周辺部に嵌挿される。両斜面S1,S 2 を対向させ
て両支持板71a,71b とスペーサ72とを重ね合わせ、周辺
部の4箇所をボルト73により共締めすると、対向した両
斜面S1,S2 は外周1a のチャンファCH1,CH2 に対
する吸着面Kとなり、スペーサ72の内側の点線で示す範
囲が吸着面Kに対するエア流通路Eとされる。エア流通
路Eに接続するエア吸引口74が上部に設けられ、また、
両斜面S1,Sの左右の中心部には、回転可能な調整ねじ
75が設けられる。
ける縦断面を示し、上記により選択されたスペーサ72に
より、両斜面S1,S2 の間隔はディスク1の厚さdに適
応し、基準状態においては、両斜面S1,S2 のそれぞれ
の中心部にチャンファCH1,CH2 が対応する。(b) は
調整ねじ75の位置における縦断面を示し、支持板71a,71
b には丸穴Hとねじ穴Tがそれぞれ設けられ、調整ねじ
75はねじ穴Tに噛合し、その回転により両支持板71a,71
b 、従って両斜面S1,S2 の間隔が変化する。ただしこ
の場合の変化は、左右の端部がボルト73により固定され
ているので、左右の端部より中心部に向かって、漸次に
小さい間隔または漸次に大きい間隔に変化し、同一の間
隔点を結んだ円弧の曲率半径が変化する(図3(a),(b)
参照)。再び図1において、図示しない吸引ポンプによ
りエア吸入口74よりエアAを吸引すると、エア流通路E
は負圧となって両斜面S1,S2 間をエアAが流入してデ
ィスク1が引き寄せられ、両チャンファCH1,CH2 が
吸着面Kに吸着される。
整ねじ75の調整方法とその作用を説明する。まず調整ね
じ72を基準位置とすると、両斜面S1,S2 の間隔は全域
に亘って同一となり、基準値に等しい半径を有するディ
スク1は、そのチャンファCH1,CH2 がエア漏れなく
吸着面Kに強く吸着される。いまディスク1の半径が基
準値に対してΔRだけ大きいとする。このときは調整ね
じ75を時計方向に回転して、両斜面S1,S2 の間隔を、
図3(a) の断面図に示すように、左右の端部より中心部
に向かって漸次に小さくする。この場合、調整ねじ75を
適切な角度回転すると、同一の間隔点を結んだ円弧、す
なわち吸着面Kの曲率半径は、図3(a) の平面図に点線
で示すように、上記のΔRだけ拡張され、ΔR大きいデ
ィスク1のチャンファCH1,CH2 はこの曲率半径に一
致するので、エア漏れなくその位置に強く吸着される。
これと反対に、半径が基準値よりΔRだけ小さいディス
ク1の場合は、調整ねじ75を反時計方向に回転して、両
斜面S1,S2 の間隔を、図3(b)の断面図に示すよう
に、左右の端部より中心部に向かって漸次に大きくす
る。この場合は、回転角度を適切な値とすると、同一の
間隔点に対する吸着面Kの曲率半径は、(b) の平面図に
点線で示すようにΔRだけ縮小し、ΔR小さいディスク
1のチャンファCH1,CH2 は、この曲率半径の位置に
エア漏れなく強く吸着される。次に、基準値の半径を有
するディスク1の外周に対して、これに一致すべき吸着
面Kの円弧Rの半径に、ある程度の微小な加工誤差があ
る場合は、調整ねじ75を適切に調整することによりこの
誤差が吸収され、ディスク1のチャンファCH1,CH2
はエア漏れなく吸着面Kに強く吸着される。従って、円
弧Rの半径には微小であるが加工誤差が許容され、その
加工が容易となる利点がある。
ア吸着保持機構においては、たとえ半径が基準値に対し
て微小な相違があり、または吸着面の半径に微小な加工
誤差があっても、ディスクはエア漏れなく吸着面に強く
吸着され、鉛直状態または水平状態、またはこれらの方
向変換のいずれの場合も、所定の位置間を安定に搬送で
きるもので、従来の機械式のチャック機構の各欠点が解
消され、また吸着面の加工が容易となるなど、ディスク
搬送技術に寄与する効果には大きいものがある。
施例における外観図である。
ルト73の位置における縦断面図、(b) は調整ねじ75の位
置における縦断面図である。
ロボットハンド32を有する搬送機構3の構成図である。
ロボットハンド33を有する搬送機構3の構成図である。
公開されたウエハハンドリング装置の構成図である。
ク、1a …ディスクの外周、2…カセット、3…搬送機
構、31…ガイドレール、32,33 …ロボットハンド、4…
ディスク検査装置、5…ウエハ、5a …ウエハの外周、
6…ウエハハンドリング装置、7…この発明のエア吸着
保持機構、71a,71b …支持板、72…スペーサ、73…ボル
ト、74…エア吸引口、75…調整ねじ、A…エア、R…円
弧、E…エア流通路、S1,S2 …円弧状の斜面、K…吸
着面、CH1,CH2 …ディスクの外周のチャンファ、d
…ディスクの厚さ。
Claims (2)
- 【請求項1】磁気ディスクの外周に沿った円弧状の斜面
をそれぞれ有する2枚の支持板と、該両支持板の周辺部
の該斜面を除く部分に嵌挿され、該両斜面の間隔を該磁
気ディスクの厚さに適応させるスペーサとを、該両斜面
を互いに対向させて重ね合わせ、該周辺部をボルトによ
り共締めして固定し、該対向した両斜面を前記外周のチ
ャンファに対する吸着面とし、該スペーサの内側を該吸
着面に対するエア流通路とし、該エア流通路に接続され
たエア吸引口を設けて構成されたことを特徴とする、磁
気ディスクのエア吸着保持機構。 - 【請求項2】前記対向した両斜面の左右の中心部に、該
両斜面の間隔を、左右の端部より該中心部に向かって、
漸次に小さい間隔、または漸次に大きい間隔に調整する
調整ねじを設けたことを特徴とする、請求項1記載の磁
気ディスクのエア吸着保持機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19282594A JP3220332B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 磁気ディスクのエア吸着保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19282594A JP3220332B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 磁気ディスクのエア吸着保持機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0836752A true JPH0836752A (ja) | 1996-02-06 |
JP3220332B2 JP3220332B2 (ja) | 2001-10-22 |
Family
ID=16297608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19282594A Expired - Lifetime JP3220332B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | 磁気ディスクのエア吸着保持機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3220332B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101258404B1 (ko) * | 2012-01-19 | 2013-04-26 | 로체 시스템즈(주) | 글라스 디스크 반송장치 |
CN114260688A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-04-01 | 奥美森智能装备股份有限公司 | 一种真空弯头匣 |
CN114260669A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-04-01 | 奥美森智能装备股份有限公司 | 一种自动取料插弯头装置 |
WO2023074933A1 (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 주식회사 세정로봇 | 웨이퍼 진공 픽업장치 |
-
1994
- 1994-07-25 JP JP19282594A patent/JP3220332B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101258404B1 (ko) * | 2012-01-19 | 2013-04-26 | 로체 시스템즈(주) | 글라스 디스크 반송장치 |
WO2023074933A1 (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 주식회사 세정로봇 | 웨이퍼 진공 픽업장치 |
CN114260688A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-04-01 | 奥美森智能装备股份有限公司 | 一种真空弯头匣 |
CN114260669A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-04-01 | 奥美森智能装备股份有限公司 | 一种自动取料插弯头装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3220332B2 (ja) | 2001-10-22 |
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