JPH08335607A - 1層配線tcpテープ - Google Patents

1層配線tcpテープ

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JPH08335607A
JPH08335607A JP13832095A JP13832095A JPH08335607A JP H08335607 A JPH08335607 A JP H08335607A JP 13832095 A JP13832095 A JP 13832095A JP 13832095 A JP13832095 A JP 13832095A JP H08335607 A JPH08335607 A JP H08335607A
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JP
Japan
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layer
wiring
copper foil
tape
solder resist
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JP13832095A
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Kenji Yamaguchi
健司 山口
Osamu Yoshioka
修 吉岡
Masahiko Saeki
雅彦 佐伯
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Hitachi Cable Ltd
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Hitachi Cable Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
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    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3452Solder masks

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 繰り返し曲げ試験に強いTCPテープを提供
する。 【構成】 厚さ6〜75μmのベースフイルムと、厚さ
4〜25μmで配線間のピッチが100μm以下の1層
配線層を形成する銅箔層と、配線層を覆う厚さ6〜60
μmのソルダレジスト被覆層より構成されることを特徴
とする接着剤のない1層配線TCPテープ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、TCP(Tape C
arrier Package)用のTAB(Tape
Automated Bonding)テープに関
し、特に接着剤のない1層配線TCPテープで微細パタ
ーン(配線間のピッチが100μm以下)の配線間の保
護並びに絶縁のための被覆層を有するTCP用TABテ
ープに関するものである。
【0002】
【従来の技術】TCP用TABテープにおいて、配線間
の保護並びに絶縁のための被覆層を有する構造として、
従来は、被覆層となるソルダレジストインク(エポキシ
系樹脂)、あるいはポリイミド系樹脂インクを、例え
ば、印刷法で所定の厚さ約20μm厚さに塗布後、大気
中で120〜350°Cに加熱し、1〜5時間ベーク処
理して乾燥並びに反応凝固をさせて被覆層を形成するこ
とによってTCP用TABテープを製造している。
【0003】しかし、従来のTCP用TABテープにお
いては、技術的課題がある。すなわち、従来、配線間を
形成する銅箔厚さが4μm以上35μm以下で配線間の
ピッチが100μm以上の領域までは、フオトレジ・パ
ターンエッチングが技術的に可能であった。しかし、接
着剤のない1層配線薄厚TCPテープにおいて、配線間
のピッチが100μm以下、例えば80μmとなると銅
箔厚さが25μm以下の領域ではフオトレジ・パターン
エッチングが不可能となる。
【0004】また、接着剤のない1層配線薄厚TCPテ
ープにおいて、配線間の保護並びに絶縁のための被覆層
を有する構造では、被覆層となるソルダレジストインク
(エポキシ系樹脂)、あるいはポリイミド系樹脂インク
を、例えば、印刷法で所定の厚さ約20μm厚さに塗布
後、大気中で120〜350°Cに加熱し、1〜5時間
キュア処理して乾燥並びに反応凝固をさせて被覆層を形
成することによってTCP用TABテープを製造する
と、200°Cを越える領域では銅箔の配線が熱による
軟化を起こし、銅箔配線のばね性が低下し、しかも同時
に屈曲性が低下するため、屈曲性とばね性を必要とする
1層配線薄厚TCPテープには使用できないという技術
課題がある。
【0005】さらに、TCP用TABテープとして、従
来金属箔の両面に、例えば、エポキシ樹脂塗料主体のソ
ルダレジストインクを用いスクリーン印刷法で形成する
技術もあるが、この技術も200°Cを越えると銅箔の
配線が熱による軟化が起こり、銅箔配線のばね性が低下
し、しかも同時に屈曲性が低下するため、屈曲性とばね
性を必要とする1層配線薄厚TCPテープには使用でき
ないという技術課題がある。このように、従来の製法に
よる接着剤のない1層配線薄厚TCPテープでは、キュ
ア処理温度が120〜350°Cと高温のために、銅箔
の配線が熱による軟化を起こし、銅箔配線のばね性が低
下し、しかも同時に屈曲性が低下する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の接着剤のない1層配線薄厚TCPテープによると、
キュア処理温度が350°Cという高温に於いて、銅箔
配線のばね性が低下し、しかも同時に屈曲性が低下する
という課題を有している。
【0007】それ故、本発明の目的は、キュア処理温度
が350°Cの領域に於いても銅箔の配線が熱による軟
化を起こすことがなく、銅箔配線のばね性が低下した
り、屈曲性が低下したりすることのない、屈曲性とばね
性を備えた1層配線薄厚TCPテープを経済的に提供す
ることにある。
【0008】また、本発明の目的は、特に微細パターン
(配線間のピッチが100μm以下)TCP用TABテ
ープに於いて、キュア処理温度が350°Cの領域に於
いても銅箔の配線が熱による軟化を起こすことがなく、
銅箔配線のばね性が低下したり、屈曲性が低下したりす
ることのない、屈曲性とばね性を良好な1層配線薄厚T
CPテープを提供することにある。
【0009】また、本発明の目的は、繰り返し曲げ試験
(屈曲試験)に強く、ばね性を有する1層銅箔配線のT
CPテープを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
実現するために、厚さ6〜75μmのベースフイルム
と、厚さ4〜25μmで配線間のピッチが100μm以
下の1層配線層を形成する銅箔層と、配線層を覆う厚さ
6〜60μmのソルダレジスト被覆層によって、接着剤
のない1層配線TCPテープを構成する。
【0011】また本発明は、上記の目的を実現するため
に、ポリイミドベースフイルムと、ポリイミド系ソルダ
レジストインクのソルダレジスト被覆層と、銅箔層によ
り接着剤のない1層配線TCPテープを構成する。この
場合、銅箔層は、ベースフイルムのキャステング及びキ
ュア熱処理と、ソルダレジスト被覆層の350°C以下
のキュア熱処理後の特性が、引っ張り強さ20〜30k
gf/mm2 で曲げ弾性係数3000〜5000kgf
/mm2 である銅箔で1層配線TCPテープ構成するも
のである。
【0012】
【作用】本発明においては、ポリイミドベースフイルム
と、銅箔層と、ポリイミド系ソルダレジストインクのソ
ルダレジスト被覆層によって、接着剤のない1層配線T
CPテープを構成することにより、キュア熱処理温度3
50°Cに於いても銅箔層の軟化はしない。銅箔層は、
ベースフイルムのキャステング及びキュア熱処理と、ソ
ルダレジスト被覆層の350°C以下のキュア熱処理後
に於ける銅箔の特性が、引っ張り強さ20〜30kgf
/mm2 で曲げ弾性係数3000〜5000kgf/m
2 である銅箔を使用することによって、キュア熱処理
温度350°Cに於いても銅箔層の軟化はしない1層配
線TCPテープを実現できる。
【0013】本発明に於いて、配線層を形成する銅箔層
の厚さが4μm以上25μm以下にする理由は、配線間
のピッチが100μmを越える領域では、銅箔層の厚さ
が35μmを越える領域までは、フオトレジ・パターン
エッチングが可能であった。しかし、配線間のピッチが
100μm以下の領域では、銅箔層の厚さ25μm以上
では、フオトレジ・パターンエッチングが不可能となる
ためである。
【0014】本発明に於いて、ベースフイルムの厚さを
6μm以上75μm以下とし、配線層を覆うソルダレジ
スト被覆層の厚さを6μm以上60μm以下とする理由
は、接着剤のない1層配線TCPテープにおいて、ベー
スフイルムの厚さは6μm以上75μm以下の場合に、
製法の制限を受けずに屈曲性を維持することが出来る為
であり、ソルダレジスト被覆層の厚さは、配線間の保
護、絶縁並びに屈曲性向上の為であり、特に屈曲回数と
して100万回以上保証するためには6μm以上60μ
m以下の厚さの確保が必要である。
【0015】本発明において、繰り返し曲げ試験(例え
ば、曲げ半径2mmのMITの曲げ試験機)の屈曲回数
として100万回以上保証し、しかもばね性を有するた
めには、銅箔層として、キュア熱処理温度350°Cに
於いても銅箔層が軟化しないことが必要となる。このた
め本発明においては、銅箔層として、大気中で120〜
350°C、1〜5時間キュア処理した後の特性が、引
っ張り強さ20〜30kgf/mm2 を保有し、しか
も、銅箔層に作用する曲げ応力を適度に保有するために
は曲げ弾性係数3000〜5000kgf/mm2 を有
する銅箔を使用することにより従来の技術課題が解決で
きることを見い出したものである。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を図により説明する。
図1は本発明TCPテープを示す横断面図、図2は各種
銅箔の引張り強さ・伸び線図、図3はテープ屈曲時の曲
げ応力分布図であり、図中、1は配線層を形成する銅箔
層、2はソルダレジスト被覆層、3はベースフイルムで
ある。
【0017】本発明は、図1に示すように、ポリイミド
ベースフイルム3と、ポリイミド系ソルダレジストイン
クのソルダレジスト被覆層2と、銅箔層1により、接着
剤のない1層配線TCPテープを構成する。この場合、
銅箔層1は、ベースフイルムのキャステング及びキュア
熱処理と、ソルダレジスト被覆層の350°C以下のキ
ュア熱処理後の特性が、引っ張り強さ20〜30kgf
/mm2 で曲げ弾性係数3000〜5000kgf/m
2 である銅箔で1層配線TCPテープ構成するもので
ある。
【0018】この本発明実施例1構成の1層配線TCP
テープが見い出された背景として、ここで本発明テープ
の製造法を説明する。厚さ18μmの銅箔の種類とし
て、圧延箔A、電解箔B、電解箔C、電解箔Dを準備
し、各々に厚さ50μmのポリイミドをキャステング
し、350°Cのキュア処理を行ない、フォトレジ・エ
ッチングで配線間のピッチ60μmの1層配線TCPテ
ープを製造した。このようにして得られた配線上に、ポ
リイミドソルダレジストインク(キュア後の被覆層の曲
げ弾性係数は600kgf/mm2 )をスクリーン印刷
法で厚さ20μmに塗布した。塗布後300°C以下の
キュア温度で3時間ステップキュアを実施した。これで
実施例1構成の1層配線TCPテープが得られる。
【0019】このようにして得られた圧延箔A、電解箔
B、電解箔C、電解箔Dを有する各々の1層タイプ配線
TCPテープについて、繰り返し曲げ試験(曲げ半径2
mmのMITの曲げ試験機)を行なった。その結果、屈
曲回数は、圧延箔A=120万回(ただし軟化してばね
性が無くなった)、電解箔B=95万回、電解箔C=9
5万回、電解箔D=120万回であり、屈曲回数100
万回を保証できた。軟化の程度が少なく、最もばね性を
有するのは、電解箔Dの組み合わせであった。
【0020】次に、電解箔Dの構成タイプの1層配線T
CPテープにおいて、電解箔Dの銅箔厚さ18μmと2
5μmの2種類を用意し、接着剤無しで、各々に厚さ5
0μmのポリイミドキャステング材を組み合わせて配線
間のピッチ60μm、1層配線薄厚TCPテープを製造
した。さらにその配線の上にポリイミド系ソルダレジス
トインク(キュア後の被覆層の曲げ弾性係数は600k
gf/mm2 )をスクリーン印刷法で厚さ20μmに塗
布した。塗布後300°C以下のキュア温度で3時間ス
テップキュアを実施した。
【0021】このようにして得られた各々の1層タイプ
配線TCPテープについて、繰り返し曲げ試験(曲げ半
径2mmのMITの曲げ試験機)を行なった。その結
果、屈曲回数は、電解箔Dの銅箔厚さ18μmの組み合
わせでは120万回で破断したこれに対して電解箔Dの
銅箔厚さ25μmの組み合わせでは100万回を越えた
ところで破断した。いずれの銅箔の組み合わせの1層タ
イプ配線TCPテープでも屈曲回数は、100万回を保
証できた。また、85°C、85%湿度でDCバイアス
50Vでのマイグレーション試験を1000時間実施し
たが、電解箔Dの銅箔厚さ18μm1層タイプ配線TC
Pテープと、25μm1層タイプ配線TCPテープの双
方ともに、被覆層の絶縁破壊は無かった。以上のように
本発明の電解箔Dの組み合わせにより、ばね性、屈曲性
並びに耐マイグレーションの信頼性の高い1層タイプ配
線TCPテープを供給することができた。
【0022】ここで、屈曲性を向上させるために設けた
ポリイミドキャステング・キュア後並びにソルダレスジ
スト被覆層のキュア(温度350°C)後の銅箔層の引
張り強さと曲げ弾性係数について説明する。前記実施例
で示したように、作製した銅箔を温度350°Cで処理
後の銅箔層の引張り強さと曲げ弾性係数を測定した結果
は、表1の通りである。
【0023】また、実施例の各種銅箔の引張り強さ・伸
び線図は図2の通りである。これら表1および図2から
明らかなように、ばね性並びに屈曲性の良好な電解箔D
は、引張り強さが20〜30kgf/mm2 、曲げ弾性
係数が3000〜5000kgf/mm2 を有するのが
判明した。この曲げ弾性係数が5000kgf/mm 2
を越えると、銅箔層に働く屈曲のための曲げ応力が増大
することが分かる。すなわち、図3のテープ屈曲時の曲
げ応力分布図に示すように、銅箔層に働く曲げ応力б
は、銅箔層に働く曲げ応力б=E・ε ここで、曲げひずみε=[1層配線TCPテープの中立
軸までの距離C(約1層配線TCPテープの厚さの半
分)]を[(曲げ半径R)+1層配線TCPテープの中
立軸までの距離C(約1層配線TCPテープの厚さの半
分)]で除した値である。なお、曲げ応力бは、銅箔層
の降伏応力(図2の引張り強さ・伸び線図の塑性変形が
始まる引張強さ)より小さくないと破壊してしまう。そ
して曲げ弾性係数が3000kgf/mm2 以下の銅箔
では、曲げによるばね性が弱く(屈曲時の復元力が弱く
なり元に戻らなくなる)、ばね性並びに屈曲性の必要な
1層配線TCPテープとしては使用できなくなる。
【0024】本発明の実施例では、電解銅箔の例を説明
したが、キュア熱処理温度が350°Cのキュア熱処理
条件で適度に軟化した後の銅箔層の引っ張り強さが20
〜30kgf/mm2 で曲げ弾性係数が3000〜50
00kgf/mm2 が確保されるならば、圧延銅箔でも
よい。
【0025】また、本発明では、接着剤のない1層配線
TCPテープにおいて、配線間の保護並びに絶縁のため
の被覆層を有する構造のTCPテープについて説明した
が、本発明の技術は、屈曲性とフレックス性を加味した
フレックス樹脂系の被覆層を有する構造の接着剤を有す
るTCP用1層配線TABテープにも応用可能である
【0026】
【発明の効果】本発明の効果としては、キュア処理温度
が350°Cの領域に於いても、銅箔の配線が熱による
軟化を起こすことがなく、銅箔配線のばね性が低下した
り、屈曲性が低下したりすることのない、屈曲性とばね
性を必要とする1層配線薄厚TCPテープを提供するこ
とができる。
【0027】また、本発明の効果としては、特に、微細
パターン(配線間のピッチが100μm以下)TCP用
TABテープに於いて、キュア処理温度が350°Cの
領域に於いても銅箔の配線が熱による軟化を起こすこと
がなく、銅箔配線のばね性が低下したり、屈曲性が低下
したりすることのない、屈曲性とばね性を良好な1層配
線薄厚TCPテープを提供するこができる。
【0028】また、本発明の効果としては、繰り返し曲
げ試験(屈曲試験)に強く、ばね性を有する1層銅箔配
線のTCPテープを提供することができる。
【0029】本発明の効果としては、本発明のTPCテ
ープは、液晶のドライバー用またはASIC用の配線間
の高絶縁抵抗(85°Cで湿度85%で1000時間経
過後の絶縁抵抗が109 Ω以上)で信頼性の高い、微細
配線(配線間のピッチが100μm以下)TCPテープ
を、安定して供給することができ、しかも量産により安
価に提供することが出来る。
【0030】また、本発明の効果としては、本発明のT
CPテープは、フレキシブルな接続用、液晶のドライバ
ー用、または、ABIS用の配線間の高絶縁抵抗(85
°Cで湿度85%で100時間経過後の絶縁抵抗が10
9 Ω以上)で、しかもフレキシブル性を有する、いわゆ
るフレックスTABテープ及びフレキシブルな接続用T
ABテープにおいて、屈曲性にすぐれた、信頼性の高
い、微細配線(配線間のピッチが100μm以下)に適
するTCP用TABテープを提供することが出来る。
【0031】また、本発明の効果としては、本発明の接
着剤のない1層配線TCPテープはフレキシブルな接続
用TABテープにおいて、ばね性(屈曲時の復元力が大
きくすぐ元にもどる)に優れかつ屈曲性に優れ、屈曲性
の信頼性が高い特徴がある。また、微細配線(配線間の
ピッチが100μm以下)TPC用TABテープにも適
している。
【0032】また、本発明の効果としては、特に曲げ半
径が5mm以下の屈曲性の厳しいきついフレキシブルな
接続用TABテープにおいて、しかも、微細配線(配線
間のピッチが100μm以下)で、優れた屈曲特性とば
ね性(屈曲時の復元力が大きくすぐ元にもどる)が安定
している。
【0033】また、本発明の他の効果としては、本発明
のTCPテープは、高絶縁抵抗で、しかも耐電食(耐マ
イグレーション)性に優れ、信頼性の高いTPCテープ
を安定した状態で量産でき提供することが出来る。
【0034】以上のように、本発明TCPテープは、特
に微細配線(配線間のピッチが100μm以下)に適
し、優れた屈曲特性とばね性(屈曲時の復元力が大きく
すぐ元にもどる)が安定している。繰り返し曲げ試験
(屈曲試験)に強く、ばね性を有するので、信頼性の高
いTCP用TABテープを提供することが出来る。勿
論、1層銅箔配線のTCPテープを経済的に提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明TCPテープの実施例を示す横断面図。
【図2】各種銅箔の引張り強さ・伸び線図。
【図3】テープ屈曲時の曲げ応力分布図。
【符号の説明】
1.配線層を形成する銅箔層 2.ソルダレジスト被覆層 3.ベースフイルム

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 厚さ6〜75μmのベースフイルムと、
    厚さ4〜25μmで配線間のピッチが100μm以下の
    1層配線層を形成する銅箔層と、配線層を覆う厚さ6〜
    60μmのソルダレジスト被覆層より接着剤を有せずに
    構成されることを特徴とする接着剤のない1層配線TC
    Pテープ。
  2. 【請求項2】 前記銅箔層は、ベースフイルムのキャス
    テング及びキュア熱処理と、ソルダレジスト被覆層の3
    50℃以下のキュア熱処理後の特性が、引っ張り強さ2
    0〜30kgf/mm2 で曲げ弾性係数3000〜50
    00kgf/mm2 であることを特徴とする請求項1記
    載の1層配線TCPテープ。
  3. 【請求項3】 前記ソルダレジスト被覆層は、エポキシ
    系樹脂インクポリイミド系インクであることを特徴とす
    る請求項1記載の接着剤のない1層配線TCPテープ。
JP13832095A 1995-06-05 1995-06-05 1層配線tcpテープ Pending JPH08335607A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101009128B1 (ko) * 2004-03-30 2011-01-18 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 플렉시블 동장 적층판 및 그 제조방법
US8187922B2 (en) * 2008-09-30 2012-05-29 Cambridge Silicon Radio Ltd. Low cost flexible substrate
CN105386088A (zh) * 2010-07-01 2016-03-09 三井金属矿业株式会社 电解铜箔以及其制造方法

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