JPH08320541A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀カラー写真感光材料Info
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- JPH08320541A JPH08320541A JP15406195A JP15406195A JPH08320541A JP H08320541 A JPH08320541 A JP H08320541A JP 15406195 A JP15406195 A JP 15406195A JP 15406195 A JP15406195 A JP 15406195A JP H08320541 A JPH08320541 A JP H08320541A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】色再現性にすぐれ、現像処理前後の低温保存安
定性を改良したカラー感材を提供する。 【構成】式(I)または(II) で表わされるカプラーを
含有する。 【化1】 R1 、R4 及びR5 はアルキル基等を、R2 及びR3 は
アルキル基を、R6 は置換可能な基を、Xは水素原子等
を、nは0〜4の整数を表わす。
定性を改良したカラー感材を提供する。 【構成】式(I)または(II) で表わされるカプラーを
含有する。 【化1】 R1 、R4 及びR5 はアルキル基等を、R2 及びR3 は
アルキル基を、R6 は置換可能な基を、Xは水素原子等
を、nは0〜4の整数を表わす。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀カラー写真
感光材料に関するものであり、さらに詳しくは現像処理
前のフィルムを低温で保存しても安定した性能が得られ
るハロゲン化銀カラー写真感光材料に関する。
感光材料に関するものであり、さらに詳しくは現像処理
前のフィルムを低温で保存しても安定した性能が得られ
るハロゲン化銀カラー写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、カラーネガ撮影感材においては、
ISO感度100並の高画質を有するISO400感材
(例えばスーパーG400)に代表されるように、高感
度でかつ色再現性や鮮鋭度に優れる感材が要求されてい
る。カラーネガ感光材料の色再現性を改良するための手
段としては、現像抑制剤放出カプラー(DIRカプラ
ー)による層間効果やカラードカプラーによるマスキン
グが多用される。DIRカプラーの写真作用については
T.H.James 編"The Theory of Photographic Process",4
th ed.,pp610-611およびpp344(1977,MACMILLANPUBLISHI
NG Co.,New York) などに、またカラードカプラーの写
真作用については米国特許第2,428,054号など
に記載されている。
ISO感度100並の高画質を有するISO400感材
(例えばスーパーG400)に代表されるように、高感
度でかつ色再現性や鮮鋭度に優れる感材が要求されてい
る。カラーネガ感光材料の色再現性を改良するための手
段としては、現像抑制剤放出カプラー(DIRカプラ
ー)による層間効果やカラードカプラーによるマスキン
グが多用される。DIRカプラーの写真作用については
T.H.James 編"The Theory of Photographic Process",4
th ed.,pp610-611およびpp344(1977,MACMILLANPUBLISHI
NG Co.,New York) などに、またカラードカプラーの写
真作用については米国特許第2,428,054号など
に記載されている。
【0003】シアン色画像を形成する赤感性の乳剤層に
は、シアンカプラーから生成する色素が青色光領域およ
び/または緑色光領域に有する不要吸収を補正して色再
現性を改良するためにシアン発色のDIRカプラー、マ
ゼンタカラードシアンカプラーまたはイエローカラード
シアンカプラー等が添加されている。これらの写真性有
用基(PUG)放出カプラーのカプラー母核としては、
主としてフィルム中での高発色性等の観点からナフトー
ル母核のカプラーが利用されることが多く、ナフトール
母核のカプラーとしては、2位にN−フェニルカルバモ
イル基を有するものと、2位にN−アルキルカルバモイ
ル基を有するものが知られている。前者の2位にN−フ
ェニルカルバモイル基を有するナフトール母核のカプラ
ーは、色素の還元退色および暗退色に対する耐性が、2
位にN−アルキルカルバモイル基を有するナフトールカ
プラーに比べて高い反面、発色色相が若干長波過ぎる、
カプラーおよび色素分子がフィルム中で凝集または結晶
化しやすく、撮影前のフィルムの低温保存により色画像
が軟調化したり、現像処理後のフィルムの低温保存によ
りシアン画像濃度が低下したり、色味が変化する等の問
題があった。
は、シアンカプラーから生成する色素が青色光領域およ
び/または緑色光領域に有する不要吸収を補正して色再
現性を改良するためにシアン発色のDIRカプラー、マ
ゼンタカラードシアンカプラーまたはイエローカラード
シアンカプラー等が添加されている。これらの写真性有
用基(PUG)放出カプラーのカプラー母核としては、
主としてフィルム中での高発色性等の観点からナフトー
ル母核のカプラーが利用されることが多く、ナフトール
母核のカプラーとしては、2位にN−フェニルカルバモ
イル基を有するものと、2位にN−アルキルカルバモイ
ル基を有するものが知られている。前者の2位にN−フ
ェニルカルバモイル基を有するナフトール母核のカプラ
ーは、色素の還元退色および暗退色に対する耐性が、2
位にN−アルキルカルバモイル基を有するナフトールカ
プラーに比べて高い反面、発色色相が若干長波過ぎる、
カプラーおよび色素分子がフィルム中で凝集または結晶
化しやすく、撮影前のフィルムの低温保存により色画像
が軟調化したり、現像処理後のフィルムの低温保存によ
りシアン画像濃度が低下したり、色味が変化する等の問
題があった。
【0004】これらの問題は、赤感層の油溶分中のナフ
トールカプラーの量が少ない場合には問題にならなかっ
た。しかしながら、高画質化のために、重層構造の赤感
層の特定の層のPUG放出カプラーの使用量を画像形成
用カプラー並にするなどの感材設計がなされるようにな
って、問題が顕在化してきた。そこで、高活性で、色素
の還元退色および暗退色に対する耐性が高く、さらにカ
プラーおよび/または色素の凝集や結晶化による性能変
動が少なく、好ましい発色色相を呈するナフトールシア
ンカプラーの開発が望まれていた。
トールカプラーの量が少ない場合には問題にならなかっ
た。しかしながら、高画質化のために、重層構造の赤感
層の特定の層のPUG放出カプラーの使用量を画像形成
用カプラー並にするなどの感材設計がなされるようにな
って、問題が顕在化してきた。そこで、高活性で、色素
の還元退色および暗退色に対する耐性が高く、さらにカ
プラーおよび/または色素の凝集や結晶化による性能変
動が少なく、好ましい発色色相を呈するナフトールシア
ンカプラーの開発が望まれていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色再
現性に優れ、かつ現像処理前および処理後のフィルムの
低温保存に対する安定性が改良されたハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料を提供することにある。
現性に優れ、かつ現像処理前および処理後のフィルムの
低温保存に対する安定性が改良されたハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記一
般式(I)または(II)で表されるカプラーを含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料によ
って達成された。 一般式(I)
般式(I)または(II)で表されるカプラーを含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料によ
って達成された。 一般式(I)
【0007】
【化3】
【0008】(式中、R1 はアルキル基またはアリール
基を表し、R2 およびR3 はアルキル基を表し、R6 は
芳香環に置換可能な基を表し、nは0〜4の整数を表
し、Xは水素原子、ハロゲン原子、または現像主薬酸化
体とのカップリング反応により離脱し得る基を表す。) 一般式(II)
基を表し、R2 およびR3 はアルキル基を表し、R6 は
芳香環に置換可能な基を表し、nは0〜4の整数を表
し、Xは水素原子、ハロゲン原子、または現像主薬酸化
体とのカップリング反応により離脱し得る基を表す。) 一般式(II)
【0009】
【化4】
【0010】(式中、R4 およびR5 はアルキル基また
はアリール基を表し、R6 は芳香環に置換可能な基を表
し、nは0〜4の整数を表し、Xは水素原子、ハロゲン
原子、または現像主薬酸化体とのカップリング反応によ
り離脱し得る基を表す。)
はアリール基を表し、R6 は芳香環に置換可能な基を表
し、nは0〜4の整数を表し、Xは水素原子、ハロゲン
原子、または現像主薬酸化体とのカップリング反応によ
り離脱し得る基を表す。)
【0011】一般式(I)および(II)で表される化合
物について以下に詳しく説明する。一般式(I)におい
て、R1 はアルキル基(好ましくは炭素数1〜32の、
直鎖、分岐鎖、もしくは環状のアルキル基で、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t
−ブチル、t−アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、
ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシ
ル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、1−ノルボルニル、1−アダマンチル)、またはア
リール基(好ましくは炭素数6から32のアリール基
で、例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル)
を表す。R6 は芳香環に置換可能な基を表し、詳しくは
R6 はハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜32
の、直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基で、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル、1−オクチル、テトラデシル、シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−ノル
ボルニル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好まし
くは炭素数2〜32のアルケニル基で、例えば、ビニ
ル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好
ましくは炭素数6から32のアリール基で、例えば、フ
ェニル、1−ナフチル、2−ナフチル)、ヘテロ環基
(好ましくは炭素数1から32の、5から8員環のヘテ
ロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−
フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾ
チアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベン
ゾトリアゾール−2−イル)、シアノ基、シリル基(好
ましくは炭素数3〜32のシリル基で、例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トシブチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリ
ル)、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数1〜32のアルコキシ基で、例えば、メト
キシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプ
ロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ)、シクロア
ルキルオキシ基(好ましくは炭素数3から8のシクロア
ルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シ
クロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは
炭素数6〜32のアリールオキシ基で、例えば、フェノ
キシ、2−ナフトキシ)、
物について以下に詳しく説明する。一般式(I)におい
て、R1 はアルキル基(好ましくは炭素数1〜32の、
直鎖、分岐鎖、もしくは環状のアルキル基で、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t
−ブチル、t−アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、
ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシ
ル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、1−ノルボルニル、1−アダマンチル)、またはア
リール基(好ましくは炭素数6から32のアリール基
で、例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル)
を表す。R6 は芳香環に置換可能な基を表し、詳しくは
R6 はハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜32
の、直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基で、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル、1−オクチル、テトラデシル、シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−ノル
ボルニル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好まし
くは炭素数2〜32のアルケニル基で、例えば、ビニ
ル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好
ましくは炭素数6から32のアリール基で、例えば、フ
ェニル、1−ナフチル、2−ナフチル)、ヘテロ環基
(好ましくは炭素数1から32の、5から8員環のヘテ
ロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−
フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾ
チアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベン
ゾトリアゾール−2−イル)、シアノ基、シリル基(好
ましくは炭素数3〜32のシリル基で、例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トシブチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリ
ル)、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数1〜32のアルコキシ基で、例えば、メト
キシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプ
ロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ)、シクロア
ルキルオキシ基(好ましくは炭素数3から8のシクロア
ルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シ
クロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは
炭素数6〜32のアリールオキシ基で、例えば、フェノ
キシ、2−ナフトキシ)、
【0012】ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜
32のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテト
ラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキ
シ、2−フリルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは
炭素数1〜32のシリルオキシ基で、例えば、トリメチ
ルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジ
フェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ま
しくは炭素数2〜32のアシルオキシ基で、例えば、ア
セトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデ
カノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好
ましくは炭素数2〜32のアルコキシカルボニルオキシ
基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキ
シカルボニルオキシ)、シクロアルキルオキシカルボニ
ルオキシ(好ましくは炭素数4〜9のシクロアルキルオ
キシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオ
キシカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオ
キシ基(好ましくは炭素数7〜32のアリールオキシカ
ルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオ
キシ)、カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜
32のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメ
チルカルバモイルオキシ、
32のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテト
ラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキ
シ、2−フリルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは
炭素数1〜32のシリルオキシ基で、例えば、トリメチ
ルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジ
フェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ま
しくは炭素数2〜32のアシルオキシ基で、例えば、ア
セトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデ
カノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好
ましくは炭素数2〜32のアルコキシカルボニルオキシ
基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキ
シカルボニルオキシ)、シクロアルキルオキシカルボニ
ルオキシ(好ましくは炭素数4〜9のシクロアルキルオ
キシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオ
キシカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオ
キシ基(好ましくは炭素数7〜32のアリールオキシカ
ルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオ
キシ)、カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜
32のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメ
チルカルバモイルオキシ、
【0013】N−ブチルカルバモイルオキシ)、スルフ
ァモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32のスルフ
ァモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルフ
ァモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキ
シ)、アルカンスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数
1〜32のアルカンカルホニルオキシ基で、例えば、メ
タンスルホニルオキシ、ヘキサデカンスルホニルオキ
シ)、アレーンスルホニルオキシ(好ましくは炭素数6
〜32のアレーンスルホニルオキシ基で、例えば、ベン
ゼンスルホニルオキシ)、カルボキシル基、アシル基
(好ましくは炭素数1〜32のアシル基で、例えば、ホ
ルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデ
カノイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素
数2〜32のアルコキシカルボニル基で、例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオ
キシカルボニル)、シクロアルキルオキシカルボニル基
(好ましくは炭素数2〜32のシクロアルキルオキシカ
ルボニル基で、例えば、
ァモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32のスルフ
ァモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルフ
ァモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキ
シ)、アルカンスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数
1〜32のアルカンカルホニルオキシ基で、例えば、メ
タンスルホニルオキシ、ヘキサデカンスルホニルオキ
シ)、アレーンスルホニルオキシ(好ましくは炭素数6
〜32のアレーンスルホニルオキシ基で、例えば、ベン
ゼンスルホニルオキシ)、カルボキシル基、アシル基
(好ましくは炭素数1〜32のアシル基で、例えば、ホ
ルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデ
カノイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素
数2〜32のアルコキシカルボニル基で、例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオ
キシカルボニル)、シクロアルキルオキシカルボニル基
(好ましくは炭素数2〜32のシクロアルキルオキシカ
ルボニル基で、例えば、
【0014】シクロヘキシルオキシカルボニル)、アリ
ールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜32の
アリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカ
ルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜3
2のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N
−ジブチルカルバモイル、N−エチル−N−オクチルカ
ルバモイル、N−プロピルカルバモイル)、アミノ基
(好ましくは炭素数32以下のアミノ基で、例えば、ア
ミノ、メチルアミノ、N,N−ジオクチルアミノ、テト
ラデシルアミノ、オクタデシルアミノ)、アニリノ基
(好ましくは炭素数6〜32のアニリノ基で、例えば、
アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基
(好ましくは炭素数1〜32のヘテロ環アミノ基で、例
えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ま
しくは炭素数2〜32のカルボンアミド基で、例えば、
アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド)、
ウレイド基(好ましくは炭素数1〜32のウレイド基
で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N
−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数1
0以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド、N
−フタルイミド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好
ましくは炭素数2〜32のアルコキシカルボニルアミノ
基で、
ールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜32の
アリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカ
ルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜3
2のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N
−ジブチルカルバモイル、N−エチル−N−オクチルカ
ルバモイル、N−プロピルカルバモイル)、アミノ基
(好ましくは炭素数32以下のアミノ基で、例えば、ア
ミノ、メチルアミノ、N,N−ジオクチルアミノ、テト
ラデシルアミノ、オクタデシルアミノ)、アニリノ基
(好ましくは炭素数6〜32のアニリノ基で、例えば、
アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基
(好ましくは炭素数1〜32のヘテロ環アミノ基で、例
えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ま
しくは炭素数2〜32のカルボンアミド基で、例えば、
アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド)、
ウレイド基(好ましくは炭素数1〜32のウレイド基
で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N
−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数1
0以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド、N
−フタルイミド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好
ましくは炭素数2〜32のアルコキシカルボニルアミノ
基で、
【0015】例えば、メトキシカルボニルアミノ、エト
キシカルボニルアミノ、i−ブトキシカルボニルアミ
ノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ)、アリール
オキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜32
のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェ
ノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好まし
くは炭素数1〜32のスルホンアミド基で、例えば、メ
タンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼン
スルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド)、スル
ファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜32のスル
ファモイルアミノ基で、例えば、N,N−ジプロピルス
ルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルフ
ァモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜32
のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ)、アルキルチオ基
(好ましくは炭素数1〜32のアルキルチオ基で、例え
ば、エチルチオ、オクチルチオ)、アリールチオ基(好
ましくは炭素数6〜32のアリールチオ基で、例えば、
フェニルチオ)、
キシカルボニルアミノ、i−ブトキシカルボニルアミ
ノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ)、アリール
オキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜32
のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェ
ノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好まし
くは炭素数1〜32のスルホンアミド基で、例えば、メ
タンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼン
スルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド)、スル
ファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜32のスル
ファモイルアミノ基で、例えば、N,N−ジプロピルス
ルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルフ
ァモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜32
のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ)、アルキルチオ基
(好ましくは炭素数1〜32のアルキルチオ基で、例え
ば、エチルチオ、オクチルチオ)、アリールチオ基(好
ましくは炭素数6〜32のアリールチオ基で、例えば、
フェニルチオ)、
【0016】ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜3
2のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリル
チオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチ
オ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
32のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンス
ルフィニル)、アレーンスルフィニル(好ましくは炭素
数6〜32のアレーンスルフィニル基で、例えば、ベン
ゼンスルフィニル)、アルカンスルホニル基(好ましく
は炭素数1〜32のアルカンスルホニル基で、例えば、
メタンスルホニル、オクタンスルホニル)、アレーンス
ルホニル基(好ましくは炭素数6〜32のアレーンスル
ホニル基で、例えば、ベンゼンスルホニル、1−ナフタ
レンスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素
数32以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモ
イル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル)、スルホ基、またはホ
スフィノイル基(好ましくは炭素数1〜32のホスフィ
ノイル基で、例えば、ジフェニルホスフィノイル、ジオ
クチルオキシホスホノ、ジエチルホスフィノイル、ジエ
トキシホスフィノイル)を表す。R1 で表されるアルキ
ル基およびアリール基はさらに置換基を有してもよく、
好ましい置換基はR6 と同じ意味の基である。R1 は好
ましくはアルキル基を表す。
2のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリル
チオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチ
オ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
32のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンス
ルフィニル)、アレーンスルフィニル(好ましくは炭素
数6〜32のアレーンスルフィニル基で、例えば、ベン
ゼンスルフィニル)、アルカンスルホニル基(好ましく
は炭素数1〜32のアルカンスルホニル基で、例えば、
メタンスルホニル、オクタンスルホニル)、アレーンス
ルホニル基(好ましくは炭素数6〜32のアレーンスル
ホニル基で、例えば、ベンゼンスルホニル、1−ナフタ
レンスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素
数32以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモ
イル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル)、スルホ基、またはホ
スフィノイル基(好ましくは炭素数1〜32のホスフィ
ノイル基で、例えば、ジフェニルホスフィノイル、ジオ
クチルオキシホスホノ、ジエチルホスフィノイル、ジエ
トキシホスフィノイル)を表す。R1 で表されるアルキ
ル基およびアリール基はさらに置換基を有してもよく、
好ましい置換基はR6 と同じ意味の基である。R1 は好
ましくはアルキル基を表す。
【0017】R6 で表される基は、好ましくはハロゲン
原子、カルボンアミド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基、またはスルファモイルアミノ基が好
ましく、塩素原子、カルボンアミド基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、
またはウレイド基がさらに好ましい。nは0、1、また
は2が好ましく、0または1がさらに好ましい。R6 で
表される基の置換位置はナフトール骨格の3位、5位、
6位、または8位が好ましく、3位、5位、または8位
が好ましく、5位が最も好ましい。
原子、カルボンアミド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基、またはスルファモイルアミノ基が好
ましく、塩素原子、カルボンアミド基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、
またはウレイド基がさらに好ましい。nは0、1、また
は2が好ましく、0または1がさらに好ましい。R6 で
表される基の置換位置はナフトール骨格の3位、5位、
6位、または8位が好ましく、3位、5位、または8位
が好ましく、5位が最も好ましい。
【0018】R2 およびR3 はアルキル基を表し、R2
およびR3 で表されるアルキル基の好ましい炭素数及び
具体例はR1 で表される基の説明で挙げたものと同じで
ある。一般式(II)のR4 およびR5 はR1 と同じ意味
の基を表し、好ましくはアルキル基を表す。
およびR3 で表されるアルキル基の好ましい炭素数及び
具体例はR1 で表される基の説明で挙げたものと同じで
ある。一般式(II)のR4 およびR5 はR1 と同じ意味
の基を表し、好ましくはアルキル基を表す。
【0019】Xは水素原子、ハロゲン原子又は現像主薬
酸化体との反応により離脱可能な基を表す。詳しくは、
離脱可能な基はアルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルバモイ
ルアミノ基、ヘテロ環基、アリールアゾ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基などを表す。ハ
ロゲン原子および離脱可能な基の好ましい範囲及び具体
例はR6 で表される基の説明で挙げたものと同じであ
る。Xで表される基は、さらに置換基を有してもよく、
好ましい置換基はR6 と同じ意味の基である。Xは水素
原子、塩素原子、アルコキシ基、アリールオキシ、アリ
ールチオ基、およびヘテロ環チオ基が特に好ましく、水
素原子、塩素原子、アルコキシ基、およびアリールオキ
シ基がさらに好ましい。
酸化体との反応により離脱可能な基を表す。詳しくは、
離脱可能な基はアルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルバモイ
ルアミノ基、ヘテロ環基、アリールアゾ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基などを表す。ハ
ロゲン原子および離脱可能な基の好ましい範囲及び具体
例はR6 で表される基の説明で挙げたものと同じであ
る。Xで表される基は、さらに置換基を有してもよく、
好ましい置換基はR6 と同じ意味の基である。Xは水素
原子、塩素原子、アルコキシ基、アリールオキシ、アリ
ールチオ基、およびヘテロ環チオ基が特に好ましく、水
素原子、塩素原子、アルコキシ基、およびアリールオキ
シ基がさらに好ましい。
【0020】XがPUGもしくはPUGを放出する基で
ある場合、Xは好ましくは下記一般式(III )で表され
る基である。 一般式(III ) −(L)n −PUG 一般式(III )で表される基において、Lで表される基
は現像処理時ナフトール母核より離脱した後、(L)
n-1 −PUGを開裂することが可能な連結基であればい
ずれでもよい。例えば、米国特許第4,146,396
号、同4,652,516号または同4,698,29
7号に記載のあるヘミアセタールの開裂反応を利用する
基、米国特許第4,248,962号、同4,847,
185号または同4,857,440号に記載のある分
子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさせるタイ
ミング基、米国特許第4,409,323号もしくは同
4,421,845号に記載のある電子移動反応を利用
して開裂反応を起こさせるタイミング基、米国特許第
4,546,073に記載のあるイミノケタールの加水
分解反応を利用して開裂反応を起こさせる基、英国特許
第1,531,927号に記載のあるエステルの加水分
解反応を利用して開裂反応を起こさせる基、または欧州
特許第0572084号に記載の亜硫酸イオンとの反応
を利用して開裂反応を起こさせる基が挙げられる。Lは
それに含まれるヘテロ原子、好ましくは酸素原子、イオ
ウ原子または窒素原子においてカプラーのカップリング
活性位と結合する。好ましいLとしては下記一般式(T
−1),(T−2)または(T−3)が挙げられる。以
下の説明において、R11は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、またはヘテロ環基を表し、R12は水素原子、ア
ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルカ
ンスルホニル基、またはアレーンスルホニル基を表す。
これらの基の好ましい範囲及び具体例はR6 で表される
基の説明で挙げたものと同じである。
ある場合、Xは好ましくは下記一般式(III )で表され
る基である。 一般式(III ) −(L)n −PUG 一般式(III )で表される基において、Lで表される基
は現像処理時ナフトール母核より離脱した後、(L)
n-1 −PUGを開裂することが可能な連結基であればい
ずれでもよい。例えば、米国特許第4,146,396
号、同4,652,516号または同4,698,29
7号に記載のあるヘミアセタールの開裂反応を利用する
基、米国特許第4,248,962号、同4,847,
185号または同4,857,440号に記載のある分
子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさせるタイ
ミング基、米国特許第4,409,323号もしくは同
4,421,845号に記載のある電子移動反応を利用
して開裂反応を起こさせるタイミング基、米国特許第
4,546,073に記載のあるイミノケタールの加水
分解反応を利用して開裂反応を起こさせる基、英国特許
第1,531,927号に記載のあるエステルの加水分
解反応を利用して開裂反応を起こさせる基、または欧州
特許第0572084号に記載の亜硫酸イオンとの反応
を利用して開裂反応を起こさせる基が挙げられる。Lは
それに含まれるヘテロ原子、好ましくは酸素原子、イオ
ウ原子または窒素原子においてカプラーのカップリング
活性位と結合する。好ましいLとしては下記一般式(T
−1),(T−2)または(T−3)が挙げられる。以
下の説明において、R11は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、またはヘテロ環基を表し、R12は水素原子、ア
ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルカ
ンスルホニル基、またはアレーンスルホニル基を表す。
これらの基の好ましい範囲及び具体例はR6 で表される
基の説明で挙げたものと同じである。
【0021】一般式(T−1) *−W−(Z1 =Z
2 )j −C(R51)(R52)−** 一般式(T−2) *−W−CO−** 一般式(T−3) *−W−LINK−E−** 式中、*はナフトールカプラーの4位、又は左側に位置
する基に結合する位置を表し、**は(L)n-1 −PU
Gと結合する位置を表し、Wは酸素原子、硫黄原子また
は>N−R53を表し、Z1 およびZ2 は各々置換もしく
は無置換のメチン、又は窒素原子を表し、jは0、1ま
たは2を表し、R51及びR52はR11と同じ意味の基を表
し、R53はR12と同じ意味の基を表す。Z1 およびZ2
が置換メチンを表すときその置換基はR6 と同じ意味の
基を表す。ここで、Z1 およびZ2 が置換メチンを表す
ときその置換基、R51、R52およびR53の各々の任意の
2つの置換基が互いに連結して環状構造(例えば、ベン
ゼン環、ピラゾール環)を形成する場合、もしくは形成
しない場合のいずれであってもよい。一般式(T−3)
においてEは求電子基を表し、LINKはWとEとが分
子内求核置換反応することができるように立体的に関係
づける連結基を表す。一般式(T−1)で示されるLの
具体例としては例えば以下に示すものであるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
2 )j −C(R51)(R52)−** 一般式(T−2) *−W−CO−** 一般式(T−3) *−W−LINK−E−** 式中、*はナフトールカプラーの4位、又は左側に位置
する基に結合する位置を表し、**は(L)n-1 −PU
Gと結合する位置を表し、Wは酸素原子、硫黄原子また
は>N−R53を表し、Z1 およびZ2 は各々置換もしく
は無置換のメチン、又は窒素原子を表し、jは0、1ま
たは2を表し、R51及びR52はR11と同じ意味の基を表
し、R53はR12と同じ意味の基を表す。Z1 およびZ2
が置換メチンを表すときその置換基はR6 と同じ意味の
基を表す。ここで、Z1 およびZ2 が置換メチンを表す
ときその置換基、R51、R52およびR53の各々の任意の
2つの置換基が互いに連結して環状構造(例えば、ベン
ゼン環、ピラゾール環)を形成する場合、もしくは形成
しない場合のいずれであってもよい。一般式(T−3)
においてEは求電子基を表し、LINKはWとEとが分
子内求核置換反応することができるように立体的に関係
づける連結基を表す。一般式(T−1)で示されるLの
具体例としては例えば以下に示すものであるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
【0022】
【化5】
【0023】一般式(T−2)で示されるLの具体例と
しては例えば以下に示すものであるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
しては例えば以下に示すものであるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
【0024】
【化6】
【0025】一般式(T−3)で示されるLの具体例と
しては例えば以下に示すものであるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
しては例えば以下に示すものであるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
【0026】
【化7】
【0027】一般式(III )で表される基のnは0〜3
の整数を表し、好ましくはnは0〜2の整数を表し、さ
らに好ましくはnは1または2を表す。nが2以上のと
き、一般式(III )で表される基に含まれる複数のLは
同じでも異なっていてもよく、上記一般式(T−1)、
(T−2)および(T−3)で表される基を任意に組み
合わせたものが好ましい。
の整数を表し、好ましくはnは0〜2の整数を表し、さ
らに好ましくはnは1または2を表す。nが2以上のと
き、一般式(III )で表される基に含まれる複数のLは
同じでも異なっていてもよく、上記一般式(T−1)、
(T−2)および(T−3)で表される基を任意に組み
合わせたものが好ましい。
【0028】次に、一般式(III )におけるPUGにつ
いて説明する。PUGは写真性有用基を表し、詳しくは
PUGは現像抑制剤、色素、カブラセ剤、現像薬、補助
現像薬、カプラー、漂白促進剤、現像促進剤、定着促進
剤などを表す。好ましい写真性有用基の例は米国特許第
4,248,962号に記載のある写真性有用基(該特
許中、一般式PUGで表されるもの)、特開昭62−4
9353号に記載のある色素(該明細書中、カプラーよ
り放出される離脱基の部分)、米国特許第4,477,
563号に記載のある現像抑制剤、および特開昭61−
201247号および特開平2−55号等に記載のある
漂白促進剤(該明細書中、カプラーより放出される離脱
基の部分)が挙げられる。本発明において特に効果が大
きいのは、写真性有用基が色素、現像抑制剤、および漂
白促進剤の場合である。
いて説明する。PUGは写真性有用基を表し、詳しくは
PUGは現像抑制剤、色素、カブラセ剤、現像薬、補助
現像薬、カプラー、漂白促進剤、現像促進剤、定着促進
剤などを表す。好ましい写真性有用基の例は米国特許第
4,248,962号に記載のある写真性有用基(該特
許中、一般式PUGで表されるもの)、特開昭62−4
9353号に記載のある色素(該明細書中、カプラーよ
り放出される離脱基の部分)、米国特許第4,477,
563号に記載のある現像抑制剤、および特開昭61−
201247号および特開平2−55号等に記載のある
漂白促進剤(該明細書中、カプラーより放出される離脱
基の部分)が挙げられる。本発明において特に効果が大
きいのは、写真性有用基が色素、現像抑制剤、および漂
白促進剤の場合である。
【0029】PUGが色素を表すとき、好ましくは下記
一般式(IV)で表される。 一般式(IV) −A−B−N=N−D 式中、Aはカプラーのカップリング活性位もしくはLに
酸素原子、窒素原子、もしくはイオウ原子で結合する2
価の連結基を表し、Bは2価のアリール基またはヘテロ
環基を表し、Dはアリール基またはヘテロ環基を表す。
BおよびDで表されるアリール基およびヘテロ環基の好
ましい範囲及び具体例はR6 で表される基の説明で挙げ
たものと同じである。BおよびDで表されるアリール基
およびヘテロ環基はさらに置換基を有してもよく、好ま
しい置換基はR6 と同じ意味の基である。また、一般式
(IV)中のA、B、およびDで表される基の少なくとも
1つは、置換基としてスルホ基、カルボキシル基、また
はそれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルキル
アミン塩、もしくはピリジニウム塩を有する。カラード
カプラーの色素部分の好ましい具体例としては、ヨーロ
ッパ公開特許第0636934A1号および特開平3−
223751号等の明細書に記載されているものが挙げ
られる。
一般式(IV)で表される。 一般式(IV) −A−B−N=N−D 式中、Aはカプラーのカップリング活性位もしくはLに
酸素原子、窒素原子、もしくはイオウ原子で結合する2
価の連結基を表し、Bは2価のアリール基またはヘテロ
環基を表し、Dはアリール基またはヘテロ環基を表す。
BおよびDで表されるアリール基およびヘテロ環基の好
ましい範囲及び具体例はR6 で表される基の説明で挙げ
たものと同じである。BおよびDで表されるアリール基
およびヘテロ環基はさらに置換基を有してもよく、好ま
しい置換基はR6 と同じ意味の基である。また、一般式
(IV)中のA、B、およびDで表される基の少なくとも
1つは、置換基としてスルホ基、カルボキシル基、また
はそれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルキル
アミン塩、もしくはピリジニウム塩を有する。カラード
カプラーの色素部分の好ましい具体例としては、ヨーロ
ッパ公開特許第0636934A1号および特開平3−
223751号等の明細書に記載されているものが挙げ
られる。
【0030】PUGが現像抑制剤を表すとき、好ましく
は下記一般式(INH−1)〜(INH−13)で表さ
れる。
は下記一般式(INH−1)〜(INH−13)で表さ
れる。
【0031】
【化8】
【0032】
【化9】
【0033】
【化10】
【0034】式中#は一般式(III )のPUGを除いた
残基と結合する位置を表す。また##は置換基と結合す
る位置を表す。
残基と結合する位置を表す。また##は置換基と結合す
る位置を表す。
【0035】好ましい置換基としては、アルコキシカル
ボニル基(例えば、エトキシカルボニル、1,4−ジオ
キソ−2,5−ジオキサデシル、1,4−ジオキソ−
2,5−ジオキサ−8−メチルノニル)、アリールオキ
シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、ア
ルキルチオ基(例えば、メチルチオ、プロピルチオ、ヘ
キシルチオ)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、プロ
ピルオキシ)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニ
ル)、カルバモイル基(例えば、エチルカルバモイ
ル)、スルファモイル基(例えば、エチルスルファモイ
ル)、シアノ基、ニトロ基、アミド基(例えば、アセト
アミド)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イソブチル、t−ブ
チル、2−エチルヘキシル、ベンジル、4−メトキシベ
ンジル、フェネチル、プロピルオキシカルボニルメチ
ル、2−(プロピルオキシカルボニル)エチル、ブチル
オキシカルボニルメチル、ペンチルオキシカルボニルメ
チル、2−シアノエチルオキシカルボニルメチル、2,
2−ジクロロエチルオキシカルボニルメチル、3−ニト
ロプロピルオキシカルボニルメチル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルメチル、もしくは2,5−ジオキソ
−3,6−ジオキサデシル)、アリール基(例えば、フ
ェニル、ナフチル、4−メトキシカルボニルフェニル、
3−メトキシカルボニルフェニル、4−(2−シアノエ
チルオキシカルボニル)フェニル)、ヘテロ環基(例え
ば、4−ピリジル、3−ピリジル、2−ピリジル、2−
フリル、2−テトラヒドロピラニル)等が挙げられる。
ボニル基(例えば、エトキシカルボニル、1,4−ジオ
キソ−2,5−ジオキサデシル、1,4−ジオキソ−
2,5−ジオキサ−8−メチルノニル)、アリールオキ
シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、ア
ルキルチオ基(例えば、メチルチオ、プロピルチオ、ヘ
キシルチオ)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、プロ
ピルオキシ)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニ
ル)、カルバモイル基(例えば、エチルカルバモイ
ル)、スルファモイル基(例えば、エチルスルファモイ
ル)、シアノ基、ニトロ基、アミド基(例えば、アセト
アミド)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イソブチル、t−ブ
チル、2−エチルヘキシル、ベンジル、4−メトキシベ
ンジル、フェネチル、プロピルオキシカルボニルメチ
ル、2−(プロピルオキシカルボニル)エチル、ブチル
オキシカルボニルメチル、ペンチルオキシカルボニルメ
チル、2−シアノエチルオキシカルボニルメチル、2,
2−ジクロロエチルオキシカルボニルメチル、3−ニト
ロプロピルオキシカルボニルメチル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルメチル、もしくは2,5−ジオキソ
−3,6−ジオキサデシル)、アリール基(例えば、フ
ェニル、ナフチル、4−メトキシカルボニルフェニル、
3−メトキシカルボニルフェニル、4−(2−シアノエ
チルオキシカルボニル)フェニル)、ヘテロ環基(例え
ば、4−ピリジル、3−ピリジル、2−ピリジル、2−
フリル、2−テトラヒドロピラニル)等が挙げられる。
【0036】このうち、置換基として好ましくは置換も
しくは無置換のアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルキル基またはアリール基である。
さらに好ましくは置換基を有するアルコキシカルボニル
基、炭素数2〜7の無置換アルキル基、炭素数2〜10
の置換アルキル基、または置換もしくは無置換のフェニ
ル基である。
しくは無置換のアルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルキル基またはアリール基である。
さらに好ましくは置換基を有するアルコキシカルボニル
基、炭素数2〜7の無置換アルキル基、炭素数2〜10
の置換アルキル基、または置換もしくは無置換のフェニ
ル基である。
【0037】これらの中で現像抑制剤基として(INH
−1)、(INH−2)、(INH−3)、(INH−
4)、(INH−9)、および(INH−12)がさら
に好ましく、(INH−1)、(INH−2)、および
(INH−3)が特に好ましい。
−1)、(INH−2)、(INH−3)、(INH−
4)、(INH−9)、および(INH−12)がさら
に好ましく、(INH−1)、(INH−2)、および
(INH−3)が特に好ましい。
【0038】以下に本発明の化合物の具体例を示すが、
本発明はこれらによって限定されない。
本発明はこれらによって限定されない。
【0039】
【化11】
【0040】
【化12】
【0041】
【化13】
【0042】
【化14】
【0043】
【化15】
【0044】
【化16】
【0045】
【化17】
【0046】
【化18】
【0047】
【化19】
【0048】本発明の一般式(I)または(II)で表さ
れるカプラーのハロゲン化銀カラー写真感光材料への添
加量は3×10-5〜3×10-3mol /m2であり、好まし
くは3×10-4〜2×10-3mol /m2であり、1×10
-4〜1.5×10-3mol /m2がさらに好ましい。
れるカプラーのハロゲン化銀カラー写真感光材料への添
加量は3×10-5〜3×10-3mol /m2であり、好まし
くは3×10-4〜2×10-3mol /m2であり、1×10
-4〜1.5×10-3mol /m2がさらに好ましい。
【0049】本発明の一般式(I)または(II)で表さ
れる化合物は、特開昭62−85242号、特開平3−
223751号、ヨーロッパ公開特許第0636934
号、同第0696936号、米国特許第5,360,7
09号、同第5,350,666号、同第5,326,
680号等の明細書および一般式(III )で表される基
の説明で挙げた文献等に記載の方法により合成すること
ができる。
れる化合物は、特開昭62−85242号、特開平3−
223751号、ヨーロッパ公開特許第0636934
号、同第0696936号、米国特許第5,360,7
09号、同第5,350,666号、同第5,326,
680号等の明細書および一般式(III )で表される基
の説明で挙げた文献等に記載の方法により合成すること
ができる。
【0050】以下に本発明の化合物の合成法を合成例に
よって示すが、本発明はこれによって限定されない。 合成例〔例示化合物(12)の合成〕
よって示すが、本発明はこれによって限定されない。 合成例〔例示化合物(12)の合成〕
【0051】
【化20】
【0052】中間体A−1の合成 グリシンメチルエステル塩酸塩157g(1.25mol) とク
ロルギ酸フェニル196g(1.25mol) を塩化メチレン
1.6lに加え、寒剤で0℃に冷却して攪拌した。これ
にトリエチルアミン349ml(25.0mol) を1時間かけ
て滴下した。さらに2時間攪拌の後、反応混合物を水
1.0lで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一夜乾
燥した。減圧下に濃縮し、310g(収率約100%)
の中間体A−1を無色の油状物として得た。
ロルギ酸フェニル196g(1.25mol) を塩化メチレン
1.6lに加え、寒剤で0℃に冷却して攪拌した。これ
にトリエチルアミン349ml(25.0mol) を1時間かけ
て滴下した。さらに2時間攪拌の後、反応混合物を水
1.0lで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一夜乾
燥した。減圧下に濃縮し、310g(収率約100%)
の中間体A−1を無色の油状物として得た。
【0053】中間体A−4の合成 レゾルシノールを臭化オクチルでジオクチル化し、ニト
ロ化、還元して得られる2,4−ジオクチルオキシアニ
リン(A−3)69.9g(0.200mol)と1,4−ジヒド
ロキシ−2−ナフトエ酸フェニル(A−2)56.1g
(0.200mol)を混合し、160℃のオイルバスで加熱し
た。反応混合物が溶融した後、フェノールを捕捉するた
めのトラップを介してアスピレーターで減圧しながら3
時間攪拌した。攪拌しながら80℃まで冷却した後、酢
酸エチル600ml中にゆっくり注ぎ、5%炭酸ナトリ
ウム水溶液500mlで2回、飽和食塩水500mlで
1回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥
の後、濃縮し中間体A−4の粗生成物110gを得た。
ロ化、還元して得られる2,4−ジオクチルオキシアニ
リン(A−3)69.9g(0.200mol)と1,4−ジヒド
ロキシ−2−ナフトエ酸フェニル(A−2)56.1g
(0.200mol)を混合し、160℃のオイルバスで加熱し
た。反応混合物が溶融した後、フェノールを捕捉するた
めのトラップを介してアスピレーターで減圧しながら3
時間攪拌した。攪拌しながら80℃まで冷却した後、酢
酸エチル600ml中にゆっくり注ぎ、5%炭酸ナトリ
ウム水溶液500mlで2回、飽和食塩水500mlで
1回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥
の後、濃縮し中間体A−4の粗生成物110gを得た。
【0054】中間体A−5の合成 先に得た中間体A−4の粗生成物22.0gを酢酸エチ
ル150mlに溶解し、氷水で冷却して攪拌した。これ
に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデ
セン(DBU)18.3g(0.120mol)を加え、30分攪
拌の後、8.4g(40.0mmol)の中間体A−1を加え、2
0分間攪拌の後、冷却浴をはずしてさらに1時間攪拌し
た。反応混合物に酢酸エチル100ml、水300m
l、および濃塩酸11mlを加えて抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥の後、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液:ジクロロメタン/酢酸エチルの
混合溶媒)で精製し、15.8g(収率61%)の中間
体A−5を得た。
ル150mlに溶解し、氷水で冷却して攪拌した。これ
に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデ
セン(DBU)18.3g(0.120mol)を加え、30分攪
拌の後、8.4g(40.0mmol)の中間体A−1を加え、2
0分間攪拌の後、冷却浴をはずしてさらに1時間攪拌し
た。反応混合物に酢酸エチル100ml、水300m
l、および濃塩酸11mlを加えて抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥の後、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液:ジクロロメタン/酢酸エチルの
混合溶媒)で精製し、15.8g(収率61%)の中間
体A−5を得た。
【0055】例示化合物(12)の合成 中間体A−5、5.21g(8.00mmol)、パラホルムアル
デヒド0.24g(8.0mmol)および1−ブチルメルカプ
トテトラゾール1.27g(8.00mmol)をトルエン50m
lに加え、42℃で攪拌した。これに、臭化銅(II)
0.89g(4.0mmol) を加え、そのままの温度で5時間
攪拌した。この反応混合物に酢酸エチル100mlと1
N塩酸120mlを加えて抽出し、有機層を1N塩酸1
00ml、水100mlおよび飽和食塩水100mlで
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n
−ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒)で精製し、例示化
合物(12)3.54g(収率54%)を淡黄色のガラ
ス状固体として得た。
デヒド0.24g(8.0mmol)および1−ブチルメルカプ
トテトラゾール1.27g(8.00mmol)をトルエン50m
lに加え、42℃で攪拌した。これに、臭化銅(II)
0.89g(4.0mmol) を加え、そのままの温度で5時間
攪拌した。この反応混合物に酢酸エチル100mlと1
N塩酸120mlを加えて抽出し、有機層を1N塩酸1
00ml、水100mlおよび飽和食塩水100mlで
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n
−ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒)で精製し、例示化
合物(12)3.54g(収率54%)を淡黄色のガラ
ス状固体として得た。
【0056】本発明のカラー写真感光材料に用いること
ができる技術および無機・有機素材については、欧州特
許第436,938A2号の下記の箇所及び下記に引用
の特許に記載されている。 1.層構成: 第146頁34行目〜第147頁25行
目 2.ハロゲン化銀乳剤: 第147頁26行目〜第14
8頁12行目 3.イエローカプラー: 第137頁35行目〜第14
6頁33行目、第149頁21行目〜23行目 4.マゼンタカプラー: 第149頁24行目〜第28
行目; 欧州特許第421,453A1号の第3頁5行
目〜第25頁55行目 5.シアンカプラー: 第149頁29行目〜33行
目; 欧州特許第432,804A2号の第3頁28行
目〜第40頁2行目 6.ポリマーカプラー: 第149頁34行目〜38行
目; 欧州特許第435,334A2号の第113頁3
9行目〜第123頁37行目 7.カラードカプラー: 第53頁42行目〜第137
頁34行目、第149頁39行目〜45行目 8.その他の機能性カプラー: 第7頁1行目〜第53
頁41行目、第149頁46行目〜第150頁3行目;
欧州特許第435,334A2号の第3頁1行目〜第
29頁50行目 9.防腐・防黴剤: 第150頁25行目〜28行目 10. ホルマリンスカベンジャー: 第149頁15行目
〜17行目 11. その他の添加剤: 第153頁38行目〜47行
目; 欧州特許第421,453A1号の第75頁21
行目〜第84頁56行目、第27頁40行目〜第37頁
40行目 12. 分散方法: 第150頁4行目〜24行目 13. 支持体: 第150頁32行目〜34行目 14. 膜厚・膜物性: 第150頁35行目〜49行目 15. 発色現像工程: 第150頁50行目〜第151頁
47行目 16. 脱銀工程: 第151頁48行目〜第152頁53
行目 17. 自動現像機: 第152頁54行目〜第153頁2
行目 18. 水洗・安定工程: 第153頁3行目〜37行目
ができる技術および無機・有機素材については、欧州特
許第436,938A2号の下記の箇所及び下記に引用
の特許に記載されている。 1.層構成: 第146頁34行目〜第147頁25行
目 2.ハロゲン化銀乳剤: 第147頁26行目〜第14
8頁12行目 3.イエローカプラー: 第137頁35行目〜第14
6頁33行目、第149頁21行目〜23行目 4.マゼンタカプラー: 第149頁24行目〜第28
行目; 欧州特許第421,453A1号の第3頁5行
目〜第25頁55行目 5.シアンカプラー: 第149頁29行目〜33行
目; 欧州特許第432,804A2号の第3頁28行
目〜第40頁2行目 6.ポリマーカプラー: 第149頁34行目〜38行
目; 欧州特許第435,334A2号の第113頁3
9行目〜第123頁37行目 7.カラードカプラー: 第53頁42行目〜第137
頁34行目、第149頁39行目〜45行目 8.その他の機能性カプラー: 第7頁1行目〜第53
頁41行目、第149頁46行目〜第150頁3行目;
欧州特許第435,334A2号の第3頁1行目〜第
29頁50行目 9.防腐・防黴剤: 第150頁25行目〜28行目 10. ホルマリンスカベンジャー: 第149頁15行目
〜17行目 11. その他の添加剤: 第153頁38行目〜47行
目; 欧州特許第421,453A1号の第75頁21
行目〜第84頁56行目、第27頁40行目〜第37頁
40行目 12. 分散方法: 第150頁4行目〜24行目 13. 支持体: 第150頁32行目〜34行目 14. 膜厚・膜物性: 第150頁35行目〜49行目 15. 発色現像工程: 第150頁50行目〜第151頁
47行目 16. 脱銀工程: 第151頁48行目〜第152頁53
行目 17. 自動現像機: 第152頁54行目〜第153頁2
行目 18. 水洗・安定工程: 第153頁3行目〜37行目
【0057】本発明で用いることができる磁気記録を担
持したハロゲン化銀感材は、特開平6−35118、特
開平6−17528、発明協会公開技報94−6023
に詳細に記載される予め熱処理したポリエステルの薄層
支持体、例えば、ポリエチレン芳香族ジカルボキシレー
ト系ポリエステル支持体で、50μm〜300μm、好
ましくは50μm〜200μm、より好ましくは80〜
115μm、特に好ましくは85〜105μmを40℃
以上、ガラス転移点温度以下の温度で1〜1500時間
熱処理(アニール)し、特公昭43−2603、特公昭
43−2604、特公昭45−3828記載の紫外線照
射、特公昭48−5043、特開昭51−131576
等に記載のコロナ放電、特公昭35−7578、特公昭
46−43480記載のグロー放電等の表面処理し、U
SP5,326,689に記載の下塗りを行い必要に応
じUSP2,761,791に記載された下引き層を設
け、特開昭59−23505、特開平4−19572
6、特開平6−59357記載の強磁性体粒子を塗布す
れば良い。なお、上述した磁性層は特開平4−1246
42、特開平4−124645に記載されたストライプ
状でも良い。更に、必要に応じ、特開平4−62543
の帯電防止処理をし、最後にハロゲン化銀乳剤を塗布し
た物を用いる。ここで、用いるハロゲン化銀乳剤は特開
平4−166932、特開昭3−41436、特開平3
−41437を用いる。
持したハロゲン化銀感材は、特開平6−35118、特
開平6−17528、発明協会公開技報94−6023
に詳細に記載される予め熱処理したポリエステルの薄層
支持体、例えば、ポリエチレン芳香族ジカルボキシレー
ト系ポリエステル支持体で、50μm〜300μm、好
ましくは50μm〜200μm、より好ましくは80〜
115μm、特に好ましくは85〜105μmを40℃
以上、ガラス転移点温度以下の温度で1〜1500時間
熱処理(アニール)し、特公昭43−2603、特公昭
43−2604、特公昭45−3828記載の紫外線照
射、特公昭48−5043、特開昭51−131576
等に記載のコロナ放電、特公昭35−7578、特公昭
46−43480記載のグロー放電等の表面処理し、U
SP5,326,689に記載の下塗りを行い必要に応
じUSP2,761,791に記載された下引き層を設
け、特開昭59−23505、特開平4−19572
6、特開平6−59357記載の強磁性体粒子を塗布す
れば良い。なお、上述した磁性層は特開平4−1246
42、特開平4−124645に記載されたストライプ
状でも良い。更に、必要に応じ、特開平4−62543
の帯電防止処理をし、最後にハロゲン化銀乳剤を塗布し
た物を用いる。ここで、用いるハロゲン化銀乳剤は特開
平4−166932、特開昭3−41436、特開平3
−41437を用いる。
【0058】こうして作る感材は特公平4−86817
記載の製造管理方法で製造し、特公平6−87146記
載の方法で製造データを記録するのが好ましい。その
後、またはその前に、特開平4−125560に記載さ
れる方法に従って、従来の135サイズよりも細幅のフ
ィルムにカットし、従来よりも小さい小フォーマット画
面にマッチするようにパーフォレーションを小フォーマ
ット画面当たり片側2穴せん孔する。こうして出来たフ
ィルムは特開平4−157459のカートリッジ包装体
や特開平5−210202実施例の図9記載のカートリ
ッジ、またはUSP4,221,479のフィルムパト
ローネやUSP4,834,306、US4,834,
366、USP5,226,613、USP4,84
6,418記載のカートリッジに入れて使用する。
記載の製造管理方法で製造し、特公平6−87146記
載の方法で製造データを記録するのが好ましい。その
後、またはその前に、特開平4−125560に記載さ
れる方法に従って、従来の135サイズよりも細幅のフ
ィルムにカットし、従来よりも小さい小フォーマット画
面にマッチするようにパーフォレーションを小フォーマ
ット画面当たり片側2穴せん孔する。こうして出来たフ
ィルムは特開平4−157459のカートリッジ包装体
や特開平5−210202実施例の図9記載のカートリ
ッジ、またはUSP4,221,479のフィルムパト
ローネやUSP4,834,306、US4,834,
366、USP5,226,613、USP4,84
6,418記載のカートリッジに入れて使用する。
【0059】ここで用いるフィルムカートリッジまたは
フィルムパトローネはUSP4,848,693、US
P5,317,355の様にベロが収納できるタイプが
光遮光性の観点で好ましい。さらには、USP5,29
6,886の様なロック機構を持ったカートリッジやU
SP5,347,334に記載される使用状態が表示さ
れるカートリッジ、二重露光防止機能を有するカートリ
ッジが好ましい。また、特開平6−85128に記載の
様にフィルムを単にカートリッジに差し込むだけで容易
にフィルムが装着されるカートリッジを用いても良い。
こうして作られたフィルムカートリッジは次に述べるカ
メラや現像機、ラボ機器を用いて合目的に撮影、現像処
理、色々な写真の楽しみ方に使用できる。例えば、特開
平6−8886、特開平6−99908に記載の簡易装
填式のカメラや特開平6−57398、特開昭6−10
1135記載の自動巻き上げ式カメラや特開平6−20
5690に記載の撮影途中でフィルムの種類を取り出し
交換出来るカメラや特開平5−293138、特開平5
−283382に記載の撮影時の情報、例えば、パノラ
マ撮影、ハイヴィジョン撮影、通常撮影(プリントアス
ペクト比選択の出来る磁気記録可能)をフィルムに磁気
記録出来るカメラや特開平6−101194に記載の二
重露光防止機能を有するカメラや特開平5−15057
7に記載のフィルム等の使用状態表示機能の付いたカメ
ラなどを用いるとフィルムカートリッジ(パトローネ)
の機能を充分発揮できる。
フィルムパトローネはUSP4,848,693、US
P5,317,355の様にベロが収納できるタイプが
光遮光性の観点で好ましい。さらには、USP5,29
6,886の様なロック機構を持ったカートリッジやU
SP5,347,334に記載される使用状態が表示さ
れるカートリッジ、二重露光防止機能を有するカートリ
ッジが好ましい。また、特開平6−85128に記載の
様にフィルムを単にカートリッジに差し込むだけで容易
にフィルムが装着されるカートリッジを用いても良い。
こうして作られたフィルムカートリッジは次に述べるカ
メラや現像機、ラボ機器を用いて合目的に撮影、現像処
理、色々な写真の楽しみ方に使用できる。例えば、特開
平6−8886、特開平6−99908に記載の簡易装
填式のカメラや特開平6−57398、特開昭6−10
1135記載の自動巻き上げ式カメラや特開平6−20
5690に記載の撮影途中でフィルムの種類を取り出し
交換出来るカメラや特開平5−293138、特開平5
−283382に記載の撮影時の情報、例えば、パノラ
マ撮影、ハイヴィジョン撮影、通常撮影(プリントアス
ペクト比選択の出来る磁気記録可能)をフィルムに磁気
記録出来るカメラや特開平6−101194に記載の二
重露光防止機能を有するカメラや特開平5−15057
7に記載のフィルム等の使用状態表示機能の付いたカメ
ラなどを用いるとフィルムカートリッジ(パトローネ)
の機能を充分発揮できる。
【0060】この様にして撮影されたフィルムは特開平
6−222514、特開平6−222545に記載の自
現機で処理するか、処理の前または最中または後で特開
平6−95265、特開平4−123054に記載のフ
ィルム上の磁気記録の利用法を用いても良いし、特開平
5−19364記載のアスペクト比選択機能を利用して
も良い。現像処理する際シネ型現像であれば、特開平5
−119461記載の方法でスプライスして処理する。
また、現像処理する際または後、特開平6−14880
5記載のアッタチ、デタッチ処理する。こうして処理し
た後で、特開平2−184835、特開平4−1863
35、特開平6−79968に記載の方法でカラーペー
パーへのバックプリント、フロントプリントを経てフィ
ルム情報をプリントへ変換しても良い。更には、特開平
5−11353、特開平5−232594に記載のイン
デックスプリント及び返却カートリッジと共に顧客に返
却しても良い。
6−222514、特開平6−222545に記載の自
現機で処理するか、処理の前または最中または後で特開
平6−95265、特開平4−123054に記載のフ
ィルム上の磁気記録の利用法を用いても良いし、特開平
5−19364記載のアスペクト比選択機能を利用して
も良い。現像処理する際シネ型現像であれば、特開平5
−119461記載の方法でスプライスして処理する。
また、現像処理する際または後、特開平6−14880
5記載のアッタチ、デタッチ処理する。こうして処理し
た後で、特開平2−184835、特開平4−1863
35、特開平6−79968に記載の方法でカラーペー
パーへのバックプリント、フロントプリントを経てフィ
ルム情報をプリントへ変換しても良い。更には、特開平
5−11353、特開平5−232594に記載のイン
デックスプリント及び返却カートリッジと共に顧客に返
却しても良い。
【0061】
実施例 下塗りを施した三酢酸セルロースフィルム支持体上に、
下記に示すような組成の各層を重層塗布し、多層カラー
感光材料である試料101を作製した。 (感光層組成)各層に使用する素材の主なものは下記の
ように分類されている; ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤 ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤 ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤 ExS:増感色素 各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を
示し、ハロゲン化銀については、銀換算の塗布量を示
す。ただし増感色素については、同一層のハロゲン化銀
1モルに対する塗布量をモル単位で示す。
下記に示すような組成の各層を重層塗布し、多層カラー
感光材料である試料101を作製した。 (感光層組成)各層に使用する素材の主なものは下記の
ように分類されている; ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤 ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤 ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤 ExS:増感色素 各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を
示し、ハロゲン化銀については、銀換算の塗布量を示
す。ただし増感色素については、同一層のハロゲン化銀
1モルに対する塗布量をモル単位で示す。
【0062】(試料101) 第1層(ハレーション防止層) 黒色コロイド銀 銀 0.09 ゼラチン 1.60 ExM−1 0.12 ExF−1 2.0×10-3 固体分散染料ExF−2 0.030 固体分散染料ExF−3 0.040 HBS−1 0.15 HBS−2 0.02
【0063】第2層(中間層) 沃臭化銀乳剤M 銀 0.065 ExC−2 0.04 ポリエチルアクリレートラテックス 0.20 ゼラチン 1.04
【0064】第3層(低感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤A 銀 0.25 沃臭化銀乳剤B 銀 0.25 ExS−1 6.9×10-5 ExS−2 1.8×10-5 ExS−3 3.1×10-4 ExC−1 0.27 ExC−3 0.030 ExC−5 0.020 ExC−6 0.010 Cpd−2 0.025 HBS−1 0.10 ゼラチン 0.87
【0065】第4層(中感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤C 銀 0.70 ExS−1 3.5×10-4 ExS−2 1.6×10-5 ExS−3 5.1×10-4 ExC−1 0.24 ExC−2 0.060 ExC−3 0.0080 ExC−5 0.015 ExC−6 0.0078 Cpd−2 0.023 HBS−1 0.10 ゼラチン 0.75
【0066】第5層(高感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤D 銀 1.40 ExS−1 2.4×10-4 ExS−2 1.0×10-4 ExS−3 3.4×10-4 ExC−1 0.10 ExC−3 0.045 ExC−6 0.020 ExC−7 0.010 Cpd−2 0.050 HBS−1 0.22 HBS−2 0.050 ゼラチン 1.10
【0067】第6層(中間層) Cpd−1 0.090 固体分散染料ExF−4 0.030 HBS−1 0.050 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.10
【0068】第7層(低感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤E 銀 0.15 沃臭化銀乳剤F 銀 0.10 沃臭化銀乳剤G 銀 0.10 ExS−4 3.0×10-5 ExS−5 2.1×10-4 ExS−6 8.0×10-4 ExM−2 0.33 ExM−3 0.086 ExY−1 0.015 HBS−1 0.30 HBS−3 0.010 ゼラチン 0.73
【0069】第8層(中感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤H 銀 0.80 ExS−4 3.2×10-5 ExS−5 2.2×10-4 ExS−6 8.4×10-4 ExC−8 0.010 ExM−2 0.10 ExM−3 0.025 ExY−1 0.018 ExY−4 0.010 ExY−5 0.040 HBS−1 0.13 HBS−3 4.0×10-3 ゼラチン 0.80
【0070】第9層(高感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤I 銀 1.25 ExS−4 3.7×10-5 ExS−5 8.1×10-5 ExS−6 3.2×10-4 ExC−1 0.010 ExM−1 0.020 ExM−4 0.025 ExM−5 0.040 Cpd−3 0.040 HBS−1 0.25 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.33
【0071】第10層(イエローフィルター層) 黄色コロイド銀 銀 0.015 Cpd−1 0.16 固体分散染料ExF−5 0.060 固体分散染料ExF−6 0.060 油溶性染料ExF−7 0.010 HBS−1 0.60 ゼラチン 0.60
【0072】第11層(低感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤J 銀 0.09 沃臭化銀乳剤K 銀 0.09 ExS−7 8.6×10-4 ExC−8 7.0×10-3 ExY−1 0.050 ExY−2 0.22 ExY−3 0.50 ExY−4 0.020 Cpd−2 0.10 Cpd−3 4.0×10-3 HBS−1 0.28 ゼラチン 1.20
【0073】第12層(高感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤L 銀 1.00 ExS−7 4.0×10-4 ExY−2 0.10 ExY−3 0.10 ExY−4 0.010 Cpd−2 0.10 Cpd−3 1.0×10-3 HBS−1 0.070 ゼラチン 0.70
【0074】第13層(第1保護層) UV−1 0.19 UV−2 0.075 UV−3 0.065 HBS−1 5.0×10-2 HBS−4 5.0×10-2 ゼラチン 1.8
【0075】第14層(第2保護層) 沃臭化銀乳剤M 銀 0.10 H−1 0.40 B−1(直径 1.7 μm) 5.0×10-2 B−2(直径 1.7 μm) 0.15 B−3 0.05 S−1 0.20 ゼラチン 0.70
【0076】更に、各層に適宜、保存性、処理性、圧力
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ために W−1ないしW−3、B−4ないしB−6、F
−1ないしF−17及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
パラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩が含有されて
いる。
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ために W−1ないしW−3、B−4ないしB−6、F
−1ないしF−17及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
パラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩が含有されて
いる。
【0077】
【表1】
【0078】表1において、 (1)乳剤J〜Lは特開平2-191938号の実施例に従い、
二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を用いて粒子調製時
に還元増感されている。 (2)乳剤A〜Iは特開平3-237450号の実施例に従い、
各感光層に記載の分光増感色素とチオシアン酸ナトリウ
ムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増感が施されて
いる。 (3)平板状粒子の調製には特開平1-158426号の実施例
に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 (4)平板状粒子には特開平3-237450号に記載されてい
るような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察されてい
る。 (5)乳剤Lは特開昭60-143331 号に記載されている内
部高ヨードコアーを含有する二重構造粒子である。
二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を用いて粒子調製時
に還元増感されている。 (2)乳剤A〜Iは特開平3-237450号の実施例に従い、
各感光層に記載の分光増感色素とチオシアン酸ナトリウ
ムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増感が施されて
いる。 (3)平板状粒子の調製には特開平1-158426号の実施例
に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 (4)平板状粒子には特開平3-237450号に記載されてい
るような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察されてい
る。 (5)乳剤Lは特開昭60-143331 号に記載されている内
部高ヨードコアーを含有する二重構造粒子である。
【0079】有機固体分散染料の分散物の調製 下記、ExF−2を次の方法で分散した。即ち、水21.7
ミリリットル及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシエトキ
シエトキシエタンスルホン酸ソーダ3ミリリットル並びに5%
水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
−テル(重合度10) 0.5gとを 700ミリリットルのポットミル
に入れ、染料ExF−2を 5.0gと酸化ジルコニウムビ
−ズ(直径1mm) 500ミリリットルを添加して内容物を2時間
分散した。この分散には中央工機製のBO型振動ボール
ミルを用いた。分散後、内容物を取り出し、12.5%ゼラ
チン水溶液8gに添加し、ビーズを濾過して除き、染料
のゼラチン分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は0.44
μmであった。
ミリリットル及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシエトキ
シエトキシエタンスルホン酸ソーダ3ミリリットル並びに5%
水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
−テル(重合度10) 0.5gとを 700ミリリットルのポットミル
に入れ、染料ExF−2を 5.0gと酸化ジルコニウムビ
−ズ(直径1mm) 500ミリリットルを添加して内容物を2時間
分散した。この分散には中央工機製のBO型振動ボール
ミルを用いた。分散後、内容物を取り出し、12.5%ゼラ
チン水溶液8gに添加し、ビーズを濾過して除き、染料
のゼラチン分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は0.44
μmであった。
【0080】同様にして、ExF−3、ExF−4及び
ExF−6の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、0.24μm、0.45μm、0.52μmであった。
ExF−5は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細
書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)
分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであっ
た。
ExF−6の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、0.24μm、0.45μm、0.52μmであった。
ExF−5は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細
書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)
分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであっ
た。
【0081】
【化21】
【0082】
【化22】
【0083】
【化23】
【0084】
【化24】
【0085】
【化25】
【0086】
【化26】
【0087】
【化27】
【0088】
【化28】
【0089】
【化29】
【0090】
【化30】
【0091】
【化31】
【0092】
【化32】
【0093】
【化33】
【0094】
【化34】
【0095】
【化35】
【0096】
【化36】
【0097】試料(102〜116) 試料101の第3層および第4層のカプラーExC−
1、ExC−3、ExC−5、およびExC−6を表A
に示すように変更した以外は試料101と同様にして作
製した。こうして得られた試料101〜116の一部
を、−18℃のフリーザー中で2週間保存した後、1日
室温(約25℃)で放置した。この試料と室温で保存し
ておいた試料101〜116に感光計(富士写真フイル
ム株式会社製FWH型、光源の色温度3200K)を使
用して階調露光し、下記の現像処理を施した。各試料の
R濃度を測定し、室温で保存した試料が濃度=カブリ+
1.5を与える露光量におけるフリーザーで保存した試
料の濃度(データ1)を表Bに示した。さらに、室温で
保存した試料を同様に露光、現像処理した試料のR濃度
を測定した後、−18℃のフリーザー中で2週間保存
し、R濃度を測定した。フリーザーに保存した後最高濃
度をフリーザーに保存する前の最高濃度で割った値(デ
ータ2)を表Bに示した。実施例に用いた比較化合物の
構造を以下に示した。
1、ExC−3、ExC−5、およびExC−6を表A
に示すように変更した以外は試料101と同様にして作
製した。こうして得られた試料101〜116の一部
を、−18℃のフリーザー中で2週間保存した後、1日
室温(約25℃)で放置した。この試料と室温で保存し
ておいた試料101〜116に感光計(富士写真フイル
ム株式会社製FWH型、光源の色温度3200K)を使
用して階調露光し、下記の現像処理を施した。各試料の
R濃度を測定し、室温で保存した試料が濃度=カブリ+
1.5を与える露光量におけるフリーザーで保存した試
料の濃度(データ1)を表Bに示した。さらに、室温で
保存した試料を同様に露光、現像処理した試料のR濃度
を測定した後、−18℃のフリーザー中で2週間保存
し、R濃度を測定した。フリーザーに保存した後最高濃
度をフリーザーに保存する前の最高濃度で割った値(デ
ータ2)を表Bに示した。実施例に用いた比較化合物の
構造を以下に示した。
【0098】
【化37】
【0099】
【表2】
【0100】
【表3】
【0101】
【表4】
【0102】表Bから、色像形成カプラーとして本発明
のカプラーを使用した感光材料は露光前の感光材料をフ
リーザー保存しても濃度低下が少なく、また、現像処理
後の試料をフリーザー保存した場合の濃度低下も小さい
ことがわかる。さらにカラードカプラーやDIRカプラ
ーも本発明のカプラーに変更した場合にその効果が大き
くなることが示された。
のカプラーを使用した感光材料は露光前の感光材料をフ
リーザー保存しても濃度低下が少なく、また、現像処理
後の試料をフリーザー保存した場合の濃度低下も小さい
ことがわかる。さらにカラードカプラーやDIRカプラ
ーも本発明のカプラーに変更した場合にその効果が大き
くなることが示された。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I)または(II)で表され
るカプラーを含有することを特徴とするハロゲン化銀カ
ラー写真感光材料。 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 はアルキル基またはアリール基を表し、R
2 およびR3 はアルキル基を表し、R6 は芳香環に置換
可能な基を表し、nは0〜4の整数を表し、Xは水素原
子、ハロゲン原子、または現像主薬酸化体とのカップリ
ング反応により離脱し得る基を表す。) 一般式(II) 【化2】 (式中、R4 およびR5 はアルキル基またはアリール基
を表し、R6 は芳香環に置換可能な基を表し、nは0〜
4の整数を表し、Xは水素原子、ハロゲン原子、または
現像主薬酸化体とのカップリング反応により離脱し得る
基を表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15406195A JPH08320541A (ja) | 1995-03-23 | 1995-05-30 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6382995 | 1995-03-23 | ||
JP7-63829 | 1995-03-23 | ||
JP15406195A JPH08320541A (ja) | 1995-03-23 | 1995-05-30 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08320541A true JPH08320541A (ja) | 1996-12-03 |
Family
ID=26404945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15406195A Pending JPH08320541A (ja) | 1995-03-23 | 1995-05-30 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08320541A (ja) |
-
1995
- 1995-05-30 JP JP15406195A patent/JPH08320541A/ja active Pending
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