JPH08286372A

JPH08286372A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント

Info

Publication number: JPH08286372A
Application number: JP7093536A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Ichikawa; 立也市川; Tatsuo Chiba; 達男千葉
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1995-04-19
Filing date: 1995-04-19
Publication date: 1996-11-01
Anticipated expiration: 2016-08-20
Also published as: JP3199600B2

Abstract

(57)【要約】【目的】イソシアヌル環と（メタ）アクリレートの間
を、柔軟なポリエチレングリコール基又はポリプルピレ
ングリコール基とエキサメチレン基で結合した化合物を
エチレン不飽和化合物として用いることにより、種々の
要求を満足し、且つ機械強度、耐薬品性及び柔軟性を有
する感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメン
トを提供する。【構成】（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポ
リマ、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和基を
有する光重合化合物及び（Ｃ）光開始剤を含み、前記
（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ¹は２価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）【化２】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す）で表される化合物を必須成分として含む感
光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感光性樹脂組成物及び
これを用いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント回路板の製造分野におい
て、エッチング、メッキ等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィ
ルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられ
ている。プリント回路板は、感光性フィルムを銅基板上
にラミネートして、パターン露光した後、未露光部を現
像液で除去し、エッチング又はメッキ処理を施して、パ
ターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除去
する方法によって製造されている。

【０００３】この未露光部の除去を行う現像液として
は、炭酸水素ナトリウム溶液等を使用するアルカリ現像
型が主流になっており、現像液は、通常、ある程度感光
層を溶解する能力がある限り使用され、使用時には現像
液中に感光性樹脂組成物が溶解又は分散される。近年の
印刷配線板の高密度化に伴い、銅基板とパターン形成さ
れた感光層との接触面積が小さくなる為、現像、エッチ
ング又はメッキ処理工程で優れた接着力、機械強度、耐
薬品性、柔軟性等が要求される。

【０００４】この種の特性のうち、耐薬品性を向上させ
るのにイソシアヌレート環をもつ光重合性化合物の使用
する方法が、特開昭６１−７７８４４号公報、特開昭６
２−２９０７０５号公報、特開昭６１−１４２１２号公
報、特開昭５９−２２２４８０号公報、特開平１−１４
１９０号公報、特開昭５７−５５９１４号公報、特開平
５−２１６２２４号公報、特開平５−２７３７５４号公
報等に記載されているが、硬化膜が固く、脆いという欠
点がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来の技術の問題点を解決し、イソシアヌル環と（メタ）
アクリレートの間を、柔軟なポリアルキレンオキサイド
基（ポリエチレンオキサイド基、ポリプロピレンオキサ
イド基等）とアルキレン基（ヘキサメチレン基等）で結
合した化合物をエチレン不飽和化合物として用いること
により、種々の要求を満足し、且つ機械強度、耐薬品性
及び柔軟性を有する感光性樹脂組成物及びこれを用いた
感光性エレメントを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）カルボ
キシル基を有するバインダーポリマ、（Ｂ）分子内に重
合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化合物及び
（Ｃ）光開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）

【化３】（式中、Ｒ¹は２価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）

【化４】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す）で表される化合物を必須成分として含む感
光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、前記感光性
樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレ
メントに関する。

【０００７】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）カル
ボキシル基を有するバインダーポリマ、（Ｂ）分子内に
重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化合物及
び（Ｃ）光開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が、上記一般
式（Ｉ）表される化合物を必須成分として含むものであ
る。

【０００８】本発明における、（Ａ）カルボキシル基を
有するバインダーポリマとしては、例えば、（メタ）ア
クリル酸（（メタ）アクリル酸とは、メタクリル酸及び
アクリル酸を意味する。以下同じ）とこれらと共重合し
うるビニルモノマとの共重合体等が挙げられ、これらの
共重合体は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。

【０００９】前記ビニルモノマとしては、特に制限はな
く、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メ
タ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブ
チルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル
エステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル
エステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエス
テル、メタクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート（（メタ）ア
クリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意
味する。以下同じ）、２，２，３，３−テトラフルオロ
プロピル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセ
トンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙
げられる。

【００１０】（Ａ）カルボキシル基を有するバインダー
ポリマは、アルカリ水溶液（例えば、１〜３重量％の炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム水溶液等）に可溶又は膨
潤可能であることが、現像性、環境保全性等の点で好ま
しい。また、酸価は、１００〜５００であることが好ま
しい。酸価が１００未満では、現像時間が遅くなる傾向
があり、５００を超えると、光硬化したレジストの耐現
像液性が低下する傾向がある。また、重量平均分子量
（ＧＰＣ測定で、ポリスチレン換算したもの）は、２
０，０００〜３００，０００であることが好ましい。重
量平均分子量が、３０，０００未満では、耐現像液性が
低下する傾向があり、３００，０００を超えると、現像
時間が長くなる傾向がある。

【００１１】本発明における、（Ｂ）分子内に少なくと
も一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合
化合物に、必須成分として含まれる上記一般式（Ｉ）で
表される化合物において、上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で
ある２価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレ
ン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネ
オペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチ
レン基、２−エチル−ヘキシレン基、ノニレン基、デシ
レン基等が挙げられる。また、Ｒ²である上記一般式（I
I）中、Ｘであるアルキレンオキサイド基としては、特
に制限はなく、例えば、エチレンオキサイド基、プロピ
レンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレン
オキサイド基、ヘキシレンオキサイド基が挙げられ、な
かでもエチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基
が好ましい。なお、プロピレンオキサイド基の結合方向
としては、

【化５】の２種がある。また、上記一般式（II）中、ｎは１〜１
４の整数である必要があり、２〜１４であることが好ま
しい。ｎが１４を超えると、機械強度が低下する。

【００１２】上記一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、例えば、一般式（II−１）、一般式（II−２）又は
一般式（II−３）で表される化合物と、一般式（III）
で表される化合物との反応等により得られる。

【化６】（式中、Ｒ³及びｎは一般式（II）におけると同意義で
あり、ｍは３〜６の整数である）

【化７】（式中、Ｒ¹は一般式（Ｉ）におけると同意義である）

【００１３】なお、上記一般式（II−２）において、こ
のブロックセグメントのプロピレンオキサイド単位は、
表記の都合上メチル基の結合位置が酸素原子の２つ隣の
炭素原子上となっているが、この構造に限定されるわけ
ではなく、

【化８】等も含むものとする。

【００１４】上記一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、市販品として、例えば、ＮＫオリゴＵＡ−２１
（一般式（Ｉ）で、Ｒ₂＝−ＣＨ₃、Ｘ＝−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
−、ｎ＝４（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）、
ＮＫオリゴＵＡ−４１（一般式（Ｉ）で、Ｒ₂＝−Ｃ
Ｈ₃、Ｘ＝−ＣＨ₂−ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ
₃)−ＣＨ₂−Ｏ−、ｎ＝５（平均値）、新中村化学工業
(株)商品名）、ＮＫオリゴＵＡ−４２（一般式（Ｉ）
で、Ｒ₂＝−ＣＨ₃、Ｘ＝−ＣＨ₂−ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｏ−又
は−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂−Ｏ−、ｎ＝９（平均値）、新
中村化学工業(株)商品名）、ＮＫオリゴＵＡ−４４
（一般式（Ｉ）で、Ｒ₂＝−Ｈ、Ｘ＝−ＣＨ₂−ＣＨ(Ｃ
Ｈ₃)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂−Ｏ−、ｎ＝６
（平均値）、新中村化学工業(株)商品名）等が挙げられ
る。

【００１５】また、本発明における（Ｂ）成分中の必須
成分である上記の一般式（Ｉ）で表される化合物以外の
化合物としては、例えば、多価アルコールにα、β−不
飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物（ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の
数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のも
の）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート等）、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カ
ルボン酸を付加して得られる化合物（ビスフェノールＡ
ジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノ
ールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）アクリレ
ート等のビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルアクリレート等）、（メタ）アクリル酸の
アルキルエステル（（メタ）アクリル酸メチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アク
リル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチル
ヘキシルエステル等）などが挙げられる。

【００１６】本発明における（Ｃ）光開始剤としては、
例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テ
トラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒ
ラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジ
アミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチル
アミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フ
ェナントレンキノン等）、ベンゾイン（ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフ
ェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾ
イン、エチルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジ
ルジメチルケタール等）、２，４，５−トリアリールイ
ミダゾール二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロ
フェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェ
ニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，
４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、アクリ
ジン誘導体（９−フェニルアクリジン、１，７−ビス
（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）などが挙げら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００１７】本発明における（Ａ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、４０〜８０重量部とすることが好ましい。この配合
量が、４０重量部未満では、光硬化物が脆くなり易く、
感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾
向があり、８０重量部を超えると、感度が不充分となる
傾向がある。

【００１８】本発明における（Ｂ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、２０〜６０重量部とすることが好ましい。この配合
量が、２０重量部未満では、感度が不充分となる傾向が
あり、６０重量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向
がある。

【００１９】また、本発明における（Ｂ）成分中の必須
成分である一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、３重量部以上であることが好ましく、５〜４０重量
部であることがより好ましい。この配合量が、３重量部
未満では、感度、密着性、耐メッキ性等が劣る傾向があ
る。

【００２０】本発明における（Ｃ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．１〜２０重量部であることが好ましい。この配
合量が、０．１重量部未満では、感度が不充分となる傾
向があり、２０重量部を超えると、露光の際に組成物の
表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾
向がある。

【００２１】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、染料、発色剤、可塑剤、顔料、難燃剤、安定剤、
密着性付与剤等を添加することができる。

【００２２】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアル
コール等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
することができる。

【００２３】本発明の感光性エレメントは、前記本発明
の感光性樹脂組成物を、支持体上に塗布、乾燥すること
により作製できる。

【００２４】支持体としては、重合体フィルム、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが挙げられ、なかでも、
ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これ
らの重合体フィルムは、後に感光層から除去する必要が
あるため、除去が不可能となるような表面処理が施され
たものであったり、材質であったりしてはならない。

【００２５】これらの重合体フィルムの厚さは、５〜１
００μｍとすることが好ましく、１０〜３０μｍとする
ことがより好ましい。また、これらの重合体フィルム
は、一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つは感
光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層すること
ができる。

【００２６】本発明の感光性エレメントを用いてフォト
レジスト画像を製造する方法としては、前記の保護フィ
ルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、
感光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層
する方法等が挙げられる。積層される表面は、通常、金
属面であるが、特に制限はない。

【００２７】感光層の加熱温度は、特に制限はなく、９
０〜１３０℃とすることが好ましい。また、感光層の圧
着圧力は、特に制限はなく、３kg/cm²とすることが好ま
しい。なお、感光層を前記のように加熱すれば、予め基
板を予熱処理することは必要ではないが、積層性をさら
に向上させるために、基板の予熱処理を行うこともでき
る。

【００２８】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性
光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する
重合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光しても
よく、また、不透明の場合には、当然除去する必要があ
る。

【００２９】感光層の保護という点からは、重合体フィ
ルムは透明で、この重合体フィルムを残存させたまま、
それを通して露光することが好ましい。

【００３０】活性光は、公知の活性光源、例えば、カー
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発
生する光が用いられる。感光層に含まれる光開始剤の感
受性は、通常、紫外線領域において最大であるので、そ
の場合は活性光源は紫外線を有効に放射するものが好ま
しい。また、光開始剤が可視光線に感受するもの、例え
ば、９，１０−フェナンスレンキノン等である場合に
は、活性光としては可視光が用いられ、その光源として
は前記のもの以外に、写真用フラッド電球、太陽ランプ
等も用いられる。

【００３１】次いで、露光後、感光層上に重合体フィル
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウ
ム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等）、アルカ
リ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム
等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸カリウム等）などが挙げられ、炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水溶
液のpHは、９〜１１の範囲とすることが好ましく、その
温度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、
アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促
進させるための少量の有機溶剤等を混入させることもで
きる。

【００３２】さらに、印刷配線板を製造する方法として
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光
している基板の表面を、エッチング、メッキ等の公知方
法で処理する方法等が挙げられる。次いで、フォトレジ
スト画像は、通常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさ
らに強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。こ
の強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜５重量
％の水酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。

【００３３】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。実施例１〜４及び比較例１〜３表１及び表２に示す材料を配合し、溶液を得た。

【表１】

【表２】

【００３４】得られた溶液に、表３に示す（Ｂ）成分を
溶解させて、感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【表３】

【００３５】表３中、使用した化合物は、 *1：一般式(Ｉ)で、Ｒ¹は−Ｃ₆Ｈ₁₂−、Ｒ³は−ＣＨ₃、
Ｘは−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、ｎは４(平均値)の化合物、新中
村工業(株)製 *2：一般式(Ｉ)で、Ｒ¹は−Ｃ₆Ｈ₁₂−、Ｒ³は−ＣＨ₃、
Ｘは−ＣＨ₂ＣＨ(ＣＨ ₃)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｃ
Ｈ₂Ｏ、ｎは５(平均値)の化合物、新中村工業(株)製 *3：一般式(Ｉ)で、Ｒ¹は−Ｃ₆Ｈ₁₂−、Ｒ³は−ＣＨ₃、
Ｘは−ＣＨ₂ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｃ
Ｈ₂Ｏ、ｎは９(平均値)の化合物、新中村工業(株)製 *4：一般式(Ｉ)で、Ｒ¹は−Ｃ₆Ｈ₁₂−、Ｒ³は−Ｈ、Ｘ
は−ＣＨ₂ＣＨ(ＣＨ₃)−Ｏ−又は−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂
Ｏ、ｎは６(平均値)の化合物、新中村工業(株)製 *5：ポリプロピレングリコールジアクリレート(新中村
化学工業(株)製） *6：γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタ
クリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート *7：β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオ
キシエチル−ｏ−フタレートである。

【００３６】次いで、得られた感光性樹脂組成物の溶液
を、２５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１
０分間乾燥して、感光性エレメントを得た。感光性樹脂
組成物層の乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。

【００３７】一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業(株)製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を、＃６
００相当のブラシを持つ研磨機（三啓(株)製）を用いて
研磨し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層
板を８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組
成物層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。

【００３８】次に、高圧水銀灯ランプを有する露光機
（オーク(株)製）ＨＭＷ−２０１Ｂを用いて、ネガとし
てストーファー２１段ステップタブレットを試験片の上
に置いて、６０mJ/cm²で露光した。次に、ポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、３０℃で１重量％炭
酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレーし、未露光部分
を除去した後、銅張り積層板上に形成された光硬化膜の
ステップタブレットの段数を測定することにより、感光
性樹脂組成物の光感度を評価し、その結果を表４に示し
た。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、こ
のステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高い
ことを示す。

【００３９】また、密着性は、現像後、剥離せずに残っ
たライン幅（μｍ）を測定し、その結果を表４に示し
た。この密着性の数字が小さい程、細いラインでも銅張
り積層板から剥離せずに銅張り積層板に密着しているこ
とを示し、密着性が高いことを示す。

【００４０】耐メッキ性は、上記のようにラミネート
し、所定の露光量により露光を行い、次いで、上記現像
液により現像後、脱脂（ＰＣ−４５５（メルテックス社
製）２５重量％）５分浸漬→水洗→ソフトエッチ（過硫
酸アンモニウム１５０ｇ／リットル）２分浸漬→水洗→
１０重量％硫酸１分浸漬の順に前処理を行い、硫酸銅メ
ッキ浴（硫酸銅７５ｇ／リットル、硫酸１９０ｇ／リッ
トル、塩素イオン５０ppm、カパーグリームＰＣＭ（メ
ルテックス社製）５ml／リットル）に入れ、硫酸銅メッ
キを室温下、３A/dm²で４０分間行った。その後、水洗
して、１０重量％ホウフッ化水素酸に１分浸漬し、ハン
ダメッキ浴（４５重量％ホウフッ化スズ６４ml／リット
ル、４５重量％ホウフッ化鉛２２ml／リットル、４２重
量％ホウフッ化水素酸２００ml／リットル、プルティン
ＬＡコンダクティビティーソルト（メルテックス社製）
２０ｇ／リットル、プルティンＬＡスターター（メルテ
ックス社製）４１ml／リットル）に入れ、半田メッキを
室温下、１．５A/dm²で１５分間行った。

【００４１】水洗、乾燥後耐メッキ性を調べるために、
直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がし
て（９０°ピールオーフ試験）、レジストの剥がれの有
無を観察し、結果を表４に示した。また、レジスト剥離
後、上方から光学顕微鏡で、半田メッキのもぐりの有無
を観察し、結果を表４に示した。半田メッキのもぐりを
生じた場合、透明なレジストを介して、その下部にメッ
キにより析出した半田が観察される。

【００４２】また、別の試験片を、ストーファー２１段
ステップタブレットで８段を示す露光量で、露光、現像
後、クロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ−５４００）を行
い、結果を表４に示した。

【００４３】

【表４】

【００４４】表４から明らかなように、本発明の範囲内
の実施例１〜４は、耐メッキ性が良好であり、密着性及
びクロスカット性も優れている。

【００４５】

【発明の効果】請求項１記載の感光性樹脂組成物は、密
着性、耐薬品性、柔軟性が優れたものである。請求項２
記載の感光性樹脂組成物は、請求項１記載の感光性樹脂
組成物の効果を奏し、さらに光感度、機械特性等が優れ
る。請求項３記載の感光性樹脂組成物は、請求項２記載
の感光性樹脂組成物の効果を奏し、さらにアルカリ現像
性が優れる。請求項４記載の感光性エレメントは、作業
性が優れる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）カルボキシル基を有するバインダ
ーポリマ、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和
基を有する光重合化合物及び（Ｃ）光開始剤を含み、前
記（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ¹は２価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）【化２】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す）で表される化合物を必須成分として含む感
光性樹脂組成物。
【請求項２】（Ａ）成分がアルカリ水溶液に可溶又は
膨潤可能であり、酸価が１００〜５００であり、重量平
均分子量が２０，０００〜３００，０００である請求項
１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分
の使用割合が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００
重量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０重量部、（Ｂ）
成分が２０〜６０重量部及び（Ｃ）成分が０．１〜２０
重量部であり、（Ｂ）成分中の上記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物が３重量部以上含まれる請求項１又は２記載
の感光性樹脂組成物。
【請求項４】請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組
成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメン
ト。