JPH0825990B2 - 安定剤としての置換フエノ−ル - Google Patents

安定剤としての置換フエノ−ル

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JPH0825990B2
JPH0825990B2 JP61270830A JP27083086A JPH0825990B2 JP H0825990 B2 JPH0825990 B2 JP H0825990B2 JP 61270830 A JP61270830 A JP 61270830A JP 27083086 A JP27083086 A JP 27083086A JP H0825990 B2 JPH0825990 B2 JP H0825990B2
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tert
alkyl group
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Ciba Geigy AG
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は安定剤として新規な置換ビス(アルキルチオ
メチル)フェノールに関するものである。
〔従来の技術〕
アルキルチオメチル基を含むフェノールは安定剤とし
て知られている。例えば、アメリカ合衆国特許第366035
2号明細書にポリマー及び弾性体の酸化防止剤として2,
4,6−トリアルキル−ビス(3,5−アルキルチオメチル)
フェノールの使用が記載されている。更に、2,6−ビス
(アルコキシカルボニルアルキレンチオメチル)−4−
アルキルフェノールがポリオレフィンの酸化防止剤とし
てアメリカ合衆国特許第3227667号明細書により知られ
ている。
イギリス国特許第1184533号明細書によると、2,4−ビ
ス(アルキルチオメチル)−3,6−ジアルキルフェノー
ルは有機ポリマー、そして更に、合成油のための安定剤
として用いることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
熱、酸化又は光誘起崩壊に敏感な材料のための効果的
な安定剤に対する必要性が依然存在している。
〔問題点を解決するための手段〕
したがって、本発明は、次式II: (式中、 二つの基R7は、それぞれ互いに独立して、未置換又は
1若しくは2個のヒドロキシル基、又は−OCO−R4、−C
O−OR5又は−CO−NR5R6により置換された炭素原子数8
ないし18のアルキル基を表わすか、又はそれらはフェニ
ル基又はベンジル基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数
2ないし8のアルケニル基又は次式Ia: で表わされる基を表わし、 mは0、1又は2を表わし、 二つの基R′は、それぞれ互いに独立して、炭素原子
数1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5ないし12の
シクロアルキル基を表わし、 R5は−O−、−S−又は−NR′−により中断されても
よい炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わし、そし
て R6は水素原子を表わすか、又はR5で定義した意味の一
つを表わす。)で表わされる化合物に関する。
本発明の化合物のうちより好ましいものは、式IIにお
いて、二つの基R7が、それぞれ互いに独立して未置換の
炭素原子数8ないし18のアルキル基を表わす化合物であ
る。
また、本発明は、上記式IIで表わされる化合物よりな
る、エラストマー又は粘着付与性樹脂のための安定剤に
関する。
この安定剤のうちより好ましいものは、R7は、炭素原
子数8ないし18のアルキル基、−CH2CH2OH、−CH2CH2O
−CO−R4、−CH2−CO−OR5又は−CH2CH2−CO−OR5を表
わすか、又はフェニル基若しくはベンジル基を表わし、
ここでR4およびR5は上記に定義された意味の一つを表わ
すところの安定剤である。
さらに、本発明は、上記式IIで表わされる化合物より
なる、潤滑剤のための安定剤にも関する。
炭素原子数1ないし8のアルキル基としてのR′は、
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、
n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、1,
1−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基又は2−エチルヘキシル基である。好ましくはR′は
炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメチル基、エ
チル基、イソプロピル基又は第三ブチル基、最も好まし
くはメチル基又は第三ブチル基である。
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基としての
R′は例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基、シクロオクチル基又はシクロドデシル
基である。好ましくはR′は炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、最も好ましくはシクロヘキシル基であ
る。
炭素原子数8ないし18のアルキル基としてのR7は、例
えば、R′のために挙げたn−オクチル基又はエチルヘ
キシル基に加えて、さらにn−ノニル基、n−デシル
基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1,1,3,3−テトラ
メチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル
基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、n−テト
ラデシル基、n−ヘキサデシル基又はn−オクタデシル
基である。好ましくはR7は、例えばn−オクチル基又は
n−ドデシル基である。
炭素原子数8ないし18のアルキル基としてのR7は1若
しくは2個のヒドロキシル基により置換されていてもよ
い。このような基の例は、2−ヒドロキシオクタデシル
基又は2,3−ジヒドロキシプロピル基であり、2−ヒド
ロキシエチル基が好ましい。
炭素原子数1ないし17のアルキル基としてのR4は、例
えばR′およびR7のために挙げたアルキル基の一つ又は
メチル基で、炭素原子数1ないし12のアルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、第三ブチル基、n−ヘキシル基、n
−オクチル基、2−エチルヘキシル基又はn−ドデシル
基が好ましい。
炭素原子数2ないし8のアルケニル基としてのR4は例
えばビニル基、アリル基、メタリル基、ブテ−3−エニ
ル基、ペンテ−4−エニル基、ヘキセ−5−エニル基、
オクテ−7−エニル基、デセ−9−エニル基又はドデセ
−11−エニル基である。好ましくはR4はビニル基又はア
リル基である。
式Iaで表わされる基としてはR4は例えば4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル基、4−ヒドロキシ−3,5−
第三ブチルフェニル基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルベンジル基、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチル
ベンジル基又は4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ルエチル基であることができ、4−ヒドロキシ−3,5−
ジ−第三ブチルベンジル基が好ましい。
炭素原子数1ないし20のアルキル基としてのR5又はR6
は例えばR7のために挙げた基の一つ又はメチル基、オク
タデシル基又はエイコシル基であり、メチル基、エチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基又はn−ドデシル
基が好ましい。
−O−、−S−又は−NR′−によって中断された炭素
原子数1ないし20のアルキル基としてのR5又はR6は、例
えば3−オキサブチル基、3−オキサペンチル基、3,6
−ジオキサヘプチル基、3,6,9−トリオキサデシル基、
3,6,9,12−テトラオキサトリデシル基、3,6,9,12,15−
ペンタオキサデシル基、3,6,9,12,15,18−ヘキサオキサ
ノナデシル基、3−チアブチル基、3−アザブチル基、
3−メチル−3−アザペンチル基、3−エチル−3−ア
ザペンチル基、3−メチル−3−アザ−6−オキサヘプ
チル基であり、3−オキサペンチル基又は3−アザブチ
ル基が好ましい。
式Iで表わされる化合物の代表的な例は下記に挙げた
ものである。
2,4−ビス(2′−ヒドロキシエチルチオメチル)−6
−メチルフェノール、 2,4−ビス(2′,3′−ジヒドロキシプロピルチオメチ
ル)−3,6−ジメチルフェノール、 2,4−ビス(2′−アセチルオキシエチルチオメチル)
−3,6−ジメチルフェノール、 2,4−ビス(2′−n−デカノイルオキシエチルチオメ
チル)−6−メチルフェノール、 2,4−ビス(n−オクチルチオメチル)−6−メチルフ
ェノール、 2,4−ビス(第三オクチルチオメチル)−6−メチルフ
ェノール1)、〔1)第三オクチル基は1,1,3,3−テトラ
メチルブチル基を表わす。〕 2,4−ビス(第三ドデシルチオメチル)−6−メチルフ
ェノール2)、〔2)第三ドデシル基は1,1,3,3,5,5−ヘ
キサメチルヘキシル基と1,1,4,6,6−ペンタメチルヘプ
ト−4−イル基とからなる混合物を表わす。〕 2,4−ビス(ベンジルチオメチル)−6−メチルフェノ
ール、 2,4−ビス(フェニルチオメチル)−3−メチル−6−
第三ブチルフェノール、 2,4−ビス(2′−エチルヘキシルオキシカルボニルメ
チルチオメチル)−6−メチルフェノール、 2,4−ビス(n−オクタデシルオキシカルボニルメチル
チオメチル)−3,6−ジメチルフェノール、 2,4−ビス〔2′−(2″−エチルヘキシルオキシカル
ボニル)エチルチオメチル〕−3−メチル−6−第三ブ
チルフェノール。
エラストマーとして使用することができる物質の例
は: 1.ポリジエン、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン
又はポリクロロプレン;ブロックポリマー、例えばスチ
レン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/
スチレン又はアクリロニトリル/ブタジエン共重合体。
2.モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビ
ニルモノマーとの共重合体、例えばエチレン/アルキル
アクリレート共重合体、エチレン/アルキルメタクリレ
ート共重合体、エチレン/ビニルアセテート共重合体及
びエチレンのプロピレン及び例えばヘキサジエン、ジシ
クロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのよう
なジエンとの三元共重合体。
3.ハロゲン原子含有ポリマー、例えばポリクロロプレ
ン、塩素化ゴム、塩素化又はスルホクロル化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−及びコーポリマー、クロ
ロトリフルオロエチレン共重合体、ハロゲン原子含有ビ
ニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらの共重合体、
例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/ビニ
ルアセテート又は塩化ビニリデン/ビニルアセテート。
4.一方の末端にヒドロキシル基そして他方の端に脂肪族
又は芳香族ポリイソシアネートを有するポリエーテル、
ポリエステル及びポリブタジエンから誘導されたポリウ
レタン並びにそれらの前駆物質。
5.天然ゴム。
6.上記ポリマーの混合物(ポリブレンド)。
7.天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ゴ
ムラテックス又はカルボキシル化スチレン/ブタジエン
共重合体のラテックス。
これらのエラストマーはラテックスの形で存在しても
よく、そしてそれ自体安定化されることができる。
好ましい態様は、エラストマーとしてポリブタジエン
ゴムのようなポリジエン、ポリフッ化ビニリデンのよう
なハロゲン含有ポリマー又はポリウレタンを含有するも
のである。
本発明においては、式IIで表わされる安定剤をエラス
トマーに基づいて0.01ないし10重量%、好ましくは0.05
ないし5.0重量%含有することが好都合である。式IIで
表わされる安定剤の混合物もまた用いることができる。
エラストマーへの混入は、例えば、式IIで表わされる
物質と所望により他の添加剤を成形前又は成形中に慣用
の方法によって配合することによって行うか、又は溶解
した若しくは分散させた化合物をポリマーに施用し、そ
れに続いて溶媒を蒸発させるかもしくは蒸発させないこ
とによって混合することにより行うことができる。式II
で表わされる化合物はまたマスターバッチの形でプラス
チックに例えば2,5ないし25重量%の濃度で含有するよ
うに加えて安定化してもよい。
粘着付与性樹脂として使用され得る物質の例は: −天然ロジン樹脂(rosins)例えばガムロジン、木ロジ
ン、トールオイルロジン、 −ロジン樹脂の誘導体、例えばグリセロールエステル、
ペンタエリトリトールエステル、それぞれ水素添加した
若しくは水素添加しないもの又は分割した若しくは分割
しないものであってもよい。
−合成の炭素原子数5又は9の炭化水素樹脂、 −インデン樹脂、メチルインデン樹脂、クロマン−イン
デン樹脂、 −テルペン樹脂、 −メチルスチレン樹脂、 −フェノール樹脂、 −他の粘着付与剤例えばアスファルト又はれき青、 −上記樹脂の混合物、 −上記樹脂の水性エマルジョン。
好ましい態様は合成の炭素原子数5又は9の炭化水素
樹脂、ロジン樹脂又はロジン樹脂の誘導体を含むもので
ある。
粘着付与性樹脂組成物は式IIで表わされる安定剤を粘
着付与性樹脂に基づいて0.01ないし10重量%、好ましく
は0.03ないし3.0重量%含有することが都合よい。式II
で表わされる安定剤の混合物もまた用いることができ
る。
式IIで表わされる化合物の粘着付与性樹脂への混入
は、製造又は変性の前、間又は後に慣用の方法によって
行うことができる。
本発明の安定剤が配合された組成物は非常に広い範囲
の形状例えばフィルム、フィラメント、リボン、成形用
組成物、プロフィル、又はニス、接着剤又はパテのため
の結合剤として用いることができる。
式IIの好ましい化合物は二つの基R7がそれぞれ互いに
独立して未置換炭素原子数8ないし18のアルキル基を表
わすものである。
式IIの特に好ましい化合物は二つの基R7が独立して炭
素原子数8ないし12のアルキル基を表わすものである。
式IIの公知及び新規化合物は、例えばイギリス国特許
第1184533号公報明細書及びアメリカ合衆国特許第32276
77号公報明細書に記載されたような、公知の方法によっ
て製造することができる。すべての出発物質は公知化合
物で、公知方法により製造することができる。出発物質
のいくつかは市販品として入手できる。
更に、本発明は、また、2,4−ビス(ジメチルアミノ
メチル)−6−メチルフェノールを式R7−SHで表わされ
るメルカプタンと反応させることからなる、式IIで表わ
される化合物の製造方法にも関するものである。
エラストマー及び粘着付与性樹脂の安定化のため適当
であるのに加えて、本発明の式IIで表わされるフェノー
ルは、また、鉱物油又は合成油、特にモーター油に基づ
く潤滑剤の安定化のためにも適当である。
適当な潤滑剤は当業者に公知で、例えば“シュミエー
ルミッテル タッシェンブッフ(Schmiermittel Tasche
nbuch)”ヒューティッヒ フェルラーク(Hthig Ve
rlag)、ハイデルベルグ、1974に記載されている。
したがって、本発明は、また、酸素、熱、光及び高エ
ネルギー輻射線の作用に対して潤滑剤を安定化するため
に式IIで表わされる化合物を使用することにも関する。
本発明は更に、潤滑剤と、式IIで表わされる化合物の
少なくとも一つとを含む組成物にも関するものである。
本発明の式IIで表わされるフェノールは、潤滑剤に基
づいて0.01ないし10重量%の濃度で加えるのが好都合で
ある。該フェノールを潤滑剤に基づいて0.05ないし5.0
重量%、最も好ましくは0.1ないし2.0重量%用いること
が好ましい。
式IIで表わされるフェノールの混合物も、また、用い
てもよい。
式IIで表わされるフェノールを含む本発明の潤滑剤配
合物は、また、ある性能特性を改良するために加える他
の添加剤例えば他の酸化防止剤、金属不活性化剤、防錆
剤、粘度指数改良剤、凝固点降下剤、分散剤/表面活性
剤及び耐摩耗添加剤も含有してもよい。
潤滑剤において、式IIで表わされるフェノールと用い
てもよい他の添加剤の例は次のとおりである。
1.酸化防止剤 1.1 アルキル化1価フェノール 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノー
ル、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−
ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロ
ペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシ
クロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−
オクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシ
クロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−
メトキシメチルフェノール。
1.2 アルキル化されたヒドロキノン 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノ
ール、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタ
デシルオキシフェノール。
1.3 ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテル 例えば、2,2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4
−メチルフェノール)、2,2′−チオ−ビス−(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオ−ビス−(6−第三
ブチル−3−メチルフェノール)及び4,4′−チオ−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
1.4 アルキリデン−ビスフェノール 例えば、2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス
(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス−〔4−メチル−6−(α−メチルシク
ロヘキシル)−フェノール〕、2,2′−メチレン−ビス
−(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,
2′−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス−(4,6−
ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビ
ス−(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチルベンジ
ル)−4−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレン−ビ
ス−〔6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニル
フェノール〕、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−第
三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−ビス−(6
−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス−
(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)−ブタン、2,6−ビス−(3−第三ブチル−5−メ
チル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノー
ル、1,1,3−トリス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−ブタン、1,1−ビス−(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコ
ールビス−〔3,3−ビス−(3′−第三ブチル−4′−
ヒドロキシフェニル)−ブチレート〕、ビス−(3−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−ジ
シクロペンタジエン、またはビス−〔2−(3′−第三
ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチル−ベンジル)
−6−第三ブチル−4−メチル−フェニル〕テレフタレ
ート。
1.5 ベンジル化合物 例えば、1,3,5−トリ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
ビス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)スルフィド、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビ
ス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル)−ジ−チオールテレフタレート、1,3,5−
トリス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス−(4−第三
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸ジオクタデシルエステル、3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モ
ノエチルエステルのカルシウム塩。
1.6 アシルアミノフェノール 例えば、4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−
ヒドロキシ−ステアリン酸アニリド、2,4−ビス−オク
チルメルカプト−6−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−s−トリアジン、オクチルN−(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カル
バメート。
1.7 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオン酸の1価または多価アルコールとのエ
ステル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート、ジヒドロキシエチルシュウ酸
ジアミドとのエステル。
1.8 β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロピオン酸の1価または多価アルコー
ルとのエステル 例えばメタノール、ジエチレングリコール、オクタデ
カノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジ
オール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チ
オジエチレングリコール、ビス(ヒドロキシエチル)シ
ュウ酸ジアミドとのエステル。
1.9 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,
N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドロジン。
2 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 2−(2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリア
ゾールの誘導体 例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三ブチル
−、5′−第三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメ
チルブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチ
ル−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル
−、3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オ
クトキシ−、3′,5′−ジ−第三アミル−、3′,5′−
ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−誘導体。
2.2 2−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オク
トキシ−、4−デシルオキシー、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキ
シ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘
導体。
2.3 置換および非置換安息香酸エステル 例えば4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベ
ンゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4
−ジ−第三ブチル−フェニルエステルおよび3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエス
テル。
2.4 アクリレート 例えばα−シアノ−β,β−ジフェニル−アクリル酸
エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボ
メトキシ−シンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナミル酸メチルエステ
ル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メト
キシ−シンナミル酸メチルエステル及びN−(β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチル−インド
リン。
2.5 ニッケル化合物 例えば2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェノール〕の、所望によりn−ブチル
アミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロヘキシ
ル−ジエタノールアミンのような他の配位子を含んでい
てもよい1:1錯体または1:2錯体、ニッケルジブチルジチ
オカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例えばメ
チル、エチルまたはブチルエステルのニッケル塩、ケト
キシムのニッケル錯体例えば2−ヒドロキシ−4−メチ
ル−フェニルウンデシルケトンオキシムのニッケル錯
体、所望により他の配位子を含んでいてもよい1−フェ
ニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾールの
ニッケル錯体。
2.6 立体障害アミン 例えばビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
セバケート、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジル)セバケート、n−ブチル−3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル−マロン酸ビス−(1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−ヒドロキ
シエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピ
ペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ
−1,3,5−s−トリアジンとの縮合生成物、トリス−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロ
トリアセテート、テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
ン酸、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス−(3,3,5,
5−テトラメチルピペラジノン)。
2.7 シュウ酸ジアミド 例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル−オキ
サニリド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオ
キサニリド、N,N′−ビス−(3−ジメチルアミノプロ
ピル)−シュウ酸ジアミド、2−エトキシ−5−第三ブ
チル−2′−エチルオキサニリドおよびこれと2−エト
キシ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオキサニ
リドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置
換オキサニリドの混合物並びにオルト−およびパラ−エ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物。
3.金属不活性化剤 例えばN,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サ
リチラル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビ
ス−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジ
ド。
4.ホスフィットおよびホスホニット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リ(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ル−ペンタエリトリト−ルジホスフィット、トリス−
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイ
ソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトールト
リホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチル
フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホニット、3,9
−ビス(2,4−ジ第三ブチルフェノキシ)−2,4,8,10−
テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカ
ン。
5.過酸化物分解化合物 例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例とし
てはラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシ
ルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−
メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチ
オカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペ
ンタエリトリトールテトラキス−(β−ドデシルメルカ
プト)プロピオネート。
6.ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物および/または燐化合物と共に用いる
銅塩および2価マンガンの塩。
7.塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例
えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステ
アリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよび
パルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまた
はピロカテコール亜鉛。
8.造核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジ
フェニル酢酸。
9.充填剤および補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
10.他の添化剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光増白剤、
防炎加工剤、静電防止剤、発泡剤。また、実際の使用に
おいては、本発明による式IIのフェノールとエラストマ
ー又は粘着付与性樹脂からなる組成物は、他の添加剤を
含んでもよい。このような添加剤は次のものである。
1.酸化防止剤 酸化防止剤の例は潤滑剤のための上記リストの他の添
加剤を参照。
2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 2−(2′−ヒドロキシフェニル)−ベンズトリア
ゾールの誘導体 例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三ブチル
−、5′−第三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメ
チルブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチ
ル−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル
−、3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オ
クトキシ−、3′,5′−ジ−第三アミル−、3′,5′−
ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−誘導体。
2.2 2−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オク
トキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキ
シ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘
導体。
2.3 置換および非置換安息香酸エステル 例えばフェニルサリチレート、4−第三ブチル−フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベ
ンゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4
−ジ−第三ブチル−フェニルエステルおよび3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエス
テル。
2.4 アクリレート 例えばα−シアノ−β,β−ジフェニル−アクリル酸
エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボ
メトキシ−シンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナミル酸メチルエステ
ル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メト
キシ−シンナミル酸メチルエステルN−(β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル)−2−メチル−インドリ
ン。
2.5 ニッケル化合物 例えば2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェノール〕の、所望によりn−ブチル
アミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロヘキシ
ル−ジエタノールアミンのような他の配位子を含んでい
てもよい1:1錯体または1:2錯体、ニッケルジブチルジチ
オカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例えばメ
チル、エチルまたはブチルエステルのニッケル塩、ケト
キシムのニッケル錯体例えば2−ヒドロキシ−4−メチ
ル−フェニルウンデシルケトンオキシムのニッケル錯
体、所望により他の配位子を含んでいてもよい1−フェ
ニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾールの
ニッケル錯体。
2.6 立体障害アミン 例えばビス−(2,2,6,6−テトラメチルペリジル)セ
バケート、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)セバケート、n−ブチル−3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル−マロン酸ビス−(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−ヒドロキシ
エチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペ
リジンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジア
ミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−
1,3,5−s−トリアジンとの縮合生成物、トリス−(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリ
アセテート、テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン
酸、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5
−テトラメチルピペラジノン)。
2.7 シュウ酸ジアミド 例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル−オキ
サニリド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオ
キサニリド、N,N′−ビス−(3−ジメチルアミノプロ
ピル)−シュウ酸ジアミド、2−エトキシ−5−第三ブ
チル−2′−エチルオキサニリドおよびこれと2−エト
キシ−2−エチル−5,4−ジ−第三ブチルオキサニリド
との混合物、オルト−およびパラ−エトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物並びにオルト−およびパラ−エトキ
シ−二置換オキサニリドの混合物。
3.ホスフィットおよびホスホニット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リ(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ル−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイ
ソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトールト
リホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチル
フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホニット。
4.過酸化物分解化合物 例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例とし
てはラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシ
ルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−
メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチ
オカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペ
ンタエリトリトールテトラキス−(β−ドデシルメルカ
プト)プロピオネート。
5.ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物および/または燐化合物と共に用いる
銅塩および2価マンガンの塩。
6.塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例
えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステ
アリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよび
パルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまた
はピロカテコール亜鉛。
7.造核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジ
フェニル酢酸。
8.充填剤および補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
9.他の添化剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光増白剤、
防炎加工剤、静電防止剤、発泡剤、ワックス、油脂、有
機溶媒。
〔実施例〕
本発明を次の実施例により更に詳細に説明する。本明
細書を通じて、部及びパーセントは重量による。
製造例 実施例1:2,4−ビス(n−オクチルチオメチル)−6−
メチルフェノール(化合物1)の製造 2,4−ビス(ジメチルアミノエチル)−6−メチルフ
ェノール160.74g(0.72モル)とn−オクタチオール21
0.65g(1.44モル)を撹拌機と多重コイル冷却器を備え
た装置中で、36時間、150℃で、53.2バールにてジメチ
ルアミンを連続的に除去しながら混合する。
黄色の油291.6g(95%)が得られる。純2,4−ビス
(n−オクチルチオメチル)−6−メチルフェノールが
シリカゲルを通す粗生成物のカラムクロマトグラフィに
よって無色の油の形で得られる。
分析値: 計算値 70.69% C 実測値 70.85% C 10.44% H 10.42% H 15.09% S 15.11% S 1H-NMR(CDCl3;100MHz;TMS=0に基づくδ〔ppm〕の
データ、S=一重項):3.77(S)及び3.6(S)に特徴
的なシグナル。
式Iで表わされる次の化合物を同様の方法で製造す
る。
適用実施例 実施例1の化合物1ないし4をそれらの安定化作用の
ために試験する。
実施例2:ポリブタジエンゴムの安定化(オーブンエージ
ング) 2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾール0.4%で予備安
定化したポリブタジエン100gを2本ロールミルで、50℃
にて6分間試験すべき安定剤0.25%と均一に混合する。
10mmの厚さの試料を80℃で圧延シートからプレスする。
他の試料を安定剤を用いずに同じ方法で用意する。
本発明の組成物を80℃の空気循環オーブンの熱エージ
ングに試料を供することにより試験する。試料の安定性
を確かめる基準はオーブンエージング中に形成した望ま
しくないゲル含量である。ゲル含量は次のように決定す
る。
ポリブタジエン1gをトルエン100ml中に室温で一晩か
けて溶解する。溶液をガラスフィルタ(孔径00)を通し
てろ過し、そしてろ液を蒸発させて乾燥させる。
ゲル含量を次式を用いて算出する。
E=重量(1g) A=蒸発後の樹脂の重量 ゲル含量は誘導期後急速に増加する。試料が2%のゲ
ル含量を示す時間を誘導期の便宜上の定義としてとる。
この誘導期を測定するために、ゲル含量を定期的に調べ
る。
結果を表1に示す。
実施例3:ポリブタジエンゴムの安定化(ブラベンダ) 2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾール0.4%で予備安
定化したポリブタジエン100部を試験すべき安定剤0.25
%と160℃、60回/分で30分間ブラベンダープラストグ
ラフで混練する。誘導期はトルクの変化から測定する。
すなわち、最少トルク後トルクの増加が100mpになるま
での混練時間(分)である。
結果を表2に示す。
実施例4:TFOUT試験(薄膜酸素取り込み試験) この試験は鉱物油のための回転ボンベ酸化試験(ASTM
D2272)の変法である。C.S.Ku及びS.M.Hsu、自動車ク
ランクケース潤滑剤の評価のための薄膜酸素取り込み試
験、Lubrication Engineering、Vol.40(2)、75〜83
頁、(1984)にTFOUTの試験が正確に記載されている。
試験油は鉱物油に基づくモーターオイルである。そのモ
ーターオイルはジチオリン酸亜鉛(0.75%;モーターオ
イルに基づいて亜鉛含量0.06%)の慣用量の半分を含ん
でいる。これが変化するので試験すべき安定剤の潜在的
効果を示すことができる。
実施例1の化合物1を上記モーターオイル中水2%の
存在下、触媒として石油の液体酸化、硝化留分(4%濃
度)の存在下そして他の触媒として液体ナフテン酸金属
塩(4%濃度)の存在下で試験する;水及び二種の液体
触媒は、the Natinal Bureau of Standards(NBS)のSt
andard Reference Material No.1817での分析証ととも
に提供された。この試験は、圧力/時間関係図中に顕著
なディップがあるとき完了する。下の表に示す結果は圧
力/時間関係図のディップがあるまでの時間(分)を示
す。
長い時間は良好な安定剤活性に相当する。
安定剤の濃度:該オイルに基づいて0.5%。
実施例5:水素添加炭素原子数5の炭化水素樹脂の安定化
(オーブンエージング) 2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾール0.15%で予備
安定化した樹脂50gをガラスフラスコ中で170℃にて融解
し、そして攪拌しながら化合物1 0.1%を15分かけて混
合する。熱溶融物をアルミニウム皿及びペトリ皿に流し
込む。凝固させた樹脂塊の層の厚さはアルミニウム皿で
約15mmでそしてペトリ皿で1mmである。本発明の組成物
は循環空気オーブン中で170℃にての熱エージングに試
料(樹脂塊)を供することにより試験する。試料の安定
性を確かめる基準はオーブンエージング中望ましくない
変色が生じることである。変色は次のようにして決定す
る。
a)1mmの試料の場合:ASTDM 1925−70による黄色度指数 b)15mmの試料の場合:DIN6161によるガードナーカラー
値 高い値は大きな変色を示す(これは黄色度指数とガー
ドナーカラー値の両者に適用する)。
結果を表4に示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C10M 135/24 // C10N 30:00 F 30:10

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式II: (式中、 二つの基R7は、それぞれ互いに独立して、未置換又は1
    若しくは2個のヒドロキシル基、又は−OCO−R4、−CO
    −OR5又は−CO−NR5R6により置換された炭素原子数8
    ないし18のアルキル基を表わすか、又はそれらはフェニ
    ル基又はベンジル基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数2
    ないし8のアルケニル基又は次式Ia: で表わされる基を表わし、 mは0、1又は2を表わし、 二つの基R′は、それぞれ互いに独立して、炭素原子数
    1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5ないし12のシ
    クロアルキル基を表わし、 R5は−O−、−S−又は−NR′−により中断されてもよ
    い炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わし、そして R6は水素原子を表わすか、又はR5で定義した意味の一つ
    を表わす。)で表わされる化合物。
  2. 【請求項2】式IIにおいて、二つの基R7が、それぞれ互
    いに独立して未置換の炭素原子数8ないし18のアルキル
    基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  3. 【請求項3】次式II: (式中、 二つの基R7は、それぞれ互いに独立して、未置換又は1
    若しくは2個のヒドロキシル基、又は−OCO−R4、−CO
    −OR5又は−CO−NR5R6により置換された炭素原子数8
    ないし18のアルキル基を表わすか、又はそれらはフェニ
    ル基又はベンジル基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数2
    ないし8のアルケニル基又は次式Ia: で表わされる基を表わし、 mは0、1又は2を表わし、 二つの基R′は、それぞれ互いに独立して、炭素原子数
    1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5ないし12のシ
    クロアルキル基を表わし、 R5は−O−、−S−又は−NR′−により中断されてもよ
    い炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わし、そして R6は水素原子を表わすか、又はR5で定義された意味の一
    つを表わす。)で表わされる化合物よりなる、エラスト
    マー又は粘着付与性樹脂のための安定剤。
  4. 【請求項4】エラストマーおよび、特許請求の範囲第3
    項記載の式IIで表わされる少なくとも一種の化合物から
    なる、特許請求の範囲第3項記載の安定剤。
  5. 【請求項5】R7は、炭素原子数8ないし18のアルキル
    基、−CH2CH2OH、−CH2CH2O−CO−R4、−CH2−CO−OR5
    又は−CH2CH2−CO−OR5を表わすか、又はフェニル基若
    しくはベンジル基を表わし、ここでR4およびR5は特許請
    求の範囲第3項で定義された意味の一つを表わす、特許
    請求の範囲第3項記載の安定剤。
  6. 【請求項6】エラストマーがポリジエン、ハロゲン含有
    ポリマー又はポリウレタンである、特許請求の範囲第3
    項記載の安定剤。
  7. 【請求項7】エラストマー又は粘着付与性樹脂に基づい
    て、0.05ないし5.0重量%の式IIで表わされる化合物か
    らなる、特許請求の範囲第3項記載の安定剤。
  8. 【請求項8】潤滑剤を酸素、熱、光および高エネルギー
    輻射線の作用に対して安定化するために、次式II: (式中、 二つの基R7は、それぞれ互いに独立して、未置換又は1
    若しくは2個のヒドロキシル基、又は−OCO−R4、−CO
    −OR5又は−CO−NR5R6により置換された炭素原子数8
    ないし18のアルキル基を表わすか、又はそれらはフェニ
    ル基又はベンジル基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数2
    ないし8のアルケニル基又は次式Ia: で表わされる基を表わし、 mは0、1又は2を表わし、 二つの基R′は、それぞれ互いに独立して、炭素原子数
    1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5ないし12のシ
    クロアルキル基を表わし、 R5は−O−、−S−又は−NR′−により中断されてもよ
    い炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わし、そして R6は水素原子を表わすか、又はR5で定義した意味の一つ
    を表わす。)で表わされる化合物を使用する方法。
  9. 【請求項9】次式II: (式中、 二つの基R7は、それぞれ互いに独立して、未置換又は1
    若しくは2個のヒドロキシル基、又は−OCO−R4、−CO
    −OR5又は−CO−NR5R6により置換された炭素原子数8
    ないし18のアルキル基を表わすか、又はそれらはフェニ
    ル基又はベンジル基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし17のアルキル基、炭素原子数2
    ないし8のアルケニル基又は次式Ia: で表わされる基を表わし、 mは0、1又は2を表わし、 二つの基R′は、それぞれ互いに独立して、炭素原子数
    1ないし8のアルキル基又は炭素原子数5ないし12のシ
    クロアルキル基を表わし、 R5は−O−、−S−又は−NR′−により中断されてもよ
    い炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わし、そして R6は水素原子を表わすか、又はR5で定義した意味の一つ
    を表わす。)で表わされる化合物よりなる、潤滑剤のた
    めの安定剤。
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