JPH08239511A - 相乗安定剤混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 相乗安定剤混合物を提供する。 【解決手段】次式 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は２つの特定の高分子
量ポリアルキルピペリジン誘導体よりなる安定剤系、有
機材料を安定化させるためのこの安定剤系の使用方法、
および前記安定剤系により熱、酸化もしくは光誘発の崩
壊に対して保護された有機材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】米国特許発明明細書第４６９２４８６
号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、国
際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ
特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２
号、英国特許出願公開明細書第２２６７４９９号および
リサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３年１
月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体を含
有する安定剤混合物が開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】熱、酸化もしくは光誘
発の崩壊に対して有機材料を有効に保護するために、よ
り改良された２種のポリアルキルピペリジン誘導体より
なる安定剤系を、提供することを課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は成分ａ）および
成分ｂ）、ｃ）、ｄ）もしくはｅ）よりなる安定剤混合
物であって、成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ

【化１２】 〔式中、Ｒ₁ は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｒ₂
は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレ
ン基を表し、および、ｎ₁ は２ないし５０の数を表
す。〕で表される化合物を表し、成分ｂ）は少なくとも
１種の次式ＩＩａおよびＩＩｂ

【化１３】 （式中、ｎ₂ およびｎ₂ ^* は２ないし５０の数を表
す。）で表される化合物を表し、成分ｃ）は少なくとも
１種の式ＩＩＩ

【化１４】 〔式中、Ｒ₃ およびＲ₇ は他方と独立して、直接結合も
しくは−Ｎ（Ｘ₁ ）−ＣＯ−Ｘ₂ −ＣＯ−Ｎ（Ｘ₃ ）−
基を表し、Ｘ₁ およびＸ₃ は他方と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基もしくは次式ＩＶ

【化１５】 で表される基を表し、およびＸ₂ は直接結合もしくは炭
素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、Ｒ₄ は水素
原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−Ｃ
Ｈ₂ ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１
ないし４のアルキル基によりフェニル基上で置換された
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、もしくは
炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、
Ｒ₉ およびＲ₁₀は互いに独立して、水素原子もしくは炭
素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ない
し１２のシクロアルキル基もしくはフェニル基を表し、
Ｒ₈ は水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル
基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基も
しくは式ＩＶの基を表し、およびｎ₃ は１ないし５０の
数を表す。〕で表される化合物を表し、成分ｄ）は少な
くとも１種の次式Ｖ

【化１６】 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は互いに独
立して直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアル
キレン基を表し、Ｒ₁₆はＲ₄ において定義された意味を
表し、およびｎ₄ は１ないし５０の数を表す。）で表さ
れる化合物を表し、および成分ｅ）は次式ＶＩａで表さ
れるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得
られる生成物を、次式ＶＩｂで表される化合物と反応さ
せることにより得られる生成物

【化１７】 （上記式中、ｎ₅ ’、ｎ₅ ’’およびｎ₅ ’’’は互い
に独立して２ないし１２の数を表し、Ｒ₁₇は水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
Ｒ₁₈はＲ₄ において定義された意味を表す。）を表す安
定剤混合物に関する。

【０００５】

【発明の実施の形態】ｎ₅ ’、ｎ₅ ’’およびｎ
₅ ’’’は好ましくは２ないし４の数を表し、Ｒ₁₇は炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表し、およびＲ₁₈は
好ましくは水素原子を表す。

【０００６】炭素原子数１ないし１０のアルキレン基の
例はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２
−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基およびデカメ
チレン基を表す。Ｒ₂ は好ましくはエチレン基を表し、
Ｒ₁₁およびＲ₁₃は好ましくはメチレン基を表し、Ｒ₁₄は
好ましくは２，２−ジメチルエチレン基を表し、および
Ｒ₁₅は好ましくは１，１−ジメチルエチレン基を表す。

【０００７】３０個までの炭素原子を含有するアルキル
基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル基、イソブチル
基、第三−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３
−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，
３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル
基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチ
ルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、
１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ド
デシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、エイコシル基、ドコシル基およびトリアコンチル基
である。Ｒ₄ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₀、Ｒ₁₆およびＲ₁₈の好ましい
意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基であ
り、特にメチル基である。Ｒ₅ およびＲ₉ の好ましい意
味の１つは炭素原子数１ないし２５のアルキル基であ
り、特に炭素原子数１５ないし２５のアルキル基、例え
ばヘキサデシル基および炭素原子数１８ないし２２のア
ルキル基である。Ｒ₈ の好ましい意味の１つは炭素原子
数１ないし２５のアルキル基、特にオクタデシル基であ
る。

【０００８】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基の例はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基およびシクロデシル基で
ある。炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、特に
シクロヘキシル基が好ましい。

【０００９】炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基の例はベンジル基およびフェニルエチル基である。

【００１０】フェニル核において炭素原子数１ないし４
のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基は、例えばメチルベンジル基、ジメ
チルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは第三−
ブチルベンジル基である。

【００１１】炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例
はアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル
基およびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。

【００１２】炭素原子数１ないし８のアシル基は好まし
くは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子
数３ないし８のアルケノイル基もしくはベンゾイル基で
ある。具体例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オ
クタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびク
ロトニル基である。

【００１３】Ｒ₅ およびＲ₉ の好ましい意味の１つはフ
ェニル基である。Ｘ₂ およびＲ₁₂は好ましくは直接結合
を表す。Ｘ₁ 、Ｘ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₁₆およびＲ₁₈は好ましく
は水素原子を表す。

【００１４】成分ａ）ないしｅ）として記載された化合
物は本来知られており（いくつかの場合には商業的に入
手可能である）そして知られている方法、例えば米国特
許発明明細書第４２３３４１２号、同第４３４０５３４
号、同第４８５７５９５号、ＤＤ−Ａ−２６２４３９
（Derwent 89-122983/17、 ケミカルアブストラクト１１
１：５８ ９６４ｕ）、ドイツ国発明明細書第４２３９
４３７号（Derwent 94-177274/22)、米国特許発明明細書
第４５２９７６０号、同第４４７７６１５号およびケミ
カルアブストラクト−ＣＡＳ(Chemical Abstract CAS)
Ｎｏ．１３６５０４−９６−６において記載された方法
により製造され得る。

【００１５】成分ｅ）は知られている方法に類似して、
例えば式ＶＩａのポリアミンをシアヌル酸クロリドと
１：２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、
１，２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼ
ン、ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水
炭酸リチウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの
存在下において−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−
１０℃ないし＋１０℃、特に０℃ないし＋１０℃の温度
において２ないし８時間反応させ、そして続いて得られ
る生成物を式ＶＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジルアミンと反応させることにより製造され
る。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルア
ミンと式ＶＩａのポリアミンのモル比は例えば４：１な
いし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは数時間の
間隔ごとにいくらかずつに分けて添加することができ
る。

【００１６】式ＶＩａのポリアミン：シアヌル酸クロリ
ド：式ＶＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：
３：６である。

【００１７】以下の例は好ましい成分ｅ）を製造する１
つの方法を示す。実施例： シアヌル酸クロリド２３．６ｇ（０．１２８モ
ル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレン
ジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モル）および無水炭
酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を、５℃において３
時間攪拌しながら１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中
で反応させた。混合物を室温でさらに４時間温めた。Ｎ
−（２，２，６，６）−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モル）を加え
てそして得られた混合物を６０℃で２時間温めた。さら
に無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を加えてそ
して混合物を６０℃においてさらに６時間加熱した。溶
媒をわずかに真空下（２００ｍｂａｒ）において蒸留除
去しそしてキシレンで置きかえた。Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１
８．２ｇ（０．０８５モル）および粉砕した水酸化ナト
リウム５．２ｇ（０．１３モル）を加えそして混合物を
２時間還流しそして反応の間に生成した水を共沸蒸留に
よりさらに１２時間にわたって取り除いた。混合物をろ
過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ₂ ＳＯ₄ 上で乾燥
させた。溶媒を蒸発させそして残渣を１２０ないし１３
０℃において真空下（０．１ｍｂａｒ）において乾燥さ
せた。成分ｅ）が無色の樹脂として得られた。

【００１８】一般に、成分ｅ）は、例えば次式ＶＩ−
１、ＶＩ−２もしくはＶＩ−３の化合物により表すこと
ができる。それはまたこれら３つの化合物の混合物の形
態であってもよい。

【化１８】

【化１９】

【化２０】

【００１９】好ましい式ＶＩ−１の意味は次式

【化２１】 で表されるものである。

【００２０】好ましい式ＶＩ−２の意味は次式

【化２２】 で表されるものである。

【００２１】好ましい式ＶＩ−３の意味は次式

【化２３】 で表されるものである。

【００２２】上記式ＶＩ−１ないしＶＩ−３において、
ｎ₅ は好ましくは１ないし２０を表す。

【００２３】成分ａ）は好ましくは登録商標ＴＩＮＵＶ
ＩＮ６２２を表し、成分ｂ）は好ましくは登録商標ＨＯ
ＳＴＶＡＮ Ｎ ３０を表し、成分ｃ）は好ましくは登
録商標ＵＶＩＮＵＬ５０５０Ｈ、登録商標ＬＩＣＨＴＳ
ＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ３１もしくは登録商標ＬＵ
ＣＨＥＭ Ｂ １８を表し、成分ｄ）は好ましくは登録
商標ＭＡＲＫ ＬＡ６３もしくは登録商標ＭＡＲＫ Ｌ
Ａ６８を表し、および成分ｅ）は好ましくはＵＶＡＳＯ
ＲＢ ＨＡ ８８を表す。

【００２４】式ＩＩａおよびＩＩｂの化合物は混合物と
して一緒に得られ、そしてまた新規な安定剤系の成分
ｂ）として使用され得る。ＩＩａ：ＩＩｂの比は、例え
ば２０：１ないし１：２０もしくは１：１０ないし１
０：１である。

【００２５】式Ｉ、ＩＩａ、ＩＩｂ、ＩＩＩ、ＩＶ、
Ｖ、ＶＩ−１、ＶＩ−２およびＶＩ−３の化合物におい
て自由価を飽和させる末端基の意味は、前記化合物の製
造に使用される方法に依存する。末端基はまた化合物の
合成の後にさらに修飾され得る。

【００２６】式Ｉの化合物は例えば、次式

【化２４】 （式中、Ｒ₁ は水素原子もしくはメチル基を表す。）で
表される化合物を次式 Ｙ−ＯＯＣ−Ｒ₂ −ＣＯＯ−Ｙ （式中、Ｙはメチル基、エチル基もしくはプロピル基を
表し、およびＲ₂ は上記で与えられた意味を有する。）
で表される化合物と反応させることにより製造される場
合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリ
ジニ−１−イル基に結合する末端基は水素原子もしくは
−ＣＯ−Ｒ₂ −ＣＯＯ−Ｙで表され、ジアシル基に結合
する末端基は−Ｏ−Ｙもしくは次式

【化２５】 で表される。

【００２７】式ＩＩａの化合物において、窒素原子に結
合する末端基は例えば水素原子を表し、また２−ヒドロ
キシプロピレン基に結合する末端基は例えば次式

【化２６】 で表される。

【００２８】式ＩＩｂの化合物において、ジメチレン基
に結合する末端基は例えば−ＯＨであり、また酸素原子
に結合する末端基は、例えば水素原子で有り得る。末端
基はまたポリエーテル基であり得る。

【００２９】式ＩＩＩの化合物において、２，５−ジオ
キシピロリジン環に結合している末端基は、例えば、水
素原子であり、および−Ｃ（Ｒ₉ ）（Ｒ₁₀）−基に結合
している末端基は、例えば次式

【化２７】 で表される。

【００３０】式Ｖの化合物において、カルボニル基に結
合している末端基は、例えば次式

【化２８】 で表され、および酸素原子に結合している末端基は、例
えば次式

【化２９】 で表される。

【００３１】式ＶＩ−１、ＶＩ−２およびＶＩ−３の化
合物において、トリアジン基に結合している末端基は、
例えばＣｌもしくは次式

【化３０】 で表される基を表し、およびアミノ基に結合している末
端基は、例えば水素原子もしくは次式

【化３１】 で表される基を表す。

【００３２】好ましいものはＲ₁ が水素原子を表し、Ｒ
₂ がエチレン基を表し、およびｎ₁が２ないし２５の数
を表す安定剤混合物により与えられる。

【００３３】好ましいものは同様にして、Ｒ₃ およびＲ
₇ は直接結合もしくは−Ｎ（Ｘ₁ ）−ＣＯ−Ｘ₂ −ＣＯ
−Ｎ（Ｘ₃ ）−基を表し、Ｘ₁ およびＸ₃ は互いに独立
して水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表し、およびＸ₂ は直接結合を表し、Ｒ₄ は水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原
子数６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基もしく
はアセチル基を表し、Ｒ₅ およびＲ₉ は炭素原子数１な
いし２５のアルキル基もしくはフェニル基を表し、Ｒ₆
およびＲ₁₀は水素原子もしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、Ｒ₈ は炭素原子数１ないし２５のア
ルキル基もしくは式ＩＶの基を表し、Ｒ₁₁、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄
およびＲ₁₅は炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表
し、Ｒ₁₂は直接結合を表し、およびＲ₁₆はＲ₄ において
定義された意味を表す安定剤混合物により与えられる。

【００３４】好ましいものはまた成分ｃ）が少なくとも
１種の次式

【化３２】

【化３３】 （式中、Ｒ₄ は水素原子もしくはメチル基を表し、およ
びｎ₃ は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物
である安定剤混合物により与えられる。

【００３５】成分ｄ）は好ましくは少なくとも１種の次
式

【化３４】 （式中、Ｒ₁₆は水素原子もしくはメチル基を表し、およ
びｎ₄ は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物
である。

【００３６】成分ａ）およびｂ）よりなる安定剤混合物
が好ましい。同様に好ましいものは成分ａ）およびｃ）
よりなる安定剤混合物および成分ａ）およびｄ）よりな
る安定剤混合物である。特に好ましいものは成分ａ）お
よびｅ）よりなる安定剤混合物である。

【００３７】ｎ₁ は好ましくは５ないし２０、ｎ₂ およ
びｎ₂ ^* は好ましくは２ないし１０を表し、およびｎ
₃ 、ｎ₄ およびｎ₅ は好ましくは１ないし１０を表す。

【００３８】以下の安定剤系は本発明の特に好ましい態
様である。 １）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｈ
ＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０からなる安定剤系 ２）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｕ
ＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈからなる安定剤系 ３）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｌ
ＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１からなる
安定剤系 ４）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｌ
ＵＣＨＥＭ Ｂ１８からなる安定剤系 ５）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｍ
ＡＲＫ ＬＡ ６３からなる安定剤系 ６）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｍ
ＡＲＫ ＬＡ ６８からなる安定剤系、および ７）登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登録商標Ｕ
ＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系。

【００３９】本発明の安定剤混合物は、熱、酸化または
光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化させるのに適し
ている。

【００４０】そのような有機材料の例は以下のようなも
のである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分
子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および
超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度
ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、
枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。

【００４１】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好まし
くは以下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラ
ジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。

【００４２】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【００４３】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。

【００４４】４. それらの水素化変性物（例えば粘着付
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。

【００４５】５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。

【００４６】６．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、
例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレ
ン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

【００４７】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。

【００４８】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの
塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩
素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレン
および塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリ
ンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビ
ニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ
化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

【００４９】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチル
アクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレー
ト。

【００５０】10．上記９に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。

【００５１】11．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。

【００５２】12．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。

【００５３】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。

【００５４】14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。

【００５５】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。

【００５６】16. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；
ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／ま
たはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラ
ストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，
４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこ
れらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢ
Ｓで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の
間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。

【００５７】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポ
リヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。

【００５８】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。

【００５９】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。

【００６０】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。

【００６１】21．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。

【００６２】22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。

【００６３】23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。

【００６４】24．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。

【００６５】25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネ
ート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエ
ポキシ樹脂で架橋させたアルキド樹脂、ポリエステル樹
脂およびアクリレート樹脂。

【００６６】26．促進剤を使用してもしくは使用せずに
無水物またはアミンのような慣用の硬化剤により架橋す
る、脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジル
エーテル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノー
ルＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架
橋エポキシ樹脂。

【００６７】27．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。

【００６８】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ
／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。

【００６９】29．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用い
られるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合
物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。

【００７０】30．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。

【００７１】本発明はさらに酸化、熱または光に誘発さ
れる崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤
混合物よりなる組成物にも関する。

【００７２】有機材料は、好ましくは合成ポリマー、よ
り特別には前記にされた群より選択された１つのポリマ
ーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレ
ン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好
ましい。

【００７３】新規な安定剤系の成分は個別にもしくは互
いに混合して安定化されるべき材料中に混入され得る。
成分は互いに独立して０．０１ないし４．９９％の量で
使用される、但し成分ａ）および成分ｂ）、ｃ）、ｄ）
もしくはｅ）の全量は、安定化されるべき材料の全重量
に基づいて０．０２ないし５％である。

【００７４】成分ａ）および成分ｂ）、ｃ）、ｄ）もし
くはｅ）の全量は、好ましくは安定化されるべき材料の
全重量に基づいて０．０５ないし３％であり、特別には
０．０５ないし２％もしくは０．０５ないし１％であ
る。

【００７５】成分ａ）および成分ｂ）、ｃ）、ｄ）もし
くはｅ）の重量比は、好ましくは２０：１ないし１：２
０であり、特別には１０：１ないし１：１０、例えば
５：１ないし１：５である。

【００７６】新規な安定剤混合物もしくはその成分は、
有機材料中に知られている方法により、例えば成形物品
に成形する前もしくは成形している間に混入されるか、
または溶解したもしくは分散させた化合物を有機材料に
塗布し、必要により続いて溶媒を蒸発させることにより
混入される。新規な安定剤混合物の個々の成分は安定化
される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの化合物を
２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッ
チの形態で加えられ得る。

【００７７】所望により、新規な安定剤系の成分は、有
機材料中に混入される前に各々互いに溶融混合され得
る。

【００７８】新規な安定剤系もしくはその成分はまた重
合前もしくは重合中または架橋中に加えられ得る。

【００７９】この方法により安定化された材料は、広く
多様な形態で、例えば、フィルム、繊維、テープ、成形
品、形材もしくは塗料、接着剤もしくはパテの結合剤と
して使用される。

【００８０】他の異なる慣用の添加剤、例えば以下のも
のを本発明の安定化された有機材料は含み得る。

【００８１】１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖のまたは側鎖に枝
分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニ
ル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデ
カ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６
−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノー
ルおよびそれらの混合物。

【００８２】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。

【００８３】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロ
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。

【００８４】１．４ トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）

【００８５】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。

【００８６】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。

【００８７】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト
アセテート。

【００８８】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。

【００８９】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。

【００９０】１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。

【００９１】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。

【００９２】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。

【００９３】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００９４】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウ
ンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００９５】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００９６】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００９７】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００９８】１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）

【００９９】１．１９．アミン酸抗酸化剤の例 Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３
−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′
−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルア
ミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキ
シジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、Ｎ−（４−第三−オクチルフェニル）−１−ナフチ
ルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチ
ル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル
−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフ
ェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノ
イルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノ
ール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス
（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチ
ル−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、
２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジア
ミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメ
チル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−
ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２
−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグ
アニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フ
ェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナ
フチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−および
ジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合
物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキ
シルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジ
ヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチア
ジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三
ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−
およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合
物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−
テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、
Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケー
ト、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オ
ンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−オール。

【０１００】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −］
₂ −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。

【０１０１】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。

【０１０２】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【０１０３】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【０１０４】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【０１０５】２．６． 立体障害アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン），４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサ
メチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン
と１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチル
アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオ
ン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，
Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−
トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３
６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−
ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デ
カン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。

【０１０６】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
エトキシオキサニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ
−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２′−
ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサ
ニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサ
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。

【０１０７】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４
−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオ
キシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデ
シルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）
フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−
４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ
−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４
−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，
５−トリアジン。

【０１０８】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポ
イル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−
シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−チオプロピオン酸ジヒドラジド。

【０１０９】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。

【０１１０】５．ヒドロキシルアミン、例えばＮ，Ｎ−
ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒド
ロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンより誘導
されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン

【０１１１】６． ニトロン、例えばＮ−ベンジル−ア
ルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メ
チルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニト
ロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、
Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、
水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒ
ドロキシルアミンより誘導されたニトロン

【０１１２】７．チオシネルギスト、例えば、ジラウリ
ルチオジプロピオネート、もしくはジステアリルチオプ
ロピオネート

【０１１３】８． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。

【０１１４】９． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【０１１５】１０．塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。

【０１１６】１１．核剤、例えば、無機物質、例えば、
タルク、金属酸化物、二酸化チタンもしくは酸化マグネ
シウム、アルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩もしくは硫
酸塩、有機化合物、例えばモノ−もしくはポリカルボン
酸およびそれらの塩、例えば、４−第三−ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム
もしくは安息香酸ナトリウム、ポリマー性化合物、例え
ばイオン性コポリマー（イオノマー）。

【０１１７】１２．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、
木粉、もしくは他の天然生成物の粉末もしくは繊維、合
成繊維。

【０１１８】１３．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調
節剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止剤および発泡
剤。

【０１１９】１４. ベンゾフラノンまたはインドリノ
ン、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−
Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、
ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２
２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８
９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載
されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエ
トキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第
三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェ
ニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−
オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシ
フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン。

【０１２０】新規な安定剤混合物と慣用の添加剤との重
量比は、１：０．５ないし１：５である。

【０１２１】本発明はさらに、酸化、熱もしくは光誘発
の崩壊に対して有機材料を安定化するための新規な安定
剤混合物の使用に関する。

【０１２２】新規な安定剤系により安定化された有機材
料は実質的に改良された光安定性のみならず、ある場合
には改良された耐熱性に特徴を有する。

【０１２３】前記のものは以下の安定剤混合物にも適用
され、それは同様に本発明の要旨でもある。 式Ａ−１

【化３５】 （式中、ｎ₁ は２ないし２５、特に２ないし１５の数を
表す。）で表される化合物、および次式Ｆ−Ｉ

【化３６】 （式中、Ｒ₁₉は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル
基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルア
ルキル基、もしくは炭素原子数１ないし８のアシル基を
表し、およびｎ₆ は２ないし２５、特に２ないし１０の
数を表す。）で表される化合物よりなる安定剤混合物。
Ｒ₁₉は好ましくは水素原子もしくは炭素原子数１ないし
４のアルキル基、特に水素原子を表す。

【０１２４】この安定剤混合物の個々の成分は知られて
おりまたいくつかの場合に商業的に入手可能である。そ
れらはさらに米国特許発明明細書第４２３３４１２号お
よび同第４０８６２０４号において記載されている方法
に類似して製造され得る。

【０１２５】登録商標ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２および登
録商標ＤＡＳＴＩＢ１０８２よりなる安定剤混合物が好
ましい。式Ａ−ＩおよびＦ−Ｉの化合物中の自由価を飽
和する末端基の意味はそれらの製造に使用される方法に
依存する。末端基はまた化合物の製造の後に修飾され得
る。式Ｉの化合物の末端基に関してなされた注解は、式
Ａ−Ｉの化合物の末端基にも相当して適用される。

【０１２６】式Ｆ−Ｉの化合物が次式

【化３７】 （式中、Ｘは例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表
す。）で表される化合物と、次式

【化３８】 で表される化合物を反応させることにより製造される場
合、ジアミノ基に結合している末端基は水素原子もしく
は次式

【化３９】 で表され、およびトリアジン基に結合している末端基は
Ｘもしくは次式

【化４０】 で表される。

【０１２７】Ｘがハロゲン原子を表す場合、反応が完了
した時に、これを例えば、−ＯＨもしくはアミノ基で置
き換えることが都合よい。挙げられるアミノ基の例は、
ピロリジニ−１−イル基、モルフォリノ基、−ＮＨ₂ 、
−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）₂ および−Ｎ
Ｒ^* （炭素原子数１ないし８のアルキル基）を表し、Ｒ
^* は水素原子もしくは次式

【化４１】 で表される基を表す。

【０１２８】

【実施例】本発明はより詳細に以下の実施例により説明
される。全ての百分率は特に断らない限り重量当りを示
す。

【０１２９】実施例１ないし４において使用された光安
定剤 化合物Ａ：

【化４２】

【０１３０】化合物Ｂ：次式

【化４３】 〔式中、ｎ₂ の平均値は約３．９を表し、ｎ₂ ^* の平均
値は約４．２を表す。〕で表される化合物の混合物。
（ＩＩａ）と（ＩＩｂ）の比は約４：１を表す。

【０１３１】化合物Ｃ−１：

【化４４】 （式中、ｎ₃ の平均値は３．２を表す。）

【０１３２】化合物Ｃ−２：

【化４５】

【０１３３】化合物Ｄ−１：

【化４６】 （式中、ｎ₄ の平均値は２．５を表す。）

【０１３４】化合物Ｄ−２：

【化４７】 （式中、ｎ₄ の平均値は２．５を表す。）

【０１３５】化合物Ｅ：次式 Ｈ₂ Ｎ−（ＣＨ₂ ）₃ −ＮＨ−（ＣＨ₂ ）₂ −ＮＨ−
（ＣＨ₂ ）₃ −ＮＨ₂ で表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドを反応させ
ることにより得られる生成物と、次式

【化４８】 で表される化合物を反応させることにより得られる生成
物。

【０１３６】化合物Ｆ：

【化４９】 （式中、ｎ₆ の平均値は４．４を表す。）

【０１３７】実施例１：ポリプロピレンテープにおける
光安定化作用 ポリプロピレン粉末（２３０℃および２．１６ｋｇにお
けるメルトフローインデックス：約２４ｇ／１０分、）
１００部を、タンブルミキサー(tumble mixer)中でペン
タエリスリチルテトラキス〔β−（３，５−ジ−第三−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕
０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニ
ル）ホスフィット０．０５部、ステアリン酸カルシウム
０．１部および表１に挙げられた量の光安定剤と混合し
そして続いて混合物と１８０ないし２２０℃において押
出し機により顆粒化した。得られた顆粒を、フラットフ
ィルム押出しダイ（温度２２０ないし２６０℃）を取り
付けた第二の押出し機でフィルムに変換し、そしてフィ
ルムをテープに切り出した。続いてテープを１：５．２
５の比で高めた温度において引き伸ばし、そして巻き取
った（テープの線密度は７００ないし９００ｄｅｎであ
り、引裂強さは５．５ないし６．５ｇ／ｄｅｎであっ
た。）。このようにして製造されたポリプロピレンテー
プを、張力をかけることなく、試料キャリアの上に据え
付けそしてウエザロメータＣｉ６５中で耐候試験を行っ
た。種々の時間がたった後に、５つの試験片を各場合に
おいて取り出しそしてそれらの引裂強さを測定した。個
々の光安定剤の保護作用のために使用された尺度は、テ
ープの引裂強さが初期の値の５０％にまで減少するまで
の暴露時間である。得られた値は表１に示される。

【０１３８】表１： 引張強さが５０％減少するまでの 光安定剤 ウエザロメータＣｉ６５中での暴露時間 なし ５５０ ０．１％の化合物Ａ ２６４０ ０．１％の化合物Ｅ ３０５０ ０．０５％の化合物Ａ ＞３１００ および０．０５％の化合物Ｅ

【０１３９】実施例２：ポリプロピレンテープにおける
光安定化作用 試料は実施例１において記載された方法と同様にして製
造された。テープは１：５．２５の比で引き伸ばされ
た。実験結果は表２に示される。表２： 引張強さが５０％減少するまでの 光安定剤 ウエザロメータＣｉ６５中での暴露時間 ０．１％の光安定剤 ０．２％の光安定剤 なし ５７０ ５７０ 化合物Ａ １７３０ ２９００ 化合物Ｃ−１ １９００ ３１００ 化合物Ｃ−２ １２５０ １５００ 化合物Ａおよび化合物Ｃ−１ ２０５０ ＞３２００ （１：１） 化合物Ａおよび化合物Ｃ−２ ２０００ ＞３２００ （１：１）

【０１４０】実施例３：ポリプロピレンブロックコポリ
マーシートにおける光安定化作用 ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部を、１
０分間２００℃においてブラベンダープラストグラフ中
においてペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，
５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブ
チルフェニル）ホスフィット０．１０部、ステアリン酸
カルシウム０．１部および表３に挙げられた光安定剤と
均質化した。得られた組成物を配合機よりできる限り素
早く取り出しそしてトグルプレスにおいて圧締して２な
いし３ｍｍ厚のプレスとした。得られた未処理のプレス
の一部を切り取りそして２つの高光沢硬質アルミホイル
間において卓上油圧プレスを用いて６分間２６０℃にお
いて圧締して０．５ｍｍ厚のシートとし、これを、即座
に水冷プレスにおいて冷却した。その後６０ｍｍ×２５
ｍｍ寸法の各試験片をこの０．５ｍｍシートから打ち抜
きしそしてウエザロメータＣｉ６５（ブラックパネル温
度６３±２℃、雨水暴露なし）中において光暴露した。
規則的な間隔をおいてこれらの試料を暴露装置より取り
除きそしてそれらのカルボニル基含量についてＩＲスペ
クトルメータで調べた。暴露の間におけるカルボニル基
の吸光度の増加はポリマーの光酸化的崩壊の尺度となり
そして機械的特性の劣化と関連していることが経験によ
り知られている。結果は以下の表３にまとめられる。

【０１４１】表３：ポリプロピレンブロックコポリマーシートにおける光安定化作用 表３： カルボニル基の吸光度が０．２になるまで 光安定剤 のウエザロメータＣｉ６５中での暴露時間 ０．２％の化合物Ａ ２０４０ ０．２％の化合物Ｂ １７１０ ０．２％の化合物Ｃ−１ ５０５ ０．２％の化合物Ｅ ２４００ ０．２％の化合物Ｆ １５５０ ０．１％の化合物Ａおよび ０．１％の化合物Ｂ ２３６０ ０．１％の化合物Ａおよび ０．１％の化合物Ｃ−１ １５４０ ０．１％の化合物Ａおよび ０．１％の化合物Ｅ ３３３０ ０．１％の化合物Ａおよび ０．１％の化合物Ｆ ２６６０

【０１４２】実施例４：高密度ポリエチレンフィルムに
おける光安定化作用 高密度ポリエチレン粉末（密度＝０．９６５ｇ／ｃｍ
³ ）１００部を、１８０℃において１０分間、ブラベン
ダープラストグラフ中においてペンタエリトリチルテト
ラキス〔３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕０．０３３部、トリス
（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
０．０６６部、ステアリン酸カルシウム０．１部および
表４に挙げられた光安定剤とともに均質化した。得られ
た量の組成物を配合機よりできる限り素早く取り出しそ
してトグルプレスにおいて圧締して２ないし３ｍｍ厚の
プレスとした。得られた未処理のプレスの一部を切り取
りそして２つの高光沢硬質アルミ箔間において卓上油圧
プレスを用いて６分間２１０℃において圧締して０．５
ｍｍ厚のシートとし、これを即座に水冷プレスにおいて
冷却した。その後６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法の各試験片を
この０．５ｍｍシートから打ち抜きしそしてウエザロメ
ータＣｉ６５（ブラックパネル温度６３±２℃、雨水暴
露なし）中において光暴露した。規則的な間隔をおいて
これらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらのビ
ニル含量をＩＲスペクトロメータで調べた。暴露の間に
おけりビニル吸光（９０９ｃｍ^-1）の増加はポリマーの
光酸化的崩壊の尺度となりそして機械的特性の劣化と関
連していることが経験により知られている。結果は以下
の表４にまとめられる。

【０１４３】表４： ウエザロメータＣｉ６５中で７２２２時間 光安定剤 暴露した後のビニル基の吸光度 なし ３１８時間後、０．０９７ ０．１％の化合物Ａ ０．０３９ ０．１％の化合物Ｂ ０．０４６ ０．１％の化合物Ｃ−１ ０．０５８ ０．１％の化合物Ｃ−２ ５２８６時間後、０．１４３ ０．１％の化合物Ｄ−１ ０．０４０ ０．１％の化合物Ｄ−２ ０．０４０ ０．１％の化合物Ｅ ０．０５４ ０．１％の化合物Ｆ ０．０５１ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｂ ０．０３６ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｃ−１ ０．０３３ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｃ−２ ０．０３９ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｄ−１ ０．０３７ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｄ−２ ０．０３４ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｅ ０．０３７ ０．０５％の化合物Ａおよび ０．０５％の化合物Ｆ ０．０３７

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 成分ａ）および成分ｂ）、ｃ）、ｄ）も
   しくはｅ）よりなる安定剤混合物であって、成分ａ）は
   少なくとも１つの次式Ｉ 【化１】 〔式中、Ｒ₁ は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｒ₂
   は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレ
   ン基を表し、および、ｎ₁ は２ないし５０の数を表
   す。〕で表される化合物を表し、成分ｂ）は少なくとも
   １種の次式ＩＩａおよびＩＩｂ 【化２】 （式中、ｎ₂ およびｎ₂ ^* は２ないし５０の数を表
   す。）で表される化合物を表し、成分ｃ）は少なくとも
   １種の式ＩＩＩ 【化３】 〔式中、Ｒ₃ およびＲ₇ は他方と独立して、直接結合も
   しくは−Ｎ（Ｘ₁ ）−ＣＯ−Ｘ₂ −ＣＯ−Ｎ（Ｘ₃ ）−
   基を表し、Ｘ₁ およびＸ₃ は他方と独立して、水素原
   子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５
   ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子
   数７ないし９のフェニルアルキル基もしくは次式ＩＶ 【化４】 で表される基を表し、およびＸ₂ は直接結合もしくは炭
   素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、Ｒ₄ は水素
   原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−Ｃ
   Ｈ₂ ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素
   原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１
   ないし４のアルキル基によりフェニル基上で置換された
   炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭
   素原子数１ないし８のアシル基を表し、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、Ｒ
   ₉ およびＲ₁₀は互いに独立して、水素原子もしくは炭素
   原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし
   １２のシクロアルキル基もしくはフェニル基を表し、Ｒ
   ₈ は水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル基、
   炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子
   数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基もしく
   は前記式ＩＶの基を表し、およびｎ₃ は１ないし５０の
   数を表す。〕で表される化合物を表し、成分ｄ）は少な
   くとも１種の次式Ｖ 【化５】 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は互いに独
   立して直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアル
   キレン基を表し、Ｒ₁₆はＲ₄ について定義された意味を
   表し、およびｎ₄ は１ないし５０の数を表す。）で表さ
   れる化合物を表し、および成分ｅ）は次式ＶＩａで表さ
   れるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応により得
   られる生成物を、次式ＶＩｂで表される化合物と反応さ
   せることにより得られる生成物 【化６】 （上記式中、ｎ₅ ’、ｎ₅ ’’およびｎ₅ ’’’は互い
   に独立して２ないし１２の数を表し、Ｒ₁₇は水素原子、
   炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素
   原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
   Ｒ₁₈はＲ₄ について定義された意味を表す。）を表す安
   定剤混合物。
2. 【請求項２】 Ｒ₁ は水素原子を表し、Ｒ₂ はエチレン
   基を表し、およびｎ₁ は２ないし２５の数を表すところ
   の請求項１記載の安定剤混合物。
3. 【請求項３】 Ｒ₃ およびＲ₇ は直接結合もしくは−Ｎ
   （Ｘ₁ ）−ＣＯ−Ｘ₂ −ＣＯ−Ｎ（Ｘ₃ ）−基を表し、
   Ｘ₁ およびＸ₃ は互いに独立して水素原子もしくは炭素
   原子数１ないし４のアルキル基を表し、およびＸ₂ は直
   接結合を表し、Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし４
   のアルキル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし１２のアルコ
   キシ基、炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基、
   アリル基、ベンジル基もしくはアセチル基を表し、Ｒ₅
   およびＲ₉ は炭素原子数１ないし２５のアルキル基もし
   くはフェニル基を表し、Ｒ₆ およびＲ₁₀は水素原子もし
   くは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ₈ は
   炭素原子数１ないし２５のアルキル基もしくは式ＩＶの
   基を表し、Ｒ₁₁、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は炭素原子数１
   ないし４のアルキレン基を表し、Ｒ₁₂は直接結合を表
   し、およびＲ₁₆はＲ₄ において定義された意味を表すと
   ころの請求項１記載の安定剤混合物。
4. 【請求項４】 成分ｃ）が少なくとも１種の次式 【化７】 【化８】 （式中、Ｒ₄ は水素原子もしくはメチル基を表し、およ
   びｎ₃ は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物
   であるところの請求項１記載の安定剤混合物。
5. 【請求項５】 成分ｄ）は少なくとも１種の次式 【化９】 （式中、Ｒ₁₆は水素原子もしくはメチル基を表し、およ
   びｎ₄ は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物
   であるところの請求項１記載の安定剤混合物。
6. 【請求項６】 ｎ₅ ’、ｎ₅ ’’およびｎ₅ ’’’は互
   いに独立して２ないし４の数を表し、Ｒ₁₇は炭素原子数
   １ないし４のアルキル基を表し、およびＲ₁₈は水素原子
   を表すところの請求項１記載の安定剤混合物。
7. 【請求項７】 成分ａ）およびｂ）よりなる請求項１記
   載の安定剤混合物。
8. 【請求項８】 成分ａ）およびｃ）よりなる請求項１記
   載の安定剤混合物。
9. 【請求項９】 成分ａ）およびｄ）よりなる請求項１記
   載の安定剤混合物。
10. 【請求項１０】 成分ａ）およびｅ）よりなる請求項１
    記載の安定剤混合物。
11. 【請求項１１】 酸化、熱もしくは光に誘発されて崩壊
    しやすい有機材料、および請求項１記載の安定剤混合物
    よりなるところの組成物。
12. 【請求項１２】 有機材料はポリオレフィンであるとこ
    ろの請求項１１記載の組成物。
13. 【請求項１３】 有機材料はポリエチレン、ポリプロピ
    レン、もしくはポリエチレンもしくはポリプロピレンの
    コポリマーであるところの請求項１１記載の組成物。
14. 【請求項１４】 次式Ａ−１ 【化１０】 （式中、ｎ₁ は２ないし２５の数を表す。）で表される
    化合物、および次式Ｆ−Ｉ 【化１１】 （式中、Ｒ₁₉は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
    キル基、Ｏ・、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数３ないし６の
    アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
    ル基、フェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル
    基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルア
    ルキル基、もしくは炭素原子数１ないし８のアシル基を
    表し、およびｎ₆ は２ないし２５の数を表す。）で表さ
    れる化合物よりなる安定剤混合物。