JPH074669B2 - 検出装置 - Google Patents
検出装置Info
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- JPH074669B2 JPH074669B2 JP4224448A JP22444892A JPH074669B2 JP H074669 B2 JPH074669 B2 JP H074669B2 JP 4224448 A JP4224448 A JP 4224448A JP 22444892 A JP22444892 A JP 22444892A JP H074669 B2 JPH074669 B2 JP H074669B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- welding
- glass windows
- glass
- guide plate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/02—Seam welding; Backing means; Inserts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/32—Accessories
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、検出装置に関するもの
である。
である。
【0002】
【従来の技術】本発明は本質的に自動溶接工程におい
て、汚染気体から光学手段を保護するための装置および
方法に関する。自動溶接においては、例えば「アーク溶
接の自動化に関する電気光学センサ」と題する論文(計
測工学,1984年,51,7/8,259〜263ペ
ージ)で述べられているように、検出器が実際の溶接の
直前に、被溶接面の輪郭を走査するために、溶接トーチ
に非常に接近して配置される。検出器はこのため、溶接
中に発生する汚染気体や溶接スパツタにさらされる。自
動溶接装置の従来技術においては、検出器は被溶接面か
ら反射したレーザー光線を収集し、検出するためのレー
ザー光源と光学手段とを含む。レーザー光線は窓を通過
したハウジングから出て行き、反射光線は同様に窓を通
過してハウジングに入る。
て、汚染気体から光学手段を保護するための装置および
方法に関する。自動溶接においては、例えば「アーク溶
接の自動化に関する電気光学センサ」と題する論文(計
測工学,1984年,51,7/8,259〜263ペ
ージ)で述べられているように、検出器が実際の溶接の
直前に、被溶接面の輪郭を走査するために、溶接トーチ
に非常に接近して配置される。検出器はこのため、溶接
中に発生する汚染気体や溶接スパツタにさらされる。自
動溶接装置の従来技術においては、検出器は被溶接面か
ら反射したレーザー光線を収集し、検出するためのレー
ザー光源と光学手段とを含む。レーザー光線は窓を通過
したハウジングから出て行き、反射光線は同様に窓を通
過してハウジングに入る。
【0003】どちらの窓も機械的にシールドすることで
容易に溶接スパツタから保護することができる。しかし
ながら、より一層の予防手段がないため、溶接工程の早
い段階においてすでに汚染気体は、放射および反射光線
をかなり減衰させ、ひいては分散させるような堆積物を
窓に生じさせ、このため正確な検出が妨げられる。
容易に溶接スパツタから保護することができる。しかし
ながら、より一層の予防手段がないため、溶接工程の早
い段階においてすでに汚染気体は、放射および反射光線
をかなり減衰させ、ひいては分散させるような堆積物を
窓に生じさせ、このため正確な検出が妨げられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
自動溶接工程において汚染気体から光学手段を保護する
ための装置を提供することによつて、この問題を解決す
ることである。
自動溶接工程において汚染気体から光学手段を保護する
ための装置を提供することによつて、この問題を解決す
ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶接されるべ
き表面から反射される光を検出し、その溶接中に溶接雰
囲気内で用いられる検出装置において、光が透過するこ
とができる四角の表面を備えるガラス窓8,9と、溶接
ガスから前記ガラス窓8,9の前記表面を保護するため
に、清浄なガスの薄い層状の流れを形成する手段とを備
え、前記手段は、ガス排出口12,13に清浄なガスを
供給する手段5,6,17を含み、ガス排出口12,1
3は、ガラス窓8,9の一側部に配置されており、ガラ
ス窓8,9の反対側に、前記表面を縦に接触しながら流
れる清浄なガスの流れを方向付けるものであり、ガス排
出口12,13は、スリット状に形成されており、この
スリット状のガス排出口12,13は、薄い層状の流れ
の方向に対して垂直な方向から見たとき、前記ガラス窓
8,9の表面の幅W1に等しい長さW1を有しており、
この排出口12,13は、厚みyを有しており、このガ
ス排出口12,13は、ガラス窓8,9に、介在物なし
で連続して連なり、ガス排出口12,13は、前記薄い
層状の流れの方向に予め定める長さa,bを有してお
り、これによつてガス排出口12,13の厚みyに対す
る長さa,bの比a/y,b/yは、10〜20の間に
定められており、このガス排出口12,13の断面の形
状は、ガス排出口12,13の長さa,bに沿って一定
であることを特徴とする検出装置である。
き表面から反射される光を検出し、その溶接中に溶接雰
囲気内で用いられる検出装置において、光が透過するこ
とができる四角の表面を備えるガラス窓8,9と、溶接
ガスから前記ガラス窓8,9の前記表面を保護するため
に、清浄なガスの薄い層状の流れを形成する手段とを備
え、前記手段は、ガス排出口12,13に清浄なガスを
供給する手段5,6,17を含み、ガス排出口12,1
3は、ガラス窓8,9の一側部に配置されており、ガラ
ス窓8,9の反対側に、前記表面を縦に接触しながら流
れる清浄なガスの流れを方向付けるものであり、ガス排
出口12,13は、スリット状に形成されており、この
スリット状のガス排出口12,13は、薄い層状の流れ
の方向に対して垂直な方向から見たとき、前記ガラス窓
8,9の表面の幅W1に等しい長さW1を有しており、
この排出口12,13は、厚みyを有しており、このガ
ス排出口12,13は、ガラス窓8,9に、介在物なし
で連続して連なり、ガス排出口12,13は、前記薄い
層状の流れの方向に予め定める長さa,bを有してお
り、これによつてガス排出口12,13の厚みyに対す
る長さa,bの比a/y,b/yは、10〜20の間に
定められており、このガス排出口12,13の断面の形
状は、ガス排出口12,13の長さa,bに沿って一定
であることを特徴とする検出装置である。
【0006】
【作用】本発明に従えば、清浄な気体は、光学手段の表
面を横切ってその表面に接触し、その排出孔は、光学手
段の大きさと実質的に等しい長さを有しており、さらに
比a/y,b/yは、10〜20の値を有し、こうして
光学手段の表面に汚染粉塵が付着することなく、またた
とえ付着したとしても除去され、光学手段の表面が常に
清浄に保たれる。特に比a/y,b/yを10〜20に
定め、10未満では、厚みyが大きく、したがって層流
が確実に形成されず、粉塵が光学手段の表面に付着しや
すくなる。また比が20を超えると、圧力損失が大きく
なり、層流を形成するために、大きな圧力を必要とす
る。
面を横切ってその表面に接触し、その排出孔は、光学手
段の大きさと実質的に等しい長さを有しており、さらに
比a/y,b/yは、10〜20の値を有し、こうして
光学手段の表面に汚染粉塵が付着することなく、またた
とえ付着したとしても除去され、光学手段の表面が常に
清浄に保たれる。特に比a/y,b/yを10〜20に
定め、10未満では、厚みyが大きく、したがって層流
が確実に形成されず、粉塵が光学手段の表面に付着しや
すくなる。また比が20を超えると、圧力損失が大きく
なり、層流を形成するために、大きな圧力を必要とす
る。
【0007】
【実施例】図1において参照符1は自動制御溶接工程の
ための検出器のハウジングの一部を示し、この検出器は
図示されていないレーザー光源を含む。ハウジング1は
矢符Aの方向に放射されるレーザー光線のための出口窓
2と、矢符Bの方向に反射される光線のための入口窓2
aを有する。ハウジング1には、圧縮空気あるいは圧縮
二酸化炭素のようなシールド気体のための供給管5に連
結している本体4が固定される。
ための検出器のハウジングの一部を示し、この検出器は
図示されていないレーザー光源を含む。ハウジング1は
矢符Aの方向に放射されるレーザー光線のための出口窓
2と、矢符Bの方向に反射される光線のための入口窓2
aを有する。ハウジング1には、圧縮空気あるいは圧縮
二酸化炭素のようなシールド気体のための供給管5に連
結している本体4が固定される。
【0008】本体4にはカバー7が取りはずし可能に装
着される。このカバー7は放射されたレーザー光線のた
めのガラス窓8と反射された光線のためのガラス窓9を
保持する。このカバー7はバネストリツプ10によつて
本体4に取り着けられる。本体4とハウジング1とで供
給管5を通つて供給される気体のためのバツフアー空間
を形成する部屋6を形成し、これによつて、気体供給圧
力の変動にもかかわらず、前記本体4から排出され窓8
および9上にわたつて流れる気体の圧力が実質的に一定
に保たれる。供給管5を通つて供給される気体の入口5
aは部屋6の側壁に位置し、このため気体は紙面に垂直
な方向に沿つて入る。部屋6を通る気体の流れの適度な
均一化はこのように達成される。
着される。このカバー7は放射されたレーザー光線のた
めのガラス窓8と反射された光線のためのガラス窓9を
保持する。このカバー7はバネストリツプ10によつて
本体4に取り着けられる。本体4とハウジング1とで供
給管5を通つて供給される気体のためのバツフアー空間
を形成する部屋6を形成し、これによつて、気体供給圧
力の変動にもかかわらず、前記本体4から排出され窓8
および9上にわたつて流れる気体の圧力が実質的に一定
に保たれる。供給管5を通つて供給される気体の入口5
aは部屋6の側壁に位置し、このため気体は紙面に垂直
な方向に沿つて入る。部屋6を通る気体の流れの適度な
均一化はこのように達成される。
【0009】部屋6を通る供給管5からの気体の流れの
方向は、矢符により第1図に概略的に示されている。ガ
ラス窓8および9は、溶接工程において放出された蒸気
や酸化物が、窓2および3を通つて、レーザー光源や反
射光線の収集手段のような光学手段に付着したり、これ
らを汚染するのを防ぐ。
方向は、矢符により第1図に概略的に示されている。ガ
ラス窓8および9は、溶接工程において放出された蒸気
や酸化物が、窓2および3を通つて、レーザー光源や反
射光線の収集手段のような光学手段に付着したり、これ
らを汚染するのを防ぐ。
【0010】ガラス窓8および9の外面はカバー7の内
面に密着して設けられる。案内板11は、スリツト状排
出口である偏平な通路12および13がこの案内板11
の底面とガラス窓8および9の外面との間に個別的に形
成されるように、ガラス窓8および9にわたつてカバー
7の外面上に装着され、この通路12および13は高さ
y、長さa,bをそれぞれ有する。高さyは実質的にカ
バー7の厚みに等しい。
面に密着して設けられる。案内板11は、スリツト状排
出口である偏平な通路12および13がこの案内板11
の底面とガラス窓8および9の外面との間に個別的に形
成されるように、ガラス窓8および9にわたつてカバー
7の外面上に装着され、この通路12および13は高さ
y、長さa,bをそれぞれ有する。高さyは実質的にカ
バー7の厚みに等しい。
【0011】ガラス窓8および9は、この2つのガラス
窓8,9の内面に静止した定着板14によつてカバー7
に定着され、一方、ガラス窓8および9の素材と実質的
に等しい厚みのスペーサ板15がさらにカバー7と定着
板14の間に設置される。
窓8,9の内面に静止した定着板14によつてカバー7
に定着され、一方、ガラス窓8および9の素材と実質的
に等しい厚みのスペーサ板15がさらにカバー7と定着
板14の間に設置される。
【0012】ガラス窓9とスペーサ板15とは、板状体
を構成する。
を構成する。
【0013】スロツト状導入口17は、定着板14、な
らびにガラス窓9およびスペーサ板15によつて形成さ
れ、導入口17はカバー7が一旦、本体4に装着された
ら本体4の排出口16に重なり合う。供給管5から供給
される気体はこのように部屋6、排出口16、そして導
入口17を通り通路12および13に流れる。
らびにガラス窓9およびスペーサ板15によつて形成さ
れ、導入口17はカバー7が一旦、本体4に装着された
ら本体4の排出口16に重なり合う。供給管5から供給
される気体はこのように部屋6、排出口16、そして導
入口17を通り通路12および13に流れる。
【0014】第2図に示されるように、ガラス窓9と案
内板11の間の通路13の幅は、スロツト状導入口17
の幅W1に等しい。
内板11の間の通路13の幅は、スロツト状導入口17
の幅W1に等しい。
【0015】ハウジング1と本体4とは、基体を構成
し、この基体は、前述のように前面(第1図の右方)に
臨んで凹んだ部屋6を有し、この部屋6の一端部寄り
(第1図の上方寄り)に入口5aが形成され、この一端
部に対向する他端部(第1図の下方寄り)に排出口16
が形成されている。前記入口5aには、供給手段である
供給管5から前述のように圧縮空気などが圧送供給され
る。ガラス窓9は透明であるので、レーザー光線が透過
する。
し、この基体は、前述のように前面(第1図の右方)に
臨んで凹んだ部屋6を有し、この部屋6の一端部寄り
(第1図の上方寄り)に入口5aが形成され、この一端
部に対向する他端部(第1図の下方寄り)に排出口16
が形成されている。前記入口5aには、供給手段である
供給管5から前述のように圧縮空気などが圧送供給され
る。ガラス窓9は透明であるので、レーザー光線が透過
する。
【0016】板状体の一部を構成するガラス窓9は、部
屋6を覆つている部分9aを有する。スペーサ板15
は、排出口16よりも第1図の下方に配置されている。
ガラス窓9は、前記部分9aと、その前記部分9aより
も導入口17寄りで導入口17から予め定める長さbに
わたる部分9bとを有する。こうしてガラス窓9とスペ
ーサ板15とから成る板状体は、排出口16よりも部屋
6から遠去かる位置(第1図の下方)まで延びている。
板状体の少なくとも前記部分9aは、上述のようにレー
ザー光線を透過するために透明である。導入口17は、
排出口16に重なり合い、この導入口17は、前記部分
9aの幅と等しい幅W1を、上述のように有している。
導入口17はまた、一様な開口間隔W2で、第1図の紙
面に垂直方向、第2図の左右方向に細長く形成されてい
る。こうして板状体は平らであり、基本的には、前記基
体に取付けられる。
屋6を覆つている部分9aを有する。スペーサ板15
は、排出口16よりも第1図の下方に配置されている。
ガラス窓9は、前記部分9aと、その前記部分9aより
も導入口17寄りで導入口17から予め定める長さbに
わたる部分9bとを有する。こうしてガラス窓9とスペ
ーサ板15とから成る板状体は、排出口16よりも部屋
6から遠去かる位置(第1図の下方)まで延びている。
板状体の少なくとも前記部分9aは、上述のようにレー
ザー光線を透過するために透明である。導入口17は、
排出口16に重なり合い、この導入口17は、前記部分
9aの幅と等しい幅W1を、上述のように有している。
導入口17はまた、一様な開口間隔W2で、第1図の紙
面に垂直方向、第2図の左右方向に細長く形成されてい
る。こうして板状体は平らであり、基本的には、前記基
体に取付けられる。
【0017】カバー7は、前記板状体の外面に設けら
れ、前記部分9a,9bと導入口17とを露出させて各
両側方を囲む切欠き7aを有する。このカバー7は、通
路13の高さに等しい厚みyを有し、薄い板状に形成さ
れる。
れ、前記部分9a,9bと導入口17とを露出させて各
両側方を囲む切欠き7aを有する。このカバー7は、通
路13の高さに等しい厚みyを有し、薄い板状に形成さ
れる。
【0018】案内板11は、カバー7上で、ガラス窓9
とスペーサ板15とによつて構成される前記板状体に平
行に設けられる。この案内板11は、導入口17を覆う
とともに、前記部分9bとの間で、偏平な通路13を形
成する。この通路13は、カバー7の厚みyに等しい高
さyを有しており、導入口17に連通する。こうして案
内板11は、第1図においてガラス窓9の前記部分9a
から第1図の下方に予め定める長さbにわたつて延びる
部分9bを覆つて、この部分9bとの間で、案内板11
によつて偏平な通路13を形成する。
とスペーサ板15とによつて構成される前記板状体に平
行に設けられる。この案内板11は、導入口17を覆う
とともに、前記部分9bとの間で、偏平な通路13を形
成する。この通路13は、カバー7の厚みyに等しい高
さyを有しており、導入口17に連通する。こうして案
内板11は、第1図においてガラス窓9の前記部分9a
から第1図の下方に予め定める長さbにわたつて延びる
部分9bを覆つて、この部分9bとの間で、案内板11
によつて偏平な通路13を形成する。
【0019】反射されたレーザー光線は、光学手段によ
つて受光され、この光学手段は、ハウジング1と本体4
とによつて構成される基体の部屋6を介して前記部分9
aに臨んでおり、これによつてレーザー光線を受光する
ことができる。このカバー7の切欠き7aは、ガラス窓
9の部分9a,9bの両側方を囲むとともに、導入口1
7の両側方を囲むように形成される。
つて受光され、この光学手段は、ハウジング1と本体4
とによつて構成される基体の部屋6を介して前記部分9
aに臨んでおり、これによつてレーザー光線を受光する
ことができる。このカバー7の切欠き7aは、ガラス窓
9の部分9a,9bの両側方を囲むとともに、導入口1
7の両側方を囲むように形成される。
【0020】上述の説明は主としてガラス窓9に関して
行われたけれども、もう1つのガラス窓8に関しても同
様である。ガラス窓9の部分9a上の前記薄膜状気体の
流れは、ガラス窓8および9の外面に悪影響を及ぼすよ
うな気体や酸化物が付着するのを防ぎ、このため溶接工
程において長期間、窓の上の堆積物の形成を防ぎ、もし
そうでないなら堆積物は放射されたレーザー光線および
/または反射光線を弱め、分散させるので正確な検出が
妨げられる。さらに個々のガラス窓8,9を最も望まし
く保護するためには、薄膜状の気体の流れが必要であ
り、この流れは一方には溶接工程を妨げない強さを有
し、他方、ガラス窓8,9の表面の全長はもちろん全幅
にわたる膜を維持するのに充分な強さを有する。
行われたけれども、もう1つのガラス窓8に関しても同
様である。ガラス窓9の部分9a上の前記薄膜状気体の
流れは、ガラス窓8および9の外面に悪影響を及ぼすよ
うな気体や酸化物が付着するのを防ぎ、このため溶接工
程において長期間、窓の上の堆積物の形成を防ぎ、もし
そうでないなら堆積物は放射されたレーザー光線および
/または反射光線を弱め、分散させるので正確な検出が
妨げられる。さらに個々のガラス窓8,9を最も望まし
く保護するためには、薄膜状の気体の流れが必要であ
り、この流れは一方には溶接工程を妨げない強さを有
し、他方、ガラス窓8,9の表面の全長はもちろん全幅
にわたる膜を維持するのに充分な強さを有する。
【0021】気体の流れはガラス窓8および9の表面の
全長を覆う最も好ましい薄膜の状態であると、ガラス窓
8,9が長くなればなるほど、案内板11の下から発生
する薄膜特性を有する気体の流れに課せられる要求は高
くなる。このことは距離aが距離bよりも短いことを意
味する。案内板11とガラス窓8および9のそれぞれと
の間にある気体の流れの有する距離a,bと、通路12
および13の高さyとの比、すなわち、a/yおよびb
/yのそれぞれが、10から20の範囲であるとき、適
切な薄膜状の流れが達成されることが、本件発明者の実
験によつて判つた。これより高い比の場合、供給された
気体の圧力は、薄膜状の気体の流れをガラス窓8,9の
表面の全長にわたつて延びるようにするには、不必要に
高くしなければならなくなり、これに反して、これより
低い比である場合、気体の流れは不充分な薄さである。
全長を覆う最も好ましい薄膜の状態であると、ガラス窓
8,9が長くなればなるほど、案内板11の下から発生
する薄膜特性を有する気体の流れに課せられる要求は高
くなる。このことは距離aが距離bよりも短いことを意
味する。案内板11とガラス窓8および9のそれぞれと
の間にある気体の流れの有する距離a,bと、通路12
および13の高さyとの比、すなわち、a/yおよびb
/yのそれぞれが、10から20の範囲であるとき、適
切な薄膜状の流れが達成されることが、本件発明者の実
験によつて判つた。これより高い比の場合、供給された
気体の圧力は、薄膜状の気体の流れをガラス窓8,9の
表面の全長にわたつて延びるようにするには、不必要に
高くしなければならなくなり、これに反して、これより
低い比である場合、気体の流れは不充分な薄さである。
【0022】供給管5から供給された気体は通路18を
通つて、放射されたレーザー光線のための出口窓2の前
に位置する部屋19に流れることができる。溶接中の微
かな超過圧力はこうして部屋6と部屋19の両方に保た
れる。この超過圧力はこれらの部屋を粉塵から守り、そ
のため放射される光線および受けられる光線が粉塵によ
つて悪影響されない。
通つて、放射されたレーザー光線のための出口窓2の前
に位置する部屋19に流れることができる。溶接中の微
かな超過圧力はこうして部屋6と部屋19の両方に保た
れる。この超過圧力はこれらの部屋を粉塵から守り、そ
のため放射される光線および受けられる光線が粉塵によ
つて悪影響されない。
【0023】第3図は第1図および第2図示の装置とは
別の実施態様に従う導入口17の詳細な状態を示す。第
3図に示されるように導入口17のガラス窓9の端部に
は、通路13による薄膜状の流れの形成に好ましい影響
を与える斜面20が設けられる。そのうちこのガラス窓
9には、案内板11直下にある前述の部屋6を覆う部分
9a側(第3図の左方、前述の第1図および第2図の上
方)の導入口17端部で、前記部分9aに近づくにつれ
て(すなわち第3図の左方になるにつれて)案内板11
に近づくように(第3図の上方となるように)、傾斜し
た斜面20が形成される。
別の実施態様に従う導入口17の詳細な状態を示す。第
3図に示されるように導入口17のガラス窓9の端部に
は、通路13による薄膜状の流れの形成に好ましい影響
を与える斜面20が設けられる。そのうちこのガラス窓
9には、案内板11直下にある前述の部屋6を覆う部分
9a側(第3図の左方、前述の第1図および第2図の上
方)の導入口17端部で、前記部分9aに近づくにつれ
て(すなわち第3図の左方になるにつれて)案内板11
に近づくように(第3図の上方となるように)、傾斜し
た斜面20が形成される。
【0024】第4図は第1図および第2図示の装置に類
似するが、さらに別の実施例のスロツト状導入口17付
近の詳細な構成を示し、この実施例はアルミニウムの溶
接に特に有益である。アルミニウムを溶接する際、アル
ミニウム酸化物はとりわけ案内板11の上面、特に薄膜
状の流れがその下から発生する案内板11の縁11a,
11bに堆積する。アルミニウム酸化物の破片が取れ、
ガラス窓8,9に落ちるようになるまで縁11a,11
bに堆積するのには比較的短時間しかかからない。ガラ
ス窓8,9の上に落ちた破片の下流には、薄膜状の流れ
のない領域が形成されるので、破片は薄膜状の流れを妨
げ、この領域ではガラス窓8,9の上にアルミニウム酸
化物が堆積する。この問題は第4図示の実施例に従う構
成により実質的に取り除かれる。
似するが、さらに別の実施例のスロツト状導入口17付
近の詳細な構成を示し、この実施例はアルミニウムの溶
接に特に有益である。アルミニウムを溶接する際、アル
ミニウム酸化物はとりわけ案内板11の上面、特に薄膜
状の流れがその下から発生する案内板11の縁11a,
11bに堆積する。アルミニウム酸化物の破片が取れ、
ガラス窓8,9に落ちるようになるまで縁11a,11
bに堆積するのには比較的短時間しかかからない。ガラ
ス窓8,9の上に落ちた破片の下流には、薄膜状の流れ
のない領域が形成されるので、破片は薄膜状の流れを妨
げ、この領域ではガラス窓8,9の上にアルミニウム酸
化物が堆積する。この問題は第4図示の実施例に従う構
成により実質的に取り除かれる。
【0025】この実施例において、案内板11には導入
口17に対向してスロツト状開口部21が設けられる。
この開口部21の幅は導入口17の幅W1(第2図参
照)に等しい。
口17に対向してスロツト状開口部21が設けられる。
この開口部21の幅は導入口17の幅W1(第2図参
照)に等しい。
【0026】案内板22は、案内板11の上に微かな間
隔、すなわち距離zを隔てて装着され、こうして通路2
3および24が形成される。距離zはカバー7の厚みy
にほぼ等しい。案内板11の開口部21は、導入口17
直上に形成され、上述のように導入口17の幅W1と同
一幅を有しており、また第4図に明らかなように、導入
口17の開口間隔W2未満の開口間隔W3を有し、細長
く形成される。もう1つの案内板22は、案内板11に
平行に設けられて、開口部21を覆う。この案内板22
の縁22aは、案内板11における前記部分9a寄り
(第4図の左方)の縁11aよりも前記部分9aから遠
去かつて(すなわち第4図の右方に)、存在する。した
がつて第4図では、b>eである。上述および後述の説
明は主としてガラス窓9に関連して述べられているけれ
ども、もう1つのガラス窓8に関してもまた同様であ
る。
隔、すなわち距離zを隔てて装着され、こうして通路2
3および24が形成される。距離zはカバー7の厚みy
にほぼ等しい。案内板11の開口部21は、導入口17
直上に形成され、上述のように導入口17の幅W1と同
一幅を有しており、また第4図に明らかなように、導入
口17の開口間隔W2未満の開口間隔W3を有し、細長
く形成される。もう1つの案内板22は、案内板11に
平行に設けられて、開口部21を覆う。この案内板22
の縁22aは、案内板11における前記部分9a寄り
(第4図の左方)の縁11aよりも前記部分9aから遠
去かつて(すなわち第4図の右方に)、存在する。した
がつて第4図では、b>eである。上述および後述の説
明は主としてガラス窓9に関連して述べられているけれ
ども、もう1つのガラス窓8に関してもまた同様であ
る。
【0027】通路12および13と同様に薄膜状の流れ
は通路23および24にも形成され、この流れは少なく
とも案内板11の縁11aに延びる。この薄膜状の流れ
は案内板11の縁11aにアルミニウム酸化物が堆積す
るのを防ぐ。案内板22の縁22aの上のアルミニウム
酸化物の堆積物が万一取れた場合でも、案内板11の上
に落ちる破片となるが、ガラス窓8および9の上には落
ちず、あるいは落ちてもまれである。このような破片が
案内板11の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、この
ことはガラス窓8および9の上の薄膜状の流れに何の直
接的影響も与えない。したがつてアルミニウムを溶接す
る場合、第4図示の実施例に従うガラス窓8および9の
使用期間は第1図示の実施例における前記ガラス窓8,
9のそれよりも相当長くなる。
は通路23および24にも形成され、この流れは少なく
とも案内板11の縁11aに延びる。この薄膜状の流れ
は案内板11の縁11aにアルミニウム酸化物が堆積す
るのを防ぐ。案内板22の縁22aの上のアルミニウム
酸化物の堆積物が万一取れた場合でも、案内板11の上
に落ちる破片となるが、ガラス窓8および9の上には落
ちず、あるいは落ちてもまれである。このような破片が
案内板11の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、この
ことはガラス窓8および9の上の薄膜状の流れに何の直
接的影響も与えない。したがつてアルミニウムを溶接す
る場合、第4図示の実施例に従うガラス窓8および9の
使用期間は第1図示の実施例における前記ガラス窓8,
9のそれよりも相当長くなる。
【0028】ガラス窓8,9に代えて、その他のレーザ
ー光線などの光を透過させる材料から成る板であつても
よい。
ー光線などの光を透過させる材料から成る板であつても
よい。
【0029】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、清浄な気
体がガス排出口12,13から排出され、したがって溶
接環境において、ガラス窓8,9の表面が汚損されるこ
とが防がれる。
体がガス排出口12,13から排出され、したがって溶
接環境において、ガラス窓8,9の表面が汚損されるこ
とが防がれる。
【図1】本発明の一実施例の断面図
【図2】図1に示される実施例の正面図
【図3】本発明の他の実施例の導入口17付近の断面図
【図4】本発明のさらに他の実施例の導入口17付近の
断面図である。
断面図である。
1 ハウジング 4 本体 5 供給管 6 部屋 7 カバー 8,9 ガラス窓 11 案内板 11a,22a 縁 12,13;23,24 通路 15 スペーサ板 16 排出口 17 導入口 20 斜面 21 開口部 22 案内板
Claims (1)
- 【請求項1】 溶接されるべき表面から反射される光を
検出し、その溶接中に溶接雰囲気内で用いられる検出装
置において、光が透過することができる四角の表面を備
えるガラス窓8,9と、溶接ガスから前記ガラス窓8,
9の前記表面を保護するために、清浄なガスの薄い層状
の流れを形成する手段とを備え、 前記手段は、ガス排出口12,13に清浄なガスを供給
する手段5,6,17を含み、 ガス排出口12,13は、ガラス窓8,9の一側部に配
置されており、ガラス窓8,9の反対側に、前記表面を
縦に接触しながら流れる清浄なガスの流れを方向付ける
ものであり、 ガス排出口12,13は、スリット状に形成されてお
り、 このスリット状のガス排出口12,13は、薄い層状の
流れの方向に対して垂直な方向から見たとき、前記ガラ
ス窓8,9の表面の幅W1に等しい長さW1を有してお
り、この排出口12,13は、厚みyを有しており、 このガス排出口12,13は、ガラス窓8,9に、介在
物なしで連続して連なり、 ガス排出口12,13は、前記薄い層状の流れの方向に
予め定める長さa,bを有しており、これによつてガス
排出口12,13の厚みyに対する長さa,bの比a/
y,b/yは、10〜20の間に定められており、 このガス排出口12,13の断面の形状は、ガス排出口
12,13の長さa,bに沿って一定であることを特徴
とする検出装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8402872 | 1984-09-19 | ||
NL8402872A NL8402872A (nl) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60204169A Division JPS61123813A (ja) | 1984-09-19 | 1985-09-13 | 汚染気体から光学手段を保護するための装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06198444A JPH06198444A (ja) | 1994-07-19 |
JPH074669B2 true JPH074669B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=19844493
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60204169A Granted JPS61123813A (ja) | 1984-09-19 | 1985-09-13 | 汚染気体から光学手段を保護するための装置 |
JP4224448A Expired - Lifetime JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60204169A Granted JPS61123813A (ja) | 1984-09-19 | 1985-09-13 | 汚染気体から光学手段を保護するための装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0179505B1 (ja) |
JP (2) | JPS61123813A (ja) |
KR (1) | KR900004973B1 (ja) |
AU (1) | AU576261B2 (ja) |
CA (1) | CA1291887C (ja) |
DE (1) | DE3567714D1 (ja) |
IL (1) | IL76255A (ja) |
NL (1) | NL8402872A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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NL8402872A (nl) * | 1984-09-19 | 1986-04-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
CA1280807C (en) * | 1987-09-11 | 1991-02-26 | National Research Council Of Canada | Adaptive welding control vision head |
FI93582C (fi) * | 1991-09-18 | 1995-04-25 | Janesko Oy | Sovitelma prosessissa olevan optisen ikkunan puhdistamiseksi |
JPH0780645A (ja) * | 1993-09-08 | 1995-03-28 | Fanuc Ltd | 溶接センサの冷却装置 |
JPH08132235A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-28 | Fanuc Ltd | 産業用溶接ロボットの冷却装置 |
US5727300A (en) * | 1995-02-07 | 1998-03-17 | The Boeing Company | Fastener verification system |
US5879626A (en) * | 1997-07-30 | 1999-03-09 | Allen-Bradley Company, Llc | Photoelectric sensor having dust removal apparatus |
DE10305258A1 (de) * | 2002-02-08 | 2003-08-21 | Creo Inc | Verfahren und Vorrichtung zum Schutz von optischen Elementen |
KR100513971B1 (ko) * | 2002-12-30 | 2005-09-09 | 배종섭 | 종교용 깃발 게양대 |
US9463525B2 (en) * | 2013-11-06 | 2016-10-11 | Lincoln Global, Inc. | Laser enclosure |
CN106553012A (zh) * | 2016-12-06 | 2017-04-05 | 南京宝色股份公司 | 用于钛合金激光‑mig复合焊焊后保护拖罩及焊接方法 |
US11753999B2 (en) | 2021-06-17 | 2023-09-12 | General Electric Company | Gas turbine sensor assembly and associated shutter mechanism |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2945943A (en) * | 1957-06-19 | 1960-07-19 | Union Tank Car Co | Welding shielding and control device |
DE2361982A1 (de) * | 1973-12-13 | 1975-07-03 | Inst Elektroswarki Patona | Schutzvorrichtung fuer die atmungsorgane gegen aerosole |
SE412127B (sv) * | 1978-06-15 | 1980-02-18 | Aga Ab | Anordning for ett optiskt element |
JPS55169506U (ja) * | 1979-05-23 | 1980-12-05 | ||
US4367388A (en) * | 1979-06-06 | 1983-01-04 | Hitachi Heating Appliances Co., Ltd. | Cooking heating apparatus |
WO1982001492A1 (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-13 | Gorb Vyacheslav F | Device for inert gas arc welding |
US4450339A (en) * | 1982-07-26 | 1984-05-22 | General Electric Company | Welding torch with vision attachment |
JPS5948703A (ja) * | 1982-09-10 | 1984-03-21 | Mitsubishi Electric Corp | 光伝送部品の冷却装置 |
NL8402872A (nl) * | 1984-09-19 | 1986-04-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
-
1984
- 1984-09-19 NL NL8402872A patent/NL8402872A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-11-02 US US06/667,551 patent/US4658113A/en not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-08-29 AU AU46873/85A patent/AU576261B2/en not_active Ceased
- 1985-08-29 CA CA000489643A patent/CA1291887C/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-08-30 IL IL76255A patent/IL76255A/xx not_active IP Right Cessation
- 1985-09-05 KR KR1019850006472A patent/KR900004973B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-09-13 JP JP60204169A patent/JPS61123813A/ja active Granted
- 1985-09-18 DE DE8585201503T patent/DE3567714D1/de not_active Expired
- 1985-09-18 EP EP85201503A patent/EP0179505B1/en not_active Expired
-
1992
- 1992-08-24 JP JP4224448A patent/JPH074669B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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JPH06198444A (ja) | 1994-07-19 |
IL76255A0 (en) | 1986-01-31 |
IL76255A (en) | 1988-05-31 |
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KR900004973B1 (ko) | 1990-07-16 |
KR860002336A (ko) | 1986-04-24 |
AU4687385A (en) | 1986-03-27 |
CA1291887C (en) | 1991-11-12 |
EP0179505B1 (en) | 1989-01-18 |
DE3567714D1 (en) | 1989-02-23 |
EP0179505A1 (en) | 1986-04-30 |
AU576261B2 (en) | 1988-08-18 |
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JPH0379687B2 (ja) | 1991-12-19 |
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