JPS61123813A - 汚染気体から光学手段を保護するための装置 - Google Patents
汚染気体から光学手段を保護するための装置Info
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- JPS61123813A JPS61123813A JP60204169A JP20416985A JPS61123813A JP S61123813 A JPS61123813 A JP S61123813A JP 60204169 A JP60204169 A JP 60204169A JP 20416985 A JP20416985 A JP 20416985A JP S61123813 A JPS61123813 A JP S61123813A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/32—Accessories
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- Optical Measuring Cells (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は汚染気体から光学手段を保護するための装置に
関するものである。
関するものである。
本発明は本質的に自動溶接工程において、汚染気体から
光学手段を保護するための装ｒ１１および方法に関する
。自動溶接においては、例えば「アーク溶接の自動化に
関する電気光学センサ」と題する論文（計測工学、１９
８４年、５１．７／８．２５９〜２６３ペーノ）で述べ
られているように、検出器が実際のＷｌ接の直前に、被
ｉ１１接面の輪郭を走査するために、溶接トーチに非常
に接近して配置される。検出器はこのため、溶接中に発
生する汚染気体や溶接スパッタにさらされる。自動溶接
装置の従来技術においては、検出器は被溶接面から反射
したレーザー光線を収集し、検出するためのレーザー光
源と光学手段とを含む、レーザー光線は窓を通過してハ
ウジングから出て行き、反射光線は同様に窓を通過して
ハウジングに入ろ。
光学手段を保護するための装ｒ１１および方法に関する
。自動溶接においては、例えば「アーク溶接の自動化に
関する電気光学センサ」と題する論文（計測工学、１９
８４年、５１．７／８．２５９〜２６３ペーノ）で述べ
られているように、検出器が実際のＷｌ接の直前に、被
ｉ１１接面の輪郭を走査するために、溶接トーチに非常
に接近して配置される。検出器はこのため、溶接中に発
生する汚染気体や溶接スパッタにさらされる。自動溶接
装置の従来技術においては、検出器は被溶接面から反射
したレーザー光線を収集し、検出するためのレーザー光
源と光学手段とを含む、レーザー光線は窓を通過してハ
ウジングから出て行き、反射光線は同様に窓を通過して
ハウジングに入ろ。
どちらの窓も機械的にシールドすることで容易に溶接ス
パッタから保護することかで軽ろ、しかしながら、より
一層の予防手段がないため、溶接工程の早い段階におい
てすでに汚染気体は、放射および反射放射線をかなり減
ＩＲさせ、ひいては分数させるような堆積物を窓に生ぜ
しめ、このため正確な検出が妨げられる。
パッタから保護することかで軽ろ、しかしながら、より
一層の予防手段がないため、溶接工程の早い段階におい
てすでに汚染気体は、放射および反射放射線をかなり減
ＩＲさせ、ひいては分数させるような堆積物を窓に生ぜ
しめ、このため正確な検出が妨げられる。
本発明の目的は、特に自動溶接工程において汚染気体か
ら光学手段を保護するための装置を提供することにより
この問題を解決することであり、この装置は、気体供給
吸入口と光線が通過できる少なくとも１つの開口部と気
体排出口とを設けた部屋と、前記開口部の上にｉ置され
るようにした窓を有するカバーであってスロット状吸入
口と入りッＬ状排出口が設けられたカバーとを含み、こ
のため前記気体供給吸入口から供給された気体が前記部
屋と前記部屋の気体排出口と前記カバーのスロット状吸
入口とスリット状排出口とを通過して前記窓の外面上に
わたって薄層状に流れろようにしたことを特徴とする。
ら光学手段を保護するための装置を提供することにより
この問題を解決することであり、この装置は、気体供給
吸入口と光線が通過できる少なくとも１つの開口部と気
体排出口とを設けた部屋と、前記開口部の上にｉ置され
るようにした窓を有するカバーであってスロット状吸入
口と入りッＬ状排出口が設けられたカバーとを含み、こ
のため前記気体供給吸入口から供給された気体が前記部
屋と前記部屋の気体排出口と前記カバーのスロット状吸
入口とスリット状排出口とを通過して前記窓の外面上に
わたって薄層状に流れろようにしたことを特徴とする。
Ｗｌ接工程の継続する期間中、光学手段の前に設置され
た窓の外面上にわたって薄膜状の気体が絶え間な（流れ
ることによりて、このような気体の流れのない場合より
も相当長い期間障害となる堆積物から窓を保護すること
ができることは明白である。
た窓の外面上にわたって薄膜状の気体が絶え間な（流れ
ることによりて、このような気体の流れのない場合より
も相当長い期間障害となる堆積物から窓を保護すること
ができることは明白である。
窓全体を最も望ましく保護するための薄層状の気体の流
れを形成するために、カバーにその前部に沿って特定の
長さに延びるスリット状気体排出口を設けることは有些
であると思われ、この際この排出口はこのカバーのスロ
ット状気体吸入口から窓までの距離にわたって一定の幅
を有し、この幅は窓の幅と等しいものとする。
れを形成するために、カバーにその前部に沿って特定の
長さに延びるスリット状気体排出口を設けることは有些
であると思われ、この際この排出口はこのカバーのスロ
ット状気体吸入口から窓までの距離にわたって一定の幅
を有し、この幅は窓の幅と等しいものとする。
もし、光学手段が検出器の別の出口窓と入口窓を介して
放射線を放射し、また反射放射線を受けるなら、この保
護装置には放射された放射線およ【ｒ反射した放射線用
の２つの開口部が個別的に設置されろことは自明であり
、カバーには２つの窓が設けられ、カバーの気体吸入口
はこれら２つの窓の中間に位置し、スリット状気体排出
口は気体吸入口から隣接する窓に延び、この排出口はそ
れぞれ関連する窓の幅に等しい幅を有する。
放射線を放射し、また反射放射線を受けるなら、この保
護装置には放射された放射線およ【ｒ反射した放射線用
の２つの開口部が個別的に設置されろことは自明であり
、カバーには２つの窓が設けられ、カバーの気体吸入口
はこれら２つの窓の中間に位置し、スリット状気体排出
口は気体吸入口から隣接する窓に延び、この排出口はそ
れぞれ関連する窓の幅に等しい幅を有する。
添付の図面を参照して、本発明の実施例を述べる。
第１図において参照袴１は自動制御溶接工程のための検
出器のハウジングの一部を示し、この検出器は図示さ八
でいないレーザー光源を含む、ハウジング１は矢ＩＦＡ
の方向に放射されろレーザー放射線のための出口＊２と
、矢ｆｆＢの方向に反射されろ放射線のための入口窓を
有する。ハウジング１には、圧縮空気あるいは圧縮二酸
化炭素のよう一シールド気体のための供給管５に連結し
ている本体４が固定される。
出器のハウジングの一部を示し、この検出器は図示さ八
でいないレーザー光源を含む、ハウジング１は矢ＩＦＡ
の方向に放射されろレーザー放射線のための出口＊２と
、矢ｆｆＢの方向に反射されろ放射線のための入口窓を
有する。ハウジング１には、圧縮空気あるいは圧縮二酸
化炭素のよう一シールド気体のための供給管５に連結し
ている本体４が固定される。
本体４にはカバー７が取りはずし可能に装着され、この
カバー７は放射されたレーザー放射線のための〃ラス窓
８と反射さｈた放射線のための〃ラス窓９を保持する。
カバー７は放射されたレーザー放射線のための〃ラス窓
８と反射さｈた放射線のための〃ラス窓９を保持する。
このカバーはバネストリップ１０によって本体４に取り
着けられる０本体４とハウジング１とで供給管５を通っ
て供給される気体のためのバッフ７−空間を形成する部
屋６を形成し、これによって、気体供給圧力の変動にも
かかわらず、前記本体４から排出され窓８および９上に
わたって流れる気体の圧力が実質的に一定に保たれる。
着けられる０本体４とハウジング１とで供給管５を通っ
て供給される気体のためのバッフ７−空間を形成する部
屋６を形成し、これによって、気体供給圧力の変動にも
かかわらず、前記本体４から排出され窓８および９上に
わたって流れる気体の圧力が実質的に一定に保たれる。
供給管５を通って供給される気体の吸入口は部屋６の１
１５２に位置し、このため気体は紙面に垂直な方向に沿
って入る１部屋６を通る気体の流れの適度な均一化はこ
のように達成される。
１５２に位置し、このため気体は紙面に垂直な方向に沿
って入る１部屋６を通る気体の流れの適度な均一化はこ
のように達成される。
１ｆｆ１屋６を通る供給管５からの気体の流れの方向は
、矢符により第１図に概略的に示されている。
、矢符により第１図に概略的に示されている。
ｌＥ８お上Ｖ９は、溶接工程において放出された蒸気や
酸化物が、窓２およＶ３を通って、レーザー光源や反射
光線の収集手段のような光学装置に付着したりこれらを
汚染するのを防ぐ。
酸化物が、窓２およＶ３を通って、レーザー光源や反射
光線の収集手段のような光学装置に付着したりこれらを
汚染するのを防ぐ。
窓８および９の外面はカバー７の内面に静止す
いる、案内板１１は、スリット状排出口１２および
□１３がこの案内板の底面と窓８および９の外面と
の間に個別的に形成されるように、窓８および９の間の
カバー７の外面上に装着され、この排出口１２および１
３は高さｙ、長さｉ＋ｂをそれぞれ有する。高さＹは実
質的にカバー７の素材の！￥さに等しい。
いる、案内板１１は、スリット状排出口１２および
□１３がこの案内板の底面と窓８および９の外面と
の間に個別的に形成されるように、窓８および９の間の
カバー７の外面上に装着され、この排出口１２および１
３は高さｙ、長さｉ＋ｂをそれぞれ有する。高さＹは実
質的にカバー７の素材の！￥さに等しい。
窓８お上り９はこの２つの窓の内面に静止した定着Ｉ！
１４によってカバー７に定着され、一方窓８お上り９の
素材と実質的に等しい厚みのスペーサー１板１５がさら
にカバー７と定着板１４の間に設Ｗ１される。
１４によってカバー７に定着され、一方窓８お上り９の
素材と実質的に等しい厚みのスペーサー１板１５がさら
にカバー７と定着板１４の間に設Ｗ１される。
スロット状吸入口１７は定着板１４、スペーサー板１５
、およびカバー７を通して延び、吸入口１７はカバーが
一旦本体４に装着されたら本体４の排出口１６に重なり
合う、供給管５から供給される気体はこのように部屋６
、排出口１６、そしてスロット状吸入口１７を通りスリ
７Ｆ状１２およ（／１３に流れる。
、およびカバー７を通して延び、吸入口１７はカバーが
一旦本体４に装着されたら本体４の排出口１６に重なり
合う、供給管５から供給される気体はこのように部屋６
、排出口１６、そしてスロット状吸入口１７を通りスリ
７Ｆ状１２およ（／１３に流れる。
第２図に示されるように、カバー７のスリット状排出口
１２および１３は、その幅がスロット状吸入口１７から
案内板１１お上りカバー７によって形成される実際の窓
の隣接する縁までの個別的長さにわたって窓８および９
の幅に個別的に等しいように形成される。これは窓の表
面の幅の全体を覆う薄膜状気体の流れを実現するための
実質的な状態である。前記薄膜状気体の流れは窓８お上
り９の外面に悪影響を及ぼすような気体や酸化物が付着
するのを防ぎ、このため溶接工程において長期間、窓の
上の堆積物の形成を防ぎ、もしそうでないなら堆積物は
放射されたレーザー光線お上り／または反射放射線を弱
め、分散させるので正確な検出が妨げられる。さらに個
々の窓を最も望ましく保Ｉするためには、薄膜状の気体
の流れが必要であり、この流れは一方には溶接工程を行
なうには不十分な強さを有し、他方窓の表面の全長はも
ちろん全幅にわたる膜を維持するのに十分な強さを有す
る。
１２および１３は、その幅がスロット状吸入口１７から
案内板１１お上りカバー７によって形成される実際の窓
の隣接する縁までの個別的長さにわたって窓８および９
の幅に個別的に等しいように形成される。これは窓の表
面の幅の全体を覆う薄膜状気体の流れを実現するための
実質的な状態である。前記薄膜状気体の流れは窓８お上
り９の外面に悪影響を及ぼすような気体や酸化物が付着
するのを防ぎ、このため溶接工程において長期間、窓の
上の堆積物の形成を防ぎ、もしそうでないなら堆積物は
放射されたレーザー光線お上り／または反射放射線を弱
め、分散させるので正確な検出が妨げられる。さらに個
々の窓を最も望ましく保Ｉするためには、薄膜状の気体
の流れが必要であり、この流れは一方には溶接工程を行
なうには不十分な強さを有し、他方窓の表面の全長はも
ちろん全幅にわたる膜を維持するのに十分な強さを有す
る。
気体の流れは′ｇ８および９の表面の全長を覆う最も望
ましい薄膜の状態であると、窓が長くなればなるほど、
案内板１１の下から発生するＷＩ膜待性を有する気体の
流れに課せられる要求は高くなる。このことは距離ａが
距離すよりも短いことを意味する。案内板１１と窓８お
よび９のそれぞれとの闇にある気体の流れの有する距離
と、排出口１２お上り１３のそれぞれの幅との距離との
比、すなわち、ａ／ｙおよびｂ／ｙのそれぞれが１０か
ら２０の範囲であるとさ、適切な薄膜状の流れが達成さ
れることは自明である。これより高い比の場合、供給さ
れた気体の圧力はｍ膜状の気体の流れを窓の表面の全長
にわたって延びるようにするには、不必要に高く、これ
に反して、これより低い比である場合、気体の流れは不
十分な薄さである。
ましい薄膜の状態であると、窓が長くなればなるほど、
案内板１１の下から発生するＷＩ膜待性を有する気体の
流れに課せられる要求は高くなる。このことは距離ａが
距離すよりも短いことを意味する。案内板１１と窓８お
よび９のそれぞれとの闇にある気体の流れの有する距離
と、排出口１２お上り１３のそれぞれの幅との距離との
比、すなわち、ａ／ｙおよびｂ／ｙのそれぞれが１０か
ら２０の範囲であるとさ、適切な薄膜状の流れが達成さ
れることは自明である。これより高い比の場合、供給さ
れた気体の圧力はｍ膜状の気体の流れを窓の表面の全長
にわたって延びるようにするには、不必要に高く、これ
に反して、これより低い比である場合、気体の流れは不
十分な薄さである。
供給管５から供給された気体は溝１８を通って、放射さ
れたレーザー放射線のための出口窓２の前に位置する部
屋１９に流れることができる。溶接中の微かな超過圧力
はこうして部屋６と部１？！１９の両方に保たれる。こ
の超過圧力はこれらの部屋を粉塵から守り、そのため放
射されかつ受けられた放射線が粉塵によって悪影響され
ない。
れたレーザー放射線のための出口窓２の前に位置する部
屋１９に流れることができる。溶接中の微かな超過圧力
はこうして部屋６と部１？！１９の両方に保たれる。こ
の超過圧力はこれらの部屋を粉塵から守り、そのため放
射されかつ受けられた放射線が粉塵によって悪影響され
ない。
ｔＩＳ３図は第１図および第２図示の装置の別の実施態
様に従うスロット状吸入口１７の詳細な状態を示す。
様に従うスロット状吸入口１７の詳細な状態を示す。
第３図に示されるよ）に吸入口１７の窓９の緑には排出
口１３の薄膜状の流れの形成に好ましい影響を与える斜
面２０が設けられる。
口１３の薄膜状の流れの形成に好ましい影響を与える斜
面２０が設けられる。
ｆ１４４図はｔｊ４１図および第２図示の装置のさらに
刑の実施態様に従うスロット状吸入口１７の詳細な状態
を示し、この実施態様はアルミニウムの溶接に特に有釡
である。
刑の実施態様に従うスロット状吸入口１７の詳細な状態
を示し、この実施態様はアルミニウムの溶接に特に有釡
である。
アルミニウムをＷＩ接する際、フルミニツム酸化物はと
りわけ案内板１１の上面、特に薄膜状の流れがその下か
ら発生する案内板の緑に堆積する。
りわけ案内板１１の上面、特に薄膜状の流れがその下か
ら発生する案内板の緑に堆積する。
アルミニツム酸化物が、その破片が取れ、窓に落ちるよ
うになるまで縁に堆積するのには比較的短時間しかかか
らない、窓の上に落ちる破片の下方に薄膜状の流れのな
い領域が形成されるため、破片は薄膜状の流れを妨げ、
この領域では窓の上にアルミニウム酸化物が堆積する。
うになるまで縁に堆積するのには比較的短時間しかかか
らない、窓の上に落ちる破片の下方に薄膜状の流れのな
い領域が形成されるため、破片は薄膜状の流れを妨げ、
この領域では窓の上にアルミニウム酸化物が堆積する。
この問題は第４図示の実ｍ！！様に従う手段により実質
的に取り除かれる。
的に取り除かれる。
この実施態様において、案内板１１には吸入口１７に対
向してスロット状開口ｇ２１が設けられる。この開口部
の幅は吸入口１７の幅に等しいことが望ましい、１２案
内板２２は案内板１１の上に微かな距１１ｚを隔てて装
着され、こうして排出口２３および２４が形成される。
向してスロット状開口ｇ２１が設けられる。この開口部
の幅は吸入口１７の幅に等しいことが望ましい、１２案
内板２２は案内板１１の上に微かな距１１ｚを隔てて装
着され、こうして排出口２３および２４が形成される。
距離Ｚは氏さｙにＲ似している。排出口１２および１３
と同様に薄膜状の流れは排出口２３およｃ／２４にも形
成され、この流れは少なくとも案内板１１の縁に延びる
。
と同様に薄膜状の流れは排出口２３およｃ／２４にも形
成され、この流れは少なくとも案内板１１の縁に延びる
。
このｍ膜状の流れは案内板１１の縁にアルミニウム酸化
物が堆積するのを防ぐ、ｔＡ２案内板２２の縁の上のア
ルミニウム酸化物の堆積物が万−取れた場合でも、案内
板１１の上に落ちる破片となるが、窓８および９の上に
は落ちず、あるいは落ちてもまれである。このような破
片が案内板１１の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、
このことは窓８お上り９の上のｌ膜状の流れに何の直接
的影響も与えない。従ってアルミニツムを溶接する場合
、第４図示の実施態様に従う窓８および９の使用期間は
第１図示の実施態様における前記窓のそれよりも相当に
艮（なる。
物が堆積するのを防ぐ、ｔＡ２案内板２２の縁の上のア
ルミニウム酸化物の堆積物が万−取れた場合でも、案内
板１１の上に落ちる破片となるが、窓８および９の上に
は落ちず、あるいは落ちてもまれである。このような破
片が案内板１１の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、
このことは窓８お上り９の上のｌ膜状の流れに何の直接
的影響も与えない。従ってアルミニツムを溶接する場合
、第４図示の実施態様に従う窓８および９の使用期間は
第１図示の実施態様における前記窓のそれよりも相当に
艮（なる。
これらおよＶ他の修正は上記内容を読めば、発明の１ｌ
ｌｌ！Ｉを逸脱することなく当業者には簡単に考えつく
６例えばスリット状排出口１２およ（／１３１よ、案内
板１１の手段の代りに当業者には簡単に考えつく方法で
カバー７を部分的に！！Ｉませることにより形成するこ
とができる。さらに２つの窓８および９の代りに放射お
よび仄射された放射線の両方が通る単一の窓を設置する
こともできる。
ｌｌ！Ｉを逸脱することなく当業者には簡単に考えつく
６例えばスリット状排出口１２およ（／１３１よ、案内
板１１の手段の代りに当業者には簡単に考えつく方法で
カバー７を部分的に！！Ｉませることにより形成するこ
とができる。さらに２つの窓８および９の代りに放射お
よび仄射された放射線の両方が通る単一の窓を設置する
こともできる。
本発明は下記の態様で実施が可能である。
（１）汚染気体から光学手段を保護するための装置であ
って清浄な気体を供給するための吸入口を有し、かつ光
線が通過することのできる少なくとも１つの開口部と気
体排出口とを含む部屋が設けられ、前記開口部の上に設
置されるようにした窓を有するカバーが設けられ、この
カバーには、その内面にスロット状の吸入口と、前記吸
入口に通じその外面に延するスリット状の排出口とが設
けられ、前記ＷＳ屋の気体供給吸入口から供給された気
体が前記部屋と前記部屋の気体排出口と前記カパ−のス
ロット状吸入口とスリット状排出口とを通過して前記窓
の外面上に薄層状に流れることを特徴とする汚染気体か
ら光学手段を保護するための装置。
って清浄な気体を供給するための吸入口を有し、かつ光
線が通過することのできる少なくとも１つの開口部と気
体排出口とを含む部屋が設けられ、前記開口部の上に設
置されるようにした窓を有するカバーが設けられ、この
カバーには、その内面にスロット状の吸入口と、前記吸
入口に通じその外面に延するスリット状の排出口とが設
けられ、前記ＷＳ屋の気体供給吸入口から供給された気
体が前記部屋と前記部屋の気体排出口と前記カパ−のス
ロット状吸入口とスリット状排出口とを通過して前記窓
の外面上に薄層状に流れることを特徴とする汚染気体か
ら光学手段を保護するための装置。
（２）前記カバーは、その外面に前記第１スロット状吸
入口に隣接した第２スロット状吸入口が設けられ、前記
第２スロット状吸入口の幅は、前記カバーの内面の前記
第１スロット状吸入口の幅と実ズ的に等しく、前記案内
板は前記第２スロット状吸入口の上に予め定められた間
隔をおいて設置されており、前記案内板は前記スリット
状排出口の長さよりも短かく、このため第２スリット状
排出口は前記カバーと前記案内板の間に設けられること
を特徴とする汚染気体から光学手段を保護するための装
置。
入口に隣接した第２スロット状吸入口が設けられ、前記
第２スロット状吸入口の幅は、前記カバーの内面の前記
第１スロット状吸入口の幅と実ズ的に等しく、前記案内
板は前記第２スロット状吸入口の上に予め定められた間
隔をおいて設置されており、前記案内板は前記スリット
状排出口の長さよりも短かく、このため第２スリット状
排出口は前記カバーと前記案内板の間に設けられること
を特徴とする汚染気体から光学手段を保護するための装
置。
（３）前記スリット状排出口は、窓の外面に予め定めら
れた長さに延び、前記スリット状排出口の幅は、前記窓
の外面に鳳びる前記排出口の全長にわたって一定であり
、前記窓の幅に本質的に等しいことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置。
れた長さに延び、前記スリット状排出口の幅は、前記窓
の外面に鳳びる前記排出口の全長にわたって一定であり
、前記窓の幅に本質的に等しいことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置。
（４）前記部屋には２つの開口部が設けられており、前
記カバーには前記開口部の上に設ｒＩＩされるような２
つの窓が設けられており、前記カバーのスロット状吸入
口は２つの窓の中間に位置していることを特徴とする汚
染気体から光学手段を保護するための装置。
記カバーには前記開口部の上に設ｒＩＩされるような２
つの窓が設けられており、前記カバーのスロット状吸入
口は２つの窓の中間に位置していることを特徴とする汚
染気体から光学手段を保護するための装置。
（５）前記スリット状排出口はそれぞれの前記窓の外面
の一部に沿って前記スロット状の吸入口から延１、個々
の入リフト状排出口の幅は一定であり、関連する窓の幅
に等しいことを特徴とする汚染気体から光学手段を保護
するための装置。
の一部に沿って前記スロット状の吸入口から延１、個々
の入リフト状排出口の幅は一定であり、関連する窓の幅
に等しいことを特徴とする汚染気体から光学手段を保護
するための装置。
（６）前記案内板は、一対の第２スリット状排出口を形
成することを特徴とする汚染気体から光学手段を保護す
るための装置。
成することを特徴とする汚染気体から光学手段を保護す
るための装置。
（７）前記それぞれの窓は、そのスリット状排出口に対
向する縁に、前記窓の外面に向けて延びる傾斜部が設け
られろことを特徴とする汚染気体から光学手段を保護す
るための装置。
向する縁に、前記窓の外面に向けて延びる傾斜部が設け
られろことを特徴とする汚染気体から光学手段を保護す
るための装置。
（８）前記窓の外面に個々のスリット状排出口が１１．
′びる距離と、スリット状排出口の高さとの比は、１０
から２０の間であることを特徴とする汚染気体から光学
手段を保護するための＊ａ！。
′びる距離と、スリット状排出口の高さとの比は、１０
から２０の間であることを特徴とする汚染気体から光学
手段を保護するための＊ａ！。
（９）前記部屋には気体を案内し、光学手段の前部の思
過圧力を維持するための溝が設けられていることを特徴
とする汚染気体から光学手段を保護するための装置。
過圧力を維持するための溝が設けられていることを特徴
とする汚染気体から光学手段を保護するための装置。
ｔＩ４１図は本発明に従う検出器の断面図を示す。
第２図は第１図に示された装置のカバーの平面図である
。第３図は第１図およＶ第２図に示された装置の池の実
施例を示す図である。第４図は第１図おより第２図に示
された装置のさらに他の実施例である。 １・・・ハウツングの二部、２・・・窓、４軸・本体、
５・・・供給管、６・・・部屋、７・・・カバー、８，
９・・・ｆｆチフス窓１０・・・バネストリップ、１１
・・・案内板、１２．１３・・・スリット状排出口、１
４・・・定着板、１５・・・スペーサー板、１７・・・
スロット状吸入口、１８・・・溝、１９・・・部屋、２
０・・・斜面、２１・・・スロフ）状開口部、２２・・
・第２案内板、２３．２４・・・排出口 代理人 弁理士 画数 圭一部 ＦＩＧ、３ ＦＩＧ、４ 手 続 補 正 ７（（方式） ％式％ ２、発明の名称 汚染気体から光学手段を保議するための装置３、補正を
する者 事件との関係 出願人 住 所 オランダ国２６１２イクスエーデル７ト・７ア
ンミーレベルトラーン９ 名称 エヌ・ベー・オプテイツシエ・インダストリエ
・“デ・オーダ・デル７ト” 代表者 レモン・ディンカー 国装置ＥＸ ０５２５−５９８５ ＩＮＴΔＴ’Ｔ
、１国際ＦＡＸＧｍ＆Ｇ■（０６）５３８−０２４４
５、補正命令の日付 昭和６０年１１月２６日 （発送日） ６、補正の対象 図 面 ７、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし）。 以 上
。第３図は第１図およＶ第２図に示された装置の池の実
施例を示す図である。第４図は第１図おより第２図に示
された装置のさらに他の実施例である。 １・・・ハウツングの二部、２・・・窓、４軸・本体、
５・・・供給管、６・・・部屋、７・・・カバー、８，
９・・・ｆｆチフス窓１０・・・バネストリップ、１１
・・・案内板、１２．１３・・・スリット状排出口、１
４・・・定着板、１５・・・スペーサー板、１７・・・
スロット状吸入口、１８・・・溝、１９・・・部屋、２
０・・・斜面、２１・・・スロフ）状開口部、２２・・
・第２案内板、２３．２４・・・排出口 代理人 弁理士 画数 圭一部 ＦＩＧ、３ ＦＩＧ、４ 手 続 補 正 ７（（方式） ％式％ ２、発明の名称 汚染気体から光学手段を保議するための装置３、補正を
する者 事件との関係 出願人 住 所 オランダ国２６１２イクスエーデル７ト・７ア
ンミーレベルトラーン９ 名称 エヌ・ベー・オプテイツシエ・インダストリエ
・“デ・オーダ・デル７ト” 代表者 レモン・ディンカー 国装置ＥＸ ０５２５−５９８５ ＩＮＴΔＴ’Ｔ
、１国際ＦＡＸＧｍ＆Ｇ■（０６）５３８−０２４４
５、補正命令の日付 昭和６０年１１月２６日 （発送日） ６、補正の対象 図 面 ７、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし）。 以 上
Claims (9)
- （１）汚染気体から光学手段を保護するための装置であ
って、清浄な気体を供給するための吸入口を有しかつ光
線が通過することのできる少なくとも１つの開口部と気
体排出口とを含む部屋が設けられ、前記開口部の上に設
置されるようにした窓を有するカバーが設けられ、この
カバーには、その内面にスロット状の吸入口と、前記吸
入口に通じその外面に延びるスリット状の排出口とが設
けられ、前記部屋の気体供給吸入口から供給された気体
が前記部屋と前記部屋の気体排出口と前記カバーのスロ
ット状吸入口とスリット状排出口とを通過して前記窓の
外面上に薄層状に流れることを特徴とする汚染気体から
光学手段を保護するための装置。 - （２）前記カバーは、その外面に前記第１スロット状吸
入口に隣接した第２スロット状吸入口が設けられ、前記
第２スロット状吸入口の幅は、前記カバーの内面の前記
第１スロット状吸入口の幅と実質的に等しく、前記案内
板は前記第２スロット状吸入口の上に予め定められた間
隔をおいて設置されており、前記案内板は前記スリット
状排出口の長さよりも短かく、このため第２スリット状
排出口は前記カバーと前記案内板の間に設けられること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の汚染気体から
光学手段を保護するための装置。 - （３）前記スリット状排出口は、窓の外面に予め定めら
れた長さに延び、前記スリット状排出口の幅は、前記窓
の外面に延びる前記排出口の全長にわたって一定であり
、前記窓の幅に本質的に等しいことを特徴とする特許請
求の範囲第１項または第２項記載の汚染気体から光学手
段を保護するための装置。 - （４）前記部屋には２つの開口部が設けられており、前
記カバーには前記開口部の上に設置されるような２つの
窓が設けられており、前記カバーのスロット状吸入口は
２つの窓の中間に位置していることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の汚染気体から光学手段を保護する
ための装置。 - （５）前記スリット状排出口はそれぞれの前記窓の外面
の一部に沿って前記スロット状の吸入口から延び、個々
のスリット状排出口の幅は一定であり、関連する窓の幅
に等しいことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
汚染気体から光学手段を保護するための装置。 - （６）前記案内板は、一対の第２スリット状排出口を形
成することを特徴とする特許請求の範囲第２項または第
５項記載の汚染気体から光学手段を保護するための装置
。 - （７）前記それぞれの窓は、そのスリット状排出口に対
向する縁に、前記窓の外面に向けて延びる傾斜部が設け
られることを特徴とする特許請求の範囲第３項、第５項
または第６項に記載の汚染気体から光学手段を保護する
ための装置。 - （８）前記窓の外面に個々のスリット状排出口が延びる
距離とスリット状排出口の高さとの比は、１０から２０
の間であることを特徴とする特許請求の範囲第３項、第
５項または第６項に記載の汚染気体から光学手段を保護
するための装置。 - （９）前記部屋には気体を案内し、光学手段の前部の超
過圧力を維持するための溝が設けられていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項〜第８項のうちの１つに記
載の汚染気体から光学手段を保護するための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8402872 | 1984-09-19 | ||
| NL8402872A NL8402872A (nl) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22442992A Division JPH05210065A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 検出装置 |
| JP4224448A Division JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123813A true JPS61123813A (ja) | 1986-06-11 |
| JPH0379687B2 JPH0379687B2 (ja) | 1991-12-19 |
Family
ID=19844493
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60204169A Granted JPS61123813A (ja) | 1984-09-19 | 1985-09-13 | 汚染気体から光学手段を保護するための装置 |
| JP4224448A Expired - Lifetime JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4224448A Expired - Lifetime JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4658113A (ja) |
| EP (1) | EP0179505B1 (ja) |
| JP (2) | JPS61123813A (ja) |
| KR (1) | KR900004973B1 (ja) |
| AU (1) | AU576261B2 (ja) |
| CA (1) | CA1291887C (ja) |
| DE (1) | DE3567714D1 (ja) |
| IL (1) | IL76255A (ja) |
| NL (1) | NL8402872A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01104475A (ja) * | 1987-09-11 | 1989-04-21 | Canadian Patents & Dev Ltd | 自動溶接制御用視覚ヘツド |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8402872A (nl) * | 1984-09-19 | 1986-04-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
| FI93582C (fi) * | 1991-09-18 | 1995-04-25 | Janesko Oy | Sovitelma prosessissa olevan optisen ikkunan puhdistamiseksi |
| JPH0780645A (ja) * | 1993-09-08 | 1995-03-28 | Fanuc Ltd | 溶接センサの冷却装置 |
| JPH08132235A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-28 | Fanuc Ltd | 産業用溶接ロボットの冷却装置 |
| US5727300A (en) * | 1995-02-07 | 1998-03-17 | The Boeing Company | Fastener verification system |
| US5879626A (en) * | 1997-07-30 | 1999-03-09 | Allen-Bradley Company, Llc | Photoelectric sensor having dust removal apparatus |
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Citations (2)
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Family Cites Families (7)
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| US4367388A (en) * | 1979-06-06 | 1983-01-04 | Hitachi Heating Appliances Co., Ltd. | Cooking heating apparatus |
| WO1982001492A1 (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-13 | Gorb Vyacheslav F | Device for inert gas arc welding |
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| NL8402872A (nl) * | 1984-09-19 | 1986-04-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
-
1984
- 1984-09-19 NL NL8402872A patent/NL8402872A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-11-02 US US06/667,551 patent/US4658113A/en not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-08-29 AU AU46873/85A patent/AU576261B2/en not_active Ceased
- 1985-08-29 CA CA000489643A patent/CA1291887C/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-08-30 IL IL76255A patent/IL76255A/xx not_active IP Right Cessation
- 1985-09-05 KR KR1019850006472A patent/KR900004973B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-09-13 JP JP60204169A patent/JPS61123813A/ja active Granted
- 1985-09-18 DE DE8585201503T patent/DE3567714D1/de not_active Expired
- 1985-09-18 EP EP85201503A patent/EP0179505B1/en not_active Expired
-
1992
- 1992-08-24 JP JP4224448A patent/JPH074669B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06198444A (ja) | 1994-07-19 |
| IL76255A0 (en) | 1986-01-31 |
| IL76255A (en) | 1988-05-31 |
| NL8402872A (nl) | 1986-04-16 |
| JPH074669B2 (ja) | 1995-01-25 |
| KR900004973B1 (ko) | 1990-07-16 |
| KR860002336A (ko) | 1986-04-24 |
| AU4687385A (en) | 1986-03-27 |
| CA1291887C (en) | 1991-11-12 |
| EP0179505B1 (en) | 1989-01-18 |
| DE3567714D1 (en) | 1989-02-23 |
| EP0179505A1 (en) | 1986-04-30 |
| AU576261B2 (en) | 1988-08-18 |
| US4658113A (en) | 1987-04-14 |
| JPH0379687B2 (ja) | 1991-12-19 |
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