JPH07435Y2

JPH07435Y2 - 真空処理炉の搬送装置

Info

Publication number: JPH07435Y2
Application number: JP1988131726U
Authority: JP
Inventors: 善之三橋
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1988-10-11
Filing date: 1988-10-11
Publication date: 1995-01-11
Anticipated expiration: 2003-10-11
Also published as: JPH0252829U

Description

【考案の詳細な説明】［産業上の利用分野］この考案は、真空処理炉内で処理すべき被処理材を搬送
する真空処理炉の搬送装置に係り、特に、被処理材を垂
直搬送する際に用いられる真空処理炉の搬送装置の改良
に関する。

［従来の技術］従来この種の真空処理炉の搬送装置としては例えば第５
図に示すようなものが知られている。

これは、真空処理炉１の下部に一対のガイドレール２を
敷設する一方、略垂直方向に延びる垂直ベース４が形成
された搬送キャリア３をガイドロール５を介して前記ガ
イドレール２に沿って移動可能に配設し、上記垂直ベー
ス４の両側に各種基板等の被処理材６が位置決め保持さ
れるセット保持部７を設ける一方、上記搬送キャリア３
の下部と駆動モータ8a、ギア機構8b等からなる駆動搬送
手段８とを作動的に連結し、この駆動搬送手段８からの
駆動力によって搬送キャリア３を搬送するようにしたも
のである。

このような真空処理炉の搬送装置において、上記搬送キ
ャリア３の垂直ベース４の高さ寸法が高くなると、上記
垂直ベース４が倒れ易くなるため、通常搬送キャリア３
の垂直ベース４の上部は案内保持手段９にて移動可能に
案内保持されている。この種の案内保持手段９は、例え
ば垂直ベース４の上部に断面コ字状のホルダブラケット
10を設け、このホルダブラケット10に一対のホルダロー
ル11を取付ける一方、真空処理炉１の内壁面には取付け
ブラケット12を介してホルダレール13を配設し、このホ
ルダレール13に上記一対のホルダロール11を移動可能に
係合させ、上記垂直ベース４の上部の位置を規制するも
のである。

尚、第５図中、符号14は真空処理炉１の処理ステージに
設置されて上記被処理材６に真空処理、例えば所定の成
膜を付すための一対のスパッタ装置である。

［考案が解決しようとする課題］ところで、この種の真空処理炉の搬送装置にあっては、
上記案内保持手段９はホルダレール13に対して一対のホ
ルダロール11を接触転動させる構成になっており、しか
も、真空処理炉１内での潤滑剤の蒸発に伴う処理ステー
ジへの影響を考慮すると、ホルダレール13とホルダロー
ル11との間に潤滑剤を使用することができないため、搬
送キャリア３移動時においては、上記ホルダレール13と
ホルダロール11との間の摺動摩擦により金属微粉等のダ
ストが発生し、このダストが下方へ落下して被処理材６
の処理面に付着してしまう虞れがある。この状態におい
て、被処理材６に対して成膜等の真空処理を行うとすれ
ば、ダストの影響で真空処理が不完全なものになり、処
理済みの製品の歩留りを悪くするという問題が起こる。

この考案は、以上の問題点に着目して為されたものであ
って、被処理材を垂直搬送する際の搬送安定性を確保し
ながら、被処理材の処理面に付着するダストの発生を有
効に抑えるようにした真空処理炉の搬送装置を提供する
ものである。

［課題を解決するための手段］すなわち、この考案に係る真空処理炉の搬送装置は、被
処理材が略垂直状態で保持される垂直ベースを有する搬
送キャリアと、この搬送キャリアの下部側に設けられて
真空処理炉内にて搬送キャリアを駆動搬送する駆動搬送
手段とを備えたものを前提とし、上記搬送キャリアの垂
直ベースの上部が非接触状態で案内保持される非接触型
案内保持手段として前記垂直ベースの上部を両側から均
等吸引する吸引型マグネットカップリングを設けた点を
特徴とするものである。

このような技術的手段において、上記被処理材として
は、表示用基板、半導体装置等のベースになる各種基板
を始め、真空処理の対象となり得るものであれば適宜選
択することができる。この場合における真空処理として
は、真空スパッタ、真空蒸着等の物理的手法による気相
メッキ（PVD;physical Vapor Deposition）、プラズマC
VD,ECR−CVD等の化学的手法による気相メッキ（CVD;Che
mical Vapor Deposition）、真空熱処理、ドライエッチ
ングを始め、真空範囲気中で行われる広範囲のものが含
まれる。

また、上記搬送キャリアについては、少なくとも被処理
材の保持部が設けられた垂直ベースを有し、所定の処理
ステージにて被処理材に対して所定の真空処理を行える
ものであれば適宜設計することができる。この場合にお
いて、上記垂直ベースや保持部の数、配置については適
宜設計変更して差支えない。

更に、上記駆動搬送手段については、通常、適宜駆動源
からの駆動力をチェーンやギア等の駆動伝達系を用いて
搬送キャリアに直接的に伝達するものが用いられるが、
駆動搬送手段側からのダストの発生を抑えるという観点
からすれば、磁気浮上型のリニアモータ搬送系等を利用
して搬送キャリアを非接触搬送するように設計すること
が好ましい。

更にまた、非接触型案内保持手段としては、真空処理炉
内の処理ステージにおける処理に支障をきたさない範囲
で、磁気力等の空間力を利用して垂直ベースの上部を非
接触状態で案内保持できるものであればよいが、この考
案では、吸引型マグネットカップリングが用いられる。

［作用］上述したような技術的手段によれば、上記搬送キャリア
は、被処理材を略垂直状態に保持し、駆動搬送手段によ
って真空処理炉内を移動していく。

このとき、上記搬送キャリアの垂直ベースの上部は吸引
型マグネットカップリングの両側からの均等吸引力によ
って非接触保持されているので、垂直ベースの上部が正
規位置に規制されるほか、搬送キャリアの垂直ベースの
上部と吸引型マグネットカップリングとの間で摺動摩擦
によるダストが発生することはない。

［実施例］以下、添附図面に示す実施例に基づいてこの考案を詳細
に説明する。

実施例１第１図及び第２図に示す実施例において、真空処理炉１
は、被処理材としてのガラス基板６に対し処理ステージ
STに設置されたスパッタ装置60で所定の成膜を施すよう
にしたものである。

この真空処理炉の搬送装置は、略垂直方向に立設される
一つの垂直ベース21を有する搬送キャリア20と、この搬
送キャリア20の下部側に設けられてこの搬送キャリア20
を駆動する駆動搬送手段30と、上記垂直ベース21の上部
を非接触状態で案内保持する非接触型案内保持手段50と
で構成されている。

この実施例において、上記搬送キャリア20の垂直ベース
21は例えば非磁性体であるアルミニウム製からなり、そ
の垂直ベース21の下部には水平方向に延びる支持台部22
が一体的に形成されると共に、この支持台部22の幅方向
両側面前後にはガイドロール23が取付けられている。一
方、真空処理炉１の底壁部1aには支持ブラケット24を介
して一対のガイドレール25が敷設されており、このガイ
ドレール25に上記ガイドロール23が係合し、上記搬送キ
ャリア20がガイドレール25に沿って移動し得るようにな
っている。また、上記垂直ベース21の両側面には、ガラ
ス基板６を位置決め保持するセット保持部26が形成され
ており、このセット保持部26は、ガラス基板６の上下位
置に対応して設けられる位置決めホルダバー27と、この
位置決めホルダバー27に設けられて上記ガラス基板６を
拘束保持するクランパ28とからなる。

また、上記駆動搬送手段30は上記真空処理炉１の設置台
31に設けられており、その具体的構成は、この設置台31
の外側支持片31a上に固定される駆動モータ32と、上記
設置台31内に配設されて前記駆動モータ32のシャフトに
減速カップリング33を介して連結される駆動スプロケッ
ト34と、設置台31内において前記駆動スプロケット34に
対して所定間隔で並設される複数の従動スプロケット35
と、前記駆動スプロケット34及び複数の従動スプロケッ
ト35に掛渡されて駆動スプロケット34の駆動力を各従動
スプロケット35に伝達するチェーン36と、上記駆動スプ
ロケット34と同軸に連結される駆動ギア37と、上記各従
動スプロケット35と同軸に連結される従動ギア38と、前
記駆動ギア37、従動ギア38に夫々噛合する伝達ギア39
と、上記支持台部22の下面に形成されて上記伝達ギア39
に噛合するラック40とからなる。

更に、この実施例において、上記非接触型案内保持手段
50としては吸引型マグネットカップリングが用いられて
いる。

この吸引型マグネットカップリング50は、特に第３図に
示すように、上記真空処理炉１の上壁1bにおいて上側に
突出する凹所51内に上記垂直ベース21の上部を突入配置
し、この凹所51の両縦壁面に複数組の電磁石52（具体的
には52a,52b）を設けると共に、各電磁石52に対向する
垂直ベース21の上部両側面に鉄等の磁性板53（具体的に
は53a,53b）を配置してなるものであり、電磁石52励磁
時において、各磁性板53との間に均等な吸引力を作用さ
せるようにしたものである。

尚、第２図中、符号55は処理ステージSTにおいて駆動搬
送手段30及び吸引型マグネットカップリング50とスパッ
タ装置60の処理ゾーンとを区画して成膜用のターゲット
材61が駆動搬送手段30等に付着する事態を防止する防着
板である。

次に、この実施例に係る真空処理炉の搬送装置の作動に
ついて説明する。

先ず、図示外のロードロック室にて、上記ガラス基板６
が搬送キャリア20の垂直ベース21のセット保持部26にセ
ットされると、駆動搬送手段30が作動を開始する。

すると、上記駆動モータ32の回転により駆動スプロケッ
ト34及びチェーン36を介して従動スプロケット35が回転
し、これに伴って駆動ギア37及び従動ギア38が回転す
る。この状態において、上記伝達ギア39が回転し、この
伝達ギア39からの駆動力がラック40を介して搬送キャリ
ア20側へ伝達され、搬送キャリア20がガイドレール25に
沿って移動する。

このとき、上記吸引型マグネットカップリング50も同時
に作動し、電磁石52a,52bが夫々励磁されて磁性板53a,5
3bとの間に均等な吸引力Ｆが作用することになり、この
吸引力Ｆによって上記垂直ベース21の上部が凹所51内の
中立位置（正規位置）に非接触状態で保持される。

このため、上記搬送キャリア20がガイドレール25に沿っ
て移動したとしても、上記搬送キャリア20の垂直ベース
21の姿勢が倒れることはなく、また、上記垂直ベース21
の上部側から摺動摩擦によるダストが発生してガラス基
板６の処理面に付着することもない。

そして、搬送キャリア20が処理ステージSTに搬送される
と、上記スパッタ装置60が作動してガラス基板６に対し
て所定の成膜処理が行われ、搬送キャリア20は真空処理
炉１の処理みのステージへと移動する。

実施例２第４図において、真空処理炉の搬送装置の基本的構成は
実施例１と略同様であるが、駆動搬送手段30が実施例１
と異なる。

この実施例において、上記駆動搬送手段30は磁気浮上型
のリニアモータ搬送系であって、真空処理炉１の進行方
向に沿って配設される固定子71と、この固定子71との間
に推力発生部及び磁気力を利用した浮上位置規制部（い
ずれも図示せず）が設けられ、固定子71に対して非接触
移動する可動子72とからなる。そして、搬送キャリア20
の垂直ベース21の支持台部22が上記可動子72の頂部に固
定されている。

尚、実施例１と同様な構成部分については実施例１と同
様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。

従って、この実施例に係る真空処理炉の搬送装置によれ
ば、実施例１と同様な作用、効果を奏するほか、上記駆
動搬送手段30と搬送キャリア20との間において摺動部の
存在をなくすことができるので、駆動搬送手段30側から
の摺動摩擦によるダストの発生をも防止でき、その分、
被処理材としてのガラス基板６の処理面に対するダスト
の付着をより確実に回避することができる。

［考案の効果］以上説明してきたように、請求項１及び２記載の真空処
理炉の搬送装置によれば、真空処理炉内で被処理材を垂
直搬送するに当って、搬送キャリアの垂直ベースの上部
を正規位置に規制しながら、垂直ベースの上部と案内保
持手段との間で摺動摩擦によるダストの発生を防止する
ようにしたので、垂直ベースの倒れを有効に防止して被
処理材に対する処理位置を一定に保つことができ、しか
も、被処理材へのダストの付着を有効に回避でき、もっ
て、被処理材に対する処理具合を良好に保つことができ
る。

更に、請求項１及び２記載の真空処理炉の搬送装置によ
れば、非接触型案内保持手段として垂直ベースの上部が
両側から均等吸引される吸引型マグネットカップリング
を用いたので、垂直ベースの上部の非接触保持状態を安
定させることができる。

更にまた、請求項２記載の真空処理炉の搬送装置によれ
ば、駆動搬送手段として磁気浮上型のリニアモータ搬送
系を用いたので、搬送キャリアと駆動搬送系及び案内保
持手段との間で摺動部をなくし、搬送キャリアを非接触
搬送することができ、もって、摺動摩擦に伴うダストの
発生を確実に防止でき、被処理材に対するダストの付着
を確実に防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案に係る真空処理炉の搬送装置の実施例
１を示す斜視説明図、第２図は第１図中II方向から見た
矢視図、第３図は第２図中III部詳細図、第４図はこの
考案に係る真空処理炉の搬送装置の実施例２を示す第２
図に相当する説明図、第５図は従来における真空処理炉
の搬送装置の一例を示す説明図である。［符号の説明］１……真空処理炉６……ガラス基板（被処理材） 20……搬送キャリア 21……垂直ベース 30……駆動搬送手段 50……吸引型マグネットカップリング（非接触型案内保持手段） 71……固定子 72……可動子

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】被処理材（６）が略垂直状態で保持される
垂直ベース（21）を有する搬送キャリア（20）と、この搬送キャリア（20）の下部側に設けられて真空処理
炉（１）内にて搬送キャリア（20）を駆動搬送する駆動
搬送手段（30）と、上記搬送キャリア（20）の垂直ベース（21）の上部を非
接触状態で両側から均等吸引して案内保持する吸引型マ
グネットカップリング（50）とを備えてなる真空処理炉
の搬送装置。
【請求項２】請求項１記載のものにおいて、駆動搬送手
段（30）は固定子（71）に対して非接触移動する可動子
（72）を有する磁気浮上型のリニアモータ搬送系からな
り、上記可動子（72）に搬送キャリア（20）の下部を固
定するようにしたことを特徴とする真空処理炉の搬送装
置。