JPH0252829U - - Google Patents
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- JPH0252829U JPH0252829U JP13172688U JP13172688U JPH0252829U JP H0252829 U JPH0252829 U JP H0252829U JP 13172688 U JP13172688 U JP 13172688U JP 13172688 U JP13172688 U JP 13172688U JP H0252829 U JPH0252829 U JP H0252829U
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- JP
- Japan
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- conveyance
- carrier
- vacuum processing
- processing furnace
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- Prior art date
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- Granted
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- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Framework For Endless Conveyors (AREA)
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
Description
第1図はこの考案に係る真空処理炉の搬送装置
の実施例1を示す斜視説明図、第2図は第1図中
方向から見た矢視図、第3図は第2図中部詳
細図、第4図はこの考案に係る真空処理炉の搬送
装置の実施例2を示す第2図に相当する説明図、
第5図は従来における真空処理炉の搬送装置の一
例を示す説明図である。 符号の説明、1……真空処理炉、6……ガラス
基板(被処理材)、20……搬送キヤリア、21
……垂直ベース、30……駆動搬送手段、50…
…吸引型マグネツトカツプリング(非接触型案内
保持手段)、71……固定子、72……可動子。
の実施例1を示す斜視説明図、第2図は第1図中
方向から見た矢視図、第3図は第2図中部詳
細図、第4図はこの考案に係る真空処理炉の搬送
装置の実施例2を示す第2図に相当する説明図、
第5図は従来における真空処理炉の搬送装置の一
例を示す説明図である。 符号の説明、1……真空処理炉、6……ガラス
基板(被処理材)、20……搬送キヤリア、21
……垂直ベース、30……駆動搬送手段、50…
…吸引型マグネツトカツプリング(非接触型案内
保持手段)、71……固定子、72……可動子。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 被処理材6が略垂直状態で保持される垂直ベ
ース21を有する搬送キヤリア20と、 この搬送キヤリア20の下部側に設けられて真
空処理炉1内にて搬送キヤリア20を駆動搬送す
る駆動搬送手段30と、 上記搬送キヤリア20の垂直ベース21の上部
を非接触状態で案内保持する非接触型案内保持手
段50とを備えてなる真空処理炉の搬送装置。 2 請求項1記載のものにおいて、非接触型案内
保持手段50が垂直ベース21の上部を両側から
均等吸引する吸引型マグネツトカツプリングで構
成されていることを特徴とする真空処理炉の搬送
装置。 3 請求項1記載のものにおいて、駆動搬送手段
30は固定子71に対して非接触移動する可動子
72を有する磁気浮上型のリニアモータ搬送系か
らなり、上記可動子72に搬送キヤリア20の下
部を固定するようにしたことを特徴とする真空処
理炉の搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988131726U JPH07435Y2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 真空処理炉の搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988131726U JPH07435Y2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 真空処理炉の搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0252829U true JPH0252829U (ja) | 1990-04-17 |
JPH07435Y2 JPH07435Y2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=31388059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988131726U Expired - Lifetime JPH07435Y2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 真空処理炉の搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07435Y2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004040089A (ja) * | 2002-05-21 | 2004-02-05 | Otb Group Bv | 基板処理装置 |
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JP2007269071A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Asyst Shinko Inc | 無人搬送装置 |
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WO2010026733A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置及び真空成膜装置 |
JP2010159167A (ja) * | 2010-02-04 | 2010-07-22 | Canon Anelva Corp | 基板搬送装置及び真空処理装置 |
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JP2019537236A (ja) * | 2017-08-25 | 2019-12-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及びキャリアを上げる又は下げるための方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101409524B1 (ko) * | 2007-05-28 | 2014-06-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 |
WO2019052657A1 (en) * | 2017-09-15 | 2019-03-21 | Applied Materials, Inc. | METHOD FOR DETERMINING THE ALIGNMENT OF A SUPPORT LEVITATION SYSTEM |
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JPS6344603U (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-25 | ||
JPS63185712A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-01 | Nippon Soken Inc | 真空蒸着装置の搬送機構 |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP1988131726U patent/JPH07435Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
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KR101353527B1 (ko) * | 2011-09-16 | 2014-01-21 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 이송장치 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07435Y2 (ja) | 1995-01-11 |
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