JPH0735706A - X線導管光学系による薄膜x線回折装置 - Google Patents
X線導管光学系による薄膜x線回折装置Info
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- JPH0735706A JPH0735706A JP20008593A JP20008593A JPH0735706A JP H0735706 A JPH0735706 A JP H0735706A JP 20008593 A JP20008593 A JP 20008593A JP 20008593 A JP20008593 A JP 20008593A JP H0735706 A JPH0735706 A JP H0735706A
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- Japan
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- ray
- rays
- optical system
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 X線を浅い角度で入射させても、回折X線を
十分な強度で測定し得る薄膜X線回折装置を提供する。 【構成】 X線を所定の角度で試料表面に入射し、試料
表面から出る2次X線を検出器で検出し、試料の構造或
いは組成を調べて同定を行うためのX線回折装置におい
て、薄膜試料(2)又は試料表面の一定の面積から出る2
次X線(3)のうちから特定な角度の平行な2次X線だけ
を選択的に検出するX線導管からなる光学系(4)を、試
料(2)と検出器(5)の間に配置したことを特徴としてい
る複数本のX線導管を束ねた光学系である。
十分な強度で測定し得る薄膜X線回折装置を提供する。 【構成】 X線を所定の角度で試料表面に入射し、試料
表面から出る2次X線を検出器で検出し、試料の構造或
いは組成を調べて同定を行うためのX線回折装置におい
て、薄膜試料(2)又は試料表面の一定の面積から出る2
次X線(3)のうちから特定な角度の平行な2次X線だけ
を選択的に検出するX線導管からなる光学系(4)を、試
料(2)と検出器(5)の間に配置したことを特徴としてい
る複数本のX線導管を束ねた光学系である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はX線回折装置に関し、特
に薄膜の構造や組成を同定するのに適したX線回折装置
に関する。
に薄膜の構造や組成を同定するのに適したX線回折装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】材料の合成や製品の製造過程において、
性能向上や品質管理などのために物質の構造や組成を知
る必要がある。そのための測定装置として様々な機器が
用いられるが、X線回折装置は構造を知るために多くの
分野で利用されている。特に薄膜材料や表面を利用した
材料は、新しい機能を持つ材料として研究開発が進めら
れており、構造や組成を調べることが非常に重要にな
り、X線回折装置を利用する大きな分野となっている。
性能向上や品質管理などのために物質の構造や組成を知
る必要がある。そのための測定装置として様々な機器が
用いられるが、X線回折装置は構造を知るために多くの
分野で利用されている。特に薄膜材料や表面を利用した
材料は、新しい機能を持つ材料として研究開発が進めら
れており、構造や組成を調べることが非常に重要にな
り、X線回折装置を利用する大きな分野となっている。
【0003】従来の粉末X線回折装置は、ゼーマン・ボ
ーリン型光学系を用いているので、試料をθ回転する間
に検出器を2θ回転させている。そのため、一般には回
折角度(θ)が大きくなるに従い、X線の照射面積は小さ
くなる。薄膜や表面を調べようとする場合には、回折X
線強度が弱いので、X線を表面に広く入射するようにθ
を浅く固定し、検出器だけを回転させて測定している。
ーリン型光学系を用いているので、試料をθ回転する間
に検出器を2θ回転させている。そのため、一般には回
折角度(θ)が大きくなるに従い、X線の照射面積は小さ
くなる。薄膜や表面を調べようとする場合には、回折X
線強度が弱いので、X線を表面に広く入射するようにθ
を浅く固定し、検出器だけを回転させて測定している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、薄膜の材料や
物質の表面の構造を調べようとするときに、表面からの
回折X線の強度を増加させるためにθを固定してX線を
浅い角度で入射させるが、そのためにゼーマン・ボーリ
ンの光学系の条件が満たされず、高角の回折X線(2次
X線)は検出器の位置に焦点を結ばない。したがって、
回折X線のピークは広がり、角度精度が悪くなるという
問題点があった。
物質の表面の構造を調べようとするときに、表面からの
回折X線の強度を増加させるためにθを固定してX線を
浅い角度で入射させるが、そのためにゼーマン・ボーリ
ンの光学系の条件が満たされず、高角の回折X線(2次
X線)は検出器の位置に焦点を結ばない。したがって、
回折X線のピークは広がり、角度精度が悪くなるという
問題点があった。
【0005】本発明は、上記問題点を解決し、X線を浅
い角度で入射させても、回折X線を十分な強度で測定し
得る薄膜X線回折装置を提供することを目的としてい
る。
い角度で入射させても、回折X線を十分な強度で測定し
得る薄膜X線回折装置を提供することを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この問題を解決するため
には、平行なX線だけを効率良く検出する必要があるこ
とに鑑みて、本発明者は、ある特定の面積から出る平行
なX線を取り出すためにX線導管(XGT)を束ねて平行
X線束フィルタとして使用するX線光学系を見い出し、
本発明をなしたものである。
には、平行なX線だけを効率良く検出する必要があるこ
とに鑑みて、本発明者は、ある特定の面積から出る平行
なX線を取り出すためにX線導管(XGT)を束ねて平行
X線束フィルタとして使用するX線光学系を見い出し、
本発明をなしたものである。
【0007】
【作用】以下に本発明を更に詳細に説明する。
【0008】X線導管はガラス管の内壁を全反射を利用
してX線を導くので、ガラス管における浅い臨界角を満
たすような、ほぼ平行なX線だけを導くことができるの
で、これを利用したX線導管光学系を用いることによ
り、薄膜試料などの回折X線を十分な強度で測定でき
る。X線導管光学系を用いた薄膜X線回折装置の作用は
次のとおりである。
してX線を導くので、ガラス管における浅い臨界角を満
たすような、ほぼ平行なX線だけを導くことができるの
で、これを利用したX線導管光学系を用いることによ
り、薄膜試料などの回折X線を十分な強度で測定でき
る。X線導管光学系を用いた薄膜X線回折装置の作用は
次のとおりである。
【0009】図1は本発明のX線光学系の原理図であ
る。まず、X線源から発生したX線(1)を平行なビーム
として試料(2)の表面に非常に浅い角度で入射させる。
試料は薄膜或いは物質表面の一定の面積である。試料か
らの回折X線(3)は、その持つエネルギーにより、様々
な方向へ出ていくが、X線導管を束ねたX線導管光学系
(4)を特定の角度に設置することにより、試料表面全体
からこの方向へ出てくるX線だけを検出器(5)により選
択的に検出することができる。すなわち、この光学系に
よれば、通常のX線回折計に比べて強い強度の回折X線
を測定できる。この時、検出器にエネルギー分解能を持
つ固体検出器を用いると、複数の回折X線の検出がで
き、また、蛍光X線により組成に関する情報も得られ
る。
る。まず、X線源から発生したX線(1)を平行なビーム
として試料(2)の表面に非常に浅い角度で入射させる。
試料は薄膜或いは物質表面の一定の面積である。試料か
らの回折X線(3)は、その持つエネルギーにより、様々
な方向へ出ていくが、X線導管を束ねたX線導管光学系
(4)を特定の角度に設置することにより、試料表面全体
からこの方向へ出てくるX線だけを検出器(5)により選
択的に検出することができる。すなわち、この光学系に
よれば、通常のX線回折計に比べて強い強度の回折X線
を測定できる。この時、検出器にエネルギー分解能を持
つ固体検出器を用いると、複数の回折X線の検出がで
き、また、蛍光X線により組成に関する情報も得られ
る。
【0010】次に本発明の実施例を示す。
【0011】
【0012】図2に本発明のX線導管光学系による薄膜
X線回折装置を縦型ゴニオメータで構成した例を示す。
X線回折装置を縦型ゴニオメータで構成した例を示す。
【0013】X線源(7)で発生したX線(1)は、ゴニオ
メータ(6)の中心に配置した薄膜試料(2)に浅い角度で
入射する。試料表面全体で回折された特定の平行なX線
はすべて、ゴニオメータ(6)の2θ軸に取付けられたX
線導管光学系(4)を通り検出器(5)で測定される。この
時、他の方向へ回折をしているX線はX線導管光学系を
通過できないので、検出されない。
メータ(6)の中心に配置した薄膜試料(2)に浅い角度で
入射する。試料表面全体で回折された特定の平行なX線
はすべて、ゴニオメータ(6)の2θ軸に取付けられたX
線導管光学系(4)を通り検出器(5)で測定される。この
時、他の方向へ回折をしているX線はX線導管光学系を
通過できないので、検出されない。
【0014】X線源には通常のX線源の他に放射光など
も利用できる。また、試料への入射X線に対しても、必
要に応じて、ソーラースリットや同様のX線導管光学系
を用いることができる。
も利用できる。また、試料への入射X線に対しても、必
要に応じて、ソーラースリットや同様のX線導管光学系
を用いることができる。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薄膜試料表面全体からの平行な回折X線だけを効率良く
捕らえることができ、異なる回折角のX線を遮断できる
ので、従来の通常の粉末X線回折装置よりも強度が強
く、角度精度が高い測定が可能となり、特に薄膜試料に
対して有効である。
薄膜試料表面全体からの平行な回折X線だけを効率良く
捕らえることができ、異なる回折角のX線を遮断できる
ので、従来の通常の粉末X線回折装置よりも強度が強
く、角度精度が高い測定が可能となり、特に薄膜試料に
対して有効である。
【図1】本発明のX線光学系の原理図である。
【図2】本発明のX線導管光学系による薄膜X線回折装
置を縦型ゴニオメータで構成した例を示す図である。
置を縦型ゴニオメータで構成した例を示す図である。
1 入射X線 2 試料 3 回折X線 4 X線導管光学系 5 検出器 6 ゴニオメータ 7 X線源
Claims (2)
- 【請求項1】 X線を所定の角度で試料表面に入射し、
試料表面から出る2次X線を検出器で検出し、試料の構
造或いは組成を調べて同定を行うためのX線回折装置に
おいて、薄膜試料又は試料表面の一定の面積から出る2
次X線のうちから特定な角度の平行な2次X線だけを選
択的に検出するX線導管からなる光学系を、試料と検出
器の間に配置したことを特徴とする薄膜X線回折装置。 - 【請求項2】 複数本のX線導管を束ねた光学系である
請求項1に記載の装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20008593A JPH0735706A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | X線導管光学系による薄膜x線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20008593A JPH0735706A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | X線導管光学系による薄膜x線回折装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0735706A true JPH0735706A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16418609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20008593A Pending JPH0735706A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | X線導管光学系による薄膜x線回折装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0735706A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6850593B1 (en) | 1999-03-18 | 2005-02-01 | Sii Nanotechnology Inc. | Fluorescent X-ray analysis apparatus |
WO2006095467A1 (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | National Institute For Materials Science | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 |
WO2006095468A1 (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | National Institute For Materials Science | X線回折分析装置およびx線回折分析方法 |
JP2007304063A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Shimadzu Corp | ソーラスリット |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212018A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Hitachi Ltd | X線露光装置 |
JPS63187144A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-02 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 空間分解分光計 |
JPH01254849A (ja) * | 1988-04-05 | 1989-10-11 | Rigaku Corp | エネルギー分散方式薄膜x線回折法 |
JPH04204399A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-24 | Seiko Instr Inc | 軟x線集光器 |
-
1993
- 1993-07-19 JP JP20008593A patent/JPH0735706A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212018A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Hitachi Ltd | X線露光装置 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6850593B1 (en) | 1999-03-18 | 2005-02-01 | Sii Nanotechnology Inc. | Fluorescent X-ray analysis apparatus |
KR100703819B1 (ko) * | 1999-03-18 | 2007-04-04 | 에스아이아이 나노 테크놀로지 가부시키가이샤 | 형광 엑스-레이 분석장치 |
WO2006095467A1 (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | National Institute For Materials Science | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 |
WO2006095468A1 (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | National Institute For Materials Science | X線回折分析装置およびx線回折分析方法 |
JP2006250646A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | National Institute For Materials Science | X線回折分析装置およびx線回折分析方法 |
JP2006250642A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | National Institute For Materials Science | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 |
JP4581126B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2010-11-17 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | X線回折分析方法およびx線回折分析装置 |
JP2007304063A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Shimadzu Corp | ソーラスリット |
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