JPH07330745A - イソチアゾロン誘導体の製造方法 - Google Patents
イソチアゾロン誘導体の製造方法Info
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- JPH07330745A JPH07330745A JP15147694A JP15147694A JPH07330745A JP H07330745 A JPH07330745 A JP H07330745A JP 15147694 A JP15147694 A JP 15147694A JP 15147694 A JP15147694 A JP 15147694A JP H07330745 A JPH07330745 A JP H07330745A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】２−（アルキルチオ）ベンズアミド類とハロゲ
ンとを反応させることを特徴とする１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オン類の製造方法、並びに３−（アル
キルチオ）プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させ
ることを特徴とする３−イソチアゾロン類の製造方法。 【効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗かび剤等
として重要なイソチアゾロン誘導体が従来よりも短い工
程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を使用す
ることなく安全なプロセスにより、高い収率で得られ
る。
ンとを反応させることを特徴とする１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オン類の製造方法、並びに３−（アル
キルチオ）プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させ
ることを特徴とする３−イソチアゾロン類の製造方法。 【効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗かび剤等
として重要なイソチアゾロン誘導体が従来よりも短い工
程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を使用す
ることなく安全なプロセスにより、高い収率で得られ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２−（アルキルチオ）
ベンズアミド類を原料とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類の製造方法、および３−（アルキルチ
オ）プロピオンアミド類を原料とする３−イソチアゾロ
ン類の製造方法に関する。これらのイソチアゾロン誘導
体は抗菌剤、抗かび剤として有用な化合物である。
ベンズアミド類を原料とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類の製造方法、および３−（アルキルチ
オ）プロピオンアミド類を原料とする３−イソチアゾロ
ン類の製造方法に関する。これらのイソチアゾロン誘導
体は抗菌剤、抗かび剤として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来、１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
【０００３】（Ａ）Bull. Chem. Soc. Jpn., 55, 1183-
7(1982)
7(1982)
【０００４】
【化５】
【０００５】この方法は、２−（メチルチオ）ベンズク
ロライドから２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造
し、このものを過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを製造し、さらにこれ
を塩化チオニルによって環化させて、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
ロライドから２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造
し、このものを過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを製造し、さらにこれ
を塩化チオニルによって環化させて、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
【０００６】（Ｂ）Ger. Offen. 3500577, (1986)
【０００７】
【化６】
【０００８】この方法は、チオサリチル酸を出発原料と
し、最後は苛性ソーダを用いて環化させ、目的とする
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法と
考えられる。
し、最後は苛性ソーダを用いて環化させ、目的とする
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法と
考えられる。
【０００９】（Ｃ）J. Org. Chem. 40(14), 2029-32(19
75)
75)
【００１０】
【化７】
【００１１】この方法は、チオサリチル酸を出発原料と
し、最後は強塩基を用いて環化させ、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
し、最後は強塩基を用いて環化させ、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
【００１２】（Ｄ）US 4105431(1978)
【００１３】
【化８】
【００１４】この方法は、３，３’−ジチオジプロピオ
ンアミドを塩化スルフリルを用いて環化させ、目的とす
る５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロンを得る
方法である。
ンアミドを塩化スルフリルを用いて環化させ、目的とす
る５−クロロ−２−メチル−３−イソチアゾロンを得る
方法である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの公知
の方法には次のような欠点がある。 （Ａ）の方法は、目的とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オンを得るためには、２−（メチルチオ）ベ
ンズアミドを酸化させ、それによって得られる２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを塩化チオニルによっ
て環化させるという２段階の反応工程を要する。またこ
の方法は、取扱い上危険性が高く、かつ高価な過ヨウ素
酸を用いる必要がある。 （Ｂ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用い、しかも
反応工程数が多いと考えられ、また環化には強塩基を必
要とするため、工業的に満足できる方法ではない。 （Ｃ）の方法もまた、高価なチオサリチル酸を原料とし
て用いており、しかも反応工程数が多く、また環化には
強塩基を必要とするため、工業的に満足できる方法では
ない。 （Ｄ）の方法は、収率が極めて低く、工業的な方法とは
いえない。
の方法には次のような欠点がある。 （Ａ）の方法は、目的とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オンを得るためには、２−（メチルチオ）ベ
ンズアミドを酸化させ、それによって得られる２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを塩化チオニルによっ
て環化させるという２段階の反応工程を要する。またこ
の方法は、取扱い上危険性が高く、かつ高価な過ヨウ素
酸を用いる必要がある。 （Ｂ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用い、しかも
反応工程数が多いと考えられ、また環化には強塩基を必
要とするため、工業的に満足できる方法ではない。 （Ｃ）の方法もまた、高価なチオサリチル酸を原料とし
て用いており、しかも反応工程数が多く、また環化には
強塩基を必要とするため、工業的に満足できる方法では
ない。 （Ｄ）の方法は、収率が極めて低く、工業的な方法とは
いえない。
【００１６】以上のように、公知のいずれの方法によっ
ても２−（アルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する、あるい
は３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類から３−イ
ソチアゾロン類を製造する工業的に満足できる製造方法
はなかった。従って、本発明の目的は、抗菌剤、抗かび
剤等として重要なイソチアゾロン誘導体を、従来よりも
短い工程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を
使用することなく安全なプロセスにより、高い収率で得
ることができる製造方法を提供することにある。
ても２−（アルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する、あるい
は３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類から３−イ
ソチアゾロン類を製造する工業的に満足できる製造方法
はなかった。従って、本発明の目的は、抗菌剤、抗かび
剤等として重要なイソチアゾロン誘導体を、従来よりも
短い工程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を
使用することなく安全なプロセスにより、高い収率で得
ることができる製造方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、２−（ア
ルキルチオ）ベンズアミド類から工業的に有利に１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する方法、
および３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類から３
−イソチアゾロン類を製造する方法を提供すべく鋭意検
討した。その結果、環化反応にハロゲンを用いることに
より、下記のように直接目的物が得られるとともに、上
記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに
至った。
ルキルチオ）ベンズアミド類から工業的に有利に１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する方法、
および３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類から３
−イソチアゾロン類を製造する方法を提供すべく鋭意検
討した。その結果、環化反応にハロゲンを用いることに
より、下記のように直接目的物が得られるとともに、上
記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＸは、一
般式（Ｉ）〜（IV）におけるものとそれぞれ同意義を表
す。）
般式（Ｉ）〜（IV）におけるものとそれぞれ同意義を表
す。）
【００２１】即ち、本発明の要旨は、（１） 一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類
とハロゲンとを反応させることを特徴とする一般式（I
I）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン類の製造方法、
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類
とハロゲンとを反応させることを特徴とする一般式（I
I）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン類の製造方法、
【００２２】
【化１１】
【００２３】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
【００２４】
【化１２】
【００２５】（式中、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）に
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。） （２） ハロゲンが塩素または臭素である前記（１）記
載の製造方法、（３） 一般式（Ｉ）の化合物が２−
（メチルチオ）ベンズアミドである前記（１）または
（２）記載の製造方法、（４） 一般式（Ｉ）の化合物
がＮ−アリール−２−（メチルチオ）ベンズアミドであ
る前記（１）または（２）記載の製造方法、（５） 一
般式（Ｉ）の化合物がＮ−フェニル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミドである前記（４）記載の製造方法、
（６） 一般式 (III)で表わされる３−（アルキルチ
オ）プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させること
を特徴とする一般式（IV）で表わされる３−イソチアゾ
ロン類の製造方法、
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。） （２） ハロゲンが塩素または臭素である前記（１）記
載の製造方法、（３） 一般式（Ｉ）の化合物が２−
（メチルチオ）ベンズアミドである前記（１）または
（２）記載の製造方法、（４） 一般式（Ｉ）の化合物
がＮ−アリール−２−（メチルチオ）ベンズアミドであ
る前記（１）または（２）記載の製造方法、（５） 一
般式（Ｉ）の化合物がＮ−フェニル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミドである前記（４）記載の製造方法、
（６） 一般式 (III)で表わされる３−（アルキルチ
オ）プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させること
を特徴とする一般式（IV）で表わされる３−イソチアゾ
ロン類の製造方法、
【００２６】
【化１３】
【００２７】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜
４のアルキル基を表わす。）
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜
４のアルキル基を表わす。）
【００２８】
【化１４】
【００２９】（式中、Ｒ1 は一般式 (III)におけるＲ1
と同意義を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。）
（７） ハロゲンが塩素または臭素である前記（６）記
載の製造方法、（８） 一般式 (III)の化合物がＮ−シ
クロヘキシル−３−（メチルチオ）プロピオンアミドで
ある前記（６）または（７）記載の製造方法、並びに
（９） 一般式 (III)の化合物がＮ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミドである前記（６）また
は（７）記載の製造方法、に関する。
と同意義を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。）
（７） ハロゲンが塩素または臭素である前記（６）記
載の製造方法、（８） 一般式 (III)の化合物がＮ−シ
クロヘキシル−３−（メチルチオ）プロピオンアミドで
ある前記（６）または（７）記載の製造方法、並びに
（９） 一般式 (III)の化合物がＮ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミドである前記（６）また
は（７）記載の製造方法、に関する。
【００３０】すなわち、本発明の製造方法は、２−（ア
ルキルチオ）ベンズアミド類を原料とする第１の態様
と、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類を原料と
する第２の態様に大別される。以下、両者を分けて詳細
に説明する。
ルキルチオ）ベンズアミド類を原料とする第１の態様
と、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類を原料と
する第２の態様に大別される。以下、両者を分けて詳細
に説明する。
【００３１】本発明の第１の態様は、一般式（Ｉ）で表
される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類とハロゲン
とを反応させることを特徴とする一般式（II）で表され
る１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方
法である。
される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類とハロゲン
とを反応させることを特徴とする一般式（II）で表され
る１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方
法である。
【００３２】
【化１５】
【００３３】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
【００３４】
【化１６】
【００３５】（式中、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）に
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。）
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。）
【００３６】本発明の製造方法の特徴は、工業的に容易
に入手できる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を原
料として用い、従来はアルキルスルフィニルベンズアミ
ドを経由して２つの反応工程を要していたところを、１
つの反応工程だけで環化させ、１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン類を直接に製造できるところにある。
さらにもう１つの特徴は、取扱い上危険性が高く、かつ
高価な物質を使用することなく、比較的温和な条件で安
全に１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造
できるところにある。
に入手できる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を原
料として用い、従来はアルキルスルフィニルベンズアミ
ドを経由して２つの反応工程を要していたところを、１
つの反応工程だけで環化させ、１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン類を直接に製造できるところにある。
さらにもう１つの特徴は、取扱い上危険性が高く、かつ
高価な物質を使用することなく、比較的温和な条件で安
全に１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造
できるところにある。
【００３７】上記一般式（Ｉ）および(II)において、Ｒ
1 およびＲ3 はそれぞれ同意義を表し、Ｒ1 は具体的に
は、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基
を表す。Ｒ1 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。Ｒ
1 で表されるアリール基を例示すると、フェニル、４−
トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロフェニ
ル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1 で表さ
れるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェネチル
等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ1 の好まし
い例としては、水素原子、メチル、エチル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ドデシル、シ
クロヘキシル、フェニル、４−トルイル、４−メトキシ
フェニル、４−クロロフェニル、１−ナフチル、ベンジ
ルが挙げられる。
1 およびＲ3 はそれぞれ同意義を表し、Ｒ1 は具体的に
は、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基
を表す。Ｒ1 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。Ｒ
1 で表されるアリール基を例示すると、フェニル、４−
トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロフェニ
ル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1 で表さ
れるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェネチル
等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ1 の好まし
い例としては、水素原子、メチル、エチル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ドデシル、シ
クロヘキシル、フェニル、４−トルイル、４−メトキシ
フェニル、４−クロロフェニル、１−ナフチル、ベンジ
ルが挙げられる。
【００３８】また、一般式（Ｉ）におけるＲ2 は炭素数
１〜４のアルキル基を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルを挙げることができる。これらのうち、Ｒ2
の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。
１〜４のアルキル基を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルを挙げることができる。これらのうち、Ｒ2
の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。
【００３９】また、一般式（Ｉ）、（II）におけるＲ3
は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキ
シル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。
Ｒ3 で表されるアルキル基を例示すると、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等を挙げるこ
とができる。Ｒ3 で表されるアルコキシ基を例示する
と、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を挙
げることができる。Ｒ3 で表されるカルボキシル基のエ
ステルを例示すると、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
等を挙げることができる。Ｒ3 で表されるハロゲン原子
としては、塩素、臭素等を挙げることができる。これら
のうち、Ｒ3 の好ましい例としては、水素原子、ｎ−ブ
チル、メトキシ、ニトロ基、塩素原子が挙げられる。
は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキ
シル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。
Ｒ3 で表されるアルキル基を例示すると、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等を挙げるこ
とができる。Ｒ3 で表されるアルコキシ基を例示する
と、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を挙
げることができる。Ｒ3 で表されるカルボキシル基のエ
ステルを例示すると、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
等を挙げることができる。Ｒ3 で表されるハロゲン原子
としては、塩素、臭素等を挙げることができる。これら
のうち、Ｒ3 の好ましい例としては、水素原子、ｎ−ブ
チル、メトキシ、ニトロ基、塩素原子が挙げられる。
【００４０】本発明の一般式（Ｉ）で表される、原料の
２−（アルキルチオ）ベンズアミド類としては、特に限
定されるものではなく、例えば次のものを例示すること
ができる。２−（メチルチオ）ベンズアミド、２−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（エチ
ルチオ）ベンズアミド、Ｎ−イソプロピル−２−（メチ
ルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ヘキシル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−オクチル−２−（メ
チルチオ）ベンズアミド、Ｎ−デシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−ドデシル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−シクロヘキシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−（４−トルイル）−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（４−クロロフェ
ニル）−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（１−
ナフチル）−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベ
ンジル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジ
ル−２−（プロピルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル
−２−（ブチルチオ）ベンズアミド。Ｎ−フェニル−３
−メチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−メチ
ル−５−ブチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ
−ブチル−４−メトキシ−２−（メチルチオ）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−２−メチルチオ−３−ニトロベン
ズアミド、４−クロロ−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、４−カルボキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、４−メトキシカルボニル−２−（メチルチオ）ベン
ズアミド。
２−（アルキルチオ）ベンズアミド類としては、特に限
定されるものではなく、例えば次のものを例示すること
ができる。２−（メチルチオ）ベンズアミド、２−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（エチ
ルチオ）ベンズアミド、Ｎ−イソプロピル−２−（メチ
ルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ヘキシル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−オクチル−２−（メ
チルチオ）ベンズアミド、Ｎ−デシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−ドデシル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−シクロヘキシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−（４−トルイル）−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（４−クロロフェ
ニル）−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（１−
ナフチル）−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベ
ンジル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジ
ル−２−（プロピルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル
−２−（ブチルチオ）ベンズアミド。Ｎ−フェニル−３
−メチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−メチ
ル−５−ブチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ
−ブチル−４−メトキシ−２−（メチルチオ）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−２−メチルチオ−３−ニトロベン
ズアミド、４−クロロ−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、４−カルボキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、４−メトキシカルボニル−２−（メチルチオ）ベン
ズアミド。
【００４１】なお、一般式（Ｉ）で表される２−（アル
キルチオ）ベンズアミド類は、いかなる方法によって得
られたものを用いてもよいが、中でも本発明者等が先に
出願した特願平５−３１９１７９号「アルキルスルフィ
ニルベンズアミド類の製造方法」の明細書に開示された
方法によると、より有利に得ることができる。
キルチオ）ベンズアミド類は、いかなる方法によって得
られたものを用いてもよいが、中でも本発明者等が先に
出願した特願平５−３１９１７９号「アルキルスルフィ
ニルベンズアミド類の製造方法」の明細書に開示された
方法によると、より有利に得ることができる。
【００４２】本発明の一般式（Ｉ) で表される２−（ア
ルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を得る工程に用いられるハロゲン
としては、塩素、臭素、よう素等が使用可能であるが、
なかでも経済的見地から塩素または臭素が好ましく用い
られ、特に塩素が好ましく用いられる。
ルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を得る工程に用いられるハロゲン
としては、塩素、臭素、よう素等が使用可能であるが、
なかでも経済的見地から塩素または臭素が好ましく用い
られ、特に塩素が好ましく用いられる。
【００４３】ハロゲンの使用量は、２−（アルキルチ
オ）ベンズアミド類に対して通常０．８〜３．０倍モル
の範囲、好ましくは１．０〜２．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲンをこの範囲未満で用いると、未反応の２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類が多くなる傾向があ
り、一方、この範囲を超えて用いると副反応が起こり収
率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくない。
オ）ベンズアミド類に対して通常０．８〜３．０倍モル
の範囲、好ましくは１．０〜２．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲンをこの範囲未満で用いると、未反応の２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類が多くなる傾向があ
り、一方、この範囲を超えて用いると副反応が起こり収
率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくない。
【００４４】ハロゲンを反応させて１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶媒と
しては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定され
るものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類
等を挙げることができる。これらのうち、好ましくはク
ロロベンゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられ
る。溶媒の使用量は、２−（アルキルチオ）ベンズアミ
ド類に対して、通常１〜３０重量倍である。
チアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶媒と
しては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定され
るものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類
等を挙げることができる。これらのうち、好ましくはク
ロロベンゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられ
る。溶媒の使用量は、２−（アルキルチオ）ベンズアミ
ド類に対して、通常１〜３０重量倍である。
【００４５】反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲、好
ましくは２０〜１２０℃の範囲である。反応温度がこの
範囲を超えると副反応が問題となり、一方この範囲未満
だと反応速度が実用上遅すぎるのでそれぞれ好ましくな
い。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異なるた
め一概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
ましくは２０〜１２０℃の範囲である。反応温度がこの
範囲を超えると副反応が問題となり、一方この範囲未満
だと反応速度が実用上遅すぎるのでそれぞれ好ましくな
い。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異なるた
め一概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
【００４６】このようにして得られる反応混合物から、
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、該１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン類が液体の場合は減圧蒸
留により、固体の場合は、そのまま晶析させるか、また
は抽出して再結晶させる等により行うことができるが、
これらに限定されるものではない。
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、該１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン類が液体の場合は減圧蒸
留により、固体の場合は、そのまま晶析させるか、また
は抽出して再結晶させる等により行うことができるが、
これらに限定されるものではない。
【００４７】このようにして得られる目的の化合物であ
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
２−エチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−イソプロピル−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン、２−ヘキシル−１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン、２−オクチル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−デシル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−ドデシ
ル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−シ
クロヘキシル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（４−トルイル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−（４−メトキシフェニル）−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−（４−
クロロフェニル）−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（１−ナフチル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−ベンジル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン、７−メチル−２−フェニル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、５−ブチル
−２−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−ブチル−６−メトキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、７−ニトロ−２−フェニル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−クロロ−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−カルボ
キシ−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−
メトキシカルボニル−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン。
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
２−エチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−イソプロピル−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン、２−ヘキシル−１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン、２−オクチル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−デシル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−ドデシ
ル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−シ
クロヘキシル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（４−トルイル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−（４−メトキシフェニル）−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−（４−
クロロフェニル）−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（１−ナフチル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−ベンジル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン、７−メチル−２−フェニル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、５−ブチル
−２−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−ブチル−６−メトキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、７−ニトロ−２−フェニル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−クロロ−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−カルボ
キシ−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−
メトキシカルボニル−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン。
【００４８】本発明の第２の態様は、一般式（III)で表
わされる３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類とハ
ロゲンとを反応させることを特徴とする一般式（IV）で
表わされる３−イソチアゾロン類の製造方法である。
わされる３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類とハ
ロゲンとを反応させることを特徴とする一般式（IV）で
表わされる３−イソチアゾロン類の製造方法である。
【００４９】
【化１７】
【００５０】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜
４のアルキル基を表わす。）
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜
４のアルキル基を表わす。）
【００５１】
【化１８】
【００５２】（式中、Ｒ1 は一般式 (III)におけるＲ1
と同意義を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。）
と同意義を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。）
【００５３】本発明による３−イソチアゾロン類の製造
方法の特徴は、従来は、３，３’−ジチオジプロピオン
アミドを原料として用いて３−イソチアゾロン類を得て
いたところを、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド
類を原料として用いることにより容易に収率良く製造で
きるところにある。
方法の特徴は、従来は、３，３’−ジチオジプロピオン
アミドを原料として用いて３−イソチアゾロン類を得て
いたところを、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド
類を原料として用いることにより容易に収率良く製造で
きるところにある。
【００５４】上記、一般式（III)および（IV）における
Ｒ1 は同意義を表し、Ｒ1 は具体的には、水素原子、炭
素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基またはアラルキル基を表わす。
Ｒ1 は同意義を表し、Ｒ1 は具体的には、水素原子、炭
素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基またはアラルキル基を表わす。
【００５５】Ｒ1 で表されるアルキル基の具体例として
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ
−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げること
ができる。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、
シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるアリール基を例示すると、フェニ
ル、４−トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロ
フェニル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1
で表されるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェ
ネチル等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ1 の
好ましい例としては、メチル、ｎ−オクチル、シクロヘ
キシルが挙げられる。
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ
−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げること
ができる。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、
シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるアリール基を例示すると、フェニ
ル、４−トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロ
フェニル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1
で表されるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェ
ネチル等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ1 の
好ましい例としては、メチル、ｎ−オクチル、シクロヘ
キシルが挙げられる。
【００５６】また、一般式（III)におけるＲ2 は炭素数
１〜４のアルキル基を表わす。Ｒ2 で表されるアルキル
基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル等を挙げることができる。これらのうち、
Ｒ2 の好ましい例としては、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル
が挙げられる。
１〜４のアルキル基を表わす。Ｒ2 で表されるアルキル
基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル等を挙げることができる。これらのうち、
Ｒ2 の好ましい例としては、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル
が挙げられる。
【００５７】また、一般式（IV）におけるＸは、塩素原
子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原子を表す。
子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原子を表す。
【００５８】本発明の一般式（III)で表される、原料の
３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類としては、特
に限定されるものではなく、例えば次のものを例示する
ことができる。３−（メチルチオ）プロピオンアミド、
３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）プロピオンアミド、３−
（プロピルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−メチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−エチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−プロピル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ブチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ヘキシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−デシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ドデシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−シクロヘキシル
−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−フェニル
−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−（４−ト
ルイル）−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−
（４−メトキシフェニル）−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−（メチ
ルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−（１−ナフチル）−３
−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ベンジル−３
−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ベンジル−３
−（エチルチオ）プロピオンアミド。
３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類としては、特
に限定されるものではなく、例えば次のものを例示する
ことができる。３−（メチルチオ）プロピオンアミド、
３−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）プロピオンアミド、３−
（プロピルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−メチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−エチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−プロピル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ブチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ヘキシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−デシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ドデシル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−シクロヘキシル
−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−フェニル
−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−（４−ト
ルイル）−３−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−
（４−メトキシフェニル）−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−（メチ
ルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−（１−ナフチル）−３
−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ベンジル−３
−（メチルチオ）プロピオンアミド、Ｎ−ベンジル−３
−（エチルチオ）プロピオンアミド。
【００５９】なお、一般式 (III)で表わされる３−（ア
ルキルチオ）プロピオンアミド類は、いかなる方法によ
って得られたものを用いてもよいが、例えば市販のもの
を用いたり、アクリル酸メチルとメチルメルカプタンと
を反応させた後、アミンと反応させる方法等により得る
ことができる。
ルキルチオ）プロピオンアミド類は、いかなる方法によ
って得られたものを用いてもよいが、例えば市販のもの
を用いたり、アクリル酸メチルとメチルメルカプタンと
を反応させた後、アミンと反応させる方法等により得る
ことができる。
【００６０】本発明の、３−（アルキルチオ）プロピオ
ンアミド類から３−イソチアゾロン類を製造する工程に
用いられるハロゲンとしては、塩素、臭素、よう素等が
使用可能であるが、なかでも、経済的見地から塩素また
は臭素が好ましく用いられ、特に塩素が好ましく用いら
れる。
ンアミド類から３−イソチアゾロン類を製造する工程に
用いられるハロゲンとしては、塩素、臭素、よう素等が
使用可能であるが、なかでも、経済的見地から塩素また
は臭素が好ましく用いられ、特に塩素が好ましく用いら
れる。
【００６１】ハロゲンの使用量は、３−（アルキルチ
オ）プロピオンアミド類に対して、通常３．５〜６．０
倍モル、好ましくは、４．０〜５．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲンを、この範囲未満で用いると、未反応の３
−（アルキルチオ）プロピオンアミド類が多くなる傾向
があり、一方、この範囲を超えて用いると、副反応が起
こり収率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくな
い。
オ）プロピオンアミド類に対して、通常３．５〜６．０
倍モル、好ましくは、４．０〜５．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲンを、この範囲未満で用いると、未反応の３
−（アルキルチオ）プロピオンアミド類が多くなる傾向
があり、一方、この範囲を超えて用いると、副反応が起
こり収率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくな
い。
【００６２】ハロゲンを反応させて、３−イソチアゾロ
ン類を得る工程に用いる反応溶媒としては、反応に対し
不活性な溶媒であるならば特に限定されるものではな
い。具体的に例示すると、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩化メチレ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げ
ることができる。これらのうち、好ましくはクロロベン
ゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられる。溶媒の
使用量は、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類に
対し、通常１〜３０倍重量である。
ン類を得る工程に用いる反応溶媒としては、反応に対し
不活性な溶媒であるならば特に限定されるものではな
い。具体的に例示すると、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩化メチレ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げ
ることができる。これらのうち、好ましくはクロロベン
ゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられる。溶媒の
使用量は、３−（アルキルチオ）プロピオンアミド類に
対し、通常１〜３０倍重量である。
【００６３】反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましく
は２０〜８０℃の範囲である。反応温度がこの範囲を超
えると副反応が問題となる傾向があり、一方、この範囲
未満だと反応速度が実用上遅すぎる傾向があり好ましく
ない。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異な
り、一概にはいえないが、通常１〜３０時間の範囲であ
る。
は２０〜８０℃の範囲である。反応温度がこの範囲を超
えると副反応が問題となる傾向があり、一方、この範囲
未満だと反応速度が実用上遅すぎる傾向があり好ましく
ない。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異な
り、一概にはいえないが、通常１〜３０時間の範囲であ
る。
【００６４】このようにして得られる反応混合物から、
目的とする３−イソチアゾロン類を単離精製する方法と
しては、常法通り、該３−イソチアゾロン類が液体の場
合は減圧蒸留により、固体の場合はそのまま晶析させる
か、または抽出して再結晶させる等により行うことがで
きるが、これらに限定されるものではない。
目的とする３−イソチアゾロン類を単離精製する方法と
しては、常法通り、該３−イソチアゾロン類が液体の場
合は減圧蒸留により、固体の場合はそのまま晶析させる
か、または抽出して再結晶させる等により行うことがで
きるが、これらに限定されるものではない。
【００６５】このようにして得られる、目的の化合物で
ある一般式（IV）で表される３−イソチアゾロン類の具
体例としては、次のようなものが例示される。４，５−
ジクロロ−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２
−メチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２
−プロピル−３−イソチアゾロン、４，５−ジブロモ−
２−プロピル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ
−２−ヘキシル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロ
ロ−２−オクチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジブ
ロモ−２−オクチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジ
クロロ−２−ドデシル−３−イソチアゾロン、４，５−
ジクロロ−２−シクロヘキシル−３−イソチアゾロン、
４，５−ジクロロ−２−フェニル−３−イソチアゾロ
ン、４，５−ジクロロ−２−（４−トルイル）−３−イ
ソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−（１−ナフチ
ル）−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−
（ベンジル）−３−イソチアゾロン。
ある一般式（IV）で表される３−イソチアゾロン類の具
体例としては、次のようなものが例示される。４，５−
ジクロロ−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２
−メチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２
−プロピル−３−イソチアゾロン、４，５−ジブロモ−
２−プロピル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ
−２−ヘキシル−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロ
ロ−２−オクチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジブ
ロモ−２−オクチル−３−イソチアゾロン、４，５−ジ
クロロ−２−ドデシル−３−イソチアゾロン、４，５−
ジクロロ−２−シクロヘキシル−３−イソチアゾロン、
４，５−ジクロロ−２−フェニル−３−イソチアゾロ
ン、４，５−ジクロロ−２−（４−トルイル）−３−イ
ソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−（１−ナフチ
ル）−３−イソチアゾロン、４，５−ジクロロ−２−
（ベンジル）−３−イソチアゾロン。
【００６６】
【実施例】以下に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもので
はない。なお、目的物が得られたか否かの確認は、核磁
気共鳴法(1Ｈ−ＮＭＲ）あるいは質量分析法により行っ
た。
するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもので
はない。なお、目的物が得られたか否かの確認は、核磁
気共鳴法(1Ｈ−ＮＭＲ）あるいは質量分析法により行っ
た。
【００６７】実施例１ ２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌しながら塩素１８．５ｇ
（０．２６モル）を４０〜５０℃で添加したのち、７０
〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をモノクロロ
ベンゼンで洗浄後、乾燥させると２−フェニル−１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン４４．５ｇ（融点１
４０〜１４１℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２
−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９８％で
あった。
ンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌しながら塩素１８．５ｇ
（０．２６モル）を４０〜５０℃で添加したのち、７０
〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をモノクロロ
ベンゼンで洗浄後、乾燥させると２−フェニル−１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン４４．５ｇ（融点１
４０〜１４１℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２
−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９８％で
あった。
【００６８】実施例２ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成（１） 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンズアミド３
３．４ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１５０ｇ
を仕込み、攪拌しながら塩素１８．５ｇ（０．２６モ
ル）を４０〜５０℃で添加したのち、７０〜８０℃に加
熱し、１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、析出した白色結晶をモノクロロベンゼンで洗
浄後乾燥させ、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン２９．３ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料と
した２−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９
７％であった。
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンズアミド３
３．４ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１５０ｇ
を仕込み、攪拌しながら塩素１８．５ｇ（０．２６モ
ル）を４０〜５０℃で添加したのち、７０〜８０℃に加
熱し、１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、析出した白色結晶をモノクロロベンゼンで洗
浄後乾燥させ、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン２９．３ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料と
した２−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９
７％であった。
【００６９】実施例３ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成（２） 実施例２における塩素を、臭素４１．５ｇ（０．２６モ
ル）に変える以外は実施例２と同様にして、１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン２９．０ｇを得た。原料
とした２−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は
９６％であった。
ル）に変える以外は実施例２と同様にして、１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン２９．０ｇを得た。原料
とした２−（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は
９６％であった。
【００７０】実施例４〜１６ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の合成 原料を、表１〜３に示す２−（アルキルチオ）ベンズア
ミド類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。相
当する１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類が液
体の場合は減圧蒸留により取得した。
ミド類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。相
当する１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類が液
体の場合は減圧蒸留により取得した。
【００７１】実施例１７ ４，５−ジブロモ−２−オクチル−３−イソチアゾロン
の合成（１） 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−オクチル−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド４６．２ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、臭素１２９．４ｇ
（０．８１モル）を４０〜５０℃で添加し、同温度で１
時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベン
ゼンを留去し、ヘキサンを用いて再結晶することによ
り、４，５−ジブロモ−２−オクチル−３−イソチアゾ
ロン４６．７ｇを得た。原料としたＮ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミドに対する収率は６３％
であった。
の合成（１） 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−オクチル−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド４６．２ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、臭素１２９．４ｇ
（０．８１モル）を４０〜５０℃で添加し、同温度で１
時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベン
ゼンを留去し、ヘキサンを用いて再結晶することによ
り、４，５−ジブロモ−２−オクチル−３−イソチアゾ
ロン４６．７ｇを得た。原料としたＮ−オクチル−３−
（メチルチオ）プロピオンアミドに対する収率は６３％
であった。
【００７２】実施例１８ ４，５−ジクロロ−２−オクチル−３−イソチアゾロン
の合成（２） 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−オクチル−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド４６．２ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、塩素５８．２ｇ（０．
８２モル）を４０〜５０℃で吹き込み、同温度で１時間
反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベンゼン
を留去し、ヘキサンを用いて再結晶することにより、
４，５−ジクロロ−２−オクチル−３−イソチアゾロン
３３．９ｇ（融点４５〜４６℃）を得た。原料としたＮ
−オクチル−３−（メチルチオ）プロピオンアミドに対
する収率は６０％であった。
の合成（２） 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−オクチル−３−（メチルチオ）プロピ
オンアミド４６．２ｇ（０．２モル）、モノクロロベン
ゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、塩素５８．２ｇ（０．
８２モル）を４０〜５０℃で吹き込み、同温度で１時間
反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベンゼン
を留去し、ヘキサンを用いて再結晶することにより、
４，５−ジクロロ−２−オクチル−３−イソチアゾロン
３３．９ｇ（融点４５〜４６℃）を得た。原料としたＮ
−オクチル−３−（メチルチオ）プロピオンアミドに対
する収率は６０％であった。
【００７３】実施例１９ ４，５−ジクロロ−２−シクロヘキシル−３−イソチア
ゾロンの合成 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−シクロヘキシル−３−（メチルチオ）
プロピオンアミド４０．２ｇ（０．２モル）、モノクロ
ロベンゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、塩素５８．２ｇ
（０．８２モル）を４０〜５０℃で吹き込み、同温度で
１時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベ
ンゼンを留去し、その後晶析させることにより、４，５
−ジクロロ−２−シクロヘキシル−３−イソチアゾロン
３２．８ｇ（融点１１４〜１１６℃）を得た。原料とし
たＮ−シクロヘキシル−３−（メチルチオ）プロピオン
アミドに対する収率は６５％であった。
ゾロンの合成 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−シクロヘキシル−３−（メチルチオ）
プロピオンアミド４０．２ｇ（０．２モル）、モノクロ
ロベンゼン１００ｇを仕込み、攪拌下、塩素５８．２ｇ
（０．８２モル）を４０〜５０℃で吹き込み、同温度で
１時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベ
ンゼンを留去し、その後晶析させることにより、４，５
−ジクロロ−２−シクロヘキシル−３−イソチアゾロン
３２．８ｇ（融点１１４〜１１６℃）を得た。原料とし
たＮ−シクロヘキシル−３−（メチルチオ）プロピオン
アミドに対する収率は６５％であった。
【００７４】全実施例の結果を一括して表１〜４に示
す。
す。
【００７５】
【表１】
【００７６】
【表２】
【００７７】
【表３】
【００７８】
【表４】
【００７９】
【発明の効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗か
び剤等として重要なイソチアゾロン誘導体、すなわち２
−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
あるいは１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン等に
例示される１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
類、または４，５−ジクロロ−２−オクチル−３−イソ
チアゾロン、あるいは４，５−ジクロロ−２−シクロヘ
キシル−３−イソチアゾロンに例示される３−イソチア
ゾロン類が従来よりも短い工程で、しかも高価で取扱い
上危険性の高い物質を使用することなく安全なプロセス
により、高い収率で得られる。
び剤等として重要なイソチアゾロン誘導体、すなわち２
−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
あるいは１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン等に
例示される１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
類、または４，５−ジクロロ−２−オクチル−３−イソ
チアゾロン、あるいは４，５−ジクロロ−２−シクロヘ
キシル−３−イソチアゾロンに例示される３−イソチア
ゾロン類が従来よりも短い工程で、しかも高価で取扱い
上危険性の高い物質を使用することなく安全なプロセス
により、高い収率で得られる。
Claims (9)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表される２−（アルキル
チオ）ベンズアミド類とハロゲンとを反応させることを
特徴とする一般式（II）で表される１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オン類の製造方法。 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分
岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はア
ラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を
表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基
もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。） 【化２】 （式中、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）におけるＲ1 お
よびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。） - 【請求項２】 ハロゲンが塩素または臭素である請求項
１記載の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ）の化合物が２−（メチルチ
オ）ベンズアミドである請求項１または２記載の製造方
法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）の化合物がＮ−アリール−
２−（メチルチオ）ベンズアミドである請求項１または
２記載の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（Ｉ）の化合物がＮ−フェニル−
２−（メチルチオ）ベンズアミドである請求項４記載の
製造方法。 - 【請求項６】 一般式 (III)で表わされる３−（アルキ
ルチオ）プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させる
ことを特徴とする一般式（IV）で表わされる３−イソチ
アゾロン類の製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分
岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
アラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル
基を表わす。） 【化４】 （式中、Ｒ1 は一般式 (III)におけるＲ1 と同意義を表
わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） - 【請求項７】 ハロゲンが塩素または臭素である請求項
６記載の製造方法。 - 【請求項８】 一般式 (III)の化合物がＮ−シクロヘキ
シル−３−（メチルチオ）プロピオンアミドである請求
項６または７記載の製造方法。 - 【請求項９】 一般式 (III)の化合物がＮ−オクチル−
３−（メチルチオ）プロピオンアミドである請求項６ま
たは７記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15147694A JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15147694A JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330745A true JPH07330745A (ja) | 1995-12-19 |
| JP3720388B2 JP3720388B2 (ja) | 2005-11-24 |
Family
ID=15519349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15147694A Expired - Lifetime JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3720388B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010502730A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | バイパー サイエンシズ，インコーポレイティド | 癌の治療法 |
| JP2010168311A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | １，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン化合物の製造方法 |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP15147694A patent/JP3720388B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010502730A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | バイパー サイエンシズ，インコーポレイティド | 癌の治療法 |
| JP2010168311A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | １，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3720388B2 (ja) | 2005-11-24 |
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