JPH07330745A - イソチアゾロン誘導体の製造方法 - Google Patents
イソチアゾロン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH07330745A JPH07330745A JP15147694A JP15147694A JPH07330745A JP H07330745 A JPH07330745 A JP H07330745A JP 15147694 A JP15147694 A JP 15147694A JP 15147694 A JP15147694 A JP 15147694A JP H07330745 A JPH07330745 A JP H07330745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methylthio
- formula
- halogen
- benzamide
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
ンとを反応させることを特徴とする1,2−ベンズイソ
チアゾール−3−オン類の製造方法、並びに3−(アル
キルチオ)プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させ
ることを特徴とする3−イソチアゾロン類の製造方法。 【効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗かび剤等
として重要なイソチアゾロン誘導体が従来よりも短い工
程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を使用す
ることなく安全なプロセスにより、高い収率で得られ
る。
Description
ベンズアミド類を原料とする1,2−ベンズイソチアゾ
ール−3−オン類の製造方法、および3−(アルキルチ
オ)プロピオンアミド類を原料とする3−イソチアゾロ
ン類の製造方法に関する。これらのイソチアゾロン誘導
体は抗菌剤、抗かび剤として有用な化合物である。
3−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
7(1982)
ロライドから2−(メチルチオ)ベンズアミドを製造
し、このものを過ヨウ素酸を用いて酸化させて2−(メ
チルスルフィニル)ベンズアミドを製造し、さらにこれ
を塩化チオニルによって環化させて、目的とする1,2
−ベンズイソチアゾール−3−オンを得る方法である。
し、最後は苛性ソーダを用いて環化させ、目的とする
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オンを得る方法と
考えられる。
75)
し、最後は強塩基を用いて環化させ、目的とする1,2
−ベンズイソチアゾール−3−オンを得る方法である。
ンアミドを塩化スルフリルを用いて環化させ、目的とす
る5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロンを得る
方法である。
の方法には次のような欠点がある。 (A)の方法は、目的とする1,2−ベンズイソチアゾ
ール−3−オンを得るためには、2−(メチルチオ)ベ
ンズアミドを酸化させ、それによって得られる2−(メ
チルスルフィニル)ベンズアミドを塩化チオニルによっ
て環化させるという2段階の反応工程を要する。またこ
の方法は、取扱い上危険性が高く、かつ高価な過ヨウ素
酸を用いる必要がある。 (B)の方法は、高価なチオサリチル酸を用い、しかも
反応工程数が多いと考えられ、また環化には強塩基を必
要とするため、工業的に満足できる方法ではない。 (C)の方法もまた、高価なチオサリチル酸を原料とし
て用いており、しかも反応工程数が多く、また環化には
強塩基を必要とするため、工業的に満足できる方法では
ない。 (D)の方法は、収率が極めて低く、工業的な方法とは
いえない。
ても2−(アルキルチオ)ベンズアミド類から1,2−
ベンズイソチアゾール−3−オン類を製造する、あるい
は3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類から3−イ
ソチアゾロン類を製造する工業的に満足できる製造方法
はなかった。従って、本発明の目的は、抗菌剤、抗かび
剤等として重要なイソチアゾロン誘導体を、従来よりも
短い工程で、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を
使用することなく安全なプロセスにより、高い収率で得
ることができる製造方法を提供することにある。
ルキルチオ)ベンズアミド類から工業的に有利に1,2
−ベンズイソチアゾール−3−オン類を製造する方法、
および3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類から3
−イソチアゾロン類を製造する方法を提供すべく鋭意検
討した。その結果、環化反応にハロゲンを用いることに
より、下記のように直接目的物が得られるとともに、上
記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに
至った。
般式(I)〜(IV)におけるものとそれぞれ同意義を表
す。)
(I)で表される2−(アルキルチオ)ベンズアミド類
とハロゲンとを反応させることを特徴とする一般式(I
I)で表される1,2−ベンズイソチアゾール−3−オ
ン類の製造方法、
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、R2 は炭素数1〜4の
アルキル基を表し、R3 は水素原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。)
おけるR1 およびR3 とそれぞれ同意義を表す。) (2) ハロゲンが塩素または臭素である前記(1)記
載の製造方法、(3) 一般式(I)の化合物が2−
(メチルチオ)ベンズアミドである前記(1)または
(2)記載の製造方法、(4) 一般式(I)の化合物
がN−アリール−2−(メチルチオ)ベンズアミドであ
る前記(1)または(2)記載の製造方法、(5) 一
般式(I)の化合物がN−フェニル−2−(メチルチ
オ)ベンズアミドである前記(4)記載の製造方法、
(6) 一般式 (III)で表わされる3−(アルキルチ
オ)プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させること
を特徴とする一般式(IV)で表わされる3−イソチアゾ
ロン類の製造方法、
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、R2 は炭素数1〜
4のアルキル基を表わす。)
と同意義を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
(7) ハロゲンが塩素または臭素である前記(6)記
載の製造方法、(8) 一般式 (III)の化合物がN−シ
クロヘキシル−3−(メチルチオ)プロピオンアミドで
ある前記(6)または(7)記載の製造方法、並びに
(9) 一般式 (III)の化合物がN−オクチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミドである前記(6)また
は(7)記載の製造方法、に関する。
ルキルチオ)ベンズアミド類を原料とする第1の態様
と、3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類を原料と
する第2の態様に大別される。以下、両者を分けて詳細
に説明する。
される2−(アルキルチオ)ベンズアミド類とハロゲン
とを反応させることを特徴とする一般式(II)で表され
る1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類の製造方
法である。
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、R2 は炭素数1〜4の
アルキル基を表し、R3 は水素原子、炭素数1〜4のア
ルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。)
おけるR1 およびR3 とそれぞれ同意義を表す。)
に入手できる2−(アルキルチオ)ベンズアミド類を原
料として用い、従来はアルキルスルフィニルベンズアミ
ドを経由して2つの反応工程を要していたところを、1
つの反応工程だけで環化させ、1,2−ベンズイソチア
ゾール−3−オン類を直接に製造できるところにある。
さらにもう1つの特徴は、取扱い上危険性が高く、かつ
高価な物質を使用することなく、比較的温和な条件で安
全に1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類を製造
できるところにある。
1 およびR3 はそれぞれ同意義を表し、R1 は具体的に
は、水素原子、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基
を表す。R1 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、n−デシル、n−ドデシル等を挙げることができ
る。R1 で表されるシクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。R
1 で表されるアリール基を例示すると、フェニル、4−
トルイル、4−メトキシフェニル、4−クロロフェニ
ル、1−ナフチル等を挙げることができる。R1 で表さ
れるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェネチル
等を挙げることができる。これらのうち、R1 の好まし
い例としては、水素原子、メチル、エチル、イソプロピ
ル、n−ブチル、tert−ブチル、n−ドデシル、シ
クロヘキシル、フェニル、4−トルイル、4−メトキシ
フェニル、4−クロロフェニル、1−ナフチル、ベンジ
ルが挙げられる。
1〜4のアルキル基を表す。R2 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ter
t−ブチルを挙げることができる。これらのうち、R2
の好ましい例としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、tert−ブチルが挙げられる。
は、具体的には、水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキ
シル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。
R3 で表されるアルキル基を例示すると、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチル等を挙げるこ
とができる。R3 で表されるアルコキシ基を例示する
と、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を挙
げることができる。R3 で表されるカルボキシル基のエ
ステルを例示すると、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
等を挙げることができる。R3 で表されるハロゲン原子
としては、塩素、臭素等を挙げることができる。これら
のうち、R3 の好ましい例としては、水素原子、n−ブ
チル、メトキシ、ニトロ基、塩素原子が挙げられる。
2−(アルキルチオ)ベンズアミド類としては、特に限
定されるものではなく、例えば次のものを例示すること
ができる。2−(メチルチオ)ベンズアミド、2−(t
ert−ブチルチオ)ベンズアミド、N−エチル−2−
(メチルチオ)ベンズアミド、N−エチル−2−(エチ
ルチオ)ベンズアミド、N−イソプロピル−2−(メチ
ルチオ)ベンズアミド、N−(tert−ブチル)−2
−(メチルチオ)ベンズアミド、N−ヘキシル−2−
(メチルチオ)ベンズアミド、N−オクチル−2−(メ
チルチオ)ベンズアミド、N−デシル−2−(メチルチ
オ)ベンズアミド、N−ドデシル−2−(メチルチオ)
ベンズアミド、N−シクロヘキシル−2−(メチルチ
オ)ベンズアミド、N−フェニル−2−(メチルチオ)
ベンズアミド、N−(4−トルイル)−2−(メチルチ
オ)ベンズアミド、N−(4−メトキシフェニル)−2
−(メチルチオ)ベンズアミド、N−(4−クロロフェ
ニル)−2−(メチルチオ)ベンズアミド、N−(1−
ナフチル)−2−(メチルチオ)ベンズアミド、N−ベ
ンジル−2−(メチルチオ)ベンズアミド、N−ベンジ
ル−2−(プロピルチオ)ベンズアミド、N−ベンジル
−2−(ブチルチオ)ベンズアミド。N−フェニル−3
−メチル−2−(メチルチオ)ベンズアミド、N−メチ
ル−5−ブチル−2−(メチルチオ)ベンズアミド、N
−ブチル−4−メトキシ−2−(メチルチオ)ベンズア
ミド、N−フェニル−2−メチルチオ−3−ニトロベン
ズアミド、4−クロロ−2−(メチルチオ)ベンズアミ
ド、4−カルボキシ−2−(メチルチオ)ベンズアミ
ド、4−メトキシカルボニル−2−(メチルチオ)ベン
ズアミド。
キルチオ)ベンズアミド類は、いかなる方法によって得
られたものを用いてもよいが、中でも本発明者等が先に
出願した特願平5−319179号「アルキルスルフィ
ニルベンズアミド類の製造方法」の明細書に開示された
方法によると、より有利に得ることができる。
ルキルチオ)ベンズアミド類から1,2−ベンズイソチ
アゾール−3−オン類を得る工程に用いられるハロゲン
としては、塩素、臭素、よう素等が使用可能であるが、
なかでも経済的見地から塩素または臭素が好ましく用い
られ、特に塩素が好ましく用いられる。
オ)ベンズアミド類に対して通常0.8〜3.0倍モル
の範囲、好ましくは1.0〜2.0倍モルの範囲であ
る。ハロゲンをこの範囲未満で用いると、未反応の2−
(アルキルチオ)ベンズアミド類が多くなる傾向があ
り、一方、この範囲を超えて用いると副反応が起こり収
率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくない。
チアゾール−3−オン類を得る工程に用いる反応溶媒と
しては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定され
るものではなく、具体的に例示すると、n−ヘキサン、
n−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩
化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類
等を挙げることができる。これらのうち、好ましくはク
ロロベンゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられ
る。溶媒の使用量は、2−(アルキルチオ)ベンズアミ
ド類に対して、通常1〜30重量倍である。
ましくは20〜120℃の範囲である。反応温度がこの
範囲を超えると副反応が問題となり、一方この範囲未満
だと反応速度が実用上遅すぎるのでそれぞれ好ましくな
い。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異なるた
め一概にはいえないが、通常1〜40時間の範囲であ
る。
目的とする1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、該1,2−ベ
ンズイソチアゾール−3−オン類が液体の場合は減圧蒸
留により、固体の場合は、そのまま晶析させるか、また
は抽出して再結晶させる等により行うことができるが、
これらに限定されるものではない。
る一般式(II)で表される1,2−ベンズイソチアゾー
ル−3−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、
2−エチル−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オ
ン、2−イソプロピル−1,2−ベンズイソチアゾール
−3−オン、2−(tert−ブチル)−1,2−ベン
ズイソチアゾール−3−オン、2−ヘキシル−1,2−
ベンズイソチアゾール−3−オン、2−オクチル−1,
2−ベンズイソチアゾール−3−オン、2−デシル−
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、2−ドデシ
ル−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、2−シ
クロヘキシル−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オ
ン、2−フェニル−1,2−ベンズイソチアゾール−3
−オン、2−(4−トルイル)−1,2−ベンズイソチ
アゾール−3−オン、2−(4−メトキシフェニル)−
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、2−(4−
クロロフェニル)−1,2−ベンズイソチアゾール−3
−オン、2−(1−ナフチル)−1,2−ベンズイソチ
アゾール−3−オン、2−ベンジル−1,2−ベンズイ
ソチアゾール−3−オン、7−メチル−2−フェニル−
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、5−ブチル
−2−メチル−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オ
ン、2−ブチル−6−メトキシ−1,2−ベンズイソチ
アゾール−3−オン、7−ニトロ−2−フェニル−1,
2−ベンズイソチアゾール−3−オン、6−クロロ−
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、6−カルボ
キシ−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン、6−
メトキシカルボニル−1,2−ベンズイソチアゾール−
3−オン。
わされる3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類とハ
ロゲンとを反応させることを特徴とする一般式(IV)で
表わされる3−イソチアゾロン類の製造方法である。
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、R2 は炭素数1〜
4のアルキル基を表わす。)
と同意義を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
方法の特徴は、従来は、3,3’−ジチオジプロピオン
アミドを原料として用いて3−イソチアゾロン類を得て
いたところを、3−(アルキルチオ)プロピオンアミド
類を原料として用いることにより容易に収率良く製造で
きるところにある。
R1 は同意義を表し、R1 は具体的には、水素原子、炭
素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基またはアラルキル基を表わす。
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n
−オクチル、n−デシル、n−ドデシル等を挙げること
ができる。R1 で表されるシクロアルキル基としては、
シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができ
る。R1 で表されるアリール基を例示すると、フェニ
ル、4−トルイル、4−メトキシフェニル、4−クロロ
フェニル、1−ナフチル等を挙げることができる。R1
で表されるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェ
ネチル等を挙げることができる。これらのうち、R1 の
好ましい例としては、メチル、n−オクチル、シクロヘ
キシルが挙げられる。
1〜4のアルキル基を表わす。R2 で表されるアルキル
基としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、te
rt−ブチル等を挙げることができる。これらのうち、
R2 の好ましい例としては、メチル、tert−ブチル
が挙げられる。
子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原子を表す。
3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類としては、特
に限定されるものではなく、例えば次のものを例示する
ことができる。3−(メチルチオ)プロピオンアミド、
3−(tert−ブチルチオ)プロピオンアミド、3−
(プロピルチオ)プロピオンアミド、N−メチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−エチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−プロピル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−ブチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−ヘキシル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−オクチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−デシル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−ドデシル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミド、N−シクロヘキシル
−3−(メチルチオ)プロピオンアミド、N−フェニル
−3−(メチルチオ)プロピオンアミド、N−(4−ト
ルイル)−3−(メチルチオ)プロピオンアミド、N−
(4−メトキシフェニル)−3−(メチルチオ)プロピ
オンアミド、N−(4−クロロフェニル)−3−(メチ
ルチオ)プロピオンアミド、N−(1−ナフチル)−3
−(メチルチオ)プロピオンアミド、N−ベンジル−3
−(メチルチオ)プロピオンアミド、N−ベンジル−3
−(エチルチオ)プロピオンアミド。
ルキルチオ)プロピオンアミド類は、いかなる方法によ
って得られたものを用いてもよいが、例えば市販のもの
を用いたり、アクリル酸メチルとメチルメルカプタンと
を反応させた後、アミンと反応させる方法等により得る
ことができる。
ンアミド類から3−イソチアゾロン類を製造する工程に
用いられるハロゲンとしては、塩素、臭素、よう素等が
使用可能であるが、なかでも、経済的見地から塩素また
は臭素が好ましく用いられ、特に塩素が好ましく用いら
れる。
オ)プロピオンアミド類に対して、通常3.5〜6.0
倍モル、好ましくは、4.0〜5.0倍モルの範囲であ
る。ハロゲンを、この範囲未満で用いると、未反応の3
−(アルキルチオ)プロピオンアミド類が多くなる傾向
があり、一方、この範囲を超えて用いると、副反応が起
こり収率が低下する傾向があるためそれぞれ好ましくな
い。
ン類を得る工程に用いる反応溶媒としては、反応に対し
不活性な溶媒であるならば特に限定されるものではな
い。具体的に例示すると、n−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げ
ることができる。これらのうち、好ましくはクロロベン
ゼン、トルエン、シクロヘキサンが用いられる。溶媒の
使用量は、3−(アルキルチオ)プロピオンアミド類に
対し、通常1〜30倍重量である。
は20〜80℃の範囲である。反応温度がこの範囲を超
えると副反応が問題となる傾向があり、一方、この範囲
未満だと反応速度が実用上遅すぎる傾向があり好ましく
ない。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異な
り、一概にはいえないが、通常1〜30時間の範囲であ
る。
目的とする3−イソチアゾロン類を単離精製する方法と
しては、常法通り、該3−イソチアゾロン類が液体の場
合は減圧蒸留により、固体の場合はそのまま晶析させる
か、または抽出して再結晶させる等により行うことがで
きるが、これらに限定されるものではない。
ある一般式(IV)で表される3−イソチアゾロン類の具
体例としては、次のようなものが例示される。4,5−
ジクロロ−3−イソチアゾロン、4,5−ジクロロ−2
−メチル−3−イソチアゾロン、4,5−ジクロロ−2
−プロピル−3−イソチアゾロン、4,5−ジブロモ−
2−プロピル−3−イソチアゾロン、4,5−ジクロロ
−2−ヘキシル−3−イソチアゾロン、4,5−ジクロ
ロ−2−オクチル−3−イソチアゾロン、4,5−ジブ
ロモ−2−オクチル−3−イソチアゾロン、4,5−ジ
クロロ−2−ドデシル−3−イソチアゾロン、4,5−
ジクロロ−2−シクロヘキシル−3−イソチアゾロン、
4,5−ジクロロ−2−フェニル−3−イソチアゾロ
ン、4,5−ジクロロ−2−(4−トルイル)−3−イ
ソチアゾロン、4,5−ジクロロ−2−(1−ナフチ
ル)−3−イソチアゾロン、4,5−ジクロロ−2−
(ベンジル)−3−イソチアゾロン。
するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもので
はない。なお、目的物が得られたか否かの確認は、核磁
気共鳴法(1H−NMR)あるいは質量分析法により行っ
た。
ンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた500ml四
つ口フラスコに、N−フェニル−2−(メチルチオ)ベ
ンズアミド48.6g(0.2モル)、モノクロロベン
ゼン100gを仕込み、攪拌しながら塩素18.5g
(0.26モル)を40〜50℃で添加したのち、70
〜80℃に加熱し、1時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をモノクロロ
ベンゼンで洗浄後、乾燥させると2−フェニル−1,2
−ベンズイソチアゾール−3−オン44.5g(融点1
40〜141℃)を得た。原料としたN−フェニル−2
−(メチルチオ)ベンズアミドに対する収率は98%で
あった。
つ口フラスコに、2−(メチルチオ)ベンズアミド3
3.4g(0.2モル)、モノクロロベンゼン150g
を仕込み、攪拌しながら塩素18.5g(0.26モ
ル)を40〜50℃で添加したのち、70〜80℃に加
熱し、1時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、析出した白色結晶をモノクロロベンゼンで洗
浄後乾燥させ、1,2−ベンズイソチアゾール−3−オ
ン29.3g(融点157〜158℃)を得た。原料と
した2−(メチルチオ)ベンズアミドに対する収率は9
7%であった。
ル)に変える以外は実施例2と同様にして、1,2−ベ
ンズイソチアゾール−3−オン29.0gを得た。原料
とした2−(メチルチオ)ベンズアミドに対する収率は
96%であった。
ミド類に変える以外は実施例1と同様にして、相当する
1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類を得た。相
当する1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類が液
体の場合は減圧蒸留により取得した。
の合成(1) 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた500ml四つ口
フラスコに、N−オクチル−3−(メチルチオ)プロピ
オンアミド46.2g(0.2モル)、モノクロロベン
ゼン100gを仕込み、攪拌下、臭素129.4g
(0.81モル)を40〜50℃で添加し、同温度で1
時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベン
ゼンを留去し、ヘキサンを用いて再結晶することによ
り、4,5−ジブロモ−2−オクチル−3−イソチアゾ
ロン46.7gを得た。原料としたN−オクチル−3−
(メチルチオ)プロピオンアミドに対する収率は63%
であった。
の合成(2) 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた500ml四つ口
フラスコに、N−オクチル−3−(メチルチオ)プロピ
オンアミド46.2g(0.2モル)、モノクロロベン
ゼン100gを仕込み、攪拌下、塩素58.2g(0.
82モル)を40〜50℃で吹き込み、同温度で1時間
反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベンゼン
を留去し、ヘキサンを用いて再結晶することにより、
4,5−ジクロロ−2−オクチル−3−イソチアゾロン
33.9g(融点45〜46℃)を得た。原料としたN
−オクチル−3−(メチルチオ)プロピオンアミドに対
する収率は60%であった。
ゾロンの合成 攪拌機、温度計、冷却器を備え付けた500ml四つ口
フラスコに、N−シクロヘキシル−3−(メチルチオ)
プロピオンアミド40.2g(0.2モル)、モノクロ
ロベンゼン100gを仕込み、攪拌下、塩素58.2g
(0.82モル)を40〜50℃で吹き込み、同温度で
1時間反応させた。反応終了後、反応液のモノクロロベ
ンゼンを留去し、その後晶析させることにより、4,5
−ジクロロ−2−シクロヘキシル−3−イソチアゾロン
32.8g(融点114〜116℃)を得た。原料とし
たN−シクロヘキシル−3−(メチルチオ)プロピオン
アミドに対する収率は65%であった。
す。
び剤等として重要なイソチアゾロン誘導体、すなわち2
−フェニル−1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン
あるいは1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン等に
例示される1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン
類、または4,5−ジクロロ−2−オクチル−3−イソ
チアゾロン、あるいは4,5−ジクロロ−2−シクロヘ
キシル−3−イソチアゾロンに例示される3−イソチア
ゾロン類が従来よりも短い工程で、しかも高価で取扱い
上危険性の高い物質を使用することなく安全なプロセス
により、高い収率で得られる。
Claims (9)
- 【請求項1】 一般式(I)で表される2−(アルキル
チオ)ベンズアミド類とハロゲンとを反応させることを
特徴とする一般式(II)で表される1,2−ベンズイソ
チアゾール−3−オン類の製造方法。 【化1】 (式中、R1 は水素原子、炭素数1〜12の直鎖又は分
岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はア
ラルキル基を表し、R2 は炭素数1〜4のアルキル基を
表し、R3 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基
もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。) 【化2】 (式中、R1 およびR3 は一般式(I)におけるR1 お
よびR3 とそれぞれ同意義を表す。) - 【請求項2】 ハロゲンが塩素または臭素である請求項
1記載の製造方法。 - 【請求項3】 一般式(I)の化合物が2−(メチルチ
オ)ベンズアミドである請求項1または2記載の製造方
法。 - 【請求項4】 一般式(I)の化合物がN−アリール−
2−(メチルチオ)ベンズアミドである請求項1または
2記載の製造方法。 - 【請求項5】 一般式(I)の化合物がN−フェニル−
2−(メチルチオ)ベンズアミドである請求項4記載の
製造方法。 - 【請求項6】 一般式 (III)で表わされる3−(アルキ
ルチオ)プロピオンアミド類とハロゲンとを反応させる
ことを特徴とする一般式(IV)で表わされる3−イソチ
アゾロン類の製造方法。 【化3】 (式中、R1 は水素原子、炭素数1〜12の直鎖又は分
岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
アラルキル基を表わし、R2 は炭素数1〜4のアルキル
基を表わす。) 【化4】 (式中、R1 は一般式 (III)におけるR1 と同意義を表
わし、Xはハロゲン原子を表わす。) - 【請求項7】 ハロゲンが塩素または臭素である請求項
6記載の製造方法。 - 【請求項8】 一般式 (III)の化合物がN−シクロヘキ
シル−3−(メチルチオ)プロピオンアミドである請求
項6または7記載の製造方法。 - 【請求項9】 一般式 (III)の化合物がN−オクチル−
3−(メチルチオ)プロピオンアミドである請求項6ま
たは7記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15147694A JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15147694A JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07330745A true JPH07330745A (ja) | 1995-12-19 |
JP3720388B2 JP3720388B2 (ja) | 2005-11-24 |
Family
ID=15519349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15147694A Expired - Lifetime JP3720388B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソチアゾロン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3720388B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010502730A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | バイパー サイエンシズ,インコーポレイティド | 癌の治療法 |
JP2010168311A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン化合物の製造方法 |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP15147694A patent/JP3720388B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010502730A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | バイパー サイエンシズ,インコーポレイティド | 癌の治療法 |
JP2010168311A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3720388B2 (ja) | 2005-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1081141B1 (en) | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones | |
JP3179515B2 (ja) | 2−クロロチアゾール類の製造方法 | |
UA52588C2 (uk) | Арилтіосполуки, фармацевтична композиція та спосіб лікування бактеріальних або вірусних інфекцій | |
EP0657438B1 (en) | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones | |
EP0600157A1 (en) | Debrominative chlorination of pyrroles | |
JP3720388B2 (ja) | イソチアゾロン誘導体の製造方法 | |
JP4632502B2 (ja) | 1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類の製造方法 | |
Shimizu et al. | An effective synthesis of N-substituted 2-sulfenamoylbenzoates and 1, 2-benzisothiazolin-3-ones that uses 1, 2-benzisothiazolin-3-one as a leaving group | |
JP3495072B2 (ja) | 1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類の製造方法 | |
JP3152573B2 (ja) | 1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類の製造方法 | |
HU201319B (en) | Process for producing 3-isothiazolones | |
JP3939769B2 (ja) | 1,2−ベンズイソチアゾール類の製造方法 | |
JPH08291134A (ja) | シアノベンゼンスルフェニルハライドおよびそれを用いる3−置換ベンゾイソチアゾールの製造方法 | |
DE69131002T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 2-Aryl-1-substituierten-5-(Trifluormethyl)-Pyrrolen als Insektizide, Akarizide und Nematizide Wirkstoffe sowie als Zwischenprodukte zur Herstellung dieser Wirkstoffe | |
KR100220661B1 (ko) | 알킬술피닐벤즈아미드의제조방법 | |
DE69503736T2 (de) | Herstellung von 4-Aryl-2-perfluoralkyl-3-oxazolin-5-one durch Umsetzung von Arylglycine | |
JPS62242656A (ja) | 殺菌作用を有するシアノアセトアミド誘導体 | |
JPH08157460A (ja) | イソチアゾール誘導体の製造方法 | |
JP3578489B2 (ja) | 1,2−ベンゾイソチアゾール−3−オン類の製造方法 | |
JP2003040857A (ja) | N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 | |
JP2002220370A (ja) | スルフェンアミド化合物の製造方法 | |
JP2001089441A (ja) | 2−(アルキルチオ)ベンゾニトリル類の製造方法 | |
JPH08259523A (ja) | アニリド誘導体の製造法 | |
JPH07145143A (ja) | アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法 | |
JPH08259521A (ja) | 置換安息香酸クロリド誘導体およびその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040524 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20040721 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20050831 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050908 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110916 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110916 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120916 Year of fee payment: 7 |