JP3152573B2 - １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 - Google Patents
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法Info
- Publication number
- JP3152573B2 JP3152573B2 JP30134894A JP30134894A JP3152573B2 JP 3152573 B2 JP3152573 B2 JP 3152573B2 JP 30134894 A JP30134894 A JP 30134894A JP 30134894 A JP30134894 A JP 30134894A JP 3152573 B2 JP3152573 B2 JP 3152573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- benzonitrile
- group
- represented
- benzisothiazol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２−（アルキルチオ）
ベンゾニトリル類を中間体として１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を製造する新規な製造方法に関す
る。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類は抗菌
剤、抗かび剤等として有用な化合物である。
ベンゾニトリル類を中間体として１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を製造する新規な製造方法に関す
る。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類は抗菌
剤、抗かび剤等として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来、１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
【０００３】（Ａ）Bull. Chem. Soc. Jpn., 55, 1183-
7(1982) この方法は、２−（メチルチオ）ベンズクロライドから
２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造し、このものを
過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メチルスルフィニ
ル）ベンズアミドを製造し、さらにこれを塩化チオニル
によって環化させて、目的とする１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オンを得る方法である。
7(1982) この方法は、２−（メチルチオ）ベンズクロライドから
２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造し、このものを
過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メチルスルフィニ
ル）ベンズアミドを製造し、さらにこれを塩化チオニル
によって環化させて、目的とする１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オンを得る方法である。
【０００４】
【化６】
【０００５】（Ｂ）Org. Prep. Proced. Int.,15,315-3
19(1983) この方法は、チオサリチル酸を出発原料とし、４工程を
経て１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方
法である。
19(1983) この方法は、チオサリチル酸を出発原料とし、４工程を
経て１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方
法である。
【０００６】
【化７】
【０００７】（Ｃ）Ger. Offen. 3500577, (1986) この方法は、チオサリチル酸を出発原料とし、最後は苛
性ソーダを用いて環化させ、目的とする１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オンを得る方法と考えられる。
性ソーダを用いて環化させ、目的とする１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オンを得る方法と考えられる。
【０００８】
【化８】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの公知
の方法には次のような欠点がある。 （Ａ）の方法は、原料として用いる２−（メチルチオ）
ベンゾイルクロライドの安価な製造方法および安定性に
問題がある。また、取扱い上危険性が高く、かつ高価な
過ヨウ素酸を用いる必要があり、反応工程数も多い。 （Ｂ）〜（Ｃ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用
い、しかも反応工程数が多いため、工業的に満足できる
方法とは言いがたい。このように、公知のいずれの方法
によっても、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
類を工業的に有利に製造することは困難であった。
の方法には次のような欠点がある。 （Ａ）の方法は、原料として用いる２−（メチルチオ）
ベンゾイルクロライドの安価な製造方法および安定性に
問題がある。また、取扱い上危険性が高く、かつ高価な
過ヨウ素酸を用いる必要があり、反応工程数も多い。 （Ｂ）〜（Ｃ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用
い、しかも反応工程数が多いため、工業的に満足できる
方法とは言いがたい。このように、公知のいずれの方法
によっても、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
類を工業的に有利に製造することは困難であった。
【００１０】従って、本発明の目的は、工業的に有利
に、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を使用する
ことなく、簡易かつ経済的に１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類を製造する方法を提供することにあ
る。
に、しかも高価で取扱い上危険性の高い物質を使用する
ことなく、簡易かつ経済的に１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類を製造する方法を提供することにあ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の状
況に鑑み、鋭意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表
される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類とハロゲ
ン化剤とを水の存在下に反応させることにより、一般式
（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類が一段階で得られることを見出した。
況に鑑み、鋭意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表
される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類とハロゲ
ン化剤とを水の存在下に反応させることにより、一般式
（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類が一段階で得られることを見出した。
【００１２】
【化９】
【００１３】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基
を表し、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。）
を表し、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。）
【００１４】さらに、本発明者らは、一般式（III)で表
される２−ハロベンゾニトリル類と一般式（IV) で表さ
れるアルカンチオールとを、塩基の存在下に不均一系で
反応させることにより、上記の一般式（Ｉ）で表される
２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類が容易に得られ
ることに着目した。
される２−ハロベンゾニトリル類と一般式（IV) で表さ
れるアルカンチオールとを、塩基の存在下に不均一系で
反応させることにより、上記の一般式（Ｉ）で表される
２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類が容易に得られ
ることに着目した。
【００１５】
【化１０】
【００１６】そして、上記反応により生成する一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル
類に引き続きハロゲン化剤を、水の存在下に反応させる
ことにより、一般式（II）で表される１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン類が得られること、さらに、上
記反応を非水溶性有機溶媒の系で行えば、２−ハロベン
ゾニトリル類を原料とし、１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類を製造する一連の反応をワンポットで行
うことができることを見いだし、本発明を完成するに至
った。
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル
類に引き続きハロゲン化剤を、水の存在下に反応させる
ことにより、一般式（II）で表される１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン類が得られること、さらに、上
記反応を非水溶性有機溶媒の系で行えば、２−ハロベン
ゾニトリル類を原料とし、１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類を製造する一連の反応をワンポットで行
うことができることを見いだし、本発明を完成するに至
った。
【００１７】
【化１１】
【００１８】すなわち、本発明の要旨は、 （１） 一般式（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）
ベンゾニトリル類とハロゲン化剤とを水の存在下に反応
させることを特徴とする、一般式（II）で表される１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法、
ベンゾニトリル類とハロゲン化剤とを水の存在下に反応
させることを特徴とする、一般式（II）で表される１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法、
【００１９】
【化１２】
【００２０】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基
を表し、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。）
を表し、Ｒ2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。）
【００２１】
【化１３】
【００２２】（式中、Ｒ2 は一般式（Ｉ）におけるＲ2
と同意義を表す。） （２） ハロゲン化剤が塩素である（１）記載の製造方
法、 （３） ハロゲン化剤が塩化スルフリルである（１）記
載の製造方法、 （４） 一般式（Ｉ）の化合物が２−（メチルチオ）ベ
ンゾニトリルである（１）ないし（３）のいずれかに記
載の製造方法、並びに （５） 一般式（III)で表される２−ハロベンゾニトリ
ル類と一般式（IV）で表されるアルカンチオール類と
を、塩基の存在下に不均一系で反応させて一般式（Ｉ）
で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を
得、さらに水の存在下にハロゲン化剤を反応させること
を特徴とする、一般式（II）で表される１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類の製造方法、
と同意義を表す。） （２） ハロゲン化剤が塩素である（１）記載の製造方
法、 （３） ハロゲン化剤が塩化スルフリルである（１）記
載の製造方法、 （４） 一般式（Ｉ）の化合物が２−（メチルチオ）ベ
ンゾニトリルである（１）ないし（３）のいずれかに記
載の製造方法、並びに （５） 一般式（III)で表される２−ハロベンゾニトリ
ル類と一般式（IV）で表されるアルカンチオール類と
を、塩基の存在下に不均一系で反応させて一般式（Ｉ）
で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を
得、さらに水の存在下にハロゲン化剤を反応させること
を特徴とする、一般式（II）で表される１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類の製造方法、
【００２３】
【化１４】
【００２４】（式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表
し、Ｒ 2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基も
しくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。） Ｒ 1 ＳＨ （IV） （式中、Ｒ 1 は炭素数１〜４のアルキル基を表す。） に
関する。
し、Ｒ 2 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基も
しくはそのエステル、又はハロゲン原子を表す。） Ｒ 1 ＳＨ （IV） （式中、Ｒ 1 は炭素数１〜４のアルキル基を表す。） に
関する。
【００２５】本発明の１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン類の製造方法の特徴は、２−ハロベンゾニトリ
ル類を原料として容易に得られる２−（アルキルチオ）
ベンゾニトリル類とハロゲン化剤とを、水の存在下に反
応させることにより、容易に環化反応が起こり、簡単な
工程で１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製
造できるところにある。さらにもう１つの特徴は、非水
溶性有機溶媒を用いて２−ハロベンゾニトリル類とアル
カンチオール類とを、塩基の存在下に不均一系で反応さ
せ、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を得、得ら
れた該２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を含む油
層を水層と分液し、引き続き油層中にハロゲン化剤を、
水の存在下に反応させて１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン類の製造をワンポットで行うところにある。
３−オン類の製造方法の特徴は、２−ハロベンゾニトリ
ル類を原料として容易に得られる２−（アルキルチオ）
ベンゾニトリル類とハロゲン化剤とを、水の存在下に反
応させることにより、容易に環化反応が起こり、簡単な
工程で１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製
造できるところにある。さらにもう１つの特徴は、非水
溶性有機溶媒を用いて２−ハロベンゾニトリル類とアル
カンチオール類とを、塩基の存在下に不均一系で反応さ
せ、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を得、得ら
れた該２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を含む油
層を水層と分液し、引き続き油層中にハロゲン化剤を、
水の存在下に反応させて１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン類の製造をワンポットで行うところにある。
【００２６】上記一般式（Ｉ）および（IV）におけるＲ
1 は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ1 で表され
るアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を挙げるこ
とができる。これらのうち、Ｒ1 の好ましい例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基を挙げることができる。
1 は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ1 で表され
るアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を挙げるこ
とができる。これらのうち、Ｒ1 の好ましい例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基を挙げることができる。
【００２７】また、一般式（Ｉ）、（II) 、（III)にお
けるＲ2 は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子
を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基等を挙げることができる。Ｒ2 で表される
アルコキシ基を例示すると、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。Ｒ
2 で表されるカルボキシル基のエステルを例示すると、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等を挙げるこ
とができる。Ｒ2 で表されるハロゲン原子としては、塩
素原子、臭素原子等を挙げることができる。これらのう
ち、Ｒ2 の好ましい例としては、水素原子、メチル基、
エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシ基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、塩素原子、ニトロ基等を挙げることができ
る。
けるＲ2 は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル、又はハロゲン原子
を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基等を挙げることができる。Ｒ2 で表される
アルコキシ基を例示すると、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。Ｒ
2 で表されるカルボキシル基のエステルを例示すると、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等を挙げるこ
とができる。Ｒ2 で表されるハロゲン原子としては、塩
素原子、臭素原子等を挙げることができる。これらのう
ち、Ｒ2 の好ましい例としては、水素原子、メチル基、
エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシ基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、塩素原子、ニトロ基等を挙げることができ
る。
【００２８】本発明の一般式（Ｉ）で表される、２−
（アルキルチオ）ベンゾニトリル類の具体例としては、
例えば次のものを例示することができる。２−（メチル
チオ）ベンゾニトリル、２−（エチルチオ）ベンゾニト
リル、２−（ｎ−プロピルチオ）ベンゾニトリル、２−
（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル、３−メチル
−２−（メチルチオ）ベンゾニトリル、５−ブチル−２
−（メチルチオ）ベンゾニトリル、４−メトキシ−２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル、２−メチルチオ−３−
ニトロベンゾニトリル、４−クロロ−２−（メチルチ
オ）ベンゾニトリル、４−カルボキシ−２−（メチルチ
オ）ベンゾニトリル、４−メトキシカルボニル−２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル、これらのうち、入手が
容易であることおよび生成物が抗菌性にすぐれているこ
とから、２−（メチルチオ）ベンゾニトリル、２−（エ
チルチオ）ベンゾニトリル、２−（ｎ−プロピルチオ）
ベンゾニトリル、２−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾ
ニトリルが好ましく用いられる。
（アルキルチオ）ベンゾニトリル類の具体例としては、
例えば次のものを例示することができる。２−（メチル
チオ）ベンゾニトリル、２−（エチルチオ）ベンゾニト
リル、２−（ｎ−プロピルチオ）ベンゾニトリル、２−
（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾニトリル、３−メチル
−２−（メチルチオ）ベンゾニトリル、５−ブチル−２
−（メチルチオ）ベンゾニトリル、４−メトキシ−２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル、２−メチルチオ−３−
ニトロベンゾニトリル、４−クロロ−２−（メチルチ
オ）ベンゾニトリル、４−カルボキシ−２−（メチルチ
オ）ベンゾニトリル、４−メトキシカルボニル−２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル、これらのうち、入手が
容易であることおよび生成物が抗菌性にすぐれているこ
とから、２−（メチルチオ）ベンゾニトリル、２−（エ
チルチオ）ベンゾニトリル、２−（ｎ−プロピルチオ）
ベンゾニトリル、２−（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）ベンゾ
ニトリルが好ましく用いられる。
【００２９】なお、一般式（Ｉ）で表される２−（アル
キルチオ）ベンゾニトリル類は、いかなる方法によって
得られたものを用いてもよいが、中でも本発明の方法に
よると、より有利に得ることができる。即ち、その方法
とは、一般式（III)で表される２−ハロベンゾニトリル
類と一般式（IV）で表されるアルカンチオールとを、塩
基の存在下に不均一系で反応させることにより、一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル
類を製造する方法である。一般式（III)において、Ｘは
塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ2 は一般式（Ｉ）にお
けるＲ2 と同意義を表す。また、一般式（IV）におい
て、Ｒ1 は一般式（Ｉ）におけるＲ1 と同意義を表す。
キルチオ）ベンゾニトリル類は、いかなる方法によって
得られたものを用いてもよいが、中でも本発明の方法に
よると、より有利に得ることができる。即ち、その方法
とは、一般式（III)で表される２−ハロベンゾニトリル
類と一般式（IV）で表されるアルカンチオールとを、塩
基の存在下に不均一系で反応させることにより、一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル
類を製造する方法である。一般式（III)において、Ｘは
塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ2 は一般式（Ｉ）にお
けるＲ2 と同意義を表す。また、一般式（IV）におい
て、Ｒ1 は一般式（Ｉ）におけるＲ1 と同意義を表す。
【００３０】一般式（III)で表されるこのような２−ハ
ロベンゾニトリル類を具体的に例示すると、２−クロロ
ベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリル、３−メチ
ル−２−クロロベンゾニトリル、５−ブチル−２−クロ
ロベンゾニトリル、４−メトキシ−２−クロロベンゾニ
トリル、２−クロロ−３−ニトロベンゾニトリル、４−
メトキシカルボニル−２−クロロベンゾニトリル等を挙
げることができる。
ロベンゾニトリル類を具体的に例示すると、２−クロロ
ベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリル、３−メチ
ル−２−クロロベンゾニトリル、５−ブチル−２−クロ
ロベンゾニトリル、４−メトキシ−２−クロロベンゾニ
トリル、２−クロロ−３−ニトロベンゾニトリル、４−
メトキシカルボニル−２−クロロベンゾニトリル等を挙
げることができる。
【００３１】一般式（IV）で表されるアルカンチオール
類としては、メタンチオール、エタンチオール、１−プ
ロパンチオール、２−ブタンチオール等が使用可能であ
り、その使用量は、２−ハロベンゾニトリルに対して、
通常０．８〜３．０倍モル、好ましくは１．０〜２．０
倍モルの範囲である。アルカンチオールの使用量が０．
８倍モル未満の場合には、未反応の２−ハロベンゾニト
リル類が多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
類としては、メタンチオール、エタンチオール、１−プ
ロパンチオール、２−ブタンチオール等が使用可能であ
り、その使用量は、２−ハロベンゾニトリルに対して、
通常０．８〜３．０倍モル、好ましくは１．０〜２．０
倍モルの範囲である。アルカンチオールの使用量が０．
８倍モル未満の場合には、未反応の２−ハロベンゾニト
リル類が多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
【００３２】２−ハロベンゾニトリルとアルカンチオー
ルとの反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラ
ート等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナ
トリウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量
は、２−ハロベンゾニトリルに対し、通常０．８〜３．
５倍モル、好ましくは１．０〜２．５倍モルの範囲であ
る。塩基の使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未
反応の２−ハロベンゾニトリル類が多くなり、一方、
３．５倍モルを超えて用いても、それに見合う効果が得
られず、経済的に不利である。
ルとの反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラ
ート等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナ
トリウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量
は、２−ハロベンゾニトリルに対し、通常０．８〜３．
５倍モル、好ましくは１．０〜２．５倍モルの範囲であ
る。塩基の使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未
反応の２−ハロベンゾニトリル類が多くなり、一方、
３．５倍モルを超えて用いても、それに見合う効果が得
られず、経済的に不利である。
【００３３】本発明の２−（アルキルチオ）ベンゾニト
リル類の製造方法においては、反応を塩基の存在下で不
均一系で行うことを特徴とする。反応原料である２−ハ
ロベンゾニトリルとアルカンチオールとの反応は、２−
ハロベンゾニトリル類が水不溶性であるため二相系での
反応となる。この場合、相間移動触媒を添加すると反応
が円滑に進行することが多く、好適である。ここで使用
する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムブロマ
イド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、オク
チルトリエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド等
の４級アンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチルホスホ
ニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウ
ムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマ
イド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライド、ト
リオクチルエチルホスホニウムブロマイド、テトラフェ
ニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホニウム塩、
１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６、
ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等のクラウンエ
ーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地からテトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩が
好ましく用いられる。
リル類の製造方法においては、反応を塩基の存在下で不
均一系で行うことを特徴とする。反応原料である２−ハ
ロベンゾニトリルとアルカンチオールとの反応は、２−
ハロベンゾニトリル類が水不溶性であるため二相系での
反応となる。この場合、相間移動触媒を添加すると反応
が円滑に進行することが多く、好適である。ここで使用
する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムブロマ
イド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、オク
チルトリエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド等
の４級アンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチルホスホ
ニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウ
ムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマ
イド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライド、ト
リオクチルエチルホスホニウムブロマイド、テトラフェ
ニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホニウム塩、
１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６、
ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等のクラウンエ
ーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地からテトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩が
好ましく用いられる。
【００３４】また、相間移動触媒を使用する場合の使用
量は、２−ハロベンゾニトリルの重量に対し、通常０．
００５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２
倍重量の範囲である。相間移動触媒の使用量が、０．０
０５倍重量未満の場合には、触媒効果が十分あらわれ
ず、一方、０．５倍重量を超えて用いても、それに見合
う効果が得られず、経済的に不利である。
量は、２−ハロベンゾニトリルの重量に対し、通常０．
００５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２
倍重量の範囲である。相間移動触媒の使用量が、０．０
０５倍重量未満の場合には、触媒効果が十分あらわれ
ず、一方、０．５倍重量を超えて用いても、それに見合
う効果が得られず、経済的に不利である。
【００３５】この方法では、必ずしも反応溶媒を用いる
必要はないが、反応を容易にするため、および反応後の
生成物の分液を容易にするため、通常、水１重量部に対
して非水溶性有機溶媒０．５〜１０重量部からなる混合
溶媒を用いる方が良い結果が得られる場合が多い。非水
溶性有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、
ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素類、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることが
できる。溶媒の使用量は、２−ハロベンゾニトリルに対
して、通常１〜３０倍重量である。
必要はないが、反応を容易にするため、および反応後の
生成物の分液を容易にするため、通常、水１重量部に対
して非水溶性有機溶媒０．５〜１０重量部からなる混合
溶媒を用いる方が良い結果が得られる場合が多い。非水
溶性有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、
ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素類、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることが
できる。溶媒の使用量は、２−ハロベンゾニトリルに対
して、通常１〜３０倍重量である。
【００３６】反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましく
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を超えると、副反応が起こり、他方、０℃未満では、反
応速度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間
は、反応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により
異なり、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲
である。
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を超えると、副反応が起こり、他方、０℃未満では、反
応速度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間
は、反応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により
異なり、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲
である。
【００３７】反応終了後、分液された２−（アルキルチ
オ）ベンゾニトリル類は、有機溶媒層より晶析等の通常
の処理で、単離精製することができる。また、水層は相
間移動触媒を含んだまま分液されるため、反復使用する
ことが可能である。そのため、系外にはほとんど水性の
廃棄物が排出されることがない。さらに、分液された２
−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を含む油層は、そ
のまま１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製
造に使用することができる。
オ）ベンゾニトリル類は、有機溶媒層より晶析等の通常
の処理で、単離精製することができる。また、水層は相
間移動触媒を含んだまま分液されるため、反復使用する
ことが可能である。そのため、系外にはほとんど水性の
廃棄物が排出されることがない。さらに、分液された２
−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を含む油層は、そ
のまま１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製
造に使用することができる。
【００３８】次に、本発明の２−（アルキルチオ）ベン
ゾニトリル類から１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類を得る工程に用いるハロゲン化剤としては、塩
素、臭素、塩化スルフリル、臭化スルフリル等が使用可
能であるが、反応選択性の見地より塩化スルフリル、塩
素が好ましく用いられる。その使用量は、２−（アルキ
ルチオ）ベンゾニトリルに対して、通常０．８〜３．０
倍モル、好ましくは１．０〜２．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲン化剤の使用量が０．８倍モル未満の場合に
は、未反応の２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類が
多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用いる場合は、
副反応が起こり収率が低下する為、それぞれ好ましくな
い。
ゾニトリル類から１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類を得る工程に用いるハロゲン化剤としては、塩
素、臭素、塩化スルフリル、臭化スルフリル等が使用可
能であるが、反応選択性の見地より塩化スルフリル、塩
素が好ましく用いられる。その使用量は、２−（アルキ
ルチオ）ベンゾニトリルに対して、通常０．８〜３．０
倍モル、好ましくは１．０〜２．０倍モルの範囲であ
る。ハロゲン化剤の使用量が０．８倍モル未満の場合に
は、未反応の２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類が
多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用いる場合は、
副反応が起こり収率が低下する為、それぞれ好ましくな
い。
【００３９】ハロゲン化剤を反応させて１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる水の添
加量としては、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類
に対して、通常０．８〜５．０倍モル、好ましくは１．
０〜３．０倍モルの範囲である。水の添加量が、０．８
倍モル未満の場合および５．０倍モルを超えて用いる場
合は、副反応が起こり収率が低下するためそれぞれ好ま
しくない。
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる水の添
加量としては、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類
に対して、通常０．８〜５．０倍モル、好ましくは１．
０〜３．０倍モルの範囲である。水の添加量が、０．８
倍モル未満の場合および５．０倍モルを超えて用いる場
合は、副反応が起こり収率が低下するためそれぞれ好ま
しくない。
【００４０】ハロゲン化剤を反応させて１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶
媒としては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定
されるものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができる。
この場合、溶媒として、２−（アルキルチオ）ベンゾニ
トリル類の製造に用いたのと同一のものを用いると、２
−ハロベンゾニトリル類とアルカンチオール類とから２
−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を得る工程および
２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類にハロゲン化剤
を反応させて、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン類を得る工程を、全てワンポットで行うことができ、
極めて効率的である。溶媒の使用量は、２−（アルキル
チオ）ベンゾニトリルに対して、通常１〜３０重量倍で
ある。
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶
媒としては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定
されるものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができる。
この場合、溶媒として、２−（アルキルチオ）ベンゾニ
トリル類の製造に用いたのと同一のものを用いると、２
−ハロベンゾニトリル類とアルカンチオール類とから２
−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を得る工程および
２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類にハロゲン化剤
を反応させて、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン類を得る工程を、全てワンポットで行うことができ、
極めて効率的である。溶媒の使用量は、２−（アルキル
チオ）ベンゾニトリルに対して、通常１〜３０重量倍で
ある。
【００４１】反応温度は、通常−２０〜１７０℃の範
囲、好ましくは０〜１５０℃の範囲である。反応温度
が、１７０℃を超えると、副反応が問題となり、一方、
−２０℃未満では、反応速度が実用上遅すぎるので好ま
しくない。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異
なるため一概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲
である。
囲、好ましくは０〜１５０℃の範囲である。反応温度
が、１７０℃を超えると、副反応が問題となり、一方、
−２０℃未満では、反応速度が実用上遅すぎるので好ま
しくない。反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異
なるため一概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲
である。
【００４２】このようにして得られる反応混合物から、
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、そのまま晶析
させるか、または抽出して再結晶させる等により行うこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、そのまま晶析
させるか、または抽出して再結晶させる等により行うこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】このようにして得られる目的の化合物であ
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
７−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、５−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン、６−メトキシ−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン、７−ニトロ−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、６−クロロ−１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン、６−カルボキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、６−メトキシカルボニル−１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン。
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
７−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、５−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン、６−メトキシ−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン、７−ニトロ−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、６−クロロ−１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン、６−カルボキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、６−メトキシカルボニル−１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン。
【００４４】
【実施例】以下に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもので
はない。
するが、本発明はこれらによりなんら限定されるもので
はない。
【００４５】製造例１ ２−（メチルチオ）ベンゾニトリルの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、２−クロロベンゾニ
トリル２７．５ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン
１００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ブロマイド水溶液５．５ｇを仕込んだ。一方、別途、水
酸化ナトリウム９．６ｇ（０．２４モル）と水３５．０
ｇを窒素雰囲気下で別の容器に仕込み、撹拌下でメタン
チオール１１．５ｇ（０．２４モル）を室温にて約１時
間かけて仕込んだ。こうして得た３０重量％メチルメル
カプタン・ナトリウム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モ
ル）を、攪拌下で上記四つ口フラスコに添加し、還流さ
せながら２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温
まで冷却し、溶媒を留去した後、減圧蒸留すると２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル２９．２ｇ（沸点１３９
〜１４０℃／７ｍｍＨｇ）を得た。２−クロロベンゾニ
トリルに対する収率は９８％であった。
つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、２−クロロベンゾニ
トリル２７．５ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン
１００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ブロマイド水溶液５．５ｇを仕込んだ。一方、別途、水
酸化ナトリウム９．６ｇ（０．２４モル）と水３５．０
ｇを窒素雰囲気下で別の容器に仕込み、撹拌下でメタン
チオール１１．５ｇ（０．２４モル）を室温にて約１時
間かけて仕込んだ。こうして得た３０重量％メチルメル
カプタン・ナトリウム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モ
ル）を、攪拌下で上記四つ口フラスコに添加し、還流さ
せながら２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温
まで冷却し、溶媒を留去した後、減圧蒸留すると２−
（メチルチオ）ベンゾニトリル２９．２ｇ（沸点１３９
〜１４０℃／７ｍｍＨｇ）を得た。２−クロロベンゾニ
トリルに対する収率は９８％であった。
【００４６】実施例１ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンゾニトリル２
９．８ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１００
ｇ、水４．３２ｇ（０．２４モル）を仕込み、攪拌しな
がら塩化スルフリル２９．７ｇ（０．２２モル）を５〜
１５℃で添加したのち、７０〜８０℃に加熱し、１時間
反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、析
出した白色結晶をモノクロロベンゼンで洗浄後、乾燥さ
せると１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン２９．
０ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料とした２−
（メチルチオ）ベンゾニトリルに対する収率は９６％で
あった。
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンゾニトリル２
９．８ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１００
ｇ、水４．３２ｇ（０．２４モル）を仕込み、攪拌しな
がら塩化スルフリル２９．７ｇ（０．２２モル）を５〜
１５℃で添加したのち、７０〜８０℃に加熱し、１時間
反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、析
出した白色結晶をモノクロロベンゼンで洗浄後、乾燥さ
せると１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン２９．
０ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料とした２−
（メチルチオ）ベンゾニトリルに対する収率は９６％で
あった。
【００４７】実施例２ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成（ワン
ポット反応） 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、窒素雰囲気下、２−クロロベンゾニト
リル２７．５ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１
００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブ
ロマイド水溶液２．２５ｇを仕込んだ。一方、別途、水
酸化ナトリウム９．６ｇ（０．２４モル）と水３５．０
ｇを窒素雰囲気下で別の容器に仕込み、撹拌下でメタン
チオール１１．５ｇ（０．２４モル）を室温にて約１時
間かけて仕込んだ。こうして得た３０重量％メチルメル
カプタン・ナトリウム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モ
ル）を、攪拌下で上記四つ口フラスコに添加し、還流さ
せながら２時間反応させた。反応終了後、４０〜５０℃
で水層（下層）と油層（上層）とに熱時分液した。この
油層に、モノクロロベンゼン１００ｇ、水３．６ｇ
（０．２モル）を仕込み、攪拌しながら塩化スルフリル
２７．０ｇ（０．２モル）を５〜１５℃で添加したの
ち、７０〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終
了後、反応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をモ
ノクロロベンゼンで洗浄後乾燥させ、１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン２９．３ｇ（融点１５７〜１５
８℃）を得た。原料とした２−クロロベンゾニトリルに
対する収率は９７％であった。
ポット反応） 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、窒素雰囲気下、２−クロロベンゾニト
リル２７．５ｇ（０．２モル）、モノクロロベンゼン１
００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブ
ロマイド水溶液２．２５ｇを仕込んだ。一方、別途、水
酸化ナトリウム９．６ｇ（０．２４モル）と水３５．０
ｇを窒素雰囲気下で別の容器に仕込み、撹拌下でメタン
チオール１１．５ｇ（０．２４モル）を室温にて約１時
間かけて仕込んだ。こうして得た３０重量％メチルメル
カプタン・ナトリウム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モ
ル）を、攪拌下で上記四つ口フラスコに添加し、還流さ
せながら２時間反応させた。反応終了後、４０〜５０℃
で水層（下層）と油層（上層）とに熱時分液した。この
油層に、モノクロロベンゼン１００ｇ、水３．６ｇ
（０．２モル）を仕込み、攪拌しながら塩化スルフリル
２７．０ｇ（０．２モル）を５〜１５℃で添加したの
ち、７０〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終
了後、反応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をモ
ノクロロベンゼンで洗浄後乾燥させ、１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン２９．３ｇ（融点１５７〜１５
８℃）を得た。原料とした２−クロロベンゾニトリルに
対する収率は９７％であった。
【００４８】実施例３ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成（ワン
ポット反応） 実施例２における塩化スルフリルの添加を、塩素１４．
２ｇ（０．２モル）の吹き込みに変える以外は実施例２
と同様にして、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン２５．７ｇを得た。２−クロロベンゾニトリルに対す
る収率は８５％であった。
ポット反応） 実施例２における塩化スルフリルの添加を、塩素１４．
２ｇ（０．２モル）の吹き込みに変える以外は実施例２
と同様にして、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン２５．７ｇを得た。２−クロロベンゾニトリルに対す
る収率は８５％であった。
【００４９】実施例４〜９ １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の合成 原料を、表１に示す２−（アルキルチオ）ベンゾニトリ
ル類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。
ル類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗か
び剤等として重要な１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン類が、繁雑な操作を行うことなく、しかも高価な
原料を使用することなく容易なプロセスにより得ること
ができる。さらに、原料として２−ハロベンゾニトリル
類を用い、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を経
由して目的物を得る反応をワンポットで行えば、従来よ
りも短い工程で高収率に得られるため、経済的にも有利
である。
び剤等として重要な１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン類が、繁雑な操作を行うことなく、しかも高価な
原料を使用することなく容易なプロセスにより得ること
ができる。さらに、原料として２−ハロベンゾニトリル
類を用い、２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類を経
由して目的物を得る反応をワンポットで行えば、従来よ
りも短い工程で高収率に得られるため、経済的にも有利
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂上 茂樹 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住友精化株式会社第１研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 275/04 - 275/06 B01J 31/02 C07B 61/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表される２−（アルキル
チオ）ベンゾニトリル類とハロゲン化剤とを水の存在下
に反応させることを特徴とする、一般式（II）で表され
る１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方
法。 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ2
は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基もしくはそ
のエステル、又はハロゲン原子を表す。） 【化２】 （式中、Ｒ2 は一般式（Ｉ）におけるＲ2 と同意義を表
す。） - 【請求項２】 ハロゲン化剤が塩素である請求項１記載
の製造方法。 - 【請求項３】 ハロゲン化剤が塩化スルフリルである請
求項１記載の製造方法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）の化合物が２−（メチルチ
オ）ベンゾニトリルである請求項１ないし請求項３のい
ずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（III)で表される２−ハロベンゾ
ニトリル類と一般式（IV）で表されるアルカンチオール
類とを、塩基の存在下に不均一系で反応させて一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル
類を得、さらに水の存在下にハロゲン化剤を反応させる
ことを特徴とする、一般式（II）で表される１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法。 【化３】 （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ2 は水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアル
コキシ基、ニトロ基、カルボキシル基もしくはそのエス
テル又はハロゲン原子を表す。） Ｒ1 ＳＨ （IV） （式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基を表す。） 【化４】 （式中、Ｒ1 は一般式（IV）におけるＲ1 と同意義を表
し、Ｒ2 は一般式（III)におけるＲ2 と同意義を表
す。） 【化５】 （式中、Ｒ2 は一般式（Ｉ）におけるＲ2 と同意義を表
す。）
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30134894A JP3152573B2 (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 |
| CA002483487A CA2483487C (en) | 1994-07-05 | 1995-06-06 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| CA002151074A CA2151074C (en) | 1994-07-05 | 1995-06-06 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| US08/467,829 US5633384A (en) | 1994-07-05 | 1995-06-06 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| DE69522399T DE69522399T2 (de) | 1994-07-05 | 1995-06-07 | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Benzisothiazol-3-onen |
| EP95303896A EP0702008B1 (en) | 1994-07-05 | 1995-06-07 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| EP00202980A EP1081141B1 (en) | 1994-07-05 | 1995-06-07 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| DE69534190T DE69534190T2 (de) | 1994-07-05 | 1995-06-07 | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Benzisothiazol-3-onen |
| TW084105810A TW304949B (ja) | 1994-07-05 | 1995-06-08 | |
| CN95109906A CN1055466C (zh) | 1994-07-05 | 1995-07-05 | 制备1,2－苯并异噻唑－3－酮的方法 |
| KR1019950019687A KR100226302B1 (ko) | 1994-07-05 | 1995-07-05 | 1,2-벤즈이소티아졸-3-온의 제조방법 |
| US08/718,132 US5773626A (en) | 1994-07-05 | 1996-09-18 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30134894A JP3152573B2 (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000240340A Division JP2001089441A (ja) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | ２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08134051A JPH08134051A (ja) | 1996-05-28 |
| JP3152573B2 true JP3152573B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17895791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30134894A Expired - Lifetime JP3152573B2 (ja) | 1994-07-05 | 1994-11-09 | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3152573B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4632502B2 (ja) * | 2000-09-14 | 2011-02-16 | 住友精化株式会社 | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 |
| EP2687520A4 (en) * | 2011-03-18 | 2014-08-13 | Sumitomo Seika Chemicals | PROCESS FOR PREPARING A 1,2-BENZISOTHIAZOL-3-ON COMPOUND |
| CN103429579A (zh) | 2011-03-18 | 2013-12-04 | 住友精化株式会社 | 1,2-苯并异噻唑-3-酮化合物制造方法 |
| JP2012214427A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | １，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンを含有する水性組成物の製造方法 |
| JP2013043881A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | １，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン化合物の製造方法 |
| JP2013043882A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | １，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン化合物の製造方法 |
-
1994
- 1994-11-09 JP JP30134894A patent/JP3152573B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08134051A (ja) | 1996-05-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1081141B1 (en) | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones | |
| JP3152573B2 (ja) | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 | |
| US5508416A (en) | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1,2-benzisothiazol-3-ones | |
| JP2013043882A (ja) | １，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン化合物の製造方法 | |
| JP4632502B2 (ja) | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 | |
| WO2012127996A1 (ja) | １，２－ベンズイソチアゾール－３－オン化合物の製造方法 | |
| JP2001089441A (ja) | ２−（アルキルチオ）ベンゾニトリル類の製造方法 | |
| JP3701044B2 (ja) | シアノベンゼンスルフェニルハライドおよびそれを用いる３−置換ベンゾイソチアゾールの製造方法 | |
| JP3939769B2 (ja) | １，２−ベンズイソチアゾール類の製造方法 | |
| JP3996228B2 (ja) | ３−ピペラジニルベンズイソチアゾール類の製造法 | |
| JPH10114736A (ja) | ２−メチル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノンの製造方法 | |
| JP3495072B2 (ja) | １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 | |
| JP3578489B2 (ja) | １，２−ベンゾイソチアゾール−３−オン類の製造方法 | |
| JPH08143534A (ja) | アルキルフェニルスルホンの製造方法 | |
| JPH08157460A (ja) | イソチアゾール誘導体の製造方法 | |
| KR100220661B1 (ko) | 알킬술피닐벤즈아미드의제조방법 | |
| JP4508377B2 (ja) | スルホニル化合物の製造方法 | |
| JPH0710829A (ja) | フェニルチオベンズアルデヒド類及びチオキサントン類の製造方法 | |
| JPH07145143A (ja) | アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法 | |
| JPH07330745A (ja) | イソチアゾロン誘導体の製造方法 | |
| JPWO2011125423A1 (ja) | ３−ハロ−１，２−ベンゾイソチアゾール類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090126 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090126 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100126 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140126 Year of fee payment: 13 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |