JP2003040857A - N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 - Google Patents
N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法Info
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- JP2003040857A JP2003040857A JP2001225098A JP2001225098A JP2003040857A JP 2003040857 A JP2003040857 A JP 2003040857A JP 2001225098 A JP2001225098 A JP 2001225098A JP 2001225098 A JP2001225098 A JP 2001225098A JP 2003040857 A JP2003040857 A JP 2003040857A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 ゴムの加硫剤や生理活性等で有用な化合物で
あるスルフェンアミド化合物を、有害な試薬を用いるこ
となく、安全にかつ収率よく製造するための工業的に有
利な方法を提供する。 【解決手段】下記一般式(イ) (式中、R1はアルキル基もしくはシクロアルキル基を
示す。R2は、アルキル基のシクロアルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、R2が複数
ある場合は、各R2は互いに同一であっても異なってい
てもよく、nは0〜4である。R3はアルキル基もしく
はシクロアルキル基もしくは芳香族基もしくは複素環基
を示す。)で表されるN-置換スルフェンアミド化合物
を製造する方法において、下記一般式(ロ) で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物
と、下記一般式(ハ)
あるスルフェンアミド化合物を、有害な試薬を用いるこ
となく、安全にかつ収率よく製造するための工業的に有
利な方法を提供する。 【解決手段】下記一般式(イ) (式中、R1はアルキル基もしくはシクロアルキル基を
示す。R2は、アルキル基のシクロアルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、R2が複数
ある場合は、各R2は互いに同一であっても異なってい
てもよく、nは0〜4である。R3はアルキル基もしく
はシクロアルキル基もしくは芳香族基もしくは複素環基
を示す。)で表されるN-置換スルフェンアミド化合物
を製造する方法において、下記一般式(ロ) で表される2-スルフェナモイル安息香酸エステル化合物
と、下記一般式(ハ)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、N-置換あるいは
N,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関
するものである。さらに詳しくは、N-置換あるいは
N,N-ジ置換スルフェンアミド化合物を、2-スルフェ
ナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応する
ことにより、効率よく製造する方法に関するものであ
る。
N,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関
するものである。さらに詳しくは、N-置換あるいは
N,N-ジ置換スルフェンアミド化合物を、2-スルフェ
ナモイル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応する
ことにより、効率よく製造する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】スルフェンアミド化合物は、種々の機能
性を持つことが報告されている(Chem. Rev. 89, 689
(1989))。たとえば、ゴムの加硫化剤(公開特許公報
昭和64−48831;米国特許 第2866777号
(1955))、発芽前処理用除草剤(公開特許公報
昭53−31643)、殺菌剤(公開特許公報 昭55
−51053)等の作用があることが知られている。ま
た、N-モノ置換-2-アルコキシカルボニルフェニルスル
フェンアミド化合物の場合は、下記反応式(ヘ)
性を持つことが報告されている(Chem. Rev. 89, 689
(1989))。たとえば、ゴムの加硫化剤(公開特許公報
昭和64−48831;米国特許 第2866777号
(1955))、発芽前処理用除草剤(公開特許公報
昭53−31643)、殺菌剤(公開特許公報 昭55
−51053)等の作用があることが知られている。ま
た、N-モノ置換-2-アルコキシカルボニルフェニルスル
フェンアミド化合物の場合は、下記反応式(ヘ)
【化7】
に示すように塩基の存在下において容易に環化して(公
開特許公報 昭46−5516;J. Org. Chem., 40, 2
029 (1975))、抗菌・抗バクテリア作用等の生理活性を
持つことが知られている1,2-ベンゾイソチアゾリン-3-
オン化合物を製造することができる。
開特許公報 昭46−5516;J. Org. Chem., 40, 2
029 (1975))、抗菌・抗バクテリア作用等の生理活性を
持つことが知られている1,2-ベンゾイソチアゾリン-3-
オン化合物を製造することができる。
【0003】従来、スルフェンアミド類は、メルカプト
基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理を
した後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を
反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合
物を反応させる方法により製造されていたが、いずれの
方法も出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用
いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問
題もあるので、安全な製造法の開発が望まれている。
基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理を
した後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を
反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合
物を反応させる方法により製造されていたが、いずれの
方法も出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用
いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問
題もあるので、安全な製造法の開発が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、N−置換あ
るいはN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造す
るにあたり、通常の方法である有毒な塩素ガスを用いる
という欠点を克服し、N-置換あるいはN,N-ジ置換ス
ルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な
方法を提供することを目的としてなされたものである。
るいはN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物を製造す
るにあたり、通常の方法である有毒な塩素ガスを用いる
という欠点を克服し、N-置換あるいはN,N-ジ置換ス
ルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な
方法を提供することを目的としてなされたものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、N-置換
あるいはN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造
方法について鋭意研究を重ねた結果、2-スルフェナモイ
ル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することに
より、安全かつ容易にN-置換あるいはN,N-ジ置換ス
ルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
あるいはN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造
方法について鋭意研究を重ねた結果、2-スルフェナモイ
ル安息香酸エステル化合物とアミン類を反応することに
より、安全かつ容易にN-置換あるいはN,N-ジ置換ス
ルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち,本発明によれば,下記一般式
(イ)
(イ)
【化8】
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3は炭素数4〜12のアルキル基
もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭
素数6〜12の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で
表されるN-置換スルフェンアミド化合物を製造する方
法において、下記一般式(ロ)
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3は炭素数4〜12のアルキル基
もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭
素数6〜12の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で
表されるN-置換スルフェンアミド化合物を製造する方
法において、下記一般式(ロ)
【化9】
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ハ)
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ハ)
【化10】
(式中、R3は炭素数4〜12のアルキル基もしくは炭
素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数6〜1
2の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で表されるア
ミン類を反応させることを特徴とするN-置換スルフェ
ンアミド化合物の製造方法が提供される。また,下記一
般式(ニ)
素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数6〜1
2の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で表されるア
ミン類を反応させることを特徴とするN-置換スルフェ
ンアミド化合物の製造方法が提供される。また,下記一
般式(ニ)
【化11】
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3、R4は炭素数2〜12のアル
キル基もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もし
くは炭素数6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3と
R4が互いに連結して窒素原子と共に環を形成している
ものを除く。)で表されるN,N-ジ置換スルフェンア
ミド化合物を製造する方法において、下記一般式(ロ)
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3、R4は炭素数2〜12のアル
キル基もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もし
くは炭素数6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3と
R4が互いに連結して窒素原子と共に環を形成している
ものを除く。)で表されるN,N-ジ置換スルフェンア
ミド化合物を製造する方法において、下記一般式(ロ)
【化12】
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ホ)
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ホ)
【化13】
(式中、R3、R4は炭素数2〜12のアルキル基もし
くは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数
6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3とR4が互い
に連結して窒素原子と共に環を形成しているものを除
く。)で表されるアミン類を反応させることを特徴とす
るN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が
提供される。
くは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数
6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3とR4が互い
に連結して窒素原子と共に環を形成しているものを除
く。)で表されるアミン類を反応させることを特徴とす
るN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が
提供される。
【0007】
【発明実施の形態】本発明の製造目的化合物であるN-
置換換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式(イ)
において、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭
素数3〜6のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基
もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル
基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が
挙げられる。
置換換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式(イ)
において、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭
素数3〜6のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基
もしくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル
基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が
挙げられる。
【0008】また、R2は炭素数1〜8のアルキル基も
しくは炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜8
のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前
記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペン
チル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等
が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。nは0または1
〜4の整数を示す。
しくは炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜8
のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前
記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペン
チル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等
が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。nは0または1
〜4の整数を示す。
【0009】また、R3は炭素数4〜12のアルキル基
もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭
素数6〜12の芳香族基もしくは複素環基を示す。これ
らのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ
基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もし
くはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イ
ソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族
基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフ
チル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族
基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ
基等の置換基を有していてもよい。前記複素環基として
は,2-ピリジル基,4-ピリジル基,2-ピリミジニル基,
2-イミダゾリル基,2-フリル基,2-チエニル基等が挙げ
られる。これらの複素環基はハロゲン原子,アルキル
基,アルコキシル基,ジアルキルアミノ基等の置換基を
有していてもよい。
もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭
素数6〜12の芳香族基もしくは複素環基を示す。これ
らのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ
基等の置換基を有していてもよい。前記アルキル基もし
くはシクロアルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イ
ソブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、クミル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族
基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフ
チル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族
基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ
基等の置換基を有していてもよい。前記複素環基として
は,2-ピリジル基,4-ピリジル基,2-ピリミジニル基,
2-イミダゾリル基,2-フリル基,2-チエニル基等が挙げ
られる。これらの複素環基はハロゲン原子,アルキル
基,アルコキシル基,ジアルキルアミノ基等の置換基を
有していてもよい。
【0010】本発明の製造目的化合物であるN,N-ジ
置換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式(ニ)に
おいて、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基も
しくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、
ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げ
られる。
置換スルフェンアミド化合物を示す前記一般式(ニ)に
おいて、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。前記アルキル基も
しくはシクロアルキル基の具体例を示すと、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、
ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、シク
ロヘキシル基、エトキシエチル基、ベンジル基等が挙げ
られる。
【0011】また、R2は炭素数1〜8のアルキル基も
しくは炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜8
のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前
記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペン
チル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等
が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。nは0または1
〜4の整数を示す。
しくは炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜8
のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。前
記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ペン
チル基、ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、シクロブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等
が挙げられる。前記アルコキシル基の具体例を示すと、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。nは0または1
〜4の整数を示す。
【0012】また、R3,R4は炭素数2〜12のアル
キル基もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もし
くは炭素数6〜12の芳香族基を示す。これらのアルキ
ル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換
基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロ
アルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル
基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミ
ル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基として
は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、
ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロ
ゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置
換基を有していてもよい。
キル基もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もし
くは炭素数6〜12の芳香族基を示す。これらのアルキ
ル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換
基を有していてもよい。前記アルキル基もしくはシクロ
アルキル基の具体例を示すと、ブチル基、イソブチル
基、t-ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、クミ
ル基、ベンジル基等が挙げられる。前記芳香族基として
は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、
ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロ
ゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置
換基を有していてもよい。
【0013】本発明の新規な合成反応は次のような反応
式(ト),(チ)によって表すことができる。
式(ト),(チ)によって表すことができる。
【化14】
【0014】本発明におけるN-置換あるいはN,N-ジ
置換スルフェンアミド化合物の製造は、好ましくは反応
溶媒の存在下で実施されるが、この場合の反応溶媒は、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニ
トリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われ
る。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使
用される。
置換スルフェンアミド化合物の製造は、好ましくは反応
溶媒の存在下で実施されるが、この場合の反応溶媒は、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニ
トリル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われ
る。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使
用される。
【0015】前記製造方法における温度は20℃〜15
0℃付近の温度で行うことができるが、あまり温度が低
すぎると反応時間が遅くなり、温度が高すぎると分解反
応や副反応が多くなるので、50℃〜100℃の範囲で
実施するのが好ましい。反応時間は反応温度により左右
され、一概に定めることはできないが、通常は2〜8時
間で十分である。
0℃付近の温度で行うことができるが、あまり温度が低
すぎると反応時間が遅くなり、温度が高すぎると分解反
応や副反応が多くなるので、50℃〜100℃の範囲で
実施するのが好ましい。反応時間は反応温度により左右
され、一概に定めることはできないが、通常は2〜8時
間で十分である。
【0016】本発明によって得られるN-置換スルフェ
ンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-(N
−フェニル)スルフェナモイル安息香酸メチル、2-[N
-(p-メチルフェニル)]スルフェナモイル安息香酸エ
チル、2-[N-(p-メトキシフェニル)]スルフェナモ
イル安息香酸メチル、2-(N-クミル)スルフェナモイ
ル安息香酸エチル、2-[N-(t-ブチル)]スルフェナ
モイル安息香酸メチル等。また,本発明によって得られ
るN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の代表例は以
下のとおりである。2-[N,N-ジ(2-ヒドロキシエチ
ル)]スルフェナモイル安息香酸エチル、2-(N,N-
ジエチル)スルフェナモイル安息香酸エチル、2-(N,
N-ジベンジル)スルフェナモイル安息香酸エチル等。
ンアミド化合物の代表例は以下のとおりである。2-(N
−フェニル)スルフェナモイル安息香酸メチル、2-[N
-(p-メチルフェニル)]スルフェナモイル安息香酸エ
チル、2-[N-(p-メトキシフェニル)]スルフェナモ
イル安息香酸メチル、2-(N-クミル)スルフェナモイ
ル安息香酸エチル、2-[N-(t-ブチル)]スルフェナ
モイル安息香酸メチル等。また,本発明によって得られ
るN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の代表例は以
下のとおりである。2-[N,N-ジ(2-ヒドロキシエチ
ル)]スルフェナモイル安息香酸エチル、2-(N,N-
ジエチル)スルフェナモイル安息香酸エチル、2-(N,
N-ジベンジル)スルフェナモイル安息香酸エチル等。
【0017】
【実施例】次に、本発明を実施例により詳細に説明す
る。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にする
ために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだ
けに限定されるものではない。なお、下記実施例によっ
て製造されるN-置換あるいはN,N-ジ置換スルフェン
アミド化合物は、既知のものについては融点および各種
スペクトルデータを比較することより、未知のものにつ
いては各種スペクトルを主要な判定基準として同定し
た。
る。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にする
ために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだ
けに限定されるものではない。なお、下記実施例によっ
て製造されるN-置換あるいはN,N-ジ置換スルフェン
アミド化合物は、既知のものについては融点および各種
スペクトルデータを比較することより、未知のものにつ
いては各種スペクトルを主要な判定基準として同定し
た。
【0018】実施例1
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とアニ
リン(186mg,2.0mmol)をトルエン(5m
l)に溶解させ、4時間100℃で加熱した。トルエン
を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製することによ
り2-(N-フェニル)スルフェナモイル安息香酸メチル
を収量108mg、収率52%で得た。この化合物はメ
タノールを用いて再結晶することによりさらに精製する
ことができた。
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とアニ
リン(186mg,2.0mmol)をトルエン(5m
l)に溶解させ、4時間100℃で加熱した。トルエン
を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製することによ
り2-(N-フェニル)スルフェナモイル安息香酸メチル
を収量108mg、収率52%で得た。この化合物はメ
タノールを用いて再結晶することによりさらに精製する
ことができた。
【0019】実施例2
実施例1において、2-スルフェナモイル安息香酸メチル
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な操作を行い、8時間反応させることにより2-(N
-フェニル)スルフェナモイル安息香酸エチルを収率7
1%で得た。この化合物はエタノールを用いて再結晶す
ることによりさらに精製することができた。
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な操作を行い、8時間反応させることにより2-(N
-フェニル)スルフェナモイル安息香酸エチルを収率7
1%で得た。この化合物はエタノールを用いて再結晶す
ることによりさらに精製することができた。
【0020】実施例3
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とp-ト
ルイジン(214mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(p-メチルフェニル)]スルフェナモ
イル安息香酸メチルを収量98mg、収率51%で得
た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用
いて再結晶することによりさらに精製することができ
た。
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とp-ト
ルイジン(214mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(p-メチルフェニル)]スルフェナモ
イル安息香酸メチルを収量98mg、収率51%で得
た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用
いて再結晶することによりさらに精製することができ
た。
【0021】実施例4
実施例3において、2-スルフェナモイル安息香酸メチル
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、2-[N-(p-メチルフェニル)]ス
ルフェナモイル安息香酸エチルを収率71%で得た。こ
の化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再
結晶することによりさらに精製することができた。
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、2-[N-(p-メチルフェニル)]ス
ルフェナモイル安息香酸エチルを収率71%で得た。こ
の化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再
結晶することによりさらに精製することができた。
【0022】実施例5
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とp-ア
ニシジン(246mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(p-メトキシフェニル)]スルフェナ
モイル安息香酸メチルを収量125mg、収率54%で
得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を
用いて再結晶することによりさらに精製することができ
た。
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とp-ア
ニシジン(246mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(p-メトキシフェニル)]スルフェナ
モイル安息香酸メチルを収量125mg、収率54%で
得た。この化合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を
用いて再結晶することによりさらに精製することができ
た。
【0023】実施例6
実施例5において、2-スルフェナモイル安息香酸メチル
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、8時間反応させることにより2-[N
-(p-メトキシフェニル)]スルフェナモイル安息香酸
エチルを収率62%で得た。この化合物は塩化メチレン
-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさら
に精製することができた。
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、8時間反応させることにより2-[N
-(p-メトキシフェニル)]スルフェナモイル安息香酸
エチルを収率62%で得た。この化合物は塩化メチレン
-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさら
に精製することができた。
【0024】実施例7
内容積10mlのガラス製封管中に2-スルフェナモイル
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とt-ブ
チルアミン(366mg,5.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(t-ブチル)]スルフェナモイル安息
香酸メチルを収量59mg、収率31%で得た。この化
合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶
することによりさらに精製することができた。
安息香酸メチル(146mg,0.8mmol)とt-ブ
チルアミン(366mg,5.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン)で精製するこ
とにより2-[N-(t-ブチル)]スルフェナモイル安息
香酸メチルを収量59mg、収率31%で得た。この化
合物は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶
することによりさらに精製することができた。
【0025】実施例8
実施例7において、2-スルフェナモイル安息香酸メチル
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、2-[N-(t-ブチル)]スルフェナ
モイル安息香酸エチルを収率55%で得た。この化合物
は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶する
ことによりさらに精製することができた。
の代わりに2-スルフェナモイル安息香酸エチルを用いて
同様な反応を行い、2-[N-(t-ブチル)]スルフェナ
モイル安息香酸エチルを収率55%で得た。この化合物
は塩化メチレン-ヘキサン混合溶媒を用いて再結晶する
ことによりさらに精製することができた。
【0026】実施例9
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とクミ
ルアミン(270mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、6時間100℃で加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
2:1)で精製することにより2-(N-クミル)スルフ
ェナモイル安息香酸エチルを収量169mg、収率67
%で得た。この化合物はエタノール-ヘキサン混合溶媒
を用いて再結晶することによりさらに精製することがで
きた。
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とクミ
ルアミン(270mg,2.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、6時間100℃で加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
2:1)で精製することにより2-(N-クミル)スルフ
ェナモイル安息香酸エチルを収量169mg、収率67
%で得た。この化合物はエタノール-ヘキサン混合溶媒
を用いて再結晶することによりさらに精製することがで
きた。
【0027】実施例10
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)と2-ア
ミノピリジン(188mg,2.0mmol)をトルエ
ン(5ml)に溶解させ、8時間100℃で加熱した。
トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:酢酸エチル
=20:1)で精製することにより2-[N-(2-ピリジ
ル)]スルフェナモイル安息香酸エチルを収量79m
g、収率36%で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘ
キサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精
製することができた。
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)と2-ア
ミノピリジン(188mg,2.0mmol)をトルエ
ン(5ml)に溶解させ、8時間100℃で加熱した。
トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:酢酸エチル
=20:1)で精製することにより2-[N-(2-ピリジ
ル)]スルフェナモイル安息香酸エチルを収量79m
g、収率36%で得た。この化合物は塩化メチレン-ヘ
キサン混合溶媒を用いて再結晶することによりさらに精
製することができた。
【0028】実施例11
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジエ
タノールアミン(210mg,2.0mmol)をトル
エン(5ml)に溶解させ、4時間100℃で加熱し
た。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲル
クロマトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:アセト
ン:メタンオール=100:40;8)で精製すること
により2-[(N,N-ジ(2-ヒドロキシエチル)]スル
フェナモイル安息香酸エチルを収量119mg、収率5
2%で得た。
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジエ
タノールアミン(210mg,2.0mmol)をトル
エン(5ml)に溶解させ、4時間100℃で加熱し
た。トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲル
クロマトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:アセト
ン:メタンオール=100:40;8)で精製すること
により2-[(N,N-ジ(2-ヒドロキシエチル)]スル
フェナモイル安息香酸エチルを収量119mg、収率5
2%で得た。
【0029】実施例12
内容積10mlのガラス製封管中に2-スルフェナモイル
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジエ
チルアミン(366mg,5.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
1:1)で精製することにより2-(N,N-ジエチル)
スルフェナモイル安息香酸エチルを収量83mg、収率
41%で得た。
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジエ
チルアミン(366mg,5.0mmol)をトルエン
(5ml)に溶解させ、100℃で4時間加熱した。ト
ルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
1:1)で精製することにより2-(N,N-ジエチル)
スルフェナモイル安息香酸エチルを収量83mg、収率
41%で得た。
【0030】実施例13
内容積30mlのガラス製容器中に2-スルフェナモイル
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジベ
ンジルアミン(395mg,2.0mmol)をトルエ
ン(5ml)に溶解させ、4時間100℃で加熱した。
トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
2:1)で精製することにより2-(N,N-ジベンジ
ル)スルフェナモイル安息香酸エチルを収量211m
g、収率70%で得た。
安息香酸エチル(146mg,0.8mmol)とジベ
ンジルアミン(395mg,2.0mmol)をトルエ
ン(5ml)に溶解させ、4時間100℃で加熱した。
トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィー(溶出溶媒 塩化メチレン:ヘキサン=
2:1)で精製することにより2-(N,N-ジベンジ
ル)スルフェナモイル安息香酸エチルを収量211m
g、収率70%で得た。
【0031】
【発明の効果】本発明における2-スルフェナモイル安息
香酸エステル化合物とアミン類の反応により、N-置換
あるいはN,N-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エ
ステル化合物を収率よく製造することができる。しか
も、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できる
ので、工業的なN-置換あるいはN,N-ジ置換2-スルフ
ェナモイル安息香酸エステル化合物の合成法として最適
である。
香酸エステル化合物とアミン類の反応により、N-置換
あるいはN,N-ジ置換2-スルフェナモイル安息香酸エ
ステル化合物を収率よく製造することができる。しか
も、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できる
ので、工業的なN-置換あるいはN,N-ジ置換2-スルフ
ェナモイル安息香酸エステル化合物の合成法として最適
である。
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式(イ) 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3は炭素数4〜12のアルキル基
もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭
素数6〜12の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で
表されるN-置換スルフェンアミド化合物を製造する方
法において、下記一般式(ロ) 【化2】 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ハ) 【化3】 (式中、R3は炭素数4〜12のアルキル基もしくは炭
素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数6〜1
2の芳香族基もしくは複素環基を示す。)で表されるア
ミン類を反応させることを特徴とするN-置換スルフェ
ンアミド化合物の製造方法。 - 【請求項2】下記一般式(ニ) 【化4】 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。R3、R4は炭素数2〜12のアル
キル基もしくは炭素数3〜12のシクロアルキル基もし
くは炭素数6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3と
R4が互いに連結して窒素原子と共に環を形成している
ものを除く。)で表されるN,N-ジ置換スルフェンア
ミド化合物を製造する方法において、下記一般式(ロ) 【化5】 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素
数3〜6のシクロアルキル基を示す。R2は、炭素数1
〜8のアルキル基もしくは炭素数3〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、ハロゲン原子、
ニトロ基を示し、R2が複数ある場合は、各R2は互い
に同一であっても異なっていてもよく、nは0または1
〜4の整数である。)で表される2-スルフェナモイル安
息香酸エステル化合物と、下記一般式(ホ) 【化6】 (式中、R3、R4は炭素数2〜12のアルキル基もし
くは炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは炭素数
6〜12の芳香族基を示す。ただし、R3とR4が互い
に連結して窒素原子と共に環を形成しているものを除
く。)で表されるアミン類を反応させることを特徴とす
るN,N-ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001225098A JP3896450B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001225098A JP3896450B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003040857A true JP2003040857A (ja) | 2003-02-13 |
JP3896450B2 JP3896450B2 (ja) | 2007-03-22 |
Family
ID=19058145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001225098A Expired - Lifetime JP3896450B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | N−置換あるいはn,n−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3896450B2 (ja) |
-
2001
- 2001-07-25 JP JP2001225098A patent/JP3896450B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3896450B2 (ja) | 2007-03-22 |
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