JPH07312186A - 反射帯電防止型陰極線管およびその製造方法 - Google Patents
反射帯電防止型陰極線管およびその製造方法Info
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- JPH07312186A JPH07312186A JP6102704A JP10270494A JPH07312186A JP H07312186 A JPH07312186 A JP H07312186A JP 6102704 A JP6102704 A JP 6102704A JP 10270494 A JP10270494 A JP 10270494A JP H07312186 A JPH07312186 A JP H07312186A
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 低反射率波長域の広い３層膜からなる反射帯
電防止膜を有する陰極線管を得ることを目的とする。 【構成】 反射帯電防止型陰極線管において、その反射
帯電防止膜11を３層膜とし、その第１、第２、第３層を
それぞれ屈折率２．００以下の物質を用いて液相法によ
り、λ0 を最も視感度の高い入射光の波長として第１層
の屈折率、膜厚をｎ1 ＝１．６５〜１．７５、０．９×
λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４、第２層の屈折
率、膜厚をｎ2 ＝１．９０〜２．００、０．９×λ0 ／
２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２、第３層の屈折率、膜
厚をｎ3 ＝１．４０〜１．４５、０．９×λ0 ／４≦ｎ
3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４に形成した。
電防止膜を有する陰極線管を得ることを目的とする。 【構成】 反射帯電防止型陰極線管において、その反射
帯電防止膜11を３層膜とし、その第１、第２、第３層を
それぞれ屈折率２．００以下の物質を用いて液相法によ
り、λ0 を最も視感度の高い入射光の波長として第１層
の屈折率、膜厚をｎ1 ＝１．６５〜１．７５、０．９×
λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４、第２層の屈折
率、膜厚をｎ2 ＝１．９０〜２．００、０．９×λ0 ／
２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２、第３層の屈折率、膜
厚をｎ3 ＝１．４０〜１．４５、０．９×λ0 ／４≦ｎ
3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４に形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、陰極線管のフェース
外表面に反射帯電防止膜を有する反射帯電防止型陰極線
管およびその製造方法に関する。
外表面に反射帯電防止膜を有する反射帯電防止型陰極線
管およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に陰極線管は、図４に示すように、
ガラスからなるフェース１の内面に蛍光体スクリーン２
が形成され、この蛍光体スクリーン２をファンネル３の
ネック４内に配置された電子銃５から放出される電子ビ
ームにより水平、垂直走査することにより、画像を表示
する構造に形成されている。カラー陰極線管において
は、さらに蛍光体スクリーン２に対向して、その内側に
シャドウマスク６配置されている。なお、７はフェース
１の側壁を緊締する防爆バンドである。
ガラスからなるフェース１の内面に蛍光体スクリーン２
が形成され、この蛍光体スクリーン２をファンネル３の
ネック４内に配置された電子銃５から放出される電子ビ
ームにより水平、垂直走査することにより、画像を表示
する構造に形成されている。カラー陰極線管において
は、さらに蛍光体スクリーン２に対向して、その内側に
シャドウマスク６配置されている。なお、７はフェース
１の側壁を緊締する防爆バンドである。
【０００３】このような陰極線管において、特に高輝度
画像を表示するために、蛍光体スクリーン２に高電圧が
印加される陰極線管では、その高電圧がフェース１の外
表面に誘導されて帯電し、この帯電によりフェース１の
外表面にごみなどが付着すると、画像が見にくくなる。
またこのフェース１の外表面に人体が接触した場合、電
撃を受ける。また一般に陰極線管のフェース１の外表面
は、鏡面に形成されているため、このフェース１の外表
面で外光の反射がおこり、フェース１を通して見る画像
のコントラストが劣化する。特にコンピュータのディス
プレイなどでは、近距離から画面を見ることが多いた
め、この外光の反射が目の疲労を促進する。
画像を表示するために、蛍光体スクリーン２に高電圧が
印加される陰極線管では、その高電圧がフェース１の外
表面に誘導されて帯電し、この帯電によりフェース１の
外表面にごみなどが付着すると、画像が見にくくなる。
またこのフェース１の外表面に人体が接触した場合、電
撃を受ける。また一般に陰極線管のフェース１の外表面
は、鏡面に形成されているため、このフェース１の外表
面で外光の反射がおこり、フェース１を通して見る画像
のコントラストが劣化する。特にコンピュータのディス
プレイなどでは、近距離から画面を見ることが多いた
め、この外光の反射が目の疲労を促進する。
【０００４】このようなフェース外表面の帯電あるいは
外光の反射を防止するため、従来よりフェース外表面に
反射および帯電防止効果もつ反射帯電防止膜を形成する
ことが知られている。
外光の反射を防止するため、従来よりフェース外表面に
反射および帯電防止効果もつ反射帯電防止膜を形成する
ことが知られている。
【０００５】この反射帯電防止膜を均一かつ安価に形成
する方法として、シリコンアルコキシドのアルコール溶
液に導電性金属酸化物の微粒子を分散させた分散液をス
プレー法によりフェース外表面に塗布し、焼成して凹凸
膜を形成し、導電性金属酸化物微粒子によって導電性を
付与するとともに、その表面の微細な凹凸により外光を
拡散反射して反射率を低減させる方法がある。しかしこ
の方法により形成される反射帯電防止膜は、表面が凹凸
であるため、この反射帯電防止膜を通してみる画像がぼ
け、解像度が劣化する。また表面の微細な凹凸のために
画面が白ぽっくなり、コントラストが劣化するなどの問
題がある。
する方法として、シリコンアルコキシドのアルコール溶
液に導電性金属酸化物の微粒子を分散させた分散液をス
プレー法によりフェース外表面に塗布し、焼成して凹凸
膜を形成し、導電性金属酸化物微粒子によって導電性を
付与するとともに、その表面の微細な凹凸により外光を
拡散反射して反射率を低減させる方法がある。しかしこ
の方法により形成される反射帯電防止膜は、表面が凹凸
であるため、この反射帯電防止膜を通してみる画像がぼ
け、解像度が劣化する。また表面の微細な凹凸のために
画面が白ぽっくなり、コントラストが劣化するなどの問
題がある。
【０００６】また、他の形成方法として、真空蒸着やス
パッタリングなどの気相法により、ガラスプレート上に
光学多層膜を形成し、このガラスプレートをフェース外
表面に接着して光の干渉効果により反射を防止する方法
がある。しかしこの方法は、気相法により光学多層膜を
形成するため、大掛りな装置が必要であり、製造コスト
が高くなるなどの問題がある。そのため、一部の高級機
種にしか採用できないという問題がある。
パッタリングなどの気相法により、ガラスプレート上に
光学多層膜を形成し、このガラスプレートをフェース外
表面に接着して光の干渉効果により反射を防止する方法
がある。しかしこの方法は、気相法により光学多層膜を
形成するため、大掛りな装置が必要であり、製造コスト
が高くなるなどの問題がある。そのため、一部の高級機
種にしか採用できないという問題がある。
【０００７】上述の問題点を解決する方法として、最近
液相法によりフェース外表面に多層膜からなる反射防止
膜を形成する方法が開発されている。この方法によれ
ば、低コストで解像度やコントラストの低下のない反射
防止膜を形成することができる。しかしこの液相法は、
膜厚の制御がむつかしいので、２〜３層膜程度するのが
望ましく、４層膜以上にすることは、製造上、非常にむ
つくしくなる。
液相法によりフェース外表面に多層膜からなる反射防止
膜を形成する方法が開発されている。この方法によれ
ば、低コストで解像度やコントラストの低下のない反射
防止膜を形成することができる。しかしこの液相法は、
膜厚の制御がむつかしいので、２〜３層膜程度するのが
望ましく、４層膜以上にすることは、製造上、非常にむ
つくしくなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、陰極線
管の反射防止膜の形成方法として、液相法により多層膜
からなる反射防止膜を形成する方法が開発されている。
しかしこの液相法による多層膜の形成は、膜厚の制御
上、４層膜以上にすることは非常にむつくしく、２〜３
層膜程度するのが望ましい。
管の反射防止膜の形成方法として、液相法により多層膜
からなる反射防止膜を形成する方法が開発されている。
しかしこの液相法による多層膜の形成は、膜厚の制御
上、４層膜以上にすることは非常にむつくしく、２〜３
層膜程度するのが望ましい。
【０００９】この液相法により２〜３層膜からなる反射
防止膜を形成する場合、重要なことは、各膜の屈折率と
膜厚である。２層膜からなる反射防止膜では、空気の屈
折率をｎ0 （ｎ0 ＝１．００）、ガラスからなるフェー
スの屈折率をｎs （ｎs ＝１．５２）、フェース外表面
側に第１層の屈折率をｎ1 、この第１層上の第２層の屈
折率をｎ2 とし、第１層の膜厚をｄ1 、第２層の膜厚を
ｄ2 、最も視感度の高い入射光の波長をλ0 （λ0 ＝５
５０nm）とすると、分光反射率の計算から、 ｎ1 ／ｎ2 ＝（ｎs ／ｎ0 ）1/2 ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ＝λ0 ／４ にすればよい。
防止膜を形成する場合、重要なことは、各膜の屈折率と
膜厚である。２層膜からなる反射防止膜では、空気の屈
折率をｎ0 （ｎ0 ＝１．００）、ガラスからなるフェー
スの屈折率をｎs （ｎs ＝１．５２）、フェース外表面
側に第１層の屈折率をｎ1 、この第１層上の第２層の屈
折率をｎ2 とし、第１層の膜厚をｄ1 、第２層の膜厚を
ｄ2 、最も視感度の高い入射光の波長をλ0 （λ0 ＝５
５０nm）とすると、分光反射率の計算から、 ｎ1 ／ｎ2 ＝（ｎs ／ｎ0 ）1/2 ｎ1 ｄ1 ＝ｎ2 ｄ2 ＝λ0 ／４ にすればよい。
【００１０】この場合、第２層の屈折率ｎ2 をできるか
ぎり下げることが望まれる。そこで、液相法により得ら
れる第２層の屈折率ｎ2 として、最も低い屈折率が得ら
れるＭg Ｆ2 とＳi Ｏ2 との混合物の屈折率 ｎ2 ＝１．４０ を利用して、上式を満たすｎ1 、ｄ1 、ｄ2 を求める
と、 ｎ1 ＝１．７３ ｄ1 ＝７９nm ｄ2 ＝９８nm となる。しかしこれら屈折率、膜厚で２層膜を形成する
と、λ0 近傍の入射光に対しては低反射となるが、可視
光波長の両端近傍の入射光に対しては反射率が高くな
り、反射防止膜の色付きが大きくなるので好ましくな
い。
ぎり下げることが望まれる。そこで、液相法により得ら
れる第２層の屈折率ｎ2 として、最も低い屈折率が得ら
れるＭg Ｆ2 とＳi Ｏ2 との混合物の屈折率 ｎ2 ＝１．４０ を利用して、上式を満たすｎ1 、ｄ1 、ｄ2 を求める
と、 ｎ1 ＝１．７３ ｄ1 ＝７９nm ｄ2 ＝９８nm となる。しかしこれら屈折率、膜厚で２層膜を形成する
と、λ0 近傍の入射光に対しては低反射となるが、可視
光波長の両端近傍の入射光に対しては反射率が高くな
り、反射防止膜の色付きが大きくなるので好ましくな
い。
【００１１】これに対して、３層膜からなる反射防止膜
は、２層膜にくらべて低反射率波長域を広くすることが
できる。この場合、３層膜の最外層の第３層の屈折率ｎ
3 を上記２層膜のように液相法により得られる最も低い
屈折率 ｎ3 ＝１．４０ にして、低反射率波長域が広くなるように構成するため
には、第１、第２、第３層をつぎの表１、表２のいずれ
かの条件を満足する屈折率、膜厚にする必要がある。
は、２層膜にくらべて低反射率波長域を広くすることが
できる。この場合、３層膜の最外層の第３層の屈折率ｎ
3 を上記２層膜のように液相法により得られる最も低い
屈折率 ｎ3 ＝１．４０ にして、低反射率波長域が広くなるように構成するため
には、第１、第２、第３層をつぎの表１、表２のいずれ
かの条件を満足する屈折率、膜厚にする必要がある。
【００１２】
【表１】
【表２】 しかし実際にこのような屈折率、膜厚で３層膜を形成し
ようとすると、つぎのような問題がある。すなわち、高
屈折率物質として用いられるＴi Ｏ2 の屈折率は、結晶
体の場合は約２．５０であるが、液相法により陰極線管
のフェース外表面上に反射防止膜を形成する場合は、そ
の後の焼成温度が２００℃程度であるため、この程度の
温度では、Ｔi Ｏ2 は完全に結晶化せず、Ｔi Ｏ2 の屈
折率は、２．００以上にはならないということが本発明
者等らの実験により判明している。また液相法により形
成された３層膜からなる反射防止膜は、可視光波長域の
両端近傍の反射率が高くなり、反射防止膜の色付きが大
きくなる。つまり、表１、表２に示した３層膜を液相法
により形成することは困難であり、しかも３層膜本来の
低反射率波長域の広い反射防止膜を形成することはでき
ないという問題がある。
ようとすると、つぎのような問題がある。すなわち、高
屈折率物質として用いられるＴi Ｏ2 の屈折率は、結晶
体の場合は約２．５０であるが、液相法により陰極線管
のフェース外表面上に反射防止膜を形成する場合は、そ
の後の焼成温度が２００℃程度であるため、この程度の
温度では、Ｔi Ｏ2 は完全に結晶化せず、Ｔi Ｏ2 の屈
折率は、２．００以上にはならないということが本発明
者等らの実験により判明している。また液相法により形
成された３層膜からなる反射防止膜は、可視光波長域の
両端近傍の反射率が高くなり、反射防止膜の色付きが大
きくなる。つまり、表１、表２に示した３層膜を液相法
により形成することは困難であり、しかも３層膜本来の
低反射率波長域の広い反射防止膜を形成することはでき
ないという問題がある。
【００１３】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、屈折率が２．００以下の物質を用
いて、低反射率波長域の広い反射特性をもつ３層膜から
なる反射帯電防止膜を有する陰極線管およびこの製造方
法を得ることを目的とする。
なされたものであり、屈折率が２．００以下の物質を用
いて、低反射率波長域の広い反射特性をもつ３層膜から
なる反射帯電防止膜を有する陰極線管およびこの製造方
法を得ることを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】フェース外表面に反射帯
電防止膜を有する反射帯電防止型陰極線管において、そ
の反射帯電防止膜を３層膜とし、視感度の最も高い入射
光の波長をλ0 （λ0＝５５０nm）とし、フェース外表
面上の第１層の屈折率をｎ1 、膜厚をｄ1 、第１層上の
第２層の屈折率をｎ2 、膜厚をｄ2 、第２層上の第３層
の屈折率をｎ3、膜厚をｄ3 とするとき、第１層が ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ 第２層が ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ 第３層が ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する屈折率および膜厚に形成した。
電防止膜を有する反射帯電防止型陰極線管において、そ
の反射帯電防止膜を３層膜とし、視感度の最も高い入射
光の波長をλ0 （λ0＝５５０nm）とし、フェース外表
面上の第１層の屈折率をｎ1 、膜厚をｄ1 、第１層上の
第２層の屈折率をｎ2 、膜厚をｄ2 、第２層上の第３層
の屈折率をｎ3、膜厚をｄ3 とするとき、第１層が ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ 第２層が ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ 第３層が ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する屈折率および膜厚に形成した。
【００１５】また、その第１層をＳn Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，
Ｓi Ｏ2 の混合物、第２層をＴi Ｏ2 、第３層をＭg Ｆ
2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物で構成した。
Ｓi Ｏ2 の混合物、第２層をＴi Ｏ2 、第３層をＭg Ｆ
2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物で構成した。
【００１６】また、フェース外表面に反射帯電防止膜を
形成する反射帯電防止型陰極線管の製造方法において、
フェース外表面上に液相法によりＳn Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，
ＳiＯ2 の混合物からなる第１層を形成し、この第１層
上に液相法によりＴi Ｏ2 からなる第２層を形成し、こ
の第２層上に液相法によりＭg Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物
からなる第３層を形成した。
形成する反射帯電防止型陰極線管の製造方法において、
フェース外表面上に液相法によりＳn Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，
ＳiＯ2 の混合物からなる第１層を形成し、この第１層
上に液相法によりＴi Ｏ2 からなる第２層を形成し、こ
の第２層上に液相法によりＭg Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物
からなる第３層を形成した。
【００１７】
【作用】上記のように３層膜からなる反射帯電防止膜を
構成すると、液相法により成膜したのち、２００℃の低
温焼成により屈折率が２．００以下となる物質を用いて
も、陰極線管のフェース外表面上に、低反射波長域が広
くかつ反射防止膜の色付きが少なく、しかも帯電防止効
果をもつ反射帯電防止膜を形成することができる。
構成すると、液相法により成膜したのち、２００℃の低
温焼成により屈折率が２．００以下となる物質を用いて
も、陰極線管のフェース外表面上に、低反射波長域が広
くかつ反射防止膜の色付きが少なく、しかも帯電防止効
果をもつ反射帯電防止膜を形成することができる。
【００１８】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００１９】図１にその一実施例である反射帯電防止型
陰極線管を示す。この陰極線管は、カラー陰極線管であ
り、周辺部にスカート部１０が形成されたガラスからな
るフェース１（パネル）とこのフェース１のスカート部
１０に接合されたファンネル３からなる外囲器を有し、
そのフェース１の内面に、３色蛍光体層からなる蛍光体
スクリーン２が形成され、この蛍光体スクリーン２に対
向して、その内側にシャドウマスク６が配置されてい
る。一方、ファンネル３のネック４内に電子銃５が配置
されている。さらにフェース１のスカート部１０の外周
に防爆バンド７が取付けられている。またフェース１の
外表面上に反射帯電防止膜１１が設けられている。この
反射帯電防止膜１１は、アース接続のめに、その周辺部
が上記防爆バンド７に接続されている。
陰極線管を示す。この陰極線管は、カラー陰極線管であ
り、周辺部にスカート部１０が形成されたガラスからな
るフェース１（パネル）とこのフェース１のスカート部
１０に接合されたファンネル３からなる外囲器を有し、
そのフェース１の内面に、３色蛍光体層からなる蛍光体
スクリーン２が形成され、この蛍光体スクリーン２に対
向して、その内側にシャドウマスク６が配置されてい
る。一方、ファンネル３のネック４内に電子銃５が配置
されている。さらにフェース１のスカート部１０の外周
に防爆バンド７が取付けられている。またフェース１の
外表面上に反射帯電防止膜１１が設けられている。この
反射帯電防止膜１１は、アース接続のめに、その周辺部
が上記防爆バンド７に接続されている。
【００２０】上記反射帯電防止膜１１は、図２に示すよ
うに、フェース１の外表面上に順次積層形成された第
１、第２、第３層１２a ，１２b ，１２c の３層膜から
なる。そのフェース１側の第１層１２a は、Ｓn Ｏ2 ，
Ｔi Ｏ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物からなり、屈折率ｎ1 およ
び膜厚ｄ1 が、それぞれ ｎ1 ＝１．７０ ｄ1 ＝λ0 ／４ｎ1 ＝８１nm に形成されている。この反射帯電防止膜１１の導電特性
は、この第１層１２a 中のＳn Ｏ2 により付与される。
うに、フェース１の外表面上に順次積層形成された第
１、第２、第３層１２a ，１２b ，１２c の３層膜から
なる。そのフェース１側の第１層１２a は、Ｓn Ｏ2 ，
Ｔi Ｏ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物からなり、屈折率ｎ1 およ
び膜厚ｄ1 が、それぞれ ｎ1 ＝１．７０ ｄ1 ＝λ0 ／４ｎ1 ＝８１nm に形成されている。この反射帯電防止膜１１の導電特性
は、この第１層１２a 中のＳn Ｏ2 により付与される。
【００２１】上記第１層１２a 上の第２層１２b は、Ｔ
i Ｏ2 からなり、屈折率ｎ2 および膜厚ｄ2 が、それぞ
れ ｎ2 ＝１．９２ ｄ1 ＝λ0 ／２ｎ2 ＝１４３nm に形成されている。
i Ｏ2 からなり、屈折率ｎ2 および膜厚ｄ2 が、それぞ
れ ｎ2 ＝１．９２ ｄ1 ＝λ0 ／２ｎ2 ＝１４３nm に形成されている。
【００２２】この第２層１２b 上の第３層１２c は、Ｍ
g Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物からなり、屈折率ｎ3 および
膜厚ｄ3 が、それぞれ ｎ3 ＝１．４２ ｄ3 ＝λ0 ／４ｎ3 ＝９７nm に形成されている。
g Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物からなり、屈折率ｎ3 および
膜厚ｄ3 が、それぞれ ｎ3 ＝１．４２ ｄ3 ＝λ0 ／４ｎ3 ＝９７nm に形成されている。
【００２３】この３層膜からなる反射帯電防止膜１１
は、液相法により形成される。まずアルコールに可溶な
チタニウム化合物およびシラン化合物のアルコール溶液
にＳnＯ2 の微粒子を分散した分散液をスピンコート法
によりフェースの外表面上に塗布し乾燥したのち、この
塗布膜を２００℃の温度で焼成して第１層を成膜する。
つぎに、チタニウムアルコキシドや四塩化チタンなどの
アルコール可溶チタニウム化合物のアルコール溶液をス
ピンコート法により上記第１層上に塗布し乾燥して第２
層を成膜する。その後、シリコンアルコキシドのアルコ
ール溶液にＭgＦ2 の微粒子を分散した分散液をスピン
コート法により上記第２層上に塗布し乾燥したのち、こ
の塗布膜を第２層とともに２００℃の温度で焼成して第
３層を形成する。
は、液相法により形成される。まずアルコールに可溶な
チタニウム化合物およびシラン化合物のアルコール溶液
にＳnＯ2 の微粒子を分散した分散液をスピンコート法
によりフェースの外表面上に塗布し乾燥したのち、この
塗布膜を２００℃の温度で焼成して第１層を成膜する。
つぎに、チタニウムアルコキシドや四塩化チタンなどの
アルコール可溶チタニウム化合物のアルコール溶液をス
ピンコート法により上記第１層上に塗布し乾燥して第２
層を成膜する。その後、シリコンアルコキシドのアルコ
ール溶液にＭgＦ2 の微粒子を分散した分散液をスピン
コート法により上記第２層上に塗布し乾燥したのち、こ
の塗布膜を第２層とともに２００℃の温度で焼成して第
３層を形成する。
【００２４】ところで、上記のようにフェースの外表面
上に３層膜からなる反射帯電防止膜１１を形成すると、
その第１層、第２層、第３層にそれぞれ屈折率ｎが２．
００以下の物質を用いて形成しても、最も視感度の高い
波長（λ0 ＝５５０nm）近傍で十分に低い反射率をも
ち、低反射波長域が広く、かつ反射防止膜の色付きが少
なく、しかも帯電防止効果をもつ反射帯電防止膜とする
ことができる。
上に３層膜からなる反射帯電防止膜１１を形成すると、
その第１層、第２層、第３層にそれぞれ屈折率ｎが２．
００以下の物質を用いて形成しても、最も視感度の高い
波長（λ0 ＝５５０nm）近傍で十分に低い反射率をも
ち、低反射波長域が広く、かつ反射防止膜の色付きが少
なく、しかも帯電防止効果をもつ反射帯電防止膜とする
ことができる。
【００２５】すなわち、図２に、前述した屈折率ｎ1 が
１．７３、膜厚ｄ1 が７９nmの第１層と、屈折率ｎ2 が
１．４０、膜厚ｄ2 が９８nmの第２層とからなる２層膜
の反射率を曲線１４で、また表１に示した３層膜の反射
率を曲線１５a 、表２に示した３層膜の反射率を曲線１
５b で示したが、これら２層膜および３層膜は、いずれ
も最も視感度の高い波長近傍では、十分に反射率が低く
なっているが、可視光波長域の両端近傍で反射率が高い
ために低反射波長域が比較的狭く、かつその可視光波長
域の両端近傍で反射率が高いために反射防止膜の色付き
が大きくなった。しかし上述した屈折率ｎ1 が１．７
０、膜厚ｄ1 が８１nmの第１層と、屈折率ｎ2 が１．９
２、膜厚ｄ2 が１４３nmの第２層と、屈折率ｎ3 が１．
４２、膜厚ｄ3 が９７nmの第３層とからなるこの例の反
射帯電防止膜１１の反射率は、曲線１６で示すように、
最も視感度の高い波長近傍で十分に低い反射率となって
いるばかりでなく、可視光波長域の両端近傍でも、反射
率はあまり高くならず、広い低反射波長域をもち、かつ
反射防止膜の色付きが少ない良好なものとなっいてる。
１．７３、膜厚ｄ1 が７９nmの第１層と、屈折率ｎ2 が
１．４０、膜厚ｄ2 が９８nmの第２層とからなる２層膜
の反射率を曲線１４で、また表１に示した３層膜の反射
率を曲線１５a 、表２に示した３層膜の反射率を曲線１
５b で示したが、これら２層膜および３層膜は、いずれ
も最も視感度の高い波長近傍では、十分に反射率が低く
なっているが、可視光波長域の両端近傍で反射率が高い
ために低反射波長域が比較的狭く、かつその可視光波長
域の両端近傍で反射率が高いために反射防止膜の色付き
が大きくなった。しかし上述した屈折率ｎ1 が１．７
０、膜厚ｄ1 が８１nmの第１層と、屈折率ｎ2 が１．９
２、膜厚ｄ2 が１４３nmの第２層と、屈折率ｎ3 が１．
４２、膜厚ｄ3 が９７nmの第３層とからなるこの例の反
射帯電防止膜１１の反射率は、曲線１６で示すように、
最も視感度の高い波長近傍で十分に低い反射率となって
いるばかりでなく、可視光波長域の両端近傍でも、反射
率はあまり高くならず、広い低反射波長域をもち、かつ
反射防止膜の色付きが少ない良好なものとなっいてる。
【００２６】なお、上記実施例では、反射帯電防止膜の
フェース側の第１層の屈折率ｎ1 を１．７０、膜厚ｄ1
を８１nm、この第１層上の第２層の屈折率ｎ2 を１．９
２、膜厚ｄ2 を１４３nm、この第２層上の第３層の屈折
率ｎ3 を１．４２、膜厚ｄ3を９７nmとしたが、この３
層膜からなる反射帯電防止膜は、各層を成膜するための
分散液の組成や塗布条件を変えることにより変化させる
ことができ、それにより、第１層の屈折率ｎ1 、膜厚ｄ
1 を、 ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ とし、第２層の屈折率ｎ2 、膜厚ｄ2 を、 ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ とし、第３層の屈折率ｎ3 、膜厚ｄ3 を、 ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ の範囲としても、同様の効果をもつ反射帯電防止膜とす
ることができる。
フェース側の第１層の屈折率ｎ1 を１．７０、膜厚ｄ1
を８１nm、この第１層上の第２層の屈折率ｎ2 を１．９
２、膜厚ｄ2 を１４３nm、この第２層上の第３層の屈折
率ｎ3 を１．４２、膜厚ｄ3を９７nmとしたが、この３
層膜からなる反射帯電防止膜は、各層を成膜するための
分散液の組成や塗布条件を変えることにより変化させる
ことができ、それにより、第１層の屈折率ｎ1 、膜厚ｄ
1 を、 ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ とし、第２層の屈折率ｎ2 、膜厚ｄ2 を、 ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ とし、第３層の屈折率ｎ3 、膜厚ｄ3 を、 ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ の範囲としても、同様の効果をもつ反射帯電防止膜とす
ることができる。
【００２７】なお、上記実施例では、カラー陰極線管に
ついて説明したが、この発明は、カラー陰極線管以外の
陰極線管にも適用可能である。
ついて説明したが、この発明は、カラー陰極線管以外の
陰極線管にも適用可能である。
【００２８】
【発明の効果】フェース外表面の反射帯電防止膜を３層
膜とし、そのフェース外表面側に屈折率ｎ1 、膜厚ｄ1
が、 ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する第１層を形成し、この第１層上に屈折率ｎ2
、膜厚ｄ2 が、 ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ を満足する第２層を形成し、この第２層上に屈折率ｎ3
、膜厚ｄ3 が、 ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する第３層を形成し、またその第１層をＳn
Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物、第２層をＴi
Ｏ2 、第３層をＭg Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物で構成する
と、成膜後、２００℃の低温焼成により屈折率が２．０
０以下となる物質を用いても、液相法により最も視感度
の高い波長近傍で十分に低い反射率をもち、低反射波長
域が広く、かつ反射の色付きが少なく、しかも帯電防止
効果をもつ反射帯電防止膜を形成することができる。
膜とし、そのフェース外表面側に屈折率ｎ1 、膜厚ｄ1
が、 ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する第１層を形成し、この第１層上に屈折率ｎ2
、膜厚ｄ2 が、 ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ を満足する第２層を形成し、この第２層上に屈折率ｎ3
、膜厚ｄ3 が、 ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する第３層を形成し、またその第１層をＳn
Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物、第２層をＴi
Ｏ2 、第３層をＭg Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物で構成する
と、成膜後、２００℃の低温焼成により屈折率が２．０
０以下となる物質を用いても、液相法により最も視感度
の高い波長近傍で十分に低い反射率をもち、低反射波長
域が広く、かつ反射の色付きが少なく、しかも帯電防止
効果をもつ反射帯電防止膜を形成することができる。
【図１】この発明の一実施例である反射帯電防止型陰極
線管の構成を示す図である。
線管の構成を示す図である。
【図２】その反射帯電防止膜の構造を示す図である。
【図３】上記反射帯電防止膜の反射特性を２層膜および
表１、表２に示した反射防止膜と比較して示した図であ
る。
表１、表２に示した反射防止膜と比較して示した図であ
る。
【図４】カラー陰極線管の構成を示す図である。
１…フェース ２…蛍光体スクリーン ７…防爆バンド １１…反射帯電防止膜 １２a …第１層 １２b …第２層 １２c …第３層
Claims (3)
- 【請求項１】 フェース外表面に反射帯電防止膜を有す
る反射帯電防止型陰極線管において、 上記反射帯電防止膜は順次上記フェース外表面上に積層
形成された３層膜からなり、視感度の最も高い入射光の
波長をλ0 （λ0 ＝５５０nm）とし、上記フェース外表
面上の第１層の屈折率をｎ1 、膜厚をｄ1 、この第１層
上の第２層の屈折率をｎ2 、膜厚をｄ2 、この第２層上
の第３層の屈折率をｎ3 、膜厚をｄ3 とするとき、第１
層が ｎ1 ＝１．６５〜１．７５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ1 ｄ1 ≦１．１×λ0 ／４ 第２層が ｎ2 ＝１．９０〜２．００ ０．９×λ0 ／２≦ｎ2 ｄ2 ≦１．１×λ0 ／２ 第３層が ｎ3 ＝１．４０〜１．４５ ０．９×λ0 ／４≦ｎ3 ｄ3 ≦１．１×λ0 ／４ を満足する屈折率および膜厚に形成されていることを特
徴とする反射帯電防止型陰極線管。 - 【請求項２】 第１層がＳn Ｏ2 ，Ｔi Ｏ2 ，Ｓi Ｏ2
の混合物、第２層がＴi Ｏ2 、第３層がＭg Ｆ2 ，Ｓi
Ｏ2 の混合物からなることを特徴とする請求項１記載の
反射帯電防止型陰極線管。 - 【請求項３】 フェース外表面に反射帯電防止膜を形成
する反射帯電防止型陰極線管の製造方法において、 上記フェース外表面上に液相法によりＳn Ｏ2 ，Ｔi Ｏ
2 ，Ｓi Ｏ2 の混合物からなる第１層を形成し、この第
１層上に液相法によりＴi Ｏ2 からなる第２層を形成
し、この第２層上に液相法によりＭg Ｆ2 ，Ｓi Ｏ2 の
混合物からなる第３層を形成することを特徴とする反射
帯電防止型陰極線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6102704A JPH07312186A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 反射帯電防止型陰極線管およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6102704A JPH07312186A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 反射帯電防止型陰極線管およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07312186A true JPH07312186A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=14334662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6102704A Pending JPH07312186A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 反射帯電防止型陰極線管およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07312186A (ja) |
-
1994
- 1994-05-17 JP JP6102704A patent/JPH07312186A/ja active Pending
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