JPH07299427A

JPH07299427A - ワーク洗浄方法および洗浄装置

Info

Publication number: JPH07299427A
Application number: JP5017695A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Okamura; 和彦岡村; Takuya Miyagawa; 拓也宮川
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1995-03-09
Filing date: 1995-03-09
Publication date: 1995-11-14

Abstract

(57)【要約】【目的】洗浄剤を含む洗浄液を用いて効率よくワークを
洗浄し、ワーク内において均一な洗浄品質を確保するこ
とが可能なワーク洗浄装置及びワーク洗浄方法を実現す
ることを目的としている。【構成】洗浄槽の内壁部には洗浄液の圧送手段に接続し
た噴射ノズルが設けられており、洗浄槽の洗浄液中に浸
漬された状態のワークに対して、該噴射ノズルから洗浄
液を噴射することによって、ワークを洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブリント基板、液晶パネ
ル、半導体ウエハ等のワークを洗浄するためのワーク洗
浄方法および洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】このようなワークの洗浄方法として従来
から知られているものは、吊り下げたワークに対して洗
浄液を吹きつけることにより、ワーク表面の付着物を除
去する方法である。しかし、この方法では、ワーク表面
に対してむら無く洗浄液を吹きっけるためには、ワーク
に対する洗浄液吹きっけ方向を変更するなどの機構が必
要である。また、ノズルから噴射された洗浄液はワーク
以外の部分にも飛散するので、洗浄液の使用量の割りに
は洗浄効率が低い。さらには、飛散した洗浄液が引火性
のものであったり、臭気の強いものである場合には、飛
散した洗浄液を回収するための機構が必要となる。

【０００３】このような点に鑑みて、本件出願人は、ワ
ーク洗浄方法として、洗浄液を貯留した洗浄液槽中にワ
ークを浸漬し、浸漬状態にあるワークに対して、洗浄液
の噴流を吹きつける方法を提案している。この洗浄方法
によれば、貯留された洗浄液中において洗浄液の噴流が
形成されるので、洗浄液か外部に飛散することがなく、
洗浄液の回収効率か良い。また、噴流によって貯留され
た洗浄液内に渦流が形成され、かかる渦流か、噴流か直
接には当たらないワーク表面の部分に当たるので、洗浄
効率が高まるといった利点がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、この
新規なワーク洗浄方法を利用してワーク洗浄を効率良く
行うと共に、洗浄後のワークに付着した洗浄液を効率良
く洗い落とすことの可能なワーク洗浄方法および洗浄装
置を実現することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のワーク洗浄方法では、まず、洗浄液中に
ワークを浸漬させた状態で、このワークに対して洗浄液
を噴射することによってワークを洗浄するようにしてい
る。この洗浄工程の次に、ワークを純水中に浸潰し、こ
の浸漬状態にあるワークに対して今度は純水を噴射する
ことによってワークに付着した洗浄液を洗い落とすよう
にしている。さらに、このリンス工程の後に、純水中に
ワークを浸漬し、あるいは大気中においてワークに純水
を噴射することにより、再度ワークを洗うようにしてい
る。このように、本発明の方法では、ワークに対して、
洗浄工程、第１のリンス工糧および第２のリンス工程を
施すことにより、ワークを洗浄するようにしている。

【０００６】ここに、洗浄効率を高めると共に、第１の
リンス工程において使用する純水の汚染を抑えるために
は、洗浄工程の後に、ワークを純水中に浸漬させる（予
備リンス工程）ことが好ましい。また、洗浄工程におい
て、洗浄後にワークを引き上げる際に、ワークに付着し
ている洗浄液を効率良く払い落とすために、洗浄液から
引上げられるワークに対して空気などの気体を吹きつけ
て、洗浄液を払い落とす（液切り工程）ようにすること
か好ましい。同様に、第２のリンス工程を経た後に純水
中から引上げられるワークに対しても同様に空気などの
気体を吹きつけることにより、ワークに付着している純
水を払い落とすこと（水切り工程）か好ましい。なお、
上記の各工程を経て洗浄されたワークは、乾燥工程を経
て乾燥される。

【０００７】次に、本発明のワーク洗浄装置は、ワーク
洗浄部と、第１のリンス部と、第２のリンス部を有する
ことを基本的な特微としている。ワーク洗浄部は、ワー
ク洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄槽にワークを出し入
れするためのワーク搬送手段と、洗浄槽内に浸漬された
ワークに対して洗浄液を噴射するノズルなどの噴流形成
手段とを備えた構成となっている。第１のリンス部も同
様な構成であり、純水を貯留した純水槽と、純水槽にワ
ークを出し入れするためのワーク搬送手段と、純水槽内
に浸漬されたワークに対して縄水を噴射するノルズなど
の噴流形成手段とを備えた構成となっている。一方、第
２のリンス部は、純水を貯留した純水槽と、純水に対し
てワークを出し入れするためのワーク搬送手段とを備え
た構成となっている。

【０００８】ここに、洗浄効率を高めると共に、第１の
リンス槽における純水槽が洗浄液で汚染される度合いを
抑えるためには、ワーク洗浄部と第１のリンス部との間
に、予備リンス部を配置し、この予備リンス部におい
て、ワークに付着した洗浄液を予備洗浄することか好ま
しい。この予備リンス部の構成は、上記の第２のリンス
部と同様な構成とすることかできる。また、ワーク洗浄
部において洗浄槽から引き合げられるワークに付着して
いる洗浄液を払い落とすために、ワークに対して空気な
どの気体を吹きつける液切り手段を有していることが好
ましい。同様に、第２のリンス部においても、純水槽か
ら引上げられるワークに付着している純水を払い落とす
ために、ワークに対して空気などを吹きつける水切り手
段を有することが好ましい。

【０００９】上記の第１のリンス部および第２のリンス
部において、それぞれの純水槽から溢れ出た純水を回収
する共用の回収槽を配置し、この回収槽で回収した純水
を濾過した後に、第１のリンス部における噴流形成手段
および第２のリンス部における純水槽に運流させる構成
を採用することかできる。

【００１０】上記のワーク洗浄部および第ｌのリンス部
におけるそれぞれの噴流形成手段は、例えば、ポンプ
と、このポンプから圧送される洗浄液あるいは気体をワ
ークに向けて吹き出すノズルから構成することができ
る。同様に、上記の洗浄液除去手段および水切り手段
は、ポンプと、このポンブから圧送される空気をワーク
に向けて吹き出すノズルから構成することができる。

【００１１】上記のワーク搬送手段は、ワークを昇降さ
せるワーク昇降機構と、ワークを次段側に向けて搬送す
る横搬送機構から構成することができる。この代わり
に、例えば、搬送べルトを用いて搬送手段を構成するこ
とができる。この場合には、搬送べルトによるワーク搬
送経路が洗浄液槽内および純水槽内を通過するように、
その搬送経路を設定すれはよい。

【００１２】一方、本発明の装置により洗浄されるワー
クとしては、プリント基板、液晶パネルなどの板状ワー
クが代表的なものである。このようなワークを洗浄する
場合には、多数枚のワークを整列状態に保持するキャリ
アを用いて、所謂バッチ式にワークの洗浄を行うように
することができる。

【００１３】

【作用】本発明においては、洗浄工程あるいはワーク洗
浄部において、洗浄液中においてワークに対して洗浄液
の噴流が吹きつけられる。洗浄液の噴流が洗浄液中に形
成されると、この噴流により、洗浄液中に各方向に向か
う渦流が形成される。この結果、洗浄液の噴流が直接当
たるワークの部分は、洗浄液の化学的作用およびその吹
きつけ力により、付着物が効率よく除去される。また、
洗浄液噴流が直接に当たらないワークの部分には、洗浄
液の渦流が当たり、やはり同様に、洗浄液の化学的作用
およびその物理的作用により、付着物が効率良く除去さ
れる。また、洗浄中において洗浄液噴流が形成されるの
で、大気中において洗浄液をワークに対して吹きつける
場合のように吹きつけた洗浄液が大気中に飛散するとい
うことがない。

【００１４】このようにして、洗浄液中において付着物
が除去されたワークは、次に、第１のリンス行程あるい
は第１のリンス部において、純水中に浸漬され、この状
態で純水噴流が吹きつけられる。この場合にも、上記の
洗浄液噴流を吹きつける場合と同様に、ワークに対して
純水噴流が吹きつけられると共に、純水噴流が直接には
当たらないワークの部分には、純水噴流により形成され
た渦流が当たる。この結果、ワークに付着した洗浄液が
確実に洗い落とされる。この後は、第２のリンス行程あ
るいは第２のリンス部において、ワークは再び純水中に
浸漬され、あるいは純水が吹きつけられる。この結果、
ワークに付着している洗浄液が完全に洗い落とされる。

【００１５】

【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。（全体構成）第１図には、本例のワーク洗浄装置の全体
構成を模式的に示してある。本例の装置は電子回路用の
プリント基板を洗浄するために適したものであり、キヤ
リヤ２を用いてワーク（プリント基板）Ｗを複数枚づつ
洗浄する構成となっている。

【００１６】この第１図に示すように、本例の装置１
は、ワーク搬送経路の上流側から順に、洗浄部３、第１
の予備リンス部４、第２の予備リンス部５、第１のリン
ス部６、第２のリンス部７および乾燥部８が配列された
構成となっている。洗浄部３においては、プリント基板
用洗浄剤を合む洗浄液を、洗浄液中においてワークに対
して噴射することにより、ワークの洗浄を行う。第１お
よび第２の予備リンス部４、５においては、洗浄剤など
の不純物を含まない水、すなわち純水の中にワークを浸
漬して上下に揺動させることにより、ワークに付着して
いる洗浄液等を洗い落とす。第ｌのリンス部６において
は、純水中においてワークに対して純水を噴射すること
によリワークから洗浄水等を洗い落とす。第２のリンス
部７においては、上記の第１あるいは第２の予備リンス
部と同様に、純水中にワークを浸漬して上下に揺動させ
ることのより、ワークに付着している洗浄水等を洗い落
とす。

【００１７】最後に、乾燥部８においては、ワークを商
温雰囲気中に晒して、そこに残っている純水を除去す
る。一方、本例の装置においては、洗浄部３、第１の予
備リンス部４および第２のリンス部７において、それぞ
れ洗浄液中あるいは純水中から引上げられたワークに対
して空気を噴射することによリワークから洗浄液あるい
は純水を吹き落とすための空気吹きつけ部９が配置され
ている。

【００１８】本例の装置で使用するワークＷを担持する
キヤリア２の構造を説明する。第５図に示すように、キ
ヤリア２は、両端に配置した矩形枠２１、２２を、底面
を規定する４本のワーク支持棒２３、２４、２５、２６
とワーク取付け用の切り欠きが形成された２本の切り欠
き付き棒２７、２８とによって連結した構造となってい
る。切り欠き付き棒２７、２８の内側面には、その材軸
方向に沿って等間隔で切り欠き２７ｌ、２８ｌか形成さ
れており、対応する切り欠き２７１、２８１の間に、一
枚づつのワークＷが上側から差し込み可能となってい
る。また、これらの切り欠き付き棒２７、２８は、その
間隔を変更可能となっており、これにより幅の異なるワ
ークＷを担持可能となっている。さらには、矩形枠２
ｌ、２２の上面側には取っ手２９、２９（図において一
方のみを示してある。）が取付けられており、キヤリヤ
の取扱いが容易となっている。

【００１９】（各部の構造）キャリア搬送系第２図ないし第５図を参照して、本例の装置１の構造を
キャリア搬送系を中心に説明する。

【００２０】本例の装置１は、第２図および第３図に示
すように、その本体部１２におけるワークＷの搬送方向
の上流側にローダ１１が接続され、ワーク搬送方向の下
流側にアンローダ１３か接続された構成となっている。
本体部１２には、上述した洗浄部、第１および第２の予
備リンス部、第１および第２のリンス部が配置されてい
る。この本体部１２のケース１２１における前面側には
開閉蓋１２２が形成されている。第４図に想像線で示す
ように開閉蓋１２２を開けることにより、ケース内部に
アクセスすることが可能である。ケース内部には、ワー
ク搬送方向の上流側から順に、洗浄部の洗浄液槽３１、
第１の予備リンス部の純水槽４１、第２の予備リンス部
の純水槽５１、第１のリンス部の純水槽６１、第２のリ
ンス部の純水槽７１が一列に配置されている。

【００２１】これらの各槽の上方位置には、隣接する各
槽に跨かる状態に、ローラスライダ３２、４２、５２、
６２が一定の間隔をもって一列に配置されている。ロー
ラスライダ３２の上流側、ローラスライダ６２の下流
側、および各ローラスライダの間には、同じくローラス
ライダからなるワーク支持部３３、４３、５３、６３、
７３が配置されている。これらのワーク支持部は、ケー
ス内において各槽の裏面側に配置した昇降機構３４、４
４、５４、６４、７４によって昇降可能となっている。

【００２２】第４図から分かるように、洗浄部の昇降機
構３４は、洗浄液槽３１の裏面側において垂直となるよ
うにケースに取りつけた昇降案内ロッド３４１と、この
ロッド３４１の外周に摺動可能に取りつけた摺動部３４
２と、この摺動部３４２を昇降させるためのチェーン３
４３と艇動モーター３４４と、摺動部に取りつけたＬ型
アーム３４５とから構成され、このアームの先端に上記
のワーク支持部３３か支持されている。この構成の昇降
機構３４によって、ワーク支持部３３は、少なくとも、
ローラスライダ３２、４２、５２、６２と同一高さの上
限位置（第２図参照）から、ワーク支持部によって支持
されているワークＷが完全に洗浄液槽３１内に浸漬した
状態となる高さの下限位置（第４図参照）まで昇降可能
となっている。その他の昇降機構４４、５４、６４、７
４の構成も、この昇降機構３４と同様であるので、その
説明は省略する。

【００２３】次に、本体ケース１２１の搬送方向上流側
の端面には、キャリア導入口１２３か形成されており、
ここを貫通した状態に、ローダ１１を構成する搬送べル
ト１１１が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一
列となるように配置されてる。この搬送べルト１１１は
支持脚１１２によって電装ボックス２０２上支持されて
いる。また、この搬送べルト１１１は不図示の駆動機構
によって駆動可能である。

【００２４】本例においては、搬送バルト１１１を構成
するチェーンに、一定のピッチでキヤリア係合用の爪
（図示せず）か取付けられ、駆動機構によりこの一定の
ピッチずつ駆動されるようになっている。本例における
搬送べルト１１１は、一定のピッチで３個のキヤリア２
を同時に搭載可能であり、そのうちの先頭のキャリア２
を搭載した部分が、第２図から分かるように、本体ケー
ス内に位置するように配置されている。

【００２５】本体ケース１２１の下流側端面には、キャ
リア搬出口１２４が形成されており、ここを貫通した状
態に、アンローダ１３を構成するローラスライダ１３１
が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一列となる
ように配置されている。このスライダも支持脚１３２に
よって床Ｆ上に支持されている。本例においては、この
アンローダ１３に３個のキヤリア２を搭載可能となって
いる。そして、ここの３個のキヤリアが集積された場合
には、その旨が自動的に表示可能となっている。かかる
表示機構は簡単に構成することかできるので、ここでは
これ以上の説明は省略する。

【００２６】一方、各処理部３〜７において、キヤリア
支持部３３、４３、５３、６３、７３の上方における上
流側の位置には、キャリア横搬送経路に直交する状態
に、プッシャー３５、４５、５５、６５、７５が配置さ
れている。また、キャリア搬入口１２４の内側にもプッ
シヤー１１５が配置されている。これらのプッシヤー
は、各槽の前面側においてキヤリア横搬送経路と平行に
配置したプッシャー駆動機構３６によって支持されてい
る。この腿動機構３６により、各ブッシャーは、第２図
に示す初期動作位置から、下流側の隣接するプッシャの
位置までの間を往復移動可能となっている。さらに、こ
のプッシヤー駆動機構３６は、各プッシャーを、第４図
に示すように、実線で示す位置から想像線で示す退避位
置まで旋回可能に支持している。後述するように、これ
らのプッシヤーにより、キャリア２は順次に次段側の処
理部に向けて横搬送される。

【００２７】洗浄液および純水の供給系次に、第６図に示す本例の装置の配管系を主に参照し
て、各処理部３、４、５、６、７の構造を説明する。

【００２８】洗浄部３の洗浄液槽３１は、上方が開放し
たほぼ立方体形状の洗浄液本体槽３１１と、この外周を
囲む状態に形成したオーバーフロー槽３１２とから構成
されている。本体槽３１１内には、アルカリけん化剤を
合むワーク洗浄液３１３が貯留されている。ここに貯留
されている洗浄液３１３は、槽内に配置した棒状ヒータ
ー３ｌ５によりー定の温度、例えば６０℃に保持される
ようになっている。

【００２９】本体槽３１１内には、洗浄液を噴射可能な
複数のノズルが配置されている。本例においては、第６
図および第７図に示すように、一方の側において水平に
２列のノズル群３１６ａ、３１６ｂが配置され、他方の
側においては、これらのノズル群とは異なる高さ位置に
おいて水平に２列のノズル群３１６ｃ、３１６ｄが配置
されている。これらのノズルとしては、噴角６０度の充
円錐タイプものを使用することかできる。これらのノズ
ル群は、洗浄液循環経路３１７を介して、オーバーフロ
ー槽３１２の底面に連通している。

【００３０】この循環経路３１７には、ポンプ３１８が
配置され、このポンプとオーバーフロー槽との間にはス
トレーナ３１９が配置されている。ストレーナ３１９よ
りも上流側の循環経路には自動開閉弁３２１を介してア
ルカリけん化剤補充タンク３２２が接続されている。自
動開閉弁３２１は、オーバーフロー槽３１２に取りつけ
た三本足液面計３２３により開閉制御され、これによっ
て、自動的にアルカリけん化剤が循環経路内に補給され
る。ノズル群と洗浄液循環経路３１７とは、自動開閉弁
３２４、３２５を介して接続されており、これらの開閉
弁はキヤリア２が検出されると自動的に開き、それ以外
の場合は閉じている。これらの自動開閉弁が閉じている
状態では、ポンプ３１８から吐出される洗浄液は、上記
の自動開閉弁とは逆の開閉動作を行う自動開閉弁３２６
が介挿されたバイバス通路３２７を介して、洗浄液本体
槽３１１内に還流される。また、ポンプ吐出側には開閉
弁３２８が介挿されており、汚れた洗浄液は産業廃液と
してこの開閉弁３２８を介して所定の処理部に向けて排
出される。

【００３１】この洗浄液本体槽３１１は、開閉弁を介し
て、純水供給系３３。および純水回収系３２９に接続さ
れている。純水供給系３３０には、イオン交換器および
フィルタを備えた純水器３３１が介挿されている。

【００３２】次に、第１および第２の予備リンス部４、
５は同様の構造となっている。すなわち、純水を貯留し
た純水槽４１、５１を備えており、これらに貯留された
純水は、循環経路４１１、５１１を介して循環される。
これらの循環経路４１１、５１１には、ポンプ４１２、
５１２およびストレーナ４１３、５１３が介挿されてい
る。各ポンプの吐出側には開閉弁４１４、５１４が接続
されている。第１の予備リンス部の開閉弁４１４を開く
と、ここを介して汚れた洗浄水が産業廃液として所定の
処理部に向けて排出される。これに対して、第２の予備
リンス部の開閉弁を開くと、この第２の予備リンス部の
側の循環水が第ｌの予備リンス部の純水槽４ｌ内に供給
される。ここに、第２の予備リンス部の純水槽５ｌ内に
は棒状ヒーター５ｌ５が配置されており、このヒーター
により純水槽４１、５１内の純水の温度を所定の温度、
例えぱ６０℃に保持するようになっている。一方、これ
ら第１および第２のリンス部における純水槽４１、５１
は、自動開閉弁４１６、５１６を介して、純水供給系３
３０に接続されている。これらの自動開閉弁４１６、５
１６の開閉は、純水槽４１、５１に取りつけたフロート
スイッチ４１７、５１７により制御されるようになって
いる。また、純水槽４１、５１は、開閉弁を介して純水
回収系３２９に接続されている。

【００３３】次に、第１および第２のリンス部６、７の
構造を説明する。これらのリンス部の純水槽６１、７１
は、上方が開いた直方体形状の共通ケース６１１内を仕
切ることにより区画形成されている。すなわち、第８図
に示すように、共通ケース６１１内を仕切り板６１２に
よって完全に二分割し、狭い方の側の区画室６１３を第
２のリンス部の純水槽７１としてある。これに対して、
広い方の側の区画室６１４内に、一回り小さな角形円筒
形状の仕切り板６１５を配置することにより、第１のリ
ンス部の純水槽６１と、これを取り囲む純水回収槽６１
６を形成してある。ここに、純水槽６１と純水槽７１の
間に位置する純水回収槽６１６の部分６１６ａには、更
に別個の仕切り板６１７が配置され、この仕切り板６１
７により、この部分６１６ａの上半部分が第１のリンス
部の側と第２のリンス部の側に分けられ、下半部分は連
通状態のままとされている。この純水回収槽６１６に
は、棒状ヒーター６１８が配置されており、純水槽６
１、７１内の温度を所定の温度、例えぱ６０℃に保持す
るようになっている。

【００３４】第１のリンス部６の純水槽６１内には、複
数のノズルが配置されている。本例においては、一方の
側において水平に２列に配列したノズル群６２１ａ、６
２１ｂと、これらと対峠する側において水平に２列に配
列したノズル群６２１ｃ、６２１ｄとを有している。ノ
ズルの配置形状は前述した洗浄部３の洗浄液槽における
ものと同様である。これらの双方の側のノズル群は、そ
れぞれ自動開閉弁６２２、６２３を介してポンプ６２４
の吐出側に接続され、ポンプの吸込み側はストレーナ６
２５を介して純水回収槽６１６に接続されている。自動
開閉弁６２２、６２３は、キヤリア２が検知されると自
動的に開き、それ以外の場合には閉じた状態に保持され
る。これらが閉じた状態にある場合には、ポンプから吐
き出される純水は、上記の自動開閉弁とは逆の開閉動作
を行う自動開閉弁６２６が介挿されたバイバス通路６２
７を介して純水槽６１内に還流される。

【００３５】ここに、純水回収槽６１６は、純水再生器
６２７を介して、第２のリンス部７の純水槽７１に連通
している。純水再生器６２７は、純水回収槽に吸い込み
側が接続されたポンプ６２７ａと、ポンプの吐出側に順
に接続された活性炭による濾過器６２７ｂ、イオン交換
器６２７Ｃ、イオン交換器６２７ｄおよびフィルタ６２
７ｅとから構成されており、この純水再生器により再生
された純水が純水槽７１に戻されるようになっている。

【００３６】次に、第２のリンス部の純水槽７１は、自
動開閉弁７１１を介して純水供給系３３０に接続されて
いる。この自動開閉弁７１１は、純水回収槽に取りつけ
たフロートスイツチ６２８により開閉動作が制御され
る。一方、双方の純水槽６１、７１はそれぞれ開閉弁を
介して、純水回収系３２９に接統されている。

【００３７】空気吹き付け部次に、第１図および第９図を主に参照して、空気吹きつ
け部９の構造を説明する。この空気吹きつけ部９は、圧
縮空気供給源９１を有し、ここから供給される圧縮空気
は、フィルタおよびレギュレータ部９２を介して、洗浄
部３、第１の予備リンス部４および第２のリンス部７に
それぞれ配置した空気吹き出し部９３、９４、９５に供
給される。洗浄部３の空気吹き出し部９３は、洗浄液本
体槽３１１における一対の対向側面の上方位置におい
て、平行に配置した２本の空気吹き出し部から形成され
ている。第２のリンス部７における空気吹き出し部９５
も同様の構成である。これに対して、第１の予備リンス
部４における空気吹き出し部９４は一本の空気吹き出し
部からなっている。各空気吹き出し部９３、９４、９５
は、それぞれ手動開閉弁９３１、９４１、９５１および
自動開閉弁９３２、９４２、９５２を介して圧縮空気供
給源９１の側に接続されている。各自動開閉弁は、キヤ
リアが槽内から引上げられるときに開かれるようになっ
ている。手動開閉弁は流量調整のために使用される。

【００３８】制御系第１０図には、本例の装置における制御系の主要部を示
してある。図において、２０１は装置１の全体を制御す
るためのコントーラであり、ローダ近傍に配置した電装
ポツクス２０２内に装着されている。２０３はコンソー
ルパネルであり、このパネル上には、各種の入力スイッ
チ群からなる入力部２０３ａと、各部の作動状態等を表
示するための表示部２０３ｂが配置されている。コント
ローラ２０１の入力側には、プツシヤー駆動用の隙間検
知用センサ２０４が接続され、昇降機構駆動用の上限セ
ンサ２０５、上限接近検知用センサ２０６、下限センサ
２０７、下限接近検知用センサ２０８が接続されてい
る。また、洗浄部３における洗浄液の噴射時期および空
気噴射時期を制御するために使用するキャリア検知用セ
ンサ２０９、第１の予備リンス部４における空気噴射時
期を制御するための使用するキヤリア検知用センサ２１
１、第１のリンス部６における純水の噴射時期を制御す
るために使用するキヤリア検知用センサ２１２、および
第２のリンス部７における空気噴射時期を制御するため
に使用するキヤリア検知用センサ２１３などか接続され
ている。

【００３９】コントローラ２０１の出力側は、キヤリア
搬送系を構成する各駆動部分に接統されている。すなわ
ち、プッシヤー駆動部３６、昇降機構３４、４４、５
４、６４、７４、ローダ駆動機構１１３、キヤリアがキ
ヤリア支持部からオーバーランするのを防止するストッ
パー３７、４７、５７、６７、７７に接続されている。

【００４０】また、コントローラ出力側は、洗浄槽にお
ける洗浄液噴射を制御する自動開閉弁３２４、３２５、
３２６第１のリンス部における純水噴射を制御する自動
開閉弁６２２、６２３、６２６に接続されている。さら
には、洗浄部３、第１の予備リンス部４、第２のリンス
部７における空気噴射を制御する自動開閉弁９３２、９
４２、９５２に接続されている。

【００４１】洗浄動作次に、コントローラの制御の下に行われる本例の洗浄装
置における洗浄動作を説明する。

【００４２】第１１図には１サイクルの洗浄動作のタイ
ミングチヤートを示してあり、第１２図〜第１６図には
各洗浄勤作時における状態を順次に示してある。駆動に
先立って、ローダ１１の搬送べルト１１１の上に、ワー
クであるプリント基板Ｗを多数枚設置したキヤリア２を
乗せる。いま、第２図に示す状態から洗浄サイクルが開
始するものとする。この状態では、ローダ１１に３個の
キャリア２（ｎ）、２（ｎ＋ｌ）、２（ｎ＋Ｚ）か搭載
されており、各昇降機構にもそれぞれキャリアが搭載さ
れている。

【００４３】まず、この状態から搬送動作が開始される
（第１１図の時刻Ｔ１）。すなわち、プッシヤー１１
５、３５、４５、５５、６５、７５がそれらの搬送機構
３６によって一定の距離だけ横移動し、これら横移動す
るプッシヤーによって各キヤリアは、ローラスライダ３
２、４２、５２、６２の上を移動して、次段側の昇降機
構のキヤリア支持部３３、４３、５３、６３、７３の上
に乗った状態となるまで前進する（第ｌｌ図の時刻Ｔｌ
〜Ｔ２）。第ｌ２図にはこのようにして、ローダ１１上
のキヤリア２（ｎ）が洗浄部３のキヤリア支持部３３上
まで横搬送された後の状態を示してある。キヤリア２が
所定の位置まで前進すると、各処理部に取りつけたキヤ
リア検知用センサ２０９〜２１３によってキヤリアか検
知される。

【００４４】この後は、各昇降機構３４、４４、５４、
６４、７４が駆動し、キヤリア２か槽内に向けて降下す
る。降下するキヤリアが下限近傍位置に到ると、これが
下限接近検知用センサ２０８により検知される（第１１
図の時刻Ｔ３）。この後は、低速でキヤリアが降下す
る。キヤリアが下限位置に到ると、このことが下限セン
サ２０７により検知され、昇降機構によるキャリアの降
下が停止する（第１１図の時刻Ｔ４）。

【００４５】ここで、上記のキヤリア横搬送動作中にお
いては、キャリア２が各昇降機構の支持部３３、４３、
５３、６３、７３をオーバランしないように、各ローラ
スライダ入ロに設置されているストッパー３７、４７、
５７、６７、７７をオンさせる。また、キヤリア２の昇
降時及び槽内での浸漬時、キャリアがキャリア支持部か
ら動かないよう各槽内にキヤリアガイド３８（第１２図
にのみ図示）を設けている。また、搬送動作の間は、洗
浄部３および第１のリンス部６における洗浄液および純
水のバイバス通路３２６、６２６か開状態に保持され
る。

【００４６】搬送動作の終了後、ストツパー３７、４
７、５７、．６７、７７がオフにされる。また、洗浄部
３および第１のリンス部６においては、キヤリア検知用
センサ２０９、２１２がオン状態にあり、下限センサ２
０７がオンしたとき（第１１図の時刻Ｔ４）には、バイ
バス通路３２６、６２６が閉じて、自動開閉弁３２４、
３２５および６２２、６２３が開き、洗浄液の噴射およ
び純水の噴射動作が開始する。第１３図には洗浄部３に
おいて洗浄液かキャリア２（ｎ）に噴射されている状態
を示してある。本例においては、一方の側のノズル群３
１６ａ、３１６ｂと他方の側のノズル群３１６Ｃ、３１
６ｄから交互に洗浄液が噴射される。

【００４７】第１３図に示すように、洗浄液中におい
て、キヤリア２（ｎ）に搭載されているプリント基板Ｗ
に対して洗浄液が噴射される。よって、洗浄液が大気中
に飛散することがない。また、洗浄液を噴射することに
より洗浄液中には渦流が形成される。従って、洗浄液の
噴流が直接に当たらないプリント基板の部分も、形成さ
れた渦流によって洗われる。よって、この洗浄部３にお
いてプリント基板の洗浄が効率良く行われる。また、第
ｌのリンス部６においても、同様にして純水がプリント
基板Ｗに対して噴射されて、効率良く、プリント基板が
純水中で洗浄される。一方、第１および第２の予備リン
ス部４、５、並びに第２のリンス部７においては、単に
純水槽内にキヤリア２が浸漬された状態に保持される。

【００４８】洗浄動作が開始するのに同期して、プッシ
ャー１１５、３５、４５、５５、６５、７５は上方に向
けて旋回し（第１１図の時刻Ｔ４〜Ｔ５）、しかる後
に、元の位置まで横移動して初期の退避位置に戻る（第
１１図の時刻Ｔ５〜Ｔ６）。第１４図にはこの状態を示
してある。この後は、ローダ１１が駆動して、そこに乗
せられているキヤリア２（ｎ＋１）、２（ｎ＋２）は１
ピッチ分だけ前進する（第１１図の時刻Ｔ６〜Ｔ７）。
第１５図にはこのようにして前進した後の状態を示して
ある。ローダ上のキヤリアか前進した後は、隙間検知用
センサ２０４によって、ローダ上の先頭のキヤリア２
（ｎ＋１）とその次のキャリア２（ｎ＋２）との間に所
定の隙間が存在することが確認されると、各プッシヤが
下方に向けて旋回し、それらが初期の動作位置に復帰す
る（第１１図の時刻Ｔ７〜Ｔ８）。第１５図にはブッシ
ヤー１１５が初期の動作位置まで復帰した状態を示して
ある。

【００４９】プッシヤーが元の位置に戻った後は、各昇
降機構３４、４４、５４、６４、７４が駆動して、各槽
内のキヤリア２は一定期間にわたって上下に揺動する
（第１１図の時刻Ｔ８〜Ｔ９）。この揺動運動により、
各槽内において、キャリアに搭載されているプリント基
板Ｗの洗浄が効率良く行われる。

【００５０】昇降機構の揺動運動は一定時間経過後に停
止する。そして、洗浄部３および第１のリンス部６にお
けるバイパス通路３２７、６２７が開き、自動開閉弁３
２４、３２５、６２２、６２３か閉じて、洗浄液および
純水の噴射が停止する（第１１図の時刻Ｔ９）。次に、
各昇降機構が駆動して、キヤリア２は各槽内から上昇す
る。上限接近検知用センサ２０６により、キャリアが上
限位置に接近したことが検知された後は、上昇速度が低
下し（第１１図の時刻Ｔ１０）、キヤリアが上限位置に
到ると、それが上限センサ２０５により検知されて、各
昇降機構の駆動が停止する。

【００５１】ここに、かかるキヤリアの昇降に同期し
て、空気吹きつけ部９の自動開閉弁９３２、９４２、９
５２（第９図参照）が開く。この結果、圧縮空気が、洗
浄槽３の空気吹き出し部９３、第１の予備リンス部４の
空気吹き出し部９４および第１のリンス部６の空気吹き
出し部９５に供給され、これらから吹き出される。従っ
て、これらの各部３、４、６において槽内から引き出さ
れるキヤリア２に対して空気が吹きつけられる。かかる
空気吹きつけ動作により、キャリアに搭載されているプ
リント基板Ｗに付着している洗浄液あるいは純水が効率
良く吹き落とされる。

【００５２】すなわち、引上げられたキヤリアおよびプ
リント基板に付着している洗浄液あるいは水を自然落下
させる場合には、これらの各部分の凹凸部分に溜まって
いる液あるいは水が落ちにくい。かかる部分に液あるい
は水が残ったまま、次段側に送られると、各槽内に貯留
されている純水の汚れる度合いが早くなり、純水の交換
頻度を高める必要がある。また、多くの水が付着したま
ま乾燥部８に搬入された場合には、乾燥に時間がかかる
ので好ましくない。しかし、本例においては、空気を吹
きつけることにより、キヤリア、プリント基板などの凹
凸部分に溜まっている液あるいは水が吹き飛ぱされて、
これらから除去される。従って、純水の汚れ度合いが少
なくなり、水の交換頻度を下げることかできる。また、
乾燥部における乾燥を短時間にすることができる。第１
６図には、空気を吹きつけられながら引上げられた状態
のキヤリアを示してある。

【００５３】以後、上記の動作が繰り返されて、各キヤ
リア２は、洗浄部３から第２のリンス部７を経て、アン
ローダ１３に搬出される。このアンローダ上に搬出され
た洗浄済みのキヤリアは、ロボットハンドあるいは人手
により、次段の乾燥部８に搬送され、ここにおいて付着
している純水が乾燥除去される。

【００５４】（別の実施形態）上記の例は本発明の一実
施例を示すものであり、上記の構成に本発明を限定する
ことを意図したものではない。

【００５５】例えぱ、第１７図および第１８図には、本
発明を適用した別のワーク洗浄装置を示してある。本例
の装置３００は、洗浄部３０１と予備リンス部３０２と
第１のリンス部３０３と第２のリンス部３０４と乾燥部
３０５から構成されている。

【００５６】洗浄部３０１は、上記の例における洗浄部
３と同じく、ワーク洗浄剤を合む洗浄液中において、ノ
ズル３０１ａから洗浄液をワークに対して噴射すること
により、ワークの洗浄を行うものである。予備リンス部
３０２は上記の例における第１の予備リンス部４と同一
の構成である。第１のリンス部３０４は、上記の例にお
ける第１のリンス部６と同じく、純水中においてワーク
に対して純水を噴射することにより、ワークの洗浄を行
うものである。第２のリンス部３０４は、大気中におい
てワークに対してノズル群３０４ａから純水を噴射する
ことにより、ワークの洗浄を行うものである。一方、乾
燥部３０５は上記の例における乾燥部８と同一の構成と
なっている。

【００５７】本例のワーク洗浄装置３００を利用する場
合には、例えぱ、第１８図に示すように、取っ手４０１
の付いた筒状の網かご４０２をワークのキヤリアとして
用いることができる。網かご４０２の搬送機構４０３と
しては、網かご４０２の取っ手を吊り下げるフック部４
０４と、このフック部４０４を支持した腕部４０５と、
この腕部４０５を水平方向および垂直方向に移動させる
移動部４０６から構成したものを用いることができる。
この網かご４０２内に入れて洗浄可能なワークとして
は、各種のプラスチック製品、金属製品を挙げることが
できる。

【００５８】次に、第１９図には、搬送べルトを用い
て、ワークの搬送系を構成した例を示してある。この図
において第１７図の各部と対応する部分には対応する番
号を付してある。本例の装置は、板状のワークＷを連続
して搬送しなからそれを洗浄できるように構成されてい
る。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のワーク洗
浄方法および洗浄装置は、洗浄剤を含む洗浄液中におい
てワークに対して洗浄液を噴射して洗浄を行い、次に、
純水中においてワークに対して純水を噴射して洗浄を行
い、しかる後に、ワークを純水中に浸漬し、あるいはワ
ークに対して純水を吹きっけることにより洗浄を行うよ
うに構成されている。従って、本発明によれぱ、ワーク
に付着している油、塵などの付着物の除去か洗浄液中に
おいて効率良く行われ、また、かかる付着物を除去する
ために使用した洗浄液の除去が、純水中において効率良
く行われる。よって、本発明によれば、効率良くワーク
を洗浄することの可能なワーク洗浄方法および洗浄装置
を実現することができる。

【００６０】また、本発明においては、洗浄液中あるい
は純水中から引上げられるワークに対して気体を吹きつ
けることにより、ワークに付着している洗浄液あるいは
純水を吹き落とすようにしている。このようにすること
により、単にワークに付着した液あるいは水を自然落下
させる場合に比ぺて、液あるいは水を確実に除去でき
る。よって、次段側の槽内に、ワークに付着した液ある
いは水を持ち込んでしまうことを大幅に回避できるの
で、各槽の液あるいは水の汚れ度合いを低く抑えること
ができ、液あるいは水の交換頻度を抑制することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図ｌ】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。

【図２】第ｌ図に示す装置の具体的な構成を示す概略立
面図である。

【図３】第ｌ図に示す装置の具体的な構成を示す概略平
面図である。

【図４】第２図のＩＶ〜ＩＶ線で切断した部分を示す概
略断面図である。

【図５】第ｌ図のキヤリアを示す斜視図である。

【図６】第ｌ図に示す装置における洗浄液および純水の
配管系を示す配管図である。．

【図７】第ｌ図に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示
す平面図である。

【図８】第ｌ図に示す第ｌおよび第２のリンス部におけ
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。

【図９】第ｌ図に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成
図である。

【図ｌ。】第ｌ図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。

【図ｌｌ】第ｌ図の装置の洗浄動作を示すタイミングチ
ャートである。

【図ｌ２】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ３】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ４】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ５】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ６】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ７】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。

【図ｌ８】第ｌ７図に示す例において使用するワークキ
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。

【図ｌ９】第ｌ７図に示す実施例の変形例であり、搬送
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。

【符号の説明】

ｌワーク洗浄装置２キヤリア３洗浄部４第ｌの予備リンス部５第２の予備リンス部６第ｌのリンス部７第２のリンス部８乾燥部９空気吹きっけ部

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成７年６月１５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図５】第ｌ図のキヤリアを示す斜視図である。

【図ｌ０】第ｌ図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。

【図ｌ２】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ３】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ４】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ５】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ６】第ｌ図の装置の動作を示す説明図である。

【図ｌ７】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。

【符号の説明】ｌワーク洗浄装置２キヤリア３洗浄部４第ｌの予備リンス部５第２の予備リンス部６第ｌのリンス部７第２のリンス部８乾燥部９空気吹きっけ部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/68 ＡＨ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄剤を含む洗浄液の中に洗浄すべきワー
クを浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対して洗浄液
の噴流を吹きつけることにより、前記ワークから付着物
などを洗い落とす洗浄工程と、この洗浄工程を経たワー
クを純水中に浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対し
て純水の噴流を吹きつけることにより、このワークに付
着している前記洗浄液を洗い落とす第１のリンス工程
と、この第ｌのリンス工程を経たワークに対して純水を
供給して、ワークに付着している前記洗浄液を洗い落と
す第２のリンス工程とを含むワーク洗浄方法。
【請求項２】請求項１において、前記洗浄工糧と前記第
１のリンス工程との間に、少なくとも一回の予備リンス
工程を有し、この予備リンス工程は、貯留した純水内に
ワークを浸漬することにより、このワークに付着してい
る洗浄液を洗い落とす工程であることを特微とするワー
ク洗浄方法。
【請求項３】請求項１において、前記第２のリンス工程
を経たワークに付着している純水を除去する水切り工程
を有し、この水切り工程は、前記第２のリンス工程にお
いて純水中から引き上げられるワークに対して気体を吹
きつけて、このワークに付着している純水を払い落とす
工糧であることを特徴とするワーク洗浄方法。
【請求項４】請求項３において、前記水切り工程を経た
ワークに付着している純水を乾燥除去する乾燥工程を有
していることを特徴とするワーク洗浄方法。
【請求項５】請求項１において、前記洗浄工程において
洗浄液から引き上げられるワークに対して気体を吹きつ
けて、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液
切り工程を有していることを特徴とするワーク洗浄方
法。
【請求項６】ワーク洗浄剤を含む洗浄液を貯留した洗浄
液槽、この洗浄液槽に対してワークを出し入れするワー
ク搬送手段、および、このワーク搬送手段によって前記
洗浄液槽内に入れられた状態にあるワークに対して洗浄
液の噴流を吹きっける噴流形成手段を備えたワーク洗浄
部と、純水を貯留した純水槽、前記ワーク洗浄部から洗浄済み
ワークを受け取り、前記純水槽に対してこのワークを出
し入れするワーク搬送手段、および、このワーク搬送手
段によって前記純水槽内に入れられた状態にあるワーク
に対して純水の噴流を吹きつける噴流形成手段を備えた
第１のリンス部と、純水を貯留した純水槽、および、前
記第１のリンス部から純水による洗浄済みのワークを受
け取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れする
ワーク搬送手段を備えた第２のリンス部とを有すること
を特徴とするワーク洗浄装置。
【請求項７】請求項６において、純水を貯留した純水
槽、および前記ワーク洗浄部から洗浄済みワークを受け
取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れするワ
ーク搬送手段を備えた予備リンス部を少なくとも一つ有
し、前記第１のリンス部は、この予備リンス部において
洗浄された後のワークを受け取るようになっていること
を特微とするワーク洗浄装置。
【請求項８】請求項６において、前記第２のリンス部の
前記純水槽から引上げられるワークに対して気体を吹き
つけて、このワークに付着している純水を払い落とす水
切り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装
置。
【請求項９】請求項８において、前記水切り手段によっ
て水切りか行われたワークに付着している純水を乾燥除
去する乾燥手段を有していることを特徴とするワーク洗
浄装置。
【請求項１０】請求項６において、前記洗浄部の前記洗
浄槽から引き上げられるワークに対して気体を吹きつけ
て、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液切
り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装置。
【請求項１１】請求項６において、前記第１のリンス部の前記純水槽および前記第２のリン
ス部の前記純水槽のそれぞれから溢れ出た純水を回収す
る純水回収槽を有し、前記第１のリンス部における前記噴流形成手段は、ワー
クに向けて配列された少なくとも一個の純水噴射ノズル
と、前記純水回収槽に回収された純水を前記ノズルのそ
れぞれに向けて圧送するボンプとを備えており、前記第２のリンス部は、前記純水回収槽に回収された純
水をこの第２のリンス部の純水槽に運流させるポンプ
と、還流する純水に合まれている不純物を除去する濾過
手段とを備えていることを特微とするワーク洗浄装置。
【請求項１２】請求項６において、前記洗浄部における
前記噴流形成手段、ワークに向けて配列された少なくと
も一個の洗浄液噴射ノズルと、この洗浄部における前記
洗浄液槽に貯留されている洗浄液を前記洗浄液噴射ノズ
ルに向けて圧送するポンプとを備えていることを特徴と
するワーク洗浄装置。
【請求項１３】請求項８，１０において、前記洗浄部に
おける前記液切り手段および前記第２のリンス部におけ
る前記水切り手段は、洗浄槽に貯留した洗浄液の液面あ
るいは純水槽に貯留した純水の水面の上方位置に配置さ
れた少なくとも一個の空気噴射ノズルと、この空気噴射
ノズルに対して圧縮空気を供給する空気ポンプとを備え
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。
【請求項１４】請求項６，７において、前記洗浄部、予
備リンス部、第１および第２のリンス部における各ワー
ク搬送手段は、ワークを次段側に向けて横方向に搬送す
るワーク横搬送機構と、このワーク横搬送機構から受け
取ったワークを、洗浄液槽あるいは純水槽に対して出し
入れするワーク昇降機構とを備えていることを特徴とす
るワーク洗浄装置。
【請求項１５】請求項１４において、板形状をしたワー
クを複数枚保持可能なワークキヤリアを有し、このワー
クキヤリアは、複数枚のワークを所定の間隔で立った状
態に盤列保持可能となっており、このワークキャリアが
前記の各ワーク搬送手段によって搬送されるようになっ
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。
【請求項１６】請求項１５において、前記の各ワーク搬
送手段におけるワーク昇降機構は、ワークキヤリアを一
定のストロークで上下に揺動可能となっていることを特
徴とするワーク洗浄装置。
【請求項１７】請求項１４において、前記の各ワーク搬
送手段は、搬送経路が部分的に前記洗浄槽および純水槽
内に浸漬している搬送ベルト手段によって構成されてい
ることを特徴とするワーク洗浄装置。