JPH07299427A - ワーク洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
ワーク洗浄方法および洗浄装置Info
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- JPH07299427A JPH07299427A JP5017695A JP5017695A JPH07299427A JP H07299427 A JPH07299427 A JP H07299427A JP 5017695 A JP5017695 A JP 5017695A JP 5017695 A JP5017695 A JP 5017695A JP H07299427 A JPH07299427 A JP H07299427A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】洗浄剤を含む洗浄液を用いて効率よくワークを
洗浄し、ワーク内において均一な洗浄品質を確保するこ
とが可能なワーク洗浄装置及びワーク洗浄方法を実現す
ることを目的としている。 【構成】洗浄槽の内壁部には洗浄液の圧送手段に接続し
た噴射ノズルが設けられており、洗浄槽の洗浄液中に浸
漬された状態のワークに対して、該噴射ノズルから洗浄
液を噴射することによって、ワークを洗浄する。
洗浄し、ワーク内において均一な洗浄品質を確保するこ
とが可能なワーク洗浄装置及びワーク洗浄方法を実現す
ることを目的としている。 【構成】洗浄槽の内壁部には洗浄液の圧送手段に接続し
た噴射ノズルが設けられており、洗浄槽の洗浄液中に浸
漬された状態のワークに対して、該噴射ノズルから洗浄
液を噴射することによって、ワークを洗浄する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はブリント基板、液晶パネ
ル、半導体ウエハ等のワークを洗浄するためのワーク洗
浄方法および洗浄装置に関するものである。
ル、半導体ウエハ等のワークを洗浄するためのワーク洗
浄方法および洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】このようなワークの洗浄方法として従来
から知られているものは、吊り下げたワークに対して洗
浄液を吹きつけることにより、ワーク表面の付着物を除
去する方法である。しかし、この方法では、ワーク表面
に対してむら無く洗浄液を吹きっけるためには、ワーク
に対する洗浄液吹きっけ方向を変更するなどの機構が必
要である。また、ノズルから噴射された洗浄液はワーク
以外の部分にも飛散するので、洗浄液の使用量の割りに
は洗浄効率が低い。さらには、飛散した洗浄液が引火性
のものであったり、臭気の強いものである場合には、飛
散した洗浄液を回収するための機構が必要となる。
から知られているものは、吊り下げたワークに対して洗
浄液を吹きつけることにより、ワーク表面の付着物を除
去する方法である。しかし、この方法では、ワーク表面
に対してむら無く洗浄液を吹きっけるためには、ワーク
に対する洗浄液吹きっけ方向を変更するなどの機構が必
要である。また、ノズルから噴射された洗浄液はワーク
以外の部分にも飛散するので、洗浄液の使用量の割りに
は洗浄効率が低い。さらには、飛散した洗浄液が引火性
のものであったり、臭気の強いものである場合には、飛
散した洗浄液を回収するための機構が必要となる。
【0003】このような点に鑑みて、本件出願人は、ワ
ーク洗浄方法として、洗浄液を貯留した洗浄液槽中にワ
ークを浸漬し、浸漬状態にあるワークに対して、洗浄液
の噴流を吹きつける方法を提案している。この洗浄方法
によれば、貯留された洗浄液中において洗浄液の噴流が
形成されるので、洗浄液か外部に飛散することがなく、
洗浄液の回収効率か良い。また、噴流によって貯留され
た洗浄液内に渦流が形成され、かかる渦流か、噴流か直
接には当たらないワーク表面の部分に当たるので、洗浄
効率が高まるといった利点がある。
ーク洗浄方法として、洗浄液を貯留した洗浄液槽中にワ
ークを浸漬し、浸漬状態にあるワークに対して、洗浄液
の噴流を吹きつける方法を提案している。この洗浄方法
によれば、貯留された洗浄液中において洗浄液の噴流が
形成されるので、洗浄液か外部に飛散することがなく、
洗浄液の回収効率か良い。また、噴流によって貯留され
た洗浄液内に渦流が形成され、かかる渦流か、噴流か直
接には当たらないワーク表面の部分に当たるので、洗浄
効率が高まるといった利点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、この
新規なワーク洗浄方法を利用してワーク洗浄を効率良く
行うと共に、洗浄後のワークに付着した洗浄液を効率良
く洗い落とすことの可能なワーク洗浄方法および洗浄装
置を実現することにある。
新規なワーク洗浄方法を利用してワーク洗浄を効率良く
行うと共に、洗浄後のワークに付着した洗浄液を効率良
く洗い落とすことの可能なワーク洗浄方法および洗浄装
置を実現することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のワーク洗浄方法では、まず、洗浄液中に
ワークを浸漬させた状態で、このワークに対して洗浄液
を噴射することによってワークを洗浄するようにしてい
る。この洗浄工程の次に、ワークを純水中に浸潰し、こ
の浸漬状態にあるワークに対して今度は純水を噴射する
ことによってワークに付着した洗浄液を洗い落とすよう
にしている。さらに、このリンス工程の後に、純水中に
ワークを浸漬し、あるいは大気中においてワークに純水
を噴射することにより、再度ワークを洗うようにしてい
る。このように、本発明の方法では、ワークに対して、
洗浄工程、第1のリンス工糧および第2のリンス工程を
施すことにより、ワークを洗浄するようにしている。
めに、本発明のワーク洗浄方法では、まず、洗浄液中に
ワークを浸漬させた状態で、このワークに対して洗浄液
を噴射することによってワークを洗浄するようにしてい
る。この洗浄工程の次に、ワークを純水中に浸潰し、こ
の浸漬状態にあるワークに対して今度は純水を噴射する
ことによってワークに付着した洗浄液を洗い落とすよう
にしている。さらに、このリンス工程の後に、純水中に
ワークを浸漬し、あるいは大気中においてワークに純水
を噴射することにより、再度ワークを洗うようにしてい
る。このように、本発明の方法では、ワークに対して、
洗浄工程、第1のリンス工糧および第2のリンス工程を
施すことにより、ワークを洗浄するようにしている。
【0006】ここに、洗浄効率を高めると共に、第1の
リンス工程において使用する純水の汚染を抑えるために
は、洗浄工程の後に、ワークを純水中に浸漬させる(予
備リンス工程)ことが好ましい。また、洗浄工程におい
て、洗浄後にワークを引き上げる際に、ワークに付着し
ている洗浄液を効率良く払い落とすために、洗浄液から
引上げられるワークに対して空気などの気体を吹きつけ
て、洗浄液を払い落とす(液切り工程)ようにすること
か好ましい。同様に、第2のリンス工程を経た後に純水
中から引上げられるワークに対しても同様に空気などの
気体を吹きつけることにより、ワークに付着している純
水を払い落とすこと(水切り工程)か好ましい。なお、
上記の各工程を経て洗浄されたワークは、乾燥工程を経
て乾燥される。
リンス工程において使用する純水の汚染を抑えるために
は、洗浄工程の後に、ワークを純水中に浸漬させる(予
備リンス工程)ことが好ましい。また、洗浄工程におい
て、洗浄後にワークを引き上げる際に、ワークに付着し
ている洗浄液を効率良く払い落とすために、洗浄液から
引上げられるワークに対して空気などの気体を吹きつけ
て、洗浄液を払い落とす(液切り工程)ようにすること
か好ましい。同様に、第2のリンス工程を経た後に純水
中から引上げられるワークに対しても同様に空気などの
気体を吹きつけることにより、ワークに付着している純
水を払い落とすこと(水切り工程)か好ましい。なお、
上記の各工程を経て洗浄されたワークは、乾燥工程を経
て乾燥される。
【0007】次に、本発明のワーク洗浄装置は、ワーク
洗浄部と、第1のリンス部と、第2のリンス部を有する
ことを基本的な特微としている。ワーク洗浄部は、ワー
ク洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄槽にワークを出し入
れするためのワーク搬送手段と、洗浄槽内に浸漬された
ワークに対して洗浄液を噴射するノズルなどの噴流形成
手段とを備えた構成となっている。第1のリンス部も同
様な構成であり、純水を貯留した純水槽と、純水槽にワ
ークを出し入れするためのワーク搬送手段と、純水槽内
に浸漬されたワークに対して縄水を噴射するノルズなど
の噴流形成手段とを備えた構成となっている。一方、第
2のリンス部は、純水を貯留した純水槽と、純水に対し
てワークを出し入れするためのワーク搬送手段とを備え
た構成となっている。
洗浄部と、第1のリンス部と、第2のリンス部を有する
ことを基本的な特微としている。ワーク洗浄部は、ワー
ク洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄槽にワークを出し入
れするためのワーク搬送手段と、洗浄槽内に浸漬された
ワークに対して洗浄液を噴射するノズルなどの噴流形成
手段とを備えた構成となっている。第1のリンス部も同
様な構成であり、純水を貯留した純水槽と、純水槽にワ
ークを出し入れするためのワーク搬送手段と、純水槽内
に浸漬されたワークに対して縄水を噴射するノルズなど
の噴流形成手段とを備えた構成となっている。一方、第
2のリンス部は、純水を貯留した純水槽と、純水に対し
てワークを出し入れするためのワーク搬送手段とを備え
た構成となっている。
【0008】ここに、洗浄効率を高めると共に、第1の
リンス槽における純水槽が洗浄液で汚染される度合いを
抑えるためには、ワーク洗浄部と第1のリンス部との間
に、予備リンス部を配置し、この予備リンス部におい
て、ワークに付着した洗浄液を予備洗浄することか好ま
しい。この予備リンス部の構成は、上記の第2のリンス
部と同様な構成とすることかできる。また、ワーク洗浄
部において洗浄槽から引き合げられるワークに付着して
いる洗浄液を払い落とすために、ワークに対して空気な
どの気体を吹きつける液切り手段を有していることが好
ましい。同様に、第2のリンス部においても、純水槽か
ら引上げられるワークに付着している純水を払い落とす
ために、ワークに対して空気などを吹きつける水切り手
段を有することが好ましい。
リンス槽における純水槽が洗浄液で汚染される度合いを
抑えるためには、ワーク洗浄部と第1のリンス部との間
に、予備リンス部を配置し、この予備リンス部におい
て、ワークに付着した洗浄液を予備洗浄することか好ま
しい。この予備リンス部の構成は、上記の第2のリンス
部と同様な構成とすることかできる。また、ワーク洗浄
部において洗浄槽から引き合げられるワークに付着して
いる洗浄液を払い落とすために、ワークに対して空気な
どの気体を吹きつける液切り手段を有していることが好
ましい。同様に、第2のリンス部においても、純水槽か
ら引上げられるワークに付着している純水を払い落とす
ために、ワークに対して空気などを吹きつける水切り手
段を有することが好ましい。
【0009】上記の第1のリンス部および第2のリンス
部において、それぞれの純水槽から溢れ出た純水を回収
する共用の回収槽を配置し、この回収槽で回収した純水
を濾過した後に、第1のリンス部における噴流形成手段
および第2のリンス部における純水槽に運流させる構成
を採用することかできる。
部において、それぞれの純水槽から溢れ出た純水を回収
する共用の回収槽を配置し、この回収槽で回収した純水
を濾過した後に、第1のリンス部における噴流形成手段
および第2のリンス部における純水槽に運流させる構成
を採用することかできる。
【0010】上記のワーク洗浄部および第lのリンス部
におけるそれぞれの噴流形成手段は、例えば、ポンプ
と、このポンプから圧送される洗浄液あるいは気体をワ
ークに向けて吹き出すノズルから構成することができ
る。同様に、上記の洗浄液除去手段および水切り手段
は、ポンプと、このポンブから圧送される空気をワーク
に向けて吹き出すノズルから構成することができる。
におけるそれぞれの噴流形成手段は、例えば、ポンプ
と、このポンプから圧送される洗浄液あるいは気体をワ
ークに向けて吹き出すノズルから構成することができ
る。同様に、上記の洗浄液除去手段および水切り手段
は、ポンプと、このポンブから圧送される空気をワーク
に向けて吹き出すノズルから構成することができる。
【0011】上記のワーク搬送手段は、ワークを昇降さ
せるワーク昇降機構と、ワークを次段側に向けて搬送す
る横搬送機構から構成することができる。この代わり
に、例えば、搬送べルトを用いて搬送手段を構成するこ
とができる。この場合には、搬送べルトによるワーク搬
送経路が洗浄液槽内および純水槽内を通過するように、
その搬送経路を設定すれはよい。
せるワーク昇降機構と、ワークを次段側に向けて搬送す
る横搬送機構から構成することができる。この代わり
に、例えば、搬送べルトを用いて搬送手段を構成するこ
とができる。この場合には、搬送べルトによるワーク搬
送経路が洗浄液槽内および純水槽内を通過するように、
その搬送経路を設定すれはよい。
【0012】一方、本発明の装置により洗浄されるワー
クとしては、プリント基板、液晶パネルなどの板状ワー
クが代表的なものである。このようなワークを洗浄する
場合には、多数枚のワークを整列状態に保持するキャリ
アを用いて、所謂バッチ式にワークの洗浄を行うように
することができる。
クとしては、プリント基板、液晶パネルなどの板状ワー
クが代表的なものである。このようなワークを洗浄する
場合には、多数枚のワークを整列状態に保持するキャリ
アを用いて、所謂バッチ式にワークの洗浄を行うように
することができる。
【0013】
【作用】本発明においては、洗浄工程あるいはワーク洗
浄部において、洗浄液中においてワークに対して洗浄液
の噴流が吹きつけられる。洗浄液の噴流が洗浄液中に形
成されると、この噴流により、洗浄液中に各方向に向か
う渦流が形成される。この結果、洗浄液の噴流が直接当
たるワークの部分は、洗浄液の化学的作用およびその吹
きつけ力により、付着物が効率よく除去される。また、
洗浄液噴流が直接に当たらないワークの部分には、洗浄
液の渦流が当たり、やはり同様に、洗浄液の化学的作用
およびその物理的作用により、付着物が効率良く除去さ
れる。また、洗浄中において洗浄液噴流が形成されるの
で、大気中において洗浄液をワークに対して吹きつける
場合のように吹きつけた洗浄液が大気中に飛散するとい
うことがない。
浄部において、洗浄液中においてワークに対して洗浄液
の噴流が吹きつけられる。洗浄液の噴流が洗浄液中に形
成されると、この噴流により、洗浄液中に各方向に向か
う渦流が形成される。この結果、洗浄液の噴流が直接当
たるワークの部分は、洗浄液の化学的作用およびその吹
きつけ力により、付着物が効率よく除去される。また、
洗浄液噴流が直接に当たらないワークの部分には、洗浄
液の渦流が当たり、やはり同様に、洗浄液の化学的作用
およびその物理的作用により、付着物が効率良く除去さ
れる。また、洗浄中において洗浄液噴流が形成されるの
で、大気中において洗浄液をワークに対して吹きつける
場合のように吹きつけた洗浄液が大気中に飛散するとい
うことがない。
【0014】このようにして、洗浄液中において付着物
が除去されたワークは、次に、第1のリンス行程あるい
は第1のリンス部において、純水中に浸漬され、この状
態で純水噴流が吹きつけられる。この場合にも、上記の
洗浄液噴流を吹きつける場合と同様に、ワークに対して
純水噴流が吹きつけられると共に、純水噴流が直接には
当たらないワークの部分には、純水噴流により形成され
た渦流が当たる。この結果、ワークに付着した洗浄液が
確実に洗い落とされる。この後は、第2のリンス行程あ
るいは第2のリンス部において、ワークは再び純水中に
浸漬され、あるいは純水が吹きつけられる。この結果、
ワークに付着している洗浄液が完全に洗い落とされる。
が除去されたワークは、次に、第1のリンス行程あるい
は第1のリンス部において、純水中に浸漬され、この状
態で純水噴流が吹きつけられる。この場合にも、上記の
洗浄液噴流を吹きつける場合と同様に、ワークに対して
純水噴流が吹きつけられると共に、純水噴流が直接には
当たらないワークの部分には、純水噴流により形成され
た渦流が当たる。この結果、ワークに付着した洗浄液が
確実に洗い落とされる。この後は、第2のリンス行程あ
るいは第2のリンス部において、ワークは再び純水中に
浸漬され、あるいは純水が吹きつけられる。この結果、
ワークに付着している洗浄液が完全に洗い落とされる。
【0015】
【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。 (全体構成)第1図には、本例のワーク洗浄装置の全体
構成を模式的に示してある。本例の装置は電子回路用の
プリント基板を洗浄するために適したものであり、キヤ
リヤ2を用いてワーク(プリント基板)Wを複数枚づつ
洗浄する構成となっている。
明する。 (全体構成)第1図には、本例のワーク洗浄装置の全体
構成を模式的に示してある。本例の装置は電子回路用の
プリント基板を洗浄するために適したものであり、キヤ
リヤ2を用いてワーク(プリント基板)Wを複数枚づつ
洗浄する構成となっている。
【0016】この第1図に示すように、本例の装置1
は、ワーク搬送経路の上流側から順に、洗浄部3、第1
の予備リンス部4、第2の予備リンス部5、第1のリン
ス部6、第2のリンス部7および乾燥部8が配列された
構成となっている。洗浄部3においては、プリント基板
用洗浄剤を合む洗浄液を、洗浄液中においてワークに対
して噴射することにより、ワークの洗浄を行う。第1お
よび第2の予備リンス部4、5においては、洗浄剤など
の不純物を含まない水、すなわち純水の中にワークを浸
漬して上下に揺動させることにより、ワークに付着して
いる洗浄液等を洗い落とす。第lのリンス部6において
は、純水中においてワークに対して純水を噴射すること
によリワークから洗浄水等を洗い落とす。第2のリンス
部7においては、上記の第1あるいは第2の予備リンス
部と同様に、純水中にワークを浸漬して上下に揺動させ
ることのより、ワークに付着している洗浄水等を洗い落
とす。
は、ワーク搬送経路の上流側から順に、洗浄部3、第1
の予備リンス部4、第2の予備リンス部5、第1のリン
ス部6、第2のリンス部7および乾燥部8が配列された
構成となっている。洗浄部3においては、プリント基板
用洗浄剤を合む洗浄液を、洗浄液中においてワークに対
して噴射することにより、ワークの洗浄を行う。第1お
よび第2の予備リンス部4、5においては、洗浄剤など
の不純物を含まない水、すなわち純水の中にワークを浸
漬して上下に揺動させることにより、ワークに付着して
いる洗浄液等を洗い落とす。第lのリンス部6において
は、純水中においてワークに対して純水を噴射すること
によリワークから洗浄水等を洗い落とす。第2のリンス
部7においては、上記の第1あるいは第2の予備リンス
部と同様に、純水中にワークを浸漬して上下に揺動させ
ることのより、ワークに付着している洗浄水等を洗い落
とす。
【0017】最後に、乾燥部8においては、ワークを商
温雰囲気中に晒して、そこに残っている純水を除去す
る。一方、本例の装置においては、洗浄部3、第1の予
備リンス部4および第2のリンス部7において、それぞ
れ洗浄液中あるいは純水中から引上げられたワークに対
して空気を噴射することによリワークから洗浄液あるい
は純水を吹き落とすための空気吹きつけ部9が配置され
ている。
温雰囲気中に晒して、そこに残っている純水を除去す
る。一方、本例の装置においては、洗浄部3、第1の予
備リンス部4および第2のリンス部7において、それぞ
れ洗浄液中あるいは純水中から引上げられたワークに対
して空気を噴射することによリワークから洗浄液あるい
は純水を吹き落とすための空気吹きつけ部9が配置され
ている。
【0018】本例の装置で使用するワークWを担持する
キヤリア2の構造を説明する。第5図に示すように、キ
ヤリア2は、両端に配置した矩形枠21、22を、底面
を規定する4本のワーク支持棒23、24、25、26
とワーク取付け用の切り欠きが形成された2本の切り欠
き付き棒27、28とによって連結した構造となってい
る。切り欠き付き棒27、28の内側面には、その材軸
方向に沿って等間隔で切り欠き27l、28lか形成さ
れており、対応する切り欠き271、281の間に、一
枚づつのワークWが上側から差し込み可能となってい
る。また、これらの切り欠き付き棒27、28は、その
間隔を変更可能となっており、これにより幅の異なるワ
ークWを担持可能となっている。さらには、矩形枠2
l、22の上面側には取っ手29、29(図において一
方のみを示してある。)が取付けられており、キヤリヤ
の取扱いが容易となっている。
キヤリア2の構造を説明する。第5図に示すように、キ
ヤリア2は、両端に配置した矩形枠21、22を、底面
を規定する4本のワーク支持棒23、24、25、26
とワーク取付け用の切り欠きが形成された2本の切り欠
き付き棒27、28とによって連結した構造となってい
る。切り欠き付き棒27、28の内側面には、その材軸
方向に沿って等間隔で切り欠き27l、28lか形成さ
れており、対応する切り欠き271、281の間に、一
枚づつのワークWが上側から差し込み可能となってい
る。また、これらの切り欠き付き棒27、28は、その
間隔を変更可能となっており、これにより幅の異なるワ
ークWを担持可能となっている。さらには、矩形枠2
l、22の上面側には取っ手29、29(図において一
方のみを示してある。)が取付けられており、キヤリヤ
の取扱いが容易となっている。
【0019】(各部の構造) キャリア搬送系 第2図ないし第5図を参照して、本例の装置1の構造を
キャリア搬送系を中心に説明する。
キャリア搬送系を中心に説明する。
【0020】本例の装置1は、第2図および第3図に示
すように、その本体部12におけるワークWの搬送方向
の上流側にローダ11が接続され、ワーク搬送方向の下
流側にアンローダ13か接続された構成となっている。
本体部12には、上述した洗浄部、第1および第2の予
備リンス部、第1および第2のリンス部が配置されてい
る。この本体部12のケース121における前面側には
開閉蓋122が形成されている。第4図に想像線で示す
ように開閉蓋122を開けることにより、ケース内部に
アクセスすることが可能である。ケース内部には、ワー
ク搬送方向の上流側から順に、洗浄部の洗浄液槽31、
第1の予備リンス部の純水槽41、第2の予備リンス部
の純水槽51、第1のリンス部の純水槽61、第2のリ
ンス部の純水槽71が一列に配置されている。
すように、その本体部12におけるワークWの搬送方向
の上流側にローダ11が接続され、ワーク搬送方向の下
流側にアンローダ13か接続された構成となっている。
本体部12には、上述した洗浄部、第1および第2の予
備リンス部、第1および第2のリンス部が配置されてい
る。この本体部12のケース121における前面側には
開閉蓋122が形成されている。第4図に想像線で示す
ように開閉蓋122を開けることにより、ケース内部に
アクセスすることが可能である。ケース内部には、ワー
ク搬送方向の上流側から順に、洗浄部の洗浄液槽31、
第1の予備リンス部の純水槽41、第2の予備リンス部
の純水槽51、第1のリンス部の純水槽61、第2のリ
ンス部の純水槽71が一列に配置されている。
【0021】これらの各槽の上方位置には、隣接する各
槽に跨かる状態に、ローラスライダ32、42、52、
62が一定の間隔をもって一列に配置されている。ロー
ラスライダ32の上流側、ローラスライダ62の下流
側、および各ローラスライダの間には、同じくローラス
ライダからなるワーク支持部33、43、53、63、
73が配置されている。これらのワーク支持部は、ケー
ス内において各槽の裏面側に配置した昇降機構34、4
4、54、64、74によって昇降可能となっている。
槽に跨かる状態に、ローラスライダ32、42、52、
62が一定の間隔をもって一列に配置されている。ロー
ラスライダ32の上流側、ローラスライダ62の下流
側、および各ローラスライダの間には、同じくローラス
ライダからなるワーク支持部33、43、53、63、
73が配置されている。これらのワーク支持部は、ケー
ス内において各槽の裏面側に配置した昇降機構34、4
4、54、64、74によって昇降可能となっている。
【0022】第4図から分かるように、洗浄部の昇降機
構34は、洗浄液槽31の裏面側において垂直となるよ
うにケースに取りつけた昇降案内ロッド341と、この
ロッド341の外周に摺動可能に取りつけた摺動部34
2と、この摺動部342を昇降させるためのチェーン3
43と艇動モーター344と、摺動部に取りつけたL型
アーム345とから構成され、このアームの先端に上記
のワーク支持部33か支持されている。この構成の昇降
機構34によって、ワーク支持部33は、少なくとも、
ローラスライダ32、42、52、62と同一高さの上
限位置(第2図参照)から、ワーク支持部によって支持
されているワークWが完全に洗浄液槽31内に浸漬した
状態となる高さの下限位置(第4図参照)まで昇降可能
となっている。その他の昇降機構44、54、64、7
4の構成も、この昇降機構34と同様であるので、その
説明は省略する。
構34は、洗浄液槽31の裏面側において垂直となるよ
うにケースに取りつけた昇降案内ロッド341と、この
ロッド341の外周に摺動可能に取りつけた摺動部34
2と、この摺動部342を昇降させるためのチェーン3
43と艇動モーター344と、摺動部に取りつけたL型
アーム345とから構成され、このアームの先端に上記
のワーク支持部33か支持されている。この構成の昇降
機構34によって、ワーク支持部33は、少なくとも、
ローラスライダ32、42、52、62と同一高さの上
限位置(第2図参照)から、ワーク支持部によって支持
されているワークWが完全に洗浄液槽31内に浸漬した
状態となる高さの下限位置(第4図参照)まで昇降可能
となっている。その他の昇降機構44、54、64、7
4の構成も、この昇降機構34と同様であるので、その
説明は省略する。
【0023】次に、本体ケース121の搬送方向上流側
の端面には、キャリア導入口123か形成されており、
ここを貫通した状態に、ローダ11を構成する搬送べル
ト111が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一
列となるように配置されてる。この搬送べルト111は
支持脚112によって電装ボックス202上支持されて
いる。また、この搬送べルト111は不図示の駆動機構
によって駆動可能である。
の端面には、キャリア導入口123か形成されており、
ここを貫通した状態に、ローダ11を構成する搬送べル
ト111が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一
列となるように配置されてる。この搬送べルト111は
支持脚112によって電装ボックス202上支持されて
いる。また、この搬送べルト111は不図示の駆動機構
によって駆動可能である。
【0024】本例においては、搬送バルト111を構成
するチェーンに、一定のピッチでキヤリア係合用の爪
(図示せず)か取付けられ、駆動機構によりこの一定の
ピッチずつ駆動されるようになっている。本例における
搬送べルト111は、一定のピッチで3個のキヤリア2
を同時に搭載可能であり、そのうちの先頭のキャリア2
を搭載した部分が、第2図から分かるように、本体ケー
ス内に位置するように配置されている。
するチェーンに、一定のピッチでキヤリア係合用の爪
(図示せず)か取付けられ、駆動機構によりこの一定の
ピッチずつ駆動されるようになっている。本例における
搬送べルト111は、一定のピッチで3個のキヤリア2
を同時に搭載可能であり、そのうちの先頭のキャリア2
を搭載した部分が、第2図から分かるように、本体ケー
ス内に位置するように配置されている。
【0025】本体ケース121の下流側端面には、キャ
リア搬出口124が形成されており、ここを貫通した状
態に、アンローダ13を構成するローラスライダ131
が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一列となる
ように配置されている。このスライダも支持脚132に
よって床F上に支持されている。本例においては、この
アンローダ13に3個のキヤリア2を搭載可能となって
いる。そして、ここの3個のキヤリアが集積された場合
には、その旨が自動的に表示可能となっている。かかる
表示機構は簡単に構成することかできるので、ここでは
これ以上の説明は省略する。
リア搬出口124が形成されており、ここを貫通した状
態に、アンローダ13を構成するローラスライダ131
が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一列となる
ように配置されている。このスライダも支持脚132に
よって床F上に支持されている。本例においては、この
アンローダ13に3個のキヤリア2を搭載可能となって
いる。そして、ここの3個のキヤリアが集積された場合
には、その旨が自動的に表示可能となっている。かかる
表示機構は簡単に構成することかできるので、ここでは
これ以上の説明は省略する。
【0026】一方、各処理部3〜7において、キヤリア
支持部33、43、53、63、73の上方における上
流側の位置には、キャリア横搬送経路に直交する状態
に、プッシャー35、45、55、65、75が配置さ
れている。また、キャリア搬入口124の内側にもプッ
シヤー115が配置されている。これらのプッシヤー
は、各槽の前面側においてキヤリア横搬送経路と平行に
配置したプッシャー駆動機構36によって支持されてい
る。この腿動機構36により、各ブッシャーは、第2図
に示す初期動作位置から、下流側の隣接するプッシャの
位置までの間を往復移動可能となっている。さらに、こ
のプッシヤー駆動機構36は、各プッシャーを、第4図
に示すように、実線で示す位置から想像線で示す退避位
置まで旋回可能に支持している。後述するように、これ
らのプッシヤーにより、キャリア2は順次に次段側の処
理部に向けて横搬送される。
支持部33、43、53、63、73の上方における上
流側の位置には、キャリア横搬送経路に直交する状態
に、プッシャー35、45、55、65、75が配置さ
れている。また、キャリア搬入口124の内側にもプッ
シヤー115が配置されている。これらのプッシヤー
は、各槽の前面側においてキヤリア横搬送経路と平行に
配置したプッシャー駆動機構36によって支持されてい
る。この腿動機構36により、各ブッシャーは、第2図
に示す初期動作位置から、下流側の隣接するプッシャの
位置までの間を往復移動可能となっている。さらに、こ
のプッシヤー駆動機構36は、各プッシャーを、第4図
に示すように、実線で示す位置から想像線で示す退避位
置まで旋回可能に支持している。後述するように、これ
らのプッシヤーにより、キャリア2は順次に次段側の処
理部に向けて横搬送される。
【0027】洗浄液および純水の供給系 次に、第6図に示す本例の装置の配管系を主に参照し
て、各処理部3、4、5、6、7の構造を説明する。
て、各処理部3、4、5、6、7の構造を説明する。
【0028】洗浄部3の洗浄液槽31は、上方が開放し
たほぼ立方体形状の洗浄液本体槽311と、この外周を
囲む状態に形成したオーバーフロー槽312とから構成
されている。本体槽311内には、アルカリけん化剤を
合むワーク洗浄液313が貯留されている。ここに貯留
されている洗浄液313は、槽内に配置した棒状ヒータ
ー3l5によりー定の温度、例えば60℃に保持される
ようになっている。
たほぼ立方体形状の洗浄液本体槽311と、この外周を
囲む状態に形成したオーバーフロー槽312とから構成
されている。本体槽311内には、アルカリけん化剤を
合むワーク洗浄液313が貯留されている。ここに貯留
されている洗浄液313は、槽内に配置した棒状ヒータ
ー3l5によりー定の温度、例えば60℃に保持される
ようになっている。
【0029】本体槽311内には、洗浄液を噴射可能な
複数のノズルが配置されている。本例においては、第6
図および第7図に示すように、一方の側において水平に
2列のノズル群316a、316bが配置され、他方の
側においては、これらのノズル群とは異なる高さ位置に
おいて水平に2列のノズル群316c、316dが配置
されている。これらのノズルとしては、噴角60度の充
円錐タイプものを使用することかできる。これらのノズ
ル群は、洗浄液循環経路317を介して、オーバーフロ
ー槽312の底面に連通している。
複数のノズルが配置されている。本例においては、第6
図および第7図に示すように、一方の側において水平に
2列のノズル群316a、316bが配置され、他方の
側においては、これらのノズル群とは異なる高さ位置に
おいて水平に2列のノズル群316c、316dが配置
されている。これらのノズルとしては、噴角60度の充
円錐タイプものを使用することかできる。これらのノズ
ル群は、洗浄液循環経路317を介して、オーバーフロ
ー槽312の底面に連通している。
【0030】この循環経路317には、ポンプ318が
配置され、このポンプとオーバーフロー槽との間にはス
トレーナ319が配置されている。ストレーナ319よ
りも上流側の循環経路には自動開閉弁321を介してア
ルカリけん化剤補充タンク322が接続されている。自
動開閉弁321は、オーバーフロー槽312に取りつけ
た三本足液面計323により開閉制御され、これによっ
て、自動的にアルカリけん化剤が循環経路内に補給され
る。ノズル群と洗浄液循環経路317とは、自動開閉弁
324、325を介して接続されており、これらの開閉
弁はキヤリア2が検出されると自動的に開き、それ以外
の場合は閉じている。これらの自動開閉弁が閉じている
状態では、ポンプ318から吐出される洗浄液は、上記
の自動開閉弁とは逆の開閉動作を行う自動開閉弁326
が介挿されたバイバス通路327を介して、洗浄液本体
槽311内に還流される。また、ポンプ吐出側には開閉
弁328が介挿されており、汚れた洗浄液は産業廃液と
してこの開閉弁328を介して所定の処理部に向けて排
出される。
配置され、このポンプとオーバーフロー槽との間にはス
トレーナ319が配置されている。ストレーナ319よ
りも上流側の循環経路には自動開閉弁321を介してア
ルカリけん化剤補充タンク322が接続されている。自
動開閉弁321は、オーバーフロー槽312に取りつけ
た三本足液面計323により開閉制御され、これによっ
て、自動的にアルカリけん化剤が循環経路内に補給され
る。ノズル群と洗浄液循環経路317とは、自動開閉弁
324、325を介して接続されており、これらの開閉
弁はキヤリア2が検出されると自動的に開き、それ以外
の場合は閉じている。これらの自動開閉弁が閉じている
状態では、ポンプ318から吐出される洗浄液は、上記
の自動開閉弁とは逆の開閉動作を行う自動開閉弁326
が介挿されたバイバス通路327を介して、洗浄液本体
槽311内に還流される。また、ポンプ吐出側には開閉
弁328が介挿されており、汚れた洗浄液は産業廃液と
してこの開閉弁328を介して所定の処理部に向けて排
出される。
【0031】この洗浄液本体槽311は、開閉弁を介し
て、純水供給系33。および純水回収系329に接続さ
れている。純水供給系330には、イオン交換器および
フィルタを備えた純水器331が介挿されている。
て、純水供給系33。および純水回収系329に接続さ
れている。純水供給系330には、イオン交換器および
フィルタを備えた純水器331が介挿されている。
【0032】次に、第1および第2の予備リンス部4、
5は同様の構造となっている。すなわち、純水を貯留し
た純水槽41、51を備えており、これらに貯留された
純水は、循環経路411、511を介して循環される。
これらの循環経路411、511には、ポンプ412、
512およびストレーナ413、513が介挿されてい
る。各ポンプの吐出側には開閉弁414、514が接続
されている。第1の予備リンス部の開閉弁414を開く
と、ここを介して汚れた洗浄水が産業廃液として所定の
処理部に向けて排出される。これに対して、第2の予備
リンス部の開閉弁を開くと、この第2の予備リンス部の
側の循環水が第lの予備リンス部の純水槽4l内に供給
される。ここに、第2の予備リンス部の純水槽5l内に
は棒状ヒーター5l5が配置されており、このヒーター
により純水槽41、51内の純水の温度を所定の温度、
例えぱ60℃に保持するようになっている。一方、これ
ら第1および第2のリンス部における純水槽41、51
は、自動開閉弁416、516を介して、純水供給系3
30に接続されている。これらの自動開閉弁416、5
16の開閉は、純水槽41、51に取りつけたフロート
スイッチ417、517により制御されるようになって
いる。また、純水槽41、51は、開閉弁を介して純水
回収系329に接続されている。
5は同様の構造となっている。すなわち、純水を貯留し
た純水槽41、51を備えており、これらに貯留された
純水は、循環経路411、511を介して循環される。
これらの循環経路411、511には、ポンプ412、
512およびストレーナ413、513が介挿されてい
る。各ポンプの吐出側には開閉弁414、514が接続
されている。第1の予備リンス部の開閉弁414を開く
と、ここを介して汚れた洗浄水が産業廃液として所定の
処理部に向けて排出される。これに対して、第2の予備
リンス部の開閉弁を開くと、この第2の予備リンス部の
側の循環水が第lの予備リンス部の純水槽4l内に供給
される。ここに、第2の予備リンス部の純水槽5l内に
は棒状ヒーター5l5が配置されており、このヒーター
により純水槽41、51内の純水の温度を所定の温度、
例えぱ60℃に保持するようになっている。一方、これ
ら第1および第2のリンス部における純水槽41、51
は、自動開閉弁416、516を介して、純水供給系3
30に接続されている。これらの自動開閉弁416、5
16の開閉は、純水槽41、51に取りつけたフロート
スイッチ417、517により制御されるようになって
いる。また、純水槽41、51は、開閉弁を介して純水
回収系329に接続されている。
【0033】次に、第1および第2のリンス部6、7の
構造を説明する。これらのリンス部の純水槽61、71
は、上方が開いた直方体形状の共通ケース611内を仕
切ることにより区画形成されている。すなわち、第8図
に示すように、共通ケース611内を仕切り板612に
よって完全に二分割し、狭い方の側の区画室613を第
2のリンス部の純水槽71としてある。これに対して、
広い方の側の区画室614内に、一回り小さな角形円筒
形状の仕切り板615を配置することにより、第1のリ
ンス部の純水槽61と、これを取り囲む純水回収槽61
6を形成してある。ここに、純水槽61と純水槽71の
間に位置する純水回収槽616の部分616aには、更
に別個の仕切り板617が配置され、この仕切り板61
7により、この部分616aの上半部分が第1のリンス
部の側と第2のリンス部の側に分けられ、下半部分は連
通状態のままとされている。この純水回収槽616に
は、棒状ヒーター618が配置されており、純水槽6
1、71内の温度を所定の温度、例えぱ60℃に保持す
るようになっている。
構造を説明する。これらのリンス部の純水槽61、71
は、上方が開いた直方体形状の共通ケース611内を仕
切ることにより区画形成されている。すなわち、第8図
に示すように、共通ケース611内を仕切り板612に
よって完全に二分割し、狭い方の側の区画室613を第
2のリンス部の純水槽71としてある。これに対して、
広い方の側の区画室614内に、一回り小さな角形円筒
形状の仕切り板615を配置することにより、第1のリ
ンス部の純水槽61と、これを取り囲む純水回収槽61
6を形成してある。ここに、純水槽61と純水槽71の
間に位置する純水回収槽616の部分616aには、更
に別個の仕切り板617が配置され、この仕切り板61
7により、この部分616aの上半部分が第1のリンス
部の側と第2のリンス部の側に分けられ、下半部分は連
通状態のままとされている。この純水回収槽616に
は、棒状ヒーター618が配置されており、純水槽6
1、71内の温度を所定の温度、例えぱ60℃に保持す
るようになっている。
【0034】第1のリンス部6の純水槽61内には、複
数のノズルが配置されている。本例においては、一方の
側において水平に2列に配列したノズル群621a、6
21bと、これらと対峠する側において水平に2列に配
列したノズル群621c、621dとを有している。ノ
ズルの配置形状は前述した洗浄部3の洗浄液槽における
ものと同様である。これらの双方の側のノズル群は、そ
れぞれ自動開閉弁622、623を介してポンプ624
の吐出側に接続され、ポンプの吸込み側はストレーナ6
25を介して純水回収槽616に接続されている。自動
開閉弁622、623は、キヤリア2が検知されると自
動的に開き、それ以外の場合には閉じた状態に保持され
る。これらが閉じた状態にある場合には、ポンプから吐
き出される純水は、上記の自動開閉弁とは逆の開閉動作
を行う自動開閉弁626が介挿されたバイバス通路62
7を介して純水槽61内に還流される。
数のノズルが配置されている。本例においては、一方の
側において水平に2列に配列したノズル群621a、6
21bと、これらと対峠する側において水平に2列に配
列したノズル群621c、621dとを有している。ノ
ズルの配置形状は前述した洗浄部3の洗浄液槽における
ものと同様である。これらの双方の側のノズル群は、そ
れぞれ自動開閉弁622、623を介してポンプ624
の吐出側に接続され、ポンプの吸込み側はストレーナ6
25を介して純水回収槽616に接続されている。自動
開閉弁622、623は、キヤリア2が検知されると自
動的に開き、それ以外の場合には閉じた状態に保持され
る。これらが閉じた状態にある場合には、ポンプから吐
き出される純水は、上記の自動開閉弁とは逆の開閉動作
を行う自動開閉弁626が介挿されたバイバス通路62
7を介して純水槽61内に還流される。
【0035】ここに、純水回収槽616は、純水再生器
627を介して、第2のリンス部7の純水槽71に連通
している。純水再生器627は、純水回収槽に吸い込み
側が接続されたポンプ627aと、ポンプの吐出側に順
に接続された活性炭による濾過器627b、イオン交換
器627C、イオン交換器627dおよびフィルタ62
7eとから構成されており、この純水再生器により再生
された純水が純水槽71に戻されるようになっている。
627を介して、第2のリンス部7の純水槽71に連通
している。純水再生器627は、純水回収槽に吸い込み
側が接続されたポンプ627aと、ポンプの吐出側に順
に接続された活性炭による濾過器627b、イオン交換
器627C、イオン交換器627dおよびフィルタ62
7eとから構成されており、この純水再生器により再生
された純水が純水槽71に戻されるようになっている。
【0036】次に、第2のリンス部の純水槽71は、自
動開閉弁711を介して純水供給系330に接続されて
いる。この自動開閉弁711は、純水回収槽に取りつけ
たフロートスイツチ628により開閉動作が制御され
る。一方、双方の純水槽61、71はそれぞれ開閉弁を
介して、純水回収系329に接統されている。
動開閉弁711を介して純水供給系330に接続されて
いる。この自動開閉弁711は、純水回収槽に取りつけ
たフロートスイツチ628により開閉動作が制御され
る。一方、双方の純水槽61、71はそれぞれ開閉弁を
介して、純水回収系329に接統されている。
【0037】空気吹き付け部 次に、第1図および第9図を主に参照して、空気吹きつ
け部9の構造を説明する。この空気吹きつけ部9は、圧
縮空気供給源91を有し、ここから供給される圧縮空気
は、フィルタおよびレギュレータ部92を介して、洗浄
部3、第1の予備リンス部4および第2のリンス部7に
それぞれ配置した空気吹き出し部93、94、95に供
給される。洗浄部3の空気吹き出し部93は、洗浄液本
体槽311における一対の対向側面の上方位置におい
て、平行に配置した2本の空気吹き出し部から形成され
ている。第2のリンス部7における空気吹き出し部95
も同様の構成である。これに対して、第1の予備リンス
部4における空気吹き出し部94は一本の空気吹き出し
部からなっている。各空気吹き出し部93、94、95
は、それぞれ手動開閉弁931、941、951および
自動開閉弁932、942、952を介して圧縮空気供
給源91の側に接続されている。各自動開閉弁は、キヤ
リアが槽内から引上げられるときに開かれるようになっ
ている。手動開閉弁は流量調整のために使用される。
け部9の構造を説明する。この空気吹きつけ部9は、圧
縮空気供給源91を有し、ここから供給される圧縮空気
は、フィルタおよびレギュレータ部92を介して、洗浄
部3、第1の予備リンス部4および第2のリンス部7に
それぞれ配置した空気吹き出し部93、94、95に供
給される。洗浄部3の空気吹き出し部93は、洗浄液本
体槽311における一対の対向側面の上方位置におい
て、平行に配置した2本の空気吹き出し部から形成され
ている。第2のリンス部7における空気吹き出し部95
も同様の構成である。これに対して、第1の予備リンス
部4における空気吹き出し部94は一本の空気吹き出し
部からなっている。各空気吹き出し部93、94、95
は、それぞれ手動開閉弁931、941、951および
自動開閉弁932、942、952を介して圧縮空気供
給源91の側に接続されている。各自動開閉弁は、キヤ
リアが槽内から引上げられるときに開かれるようになっ
ている。手動開閉弁は流量調整のために使用される。
【0038】制御系 第10図には、本例の装置における制御系の主要部を示
してある。図において、201は装置1の全体を制御す
るためのコントーラであり、ローダ近傍に配置した電装
ポツクス202内に装着されている。203はコンソー
ルパネルであり、このパネル上には、各種の入力スイッ
チ群からなる入力部203aと、各部の作動状態等を表
示するための表示部203bが配置されている。コント
ローラ201の入力側には、プツシヤー駆動用の隙間検
知用センサ204が接続され、昇降機構駆動用の上限セ
ンサ205、上限接近検知用センサ206、下限センサ
207、下限接近検知用センサ208が接続されてい
る。また、洗浄部3における洗浄液の噴射時期および空
気噴射時期を制御するために使用するキャリア検知用セ
ンサ209、第1の予備リンス部4における空気噴射時
期を制御するための使用するキヤリア検知用センサ21
1、第1のリンス部6における純水の噴射時期を制御す
るために使用するキヤリア検知用センサ212、および
第2のリンス部7における空気噴射時期を制御するため
に使用するキヤリア検知用センサ213などか接続され
ている。
してある。図において、201は装置1の全体を制御す
るためのコントーラであり、ローダ近傍に配置した電装
ポツクス202内に装着されている。203はコンソー
ルパネルであり、このパネル上には、各種の入力スイッ
チ群からなる入力部203aと、各部の作動状態等を表
示するための表示部203bが配置されている。コント
ローラ201の入力側には、プツシヤー駆動用の隙間検
知用センサ204が接続され、昇降機構駆動用の上限セ
ンサ205、上限接近検知用センサ206、下限センサ
207、下限接近検知用センサ208が接続されてい
る。また、洗浄部3における洗浄液の噴射時期および空
気噴射時期を制御するために使用するキャリア検知用セ
ンサ209、第1の予備リンス部4における空気噴射時
期を制御するための使用するキヤリア検知用センサ21
1、第1のリンス部6における純水の噴射時期を制御す
るために使用するキヤリア検知用センサ212、および
第2のリンス部7における空気噴射時期を制御するため
に使用するキヤリア検知用センサ213などか接続され
ている。
【0039】コントローラ201の出力側は、キヤリア
搬送系を構成する各駆動部分に接統されている。すなわ
ち、プッシヤー駆動部36、昇降機構34、44、5
4、64、74、ローダ駆動機構113、キヤリアがキ
ヤリア支持部からオーバーランするのを防止するストッ
パー37、47、57、67、77に接続されている。
搬送系を構成する各駆動部分に接統されている。すなわ
ち、プッシヤー駆動部36、昇降機構34、44、5
4、64、74、ローダ駆動機構113、キヤリアがキ
ヤリア支持部からオーバーランするのを防止するストッ
パー37、47、57、67、77に接続されている。
【0040】また、コントローラ出力側は、洗浄槽にお
ける洗浄液噴射を制御する自動開閉弁324、325、
326第1のリンス部における純水噴射を制御する自動
開閉弁622、623、626に接続されている。さら
には、洗浄部3、第1の予備リンス部4、第2のリンス
部7における空気噴射を制御する自動開閉弁932、9
42、952に接続されている。
ける洗浄液噴射を制御する自動開閉弁324、325、
326第1のリンス部における純水噴射を制御する自動
開閉弁622、623、626に接続されている。さら
には、洗浄部3、第1の予備リンス部4、第2のリンス
部7における空気噴射を制御する自動開閉弁932、9
42、952に接続されている。
【0041】洗浄動作 次に、コントローラの制御の下に行われる本例の洗浄装
置における洗浄動作を説明する。
置における洗浄動作を説明する。
【0042】第11図には1サイクルの洗浄動作のタイ
ミングチヤートを示してあり、第12図〜第16図には
各洗浄勤作時における状態を順次に示してある。駆動に
先立って、ローダ11の搬送べルト111の上に、ワー
クであるプリント基板Wを多数枚設置したキヤリア2を
乗せる。いま、第2図に示す状態から洗浄サイクルが開
始するものとする。この状態では、ローダ11に3個の
キャリア2(n)、2(n+l)、2(n+Z)か搭載
されており、各昇降機構にもそれぞれキャリアが搭載さ
れている。
ミングチヤートを示してあり、第12図〜第16図には
各洗浄勤作時における状態を順次に示してある。駆動に
先立って、ローダ11の搬送べルト111の上に、ワー
クであるプリント基板Wを多数枚設置したキヤリア2を
乗せる。いま、第2図に示す状態から洗浄サイクルが開
始するものとする。この状態では、ローダ11に3個の
キャリア2(n)、2(n+l)、2(n+Z)か搭載
されており、各昇降機構にもそれぞれキャリアが搭載さ
れている。
【0043】まず、この状態から搬送動作が開始される
(第11図の時刻T1)。すなわち、プッシヤー11
5、35、45、55、65、75がそれらの搬送機構
36によって一定の距離だけ横移動し、これら横移動す
るプッシヤーによって各キヤリアは、ローラスライダ3
2、42、52、62の上を移動して、次段側の昇降機
構のキヤリア支持部33、43、53、63、73の上
に乗った状態となるまで前進する(第ll図の時刻Tl
〜T2)。第l2図にはこのようにして、ローダ11上
のキヤリア2(n)が洗浄部3のキヤリア支持部33上
まで横搬送された後の状態を示してある。キヤリア2が
所定の位置まで前進すると、各処理部に取りつけたキヤ
リア検知用センサ209〜213によってキヤリアか検
知される。
(第11図の時刻T1)。すなわち、プッシヤー11
5、35、45、55、65、75がそれらの搬送機構
36によって一定の距離だけ横移動し、これら横移動す
るプッシヤーによって各キヤリアは、ローラスライダ3
2、42、52、62の上を移動して、次段側の昇降機
構のキヤリア支持部33、43、53、63、73の上
に乗った状態となるまで前進する(第ll図の時刻Tl
〜T2)。第l2図にはこのようにして、ローダ11上
のキヤリア2(n)が洗浄部3のキヤリア支持部33上
まで横搬送された後の状態を示してある。キヤリア2が
所定の位置まで前進すると、各処理部に取りつけたキヤ
リア検知用センサ209〜213によってキヤリアか検
知される。
【0044】この後は、各昇降機構34、44、54、
64、74が駆動し、キヤリア2か槽内に向けて降下す
る。降下するキヤリアが下限近傍位置に到ると、これが
下限接近検知用センサ208により検知される(第11
図の時刻T3)。この後は、低速でキヤリアが降下す
る。キヤリアが下限位置に到ると、このことが下限セン
サ207により検知され、昇降機構によるキャリアの降
下が停止する(第11図の時刻T4)。
64、74が駆動し、キヤリア2か槽内に向けて降下す
る。降下するキヤリアが下限近傍位置に到ると、これが
下限接近検知用センサ208により検知される(第11
図の時刻T3)。この後は、低速でキヤリアが降下す
る。キヤリアが下限位置に到ると、このことが下限セン
サ207により検知され、昇降機構によるキャリアの降
下が停止する(第11図の時刻T4)。
【0045】ここで、上記のキヤリア横搬送動作中にお
いては、キャリア2が各昇降機構の支持部33、43、
53、63、73をオーバランしないように、各ローラ
スライダ入ロに設置されているストッパー37、47、
57、67、77をオンさせる。また、キヤリア2の昇
降時及び槽内での浸漬時、キャリアがキャリア支持部か
ら動かないよう各槽内にキヤリアガイド38(第12図
にのみ図示)を設けている。また、搬送動作の間は、洗
浄部3および第1のリンス部6における洗浄液および純
水のバイバス通路326、626か開状態に保持され
る。
いては、キャリア2が各昇降機構の支持部33、43、
53、63、73をオーバランしないように、各ローラ
スライダ入ロに設置されているストッパー37、47、
57、67、77をオンさせる。また、キヤリア2の昇
降時及び槽内での浸漬時、キャリアがキャリア支持部か
ら動かないよう各槽内にキヤリアガイド38(第12図
にのみ図示)を設けている。また、搬送動作の間は、洗
浄部3および第1のリンス部6における洗浄液および純
水のバイバス通路326、626か開状態に保持され
る。
【0046】搬送動作の終了後、ストツパー37、4
7、57、.67、77がオフにされる。また、洗浄部
3および第1のリンス部6においては、キヤリア検知用
センサ209、212がオン状態にあり、下限センサ2
07がオンしたとき(第11図の時刻T4)には、バイ
バス通路326、626が閉じて、自動開閉弁324、
325および622、623が開き、洗浄液の噴射およ
び純水の噴射動作が開始する。第13図には洗浄部3に
おいて洗浄液かキャリア2(n)に噴射されている状態
を示してある。本例においては、一方の側のノズル群3
16a、316bと他方の側のノズル群316C、31
6dから交互に洗浄液が噴射される。
7、57、.67、77がオフにされる。また、洗浄部
3および第1のリンス部6においては、キヤリア検知用
センサ209、212がオン状態にあり、下限センサ2
07がオンしたとき(第11図の時刻T4)には、バイ
バス通路326、626が閉じて、自動開閉弁324、
325および622、623が開き、洗浄液の噴射およ
び純水の噴射動作が開始する。第13図には洗浄部3に
おいて洗浄液かキャリア2(n)に噴射されている状態
を示してある。本例においては、一方の側のノズル群3
16a、316bと他方の側のノズル群316C、31
6dから交互に洗浄液が噴射される。
【0047】第13図に示すように、洗浄液中におい
て、キヤリア2(n)に搭載されているプリント基板W
に対して洗浄液が噴射される。よって、洗浄液が大気中
に飛散することがない。また、洗浄液を噴射することに
より洗浄液中には渦流が形成される。従って、洗浄液の
噴流が直接に当たらないプリント基板の部分も、形成さ
れた渦流によって洗われる。よって、この洗浄部3にお
いてプリント基板の洗浄が効率良く行われる。また、第
lのリンス部6においても、同様にして純水がプリント
基板Wに対して噴射されて、効率良く、プリント基板が
純水中で洗浄される。一方、第1および第2の予備リン
ス部4、5、並びに第2のリンス部7においては、単に
純水槽内にキヤリア2が浸漬された状態に保持される。
て、キヤリア2(n)に搭載されているプリント基板W
に対して洗浄液が噴射される。よって、洗浄液が大気中
に飛散することがない。また、洗浄液を噴射することに
より洗浄液中には渦流が形成される。従って、洗浄液の
噴流が直接に当たらないプリント基板の部分も、形成さ
れた渦流によって洗われる。よって、この洗浄部3にお
いてプリント基板の洗浄が効率良く行われる。また、第
lのリンス部6においても、同様にして純水がプリント
基板Wに対して噴射されて、効率良く、プリント基板が
純水中で洗浄される。一方、第1および第2の予備リン
ス部4、5、並びに第2のリンス部7においては、単に
純水槽内にキヤリア2が浸漬された状態に保持される。
【0048】洗浄動作が開始するのに同期して、プッシ
ャー115、35、45、55、65、75は上方に向
けて旋回し(第11図の時刻T4〜T5)、しかる後
に、元の位置まで横移動して初期の退避位置に戻る(第
11図の時刻T5〜T6)。第14図にはこの状態を示
してある。この後は、ローダ11が駆動して、そこに乗
せられているキヤリア2(n+1)、2(n+2)は1
ピッチ分だけ前進する(第11図の時刻T6〜T7)。
第15図にはこのようにして前進した後の状態を示して
ある。ローダ上のキヤリアか前進した後は、隙間検知用
センサ204によって、ローダ上の先頭のキヤリア2
(n+1)とその次のキャリア2(n+2)との間に所
定の隙間が存在することが確認されると、各プッシヤが
下方に向けて旋回し、それらが初期の動作位置に復帰す
る(第11図の時刻T7〜T8)。第15図にはブッシ
ヤー115が初期の動作位置まで復帰した状態を示して
ある。
ャー115、35、45、55、65、75は上方に向
けて旋回し(第11図の時刻T4〜T5)、しかる後
に、元の位置まで横移動して初期の退避位置に戻る(第
11図の時刻T5〜T6)。第14図にはこの状態を示
してある。この後は、ローダ11が駆動して、そこに乗
せられているキヤリア2(n+1)、2(n+2)は1
ピッチ分だけ前進する(第11図の時刻T6〜T7)。
第15図にはこのようにして前進した後の状態を示して
ある。ローダ上のキヤリアか前進した後は、隙間検知用
センサ204によって、ローダ上の先頭のキヤリア2
(n+1)とその次のキャリア2(n+2)との間に所
定の隙間が存在することが確認されると、各プッシヤが
下方に向けて旋回し、それらが初期の動作位置に復帰す
る(第11図の時刻T7〜T8)。第15図にはブッシ
ヤー115が初期の動作位置まで復帰した状態を示して
ある。
【0049】プッシヤーが元の位置に戻った後は、各昇
降機構34、44、54、64、74が駆動して、各槽
内のキヤリア2は一定期間にわたって上下に揺動する
(第11図の時刻T8〜T9)。この揺動運動により、
各槽内において、キャリアに搭載されているプリント基
板Wの洗浄が効率良く行われる。
降機構34、44、54、64、74が駆動して、各槽
内のキヤリア2は一定期間にわたって上下に揺動する
(第11図の時刻T8〜T9)。この揺動運動により、
各槽内において、キャリアに搭載されているプリント基
板Wの洗浄が効率良く行われる。
【0050】昇降機構の揺動運動は一定時間経過後に停
止する。そして、洗浄部3および第1のリンス部6にお
けるバイパス通路327、627が開き、自動開閉弁3
24、325、622、623か閉じて、洗浄液および
純水の噴射が停止する(第11図の時刻T9)。次に、
各昇降機構が駆動して、キヤリア2は各槽内から上昇す
る。上限接近検知用センサ206により、キャリアが上
限位置に接近したことが検知された後は、上昇速度が低
下し(第11図の時刻T10)、キヤリアが上限位置に
到ると、それが上限センサ205により検知されて、各
昇降機構の駆動が停止する。
止する。そして、洗浄部3および第1のリンス部6にお
けるバイパス通路327、627が開き、自動開閉弁3
24、325、622、623か閉じて、洗浄液および
純水の噴射が停止する(第11図の時刻T9)。次に、
各昇降機構が駆動して、キヤリア2は各槽内から上昇す
る。上限接近検知用センサ206により、キャリアが上
限位置に接近したことが検知された後は、上昇速度が低
下し(第11図の時刻T10)、キヤリアが上限位置に
到ると、それが上限センサ205により検知されて、各
昇降機構の駆動が停止する。
【0051】ここに、かかるキヤリアの昇降に同期し
て、空気吹きつけ部9の自動開閉弁932、942、9
52(第9図参照)が開く。この結果、圧縮空気が、洗
浄槽3の空気吹き出し部93、第1の予備リンス部4の
空気吹き出し部94および第1のリンス部6の空気吹き
出し部95に供給され、これらから吹き出される。従っ
て、これらの各部3、4、6において槽内から引き出さ
れるキヤリア2に対して空気が吹きつけられる。かかる
空気吹きつけ動作により、キャリアに搭載されているプ
リント基板Wに付着している洗浄液あるいは純水が効率
良く吹き落とされる。
て、空気吹きつけ部9の自動開閉弁932、942、9
52(第9図参照)が開く。この結果、圧縮空気が、洗
浄槽3の空気吹き出し部93、第1の予備リンス部4の
空気吹き出し部94および第1のリンス部6の空気吹き
出し部95に供給され、これらから吹き出される。従っ
て、これらの各部3、4、6において槽内から引き出さ
れるキヤリア2に対して空気が吹きつけられる。かかる
空気吹きつけ動作により、キャリアに搭載されているプ
リント基板Wに付着している洗浄液あるいは純水が効率
良く吹き落とされる。
【0052】すなわち、引上げられたキヤリアおよびプ
リント基板に付着している洗浄液あるいは水を自然落下
させる場合には、これらの各部分の凹凸部分に溜まって
いる液あるいは水が落ちにくい。かかる部分に液あるい
は水が残ったまま、次段側に送られると、各槽内に貯留
されている純水の汚れる度合いが早くなり、純水の交換
頻度を高める必要がある。また、多くの水が付着したま
ま乾燥部8に搬入された場合には、乾燥に時間がかかる
ので好ましくない。しかし、本例においては、空気を吹
きつけることにより、キヤリア、プリント基板などの凹
凸部分に溜まっている液あるいは水が吹き飛ぱされて、
これらから除去される。従って、純水の汚れ度合いが少
なくなり、水の交換頻度を下げることかできる。また、
乾燥部における乾燥を短時間にすることができる。第1
6図には、空気を吹きつけられながら引上げられた状態
のキヤリアを示してある。
リント基板に付着している洗浄液あるいは水を自然落下
させる場合には、これらの各部分の凹凸部分に溜まって
いる液あるいは水が落ちにくい。かかる部分に液あるい
は水が残ったまま、次段側に送られると、各槽内に貯留
されている純水の汚れる度合いが早くなり、純水の交換
頻度を高める必要がある。また、多くの水が付着したま
ま乾燥部8に搬入された場合には、乾燥に時間がかかる
ので好ましくない。しかし、本例においては、空気を吹
きつけることにより、キヤリア、プリント基板などの凹
凸部分に溜まっている液あるいは水が吹き飛ぱされて、
これらから除去される。従って、純水の汚れ度合いが少
なくなり、水の交換頻度を下げることかできる。また、
乾燥部における乾燥を短時間にすることができる。第1
6図には、空気を吹きつけられながら引上げられた状態
のキヤリアを示してある。
【0053】以後、上記の動作が繰り返されて、各キヤ
リア2は、洗浄部3から第2のリンス部7を経て、アン
ローダ13に搬出される。このアンローダ上に搬出され
た洗浄済みのキヤリアは、ロボットハンドあるいは人手
により、次段の乾燥部8に搬送され、ここにおいて付着
している純水が乾燥除去される。
リア2は、洗浄部3から第2のリンス部7を経て、アン
ローダ13に搬出される。このアンローダ上に搬出され
た洗浄済みのキヤリアは、ロボットハンドあるいは人手
により、次段の乾燥部8に搬送され、ここにおいて付着
している純水が乾燥除去される。
【0054】(別の実施形態)上記の例は本発明の一実
施例を示すものであり、上記の構成に本発明を限定する
ことを意図したものではない。
施例を示すものであり、上記の構成に本発明を限定する
ことを意図したものではない。
【0055】例えぱ、第17図および第18図には、本
発明を適用した別のワーク洗浄装置を示してある。本例
の装置300は、洗浄部301と予備リンス部302と
第1のリンス部303と第2のリンス部304と乾燥部
305から構成されている。
発明を適用した別のワーク洗浄装置を示してある。本例
の装置300は、洗浄部301と予備リンス部302と
第1のリンス部303と第2のリンス部304と乾燥部
305から構成されている。
【0056】洗浄部301は、上記の例における洗浄部
3と同じく、ワーク洗浄剤を合む洗浄液中において、ノ
ズル301aから洗浄液をワークに対して噴射すること
により、ワークの洗浄を行うものである。予備リンス部
302は上記の例における第1の予備リンス部4と同一
の構成である。第1のリンス部304は、上記の例にお
ける第1のリンス部6と同じく、純水中においてワーク
に対して純水を噴射することにより、ワークの洗浄を行
うものである。第2のリンス部304は、大気中におい
てワークに対してノズル群304aから純水を噴射する
ことにより、ワークの洗浄を行うものである。一方、乾
燥部305は上記の例における乾燥部8と同一の構成と
なっている。
3と同じく、ワーク洗浄剤を合む洗浄液中において、ノ
ズル301aから洗浄液をワークに対して噴射すること
により、ワークの洗浄を行うものである。予備リンス部
302は上記の例における第1の予備リンス部4と同一
の構成である。第1のリンス部304は、上記の例にお
ける第1のリンス部6と同じく、純水中においてワーク
に対して純水を噴射することにより、ワークの洗浄を行
うものである。第2のリンス部304は、大気中におい
てワークに対してノズル群304aから純水を噴射する
ことにより、ワークの洗浄を行うものである。一方、乾
燥部305は上記の例における乾燥部8と同一の構成と
なっている。
【0057】本例のワーク洗浄装置300を利用する場
合には、例えぱ、第18図に示すように、取っ手401
の付いた筒状の網かご402をワークのキヤリアとして
用いることができる。網かご402の搬送機構403と
しては、網かご402の取っ手を吊り下げるフック部4
04と、このフック部404を支持した腕部405と、
この腕部405を水平方向および垂直方向に移動させる
移動部406から構成したものを用いることができる。
この網かご402内に入れて洗浄可能なワークとして
は、各種のプラスチック製品、金属製品を挙げることが
できる。
合には、例えぱ、第18図に示すように、取っ手401
の付いた筒状の網かご402をワークのキヤリアとして
用いることができる。網かご402の搬送機構403と
しては、網かご402の取っ手を吊り下げるフック部4
04と、このフック部404を支持した腕部405と、
この腕部405を水平方向および垂直方向に移動させる
移動部406から構成したものを用いることができる。
この網かご402内に入れて洗浄可能なワークとして
は、各種のプラスチック製品、金属製品を挙げることが
できる。
【0058】次に、第19図には、搬送べルトを用い
て、ワークの搬送系を構成した例を示してある。この図
において第17図の各部と対応する部分には対応する番
号を付してある。本例の装置は、板状のワークWを連続
して搬送しなからそれを洗浄できるように構成されてい
る。
て、ワークの搬送系を構成した例を示してある。この図
において第17図の各部と対応する部分には対応する番
号を付してある。本例の装置は、板状のワークWを連続
して搬送しなからそれを洗浄できるように構成されてい
る。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のワーク洗
浄方法および洗浄装置は、洗浄剤を含む洗浄液中におい
てワークに対して洗浄液を噴射して洗浄を行い、次に、
純水中においてワークに対して純水を噴射して洗浄を行
い、しかる後に、ワークを純水中に浸漬し、あるいはワ
ークに対して純水を吹きっけることにより洗浄を行うよ
うに構成されている。従って、本発明によれぱ、ワーク
に付着している油、塵などの付着物の除去か洗浄液中に
おいて効率良く行われ、また、かかる付着物を除去する
ために使用した洗浄液の除去が、純水中において効率良
く行われる。よって、本発明によれば、効率良くワーク
を洗浄することの可能なワーク洗浄方法および洗浄装置
を実現することができる。
浄方法および洗浄装置は、洗浄剤を含む洗浄液中におい
てワークに対して洗浄液を噴射して洗浄を行い、次に、
純水中においてワークに対して純水を噴射して洗浄を行
い、しかる後に、ワークを純水中に浸漬し、あるいはワ
ークに対して純水を吹きっけることにより洗浄を行うよ
うに構成されている。従って、本発明によれぱ、ワーク
に付着している油、塵などの付着物の除去か洗浄液中に
おいて効率良く行われ、また、かかる付着物を除去する
ために使用した洗浄液の除去が、純水中において効率良
く行われる。よって、本発明によれば、効率良くワーク
を洗浄することの可能なワーク洗浄方法および洗浄装置
を実現することができる。
【0060】また、本発明においては、洗浄液中あるい
は純水中から引上げられるワークに対して気体を吹きつ
けることにより、ワークに付着している洗浄液あるいは
純水を吹き落とすようにしている。このようにすること
により、単にワークに付着した液あるいは水を自然落下
させる場合に比ぺて、液あるいは水を確実に除去でき
る。よって、次段側の槽内に、ワークに付着した液ある
いは水を持ち込んでしまうことを大幅に回避できるの
で、各槽の液あるいは水の汚れ度合いを低く抑えること
ができ、液あるいは水の交換頻度を抑制することができ
る。
は純水中から引上げられるワークに対して気体を吹きつ
けることにより、ワークに付着している洗浄液あるいは
純水を吹き落とすようにしている。このようにすること
により、単にワークに付着した液あるいは水を自然落下
させる場合に比ぺて、液あるいは水を確実に除去でき
る。よって、次段側の槽内に、ワークに付着した液ある
いは水を持ち込んでしまうことを大幅に回避できるの
で、各槽の液あるいは水の汚れ度合いを低く抑えること
ができ、液あるいは水の交換頻度を抑制することができ
る。
【図l】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。
体構成を模式的に示す概略構成図である。
【図2】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略立
面図である。
面図である。
【図3】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略平
面図である。
面図である。
【図4】第2図のIV〜IV線で切断した部分を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図5】第l図のキヤリアを示す斜視図である。
【図6】第l図に示す装置における洗浄液および純水の
配管系を示す配管図である。.
配管系を示す配管図である。.
【図7】第l図に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示
す平面図である。
す平面図である。
【図8】第l図に示す第lおよび第2のリンス部におけ
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。
【図9】第l図に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成
図である。
図である。
【図l。】第l図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。
ブロック図である。
【図ll】第l図の装置の洗浄動作を示すタイミングチ
ャートである。
ャートである。
【図l2】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l3】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l4】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l5】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l6】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l7】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。
る。
【図l8】第l7図に示す例において使用するワークキ
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。
【図l9】第l7図に示す実施例の変形例であり、搬送
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。
lワーク洗浄装置 2キヤリア 3洗浄部 4第lの予備リンス部 5第2の予備リンス部 6第lのリンス部 7第2のリンス部 8乾燥部 9空気吹きっけ部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年6月15日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図l】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。
体構成を模式的に示す概略構成図である。
【図2】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略立
面図である。
面図である。
【図3】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略平
面図である。
面図である。
【図4】第2図のIV〜IV線で切断した部分を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図5】第l図のキヤリアを示す斜視図である。
【図6】第l図に示す装置における洗浄液および純水の
配管系を示す配管図である。.
配管系を示す配管図である。.
【図7】第l図に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示
す平面図である。
す平面図である。
【図8】第l図に示す第lおよび第2のリンス部におけ
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。
【図9】第l図に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成
図である。
図である。
【図l0】第l図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。
ブロック図である。
【図ll】第l図の装置の洗浄動作を示すタイミングチ
ャートである。
ャートである。
【図l2】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l3】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l4】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l5】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l6】第l図の装置の動作を示す説明図である。
【図l7】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。
る。
【図l8】第l7図に示す例において使用するワークキ
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。
【図l9】第l7図に示す実施例の変形例であり、搬送
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。
【符号の説明】 lワーク洗浄装置 2キヤリア 3洗浄部 4第lの予備リンス部 5第2の予備リンス部 6第lのリンス部 7第2のリンス部 8乾燥部 9空気吹きっけ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 A H05K 3/26 7511−4E
Claims (17)
- 【請求項1】洗浄剤を含む洗浄液の中に洗浄すべきワー
クを浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対して洗浄液
の噴流を吹きつけることにより、前記ワークから付着物
などを洗い落とす洗浄工程と、この洗浄工程を経たワー
クを純水中に浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対し
て純水の噴流を吹きつけることにより、このワークに付
着している前記洗浄液を洗い落とす第1のリンス工程
と、この第lのリンス工程を経たワークに対して純水を
供給して、ワークに付着している前記洗浄液を洗い落と
す第2のリンス工程とを含むワーク洗浄方法。 - 【請求項2】請求項1において、前記洗浄工糧と前記第
1のリンス工程との間に、少なくとも一回の予備リンス
工程を有し、この予備リンス工程は、貯留した純水内に
ワークを浸漬することにより、このワークに付着してい
る洗浄液を洗い落とす工程であることを特微とするワー
ク洗浄方法。 - 【請求項3】請求項1において、前記第2のリンス工程
を経たワークに付着している純水を除去する水切り工程
を有し、この水切り工程は、前記第2のリンス工程にお
いて純水中から引き上げられるワークに対して気体を吹
きつけて、このワークに付着している純水を払い落とす
工糧であることを特徴とするワーク洗浄方法。 - 【請求項4】請求項3において、前記水切り工程を経た
ワークに付着している純水を乾燥除去する乾燥工程を有
していることを特徴とするワーク洗浄方法。 - 【請求項5】請求項1において、前記洗浄工程において
洗浄液から引き上げられるワークに対して気体を吹きつ
けて、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液
切り工程を有していることを特徴とするワーク洗浄方
法。 - 【請求項6】ワーク洗浄剤を含む洗浄液を貯留した洗浄
液槽、この洗浄液槽に対してワークを出し入れするワー
ク搬送手段、および、このワーク搬送手段によって前記
洗浄液槽内に入れられた状態にあるワークに対して洗浄
液の噴流を吹きっける噴流形成手段を備えたワーク洗浄
部と、 純水を貯留した純水槽、前記ワーク洗浄部から洗浄済み
ワークを受け取り、前記純水槽に対してこのワークを出
し入れするワーク搬送手段、および、このワーク搬送手
段によって前記純水槽内に入れられた状態にあるワーク
に対して純水の噴流を吹きつける噴流形成手段を備えた
第1のリンス部と、純水を貯留した純水槽、および、前
記第1のリンス部から純水による洗浄済みのワークを受
け取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れする
ワーク搬送手段を備えた第2のリンス部とを有すること
を特徴とするワーク洗浄装置。 - 【請求項7】請求項6において、純水を貯留した純水
槽、および前記ワーク洗浄部から洗浄済みワークを受け
取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れするワ
ーク搬送手段を備えた予備リンス部を少なくとも一つ有
し、前記第1のリンス部は、この予備リンス部において
洗浄された後のワークを受け取るようになっていること
を特微とするワーク洗浄装置。 - 【請求項8】請求項6において、前記第2のリンス部の
前記純水槽から引上げられるワークに対して気体を吹き
つけて、このワークに付着している純水を払い落とす水
切り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装
置。 - 【請求項9】請求項8において、前記水切り手段によっ
て水切りか行われたワークに付着している純水を乾燥除
去する乾燥手段を有していることを特徴とするワーク洗
浄装置。 - 【請求項10】請求項6において、前記洗浄部の前記洗
浄槽から引き上げられるワークに対して気体を吹きつけ
て、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液切
り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装置。 - 【請求項11】請求項6において、 前記第1のリンス部の前記純水槽および前記第2のリン
ス部の前記純水槽のそれぞれから溢れ出た純水を回収す
る純水回収槽を有し、 前記第1のリンス部における前記噴流形成手段は、ワー
クに向けて配列された少なくとも一個の純水噴射ノズル
と、前記純水回収槽に回収された純水を前記ノズルのそ
れぞれに向けて圧送するボンプとを備えており、 前記第2のリンス部は、前記純水回収槽に回収された純
水をこの第2のリンス部の純水槽に運流させるポンプ
と、還流する純水に合まれている不純物を除去する濾過
手段とを備えていることを特微とするワーク洗浄装置。 - 【請求項12】請求項6において、前記洗浄部における
前記噴流形成手段、ワークに向けて配列された少なくと
も一個の洗浄液噴射ノズルと、この洗浄部における前記
洗浄液槽に貯留されている洗浄液を前記洗浄液噴射ノズ
ルに向けて圧送するポンプとを備えていることを特徴と
するワーク洗浄装置。 - 【請求項13】請求項8,10において、前記洗浄部に
おける前記液切り手段および前記第2のリンス部におけ
る前記水切り手段は、洗浄槽に貯留した洗浄液の液面あ
るいは純水槽に貯留した純水の水面の上方位置に配置さ
れた少なくとも一個の空気噴射ノズルと、この空気噴射
ノズルに対して圧縮空気を供給する空気ポンプとを備え
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。 - 【請求項14】請求項6,7において、前記洗浄部、予
備リンス部、第1および第2のリンス部における各ワー
ク搬送手段は、ワークを次段側に向けて横方向に搬送す
るワーク横搬送機構と、このワーク横搬送機構から受け
取ったワークを、洗浄液槽あるいは純水槽に対して出し
入れするワーク昇降機構とを備えていることを特徴とす
るワーク洗浄装置。 - 【請求項15】請求項14において、板形状をしたワー
クを複数枚保持可能なワークキヤリアを有し、このワー
クキヤリアは、複数枚のワークを所定の間隔で立った状
態に盤列保持可能となっており、このワークキャリアが
前記の各ワーク搬送手段によって搬送されるようになっ
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。 - 【請求項16】請求項15において、前記の各ワーク搬
送手段におけるワーク昇降機構は、ワークキヤリアを一
定のストロークで上下に揺動可能となっていることを特
徴とするワーク洗浄装置。 - 【請求項17】請求項14において、前記の各ワーク搬
送手段は、搬送経路が部分的に前記洗浄槽および純水槽
内に浸漬している搬送ベルト手段によって構成されてい
ることを特徴とするワーク洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5017695A JPH07299427A (ja) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | ワーク洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5017695A JPH07299427A (ja) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | ワーク洗浄方法および洗浄装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1029591A Division JPH04215879A (ja) | 1990-11-26 | 1991-01-31 | ワーク洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07299427A true JPH07299427A (ja) | 1995-11-14 |
Family
ID=12851897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5017695A Pending JPH07299427A (ja) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | ワーク洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07299427A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268247A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN102430548A (zh) * | 2011-10-15 | 2012-05-02 | 广东美味鲜调味食品有限公司 | 一种腐乳胶框自动清洗装置 |
KR20140109319A (ko) | 2013-03-04 | 2014-09-15 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 도금 장치 |
-
1995
- 1995-03-09 JP JP5017695A patent/JPH07299427A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9624594B2 (en) | 2013-03-04 | 2017-04-18 | Ebara Corporation | Plating apparatus |
US10077504B2 (en) | 2013-03-04 | 2018-09-18 | Ebara Corporation | Plating apparatus |
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