JP6347921B2

JP6347921B2 - 超音波洗浄装置

Info

Publication number: JP6347921B2
Application number: JP2013140166A
Authority: JP
Inventors: 佐々木　寛; 佐々木　　寛
Original assignee: Kitamura Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Kitamura Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2013-07-03
Filing date: 2013-07-03
Publication date: 2018-06-27
Anticipated expiration: 2033-07-03
Also published as: JP2015013240A

Description

本発明は、洗浄液を満たした洗浄槽内で被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置に関するものである。

従来、洗浄液を満たした洗浄槽内で被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置としては、槽腹部に入出口孔を設けて、被洗浄物を搬送するコンベアをその槽腹部を貫通移動可能にし、かつ槽内のコンベアの上下面に対向させて一対の超音波振動子を配設する洗浄槽と、洗浄槽の下方に位置して洗浄槽の入出口孔からの流出洗浄液を受蓄する洗浄液受蓄槽と、洗浄液受蓄槽内の洗浄液を洗浄槽に補給する洗浄液循環手段とから構成されたものがあった（特許文献１参照）。

特開平０４−１７６３７９号公報

しかし、従来の超音波洗浄装置では、洗浄槽の入出口孔はコンベアとコンベア上の被洗浄物を通過可能な大きさに形成されており、洗浄槽の水面レベルをこの入出口孔より高く維持して被洗浄物及び超音波振動子を水中に浸すために、この入出口孔から排出される洗浄液の排出量はきわめて多く、排出された洗浄液を受ける洗浄液受蓄槽を大型しなくてはならず、また洗浄槽に供給する洗浄液の供給量もきわめて多く必要としており、洗浄槽内の洗浄液の流れによって被洗浄物へ照射される超音波が邪魔されてしまい洗浄効果が低下したり、洗浄液の飛散を抑えるためのスペースを必要とするため装置全体が大型化してしまうという問題点があった。

そこで、本発明は、上記課題を解消するものであり、洗浄効果の向上を図り、小型化できる超音波洗浄装置を提供することを目的とする。

請求項１の発明は、洗浄剤が貯留された洗浄槽と、前記洗浄槽内の液面下に設置された一対の照射部を複数備えた超音波照射手段と、被洗浄物を前記洗浄槽内の前記洗浄剤に浸漬して、前記被洗浄物を前記一対の照射部間に通過させた後、前記被洗浄物を前記洗浄槽外へ搬送する搬送手段とを備え、前記照射部を上下一対に配置して、上側の前記照射部の照射面を前記被洗浄物の進行方向に対して上流側を下げるとともに下流側を上げて傾斜して備えるとともに、下側の前記照射部の照射面を水平に備え、前記搬送手段は、前記被洗浄物を前記洗浄槽の上方から前記洗浄槽内の前記洗浄剤の液面下まで下降させ、前記被洗浄物を前記洗浄剤に浸漬する下降装置と、前記下降装置によって前記洗浄剤に浸漬された前記被洗浄物を水平方向に移動させて前記一対の照射部間に通過させる通過装置と、前記一対の照射部間を通過後の前記被洗浄物を上昇させ、前記被洗浄物を前記洗浄槽から引き上げる上昇装置とを備え、前記被洗浄物を前記洗浄槽の上部に備えた開口部から前記洗浄槽内の前記洗浄剤に浸漬するとともに、前記開口部から前記洗浄槽外へ搬送するものとしたことを特徴とする。

請求項１の発明によれば、被洗浄物と、超音波照射手段の照射部との間の洗浄剤の流れが穏やかになり、超音波照射手段の照射部から照射される超音波が洗浄剤の流れに邪魔されることなく被洗浄物へ照射されるため、洗浄剤と超音波による洗浄効果が向上する。また、洗浄槽内の洗浄剤の流れが穏やかになることで、洗浄剤が洗浄槽外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置の清掃等のメンテナンス性の向上や洗浄剤の強力な洗浄成分による超音波洗浄装置の塗装剥離や超音波洗浄装置周囲の環境悪化を防止することができる。また、洗浄槽は、被洗浄物を投入及び引き上げるための開口部を上部に備えるだけの構造でよく、洗浄槽の簡素化やコンパクト化による超音波洗浄装置全体の簡素化や小型化を図ることができる。

本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。

図１乃至図５は、本発明の超音波洗浄装置の第１実施例を示しており、本実施例の超音波洗浄装置101は、加温した洗浄剤Ｃに浸漬した被洗浄物Ｔに超音波を照射して洗浄する洗浄工程ユニット102と、被洗浄物Ｔを加温した純水で洗浄するプレリンス工程ユニット103と、被洗浄物Ｔを加温した純水で順次洗浄する第１〜第３の仕上リンス工程ユニット104、105、106と、被洗浄物Ｔに空気を吹き付けて水気を切る液切りブロー工程ユニット107と、被洗浄物Ｔに熱風を吹き付けて乾燥させる熱風乾燥工程ユニット108と、の順に有して構成されている。

尚、超音波洗浄装置101には、例えばはんだ付け等の前工程（図示せず）と接続され、被洗浄物Ｔを前記前工程（図示せず）から洗浄工程ユニットへと搬送する第１の搬送コンベア109と、被洗浄物Ｔを洗浄工程ユニット102からプレリンス工程ユニット103、第１〜第３の仕上リンス工程ユニット104、105、106、熱風乾燥工程ユニット108を経て後工程（図示せず）へと搬送する第２の搬送コンベア110とを備えている。

ここで、第２の搬送コンベア110としては、被洗浄物Ｔを載置する載置面に被洗浄物Ｔを直接載置可能なネットコンベアや通気性を有する多孔質のベルトコンベアやローラーコンベアなどのように搬送面に被洗浄物Ｔを水平方向に搬送させる場合に上下方向に通気性及び通水性を有し、プレリンス工程ユニット103、第１〜３の仕上リンス工程ユニット104、105、106、液切りブロー工程ユニット107、熱風乾燥工程ユニット108からの純水や空気を透過可能な構造が好ましい。

洗浄工程ユニット102には、洗浄剤Ｃを貯留可能な容器の上部を開放した開口部111を備え、その開口部111から被洗浄物Ｔを浸漬及び引き上げ可能な洗浄槽112と、洗浄槽112内における洗浄剤Ｃの液面Ｌ下に設置された一対の超音波素子113〜120をそれぞれ備えた第１の超音波照射手段121及び第２の超音波照射手段122と、第１の搬送コンベア109によって洗浄槽112まで搬送された被洗浄物Ｔを洗浄槽112内の洗浄剤Ｃに浸漬した状態で、被洗浄物Ｔを第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116間、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間の順に通過させた後、被洗浄物Ｔを洗浄槽112から引き上げて第２の搬送コンベア110へ搬送する搬送手段123と、を有している。

また、洗浄工程ユニット102には、洗浄剤Ｃの補給を自動的に行う洗浄剤用ストックタンク124と、洗浄槽112へ供給される洗浄剤Ｃが貯留される洗浄剤用サージタンク125と、洗浄槽112内の洗浄剤Ｃを洗浄槽112、洗浄剤用サージタンク125、そして洗浄槽112へと循環させる洗浄剤用ポンプ126と、洗浄剤Ｃの不純物を除去するカートリッジ式の洗浄剤用フィルタ127と、洗浄剤Ｃを所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の洗浄工程用加温手段（図示せず）と、を備えている。

ここで、第１の超音波照射手段121及び第２の超音波照射手段122の一対の超音波素子113,114,115,116,117,118,119,120は、それぞれ左右一対のものを照射面を上下方向に対向して設置され、下側の超音波素子114,116,118,120は洗浄槽112の底面部下面に配置されている。

さらに搬送手段123としては、第１の搬送コンベア109から搬送された被洗浄物Ｔを洗浄槽112の上方から洗浄槽112内の洗浄剤Ｃの液面Ｌ下まで下降させ、被洗浄物Ｔを洗浄剤Ｃに浸漬する下降装置128と、下降装置128によって洗浄剤Ｃに浸漬された被洗浄物Ｔを水平方向に移動させて第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116間、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間の順に通過させる通過装置129と、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間を通過後の被洗浄物Ｔを上昇させ、被洗浄物Ｔを洗浄槽112から引き上げて第２の搬送コンベア110へ搬送する上昇装置130とを備えている。

ここで、下降装置128は、昇降駆動機構（図示せず）により洗浄槽112の上方と洗浄槽112内の液面Ｌ下まで昇降可能に備えた下降用トレー131を備えている。尚、下降用トレー131には下降用トレー131に載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる下降側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

また、上昇装置130は、昇降駆動機構（図示せず）により洗浄槽112の上方と洗浄槽112内の液面Ｌ下まで昇降可能に備えた上昇用トレー133を備えている。尚、上昇用トレー133には上昇用トレー133に載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる上昇側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

さらに、通過装置129は、水平駆動機構135により水平方向に移動可能、且つ第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116間、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間の順に通過可能に備えた通過用トレー136を備えている。尚、通過用トレー136には通過用トレー136に載置された被洗浄物Ｔを側面方向から保持する複数の爪片部からなる通過用保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。ここで通過用トレー136は、網状構造や多孔質構造により通気性及び通水性を有し、洗浄剤Ｃ及び超音波を透過可能な構造であることが好ましい。

尚、第２の搬送コンベア110の洗浄槽112側には空気を被洗浄物Ｔに吹き付けて水分を吹き飛ばす第１の槽間ブロー138の第１の吹出ノズル139を、互いの吹出方向を僅かに被洗浄物Ｔの進行方向と逆向きに傾けて対向させて上下一対で備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気を吹き付け可能に備えている。

プレリンス工程ユニット103には、第２の搬送コンベア110に設置されて第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに加温された純水をスプレーして被洗浄物Ｔを上下方向から洗浄するプレリンス側洗浄手段140と、プレリンス側洗浄手段140からの排水を受けるプレリンス側排水受部141と、プレリンス側排水受部141に案内された排水を貯留するプレリンス側サージタンク142と、プレリンス側サージタンク142に貯留された純水をプレリンス側洗浄手段140へ高圧状態で供給するプレリンス側スプレーポンプ143と、プレリンス工程ユニット103における純水の不純物を除去するプレリンス側フィルタユニット144と、純水を所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等のプレリンス側加温手段（図示せず）と、を備えている。

プレリンス側洗浄手段140には、第２の搬送コンベア110の被洗浄物Ｔの進行方向に並設された第１のプレリンス用スプレー145と第２のプレリンス用スプレー146とを備え、第１のプレリンス用スプレー145及び第２のプレリンス用スプレー146はそれぞれ互いの吹出方向を対向させた上下一対の第１のスプレーノズル部147及び第２のスプレーノズル部148を備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水をスプレー可能に備えている。

プレリンス側排水受部141は、上方を開放して底部の中心部分に最深部を有する浅底皿状に形成されており、最深部からプレリンス側サージポンプ142へと延設されたプレリンス側排出口149を備えている。

また、プレリンス工程ユニット103直前の第２の搬送コンベア110には第２の槽間ブロー150の第２の吹出ノズル151を互いの吹出方向を僅かに被洗浄物Ｔの進行方向に傾けて対向させて上下一対で備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気を吹き付け可能に備えている。

第１の仕上リンス工程ユニット104には、第２の搬送コンベア110に設置されて第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに加温された純水をスプレーして被洗浄物Ｔを上下方向から洗浄する第１の仕上リンス側洗浄手段152と、第１の仕上リンス側洗浄手段152からの排水を受ける第１の仕上リンス側排水受部153と、第１の仕上リンス側排水受部153に案内された排水を貯留する第１の仕上リンス側サージタンク154と、第１の仕上リンス側サージタンク154に貯留された純水を第１の仕上リンス側洗浄手段152へ高圧状態で供給する第１の仕上リンス側スプレーポンプ155と、第１の仕上リンス工程ユニット104における純水の不純物を除去する第１の仕上リンス側フィルタユニット156と、純水を所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の第１の仕上リンス側加温手段（図示せず）と、を備えている。

第１の仕上リンス側洗浄手段152には、第２の搬送コンベア110の被洗浄物Ｔの進行方向に並設された第１の仕上リンス用スプレー157と第２の仕上リンス用スプレー158とを備え、第１の仕上リンス用スプレー157及び第２の仕上リンス用スプレー158はそれぞれ互いの吹出方向を対向させた上下一対の第１の仕上用スプレーノズル159及び第２の仕上用スプレーノズル160を備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水をスプレー可能に備えている。

第１の仕上リンス側排水受部153は、上方を開放して底部の中心部分に最深部を有する浅底皿状に形成されており、その最深部から第１の仕上リンス側サージタンク154へと延設された第１の仕上リンス側排出口161を備えている。

第２の仕上リンス工程ユニット105には、第２の搬送コンベア110に設置されて第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに加温された純水をスプレーして被洗浄物Ｔを上下方向から洗浄する第２の仕上リンス側洗浄手段162と、第２の仕上リンス側洗浄手段162からの排水を受ける第２の仕上リンス側排水受部163と、第２の仕上リンス側排水受部163に案内された排水を貯留する第２の仕上リンス側サージタンク164と、第２の仕上リンス側サージタンク164に貯留された純水を第２の仕上リンス側洗浄手段162へ高圧状態で供給する第２の仕上リンス側スプレーポンプ165と、第２の仕上リンス工程ユニット105における純水の不純物を除去する第２の仕上リンス側フィルタユニット166と、純水を所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の第２の仕上リンス側加温手段（図示せず）と、を備えている。

第２の仕上リンス側洗浄手段162には、第２の搬送コンベア110の被洗浄物Ｔの進行方向に並設された第３の仕上リンス用スプレー167と第４の仕上リンス用スプレー168とを備え、第３の仕上リンス用スプレー167及び第４の仕上リンス用スプレー168はそれぞれ互いの吹出方向を対向させた上下一対の第３の仕上用スプレーノズル169及び第４の仕上用スプレーノズル170を備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水をスプレー可能に備えている。

第２の仕上リンス側排水受部163は、上方を開放して底部の中心部分に最深部を有する浅底皿状に形成されており、その最深部から第２の仕上リンス側サージタンク164へと延設された第２の仕上リンス側排出口171を備えている。

第３の仕上リンス工程ユニット106には、第２の搬送コンベア110に設置されて第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに加温された純水をスプレーして被洗浄物Ｔを上下方向から洗浄する第３の仕上リンス側洗浄手段172と、第３の仕上リンス側洗浄手段172からの排水を受ける第３の仕上リンス側排水受部173と、第３の仕上リンス側排水受部173に案内された排水を貯留する第３の仕上リンス側サージタンク174と、第３の仕上リンス側サージタンク174に貯留された純水を第３の仕上リンス側洗浄手段172へ高圧状態で供給する第３の仕上リンス側スプレーポンプ175と、第３の仕上リンス工程ユニット106における純水の不純物を除去する第３の仕上リンス側フィルタユニット176と、純水を所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の第３の仕上リンス側加温手段（図示せず）と、を備えている。

第３の仕上リンス側洗浄手段172には、第２の搬送コンベア110の被洗浄物Ｔの進行方向に並設された第５の仕上リンス用スプレー177と第６の仕上リンス用スプレー178とを備え、第５の仕上リンス用スプレー177及び第６の仕上リンス用スプレー178はそれぞれ互いの吹出方向を対向させた上下一対の第５の仕上用スプレーノズル179及び第６の仕上用スプレーノズル180を備えており、第２の搬送コンベア110を搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水をスプレー可能に備えている。

第３の仕上リンス側排水受部173は、上方を開放して底部の中心部分に最深部を有する浅底皿状に形成されており、その最深部から第３の仕上リンス側サージタンクへと延設された第３の仕上リンス側排出口181を備えている。

ここで、プレリンス工程ユニット103及び第１〜第３の仕上リンス工程ユニット104、105、106では、互いに隣接して備えた各サージタンク142、154、164、174の上部に形成された各開口部182、183、184、185の位置を、第３の仕上リンス側サージタンク174の開口部185を最も高い位置に配置して、次に第２の仕上リンス側サージタンク164の開口部184、続いて第１の仕上リンス側サージタンク154の開口部183の順に高く配置して、プレリンス側サージタンク142の開口部182の位置を最も低い位置に配置して、各工程の順序と逆行する下り階段状に配置されており、各サージタンク142、154、164、174の内容量を超過して溢れ出した排水が隣接する直前の工程の各サージタンク142、154、164へ流れるオーバーフロー構造となっている。

このオーバーフロー構造により、第３の仕上リンス側サージタンク174から溢れ出した排水は第２の仕上リンス側サージタンク164に流れ込み、第２の仕上リンス側サージタンク164から溢れ出した排水は第１の仕上リンス側サージタンク154に流れ込み、第１の仕上リンス側サージタンク154から溢れ出した排水はプレリンス側サージタンク142に流れ込む構造となっており、第３の仕上リンス側サージタンク174の排水が仕上リンス工程以降の工程へ溢れ出さない構造となっている。

また、各サージタンク142、154、164、174全てを収容可能な大きさに形成され、その上部を各排出口に連結された貯留槽186を備えており、貯留槽186の上面は第３の仕上リンス側サージタンク174より高い位置に設けられており、第３の仕上リンス側サージタンク174から溢れ出た排水が貯留槽186から溢れ出ることを防止する構造となっている。

尚、第２の搬送コンベア110の第３の仕上リンス工程ユニット106の直後には空気を被洗浄物Ｔに吹き付けて水分を吹き飛ばす第３の槽間ブロー187の第３の吹出ノズル188を、互いの吹出方向を僅かに被洗浄物Ｔの進行方向と逆向きに傾けて対向させて上下一対で備えており、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気を吹き付け可能に備えている。

ここで、第１〜第３の槽間ブロー138、150、187へ供給される空気は、ＨＥＰＡフィルタ等の槽間ブロー用フィルタ189を介して清浄化されて槽間用ブロアー190によって供給される構造となっている。

液切りブロー工程ユニット107には、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気を吹き付け可能な液切り用ノズル（図示せず）と、液切り用ノズル（図示せず）に乾燥空気を供給するリングブロアー等の液切り用ブロアー191と、液切り用ノズル（図示せず）へ供給される空気の不純物を除去して空気の清浄化を行うＨＥＰＡフィルタ等の液切り用フィルタ192と、を備えている。

熱風乾燥工程ユニット108には、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から熱風を吹き付け可能な乾燥用ノズル（図示せず）と、乾燥用ノズル（図示せず）に乾燥空気を供給するリングブロアー等の乾燥用ブロアー193と、乾燥用ノズル（図示せず）へ供給される空気の不純物を除去して空気の清浄化を行う耐熱型ＨＥＰＡフィルタ等の乾燥用フィルタ194と、乾燥空気を所定温度に加温する電気ヒータ式等の乾燥用加温手段195と、を備えている。

また、図３における196は超音波洗浄装置101から排出される気体中に同伴される液体の微粒子を気体中から分離除去する分離器であるデミスター、197は超音波洗浄装置101の装置全体のカバー、198は超音波洗浄装置101の配管（図示せず）を覆うカバーグレーチングである。

以上の構成の本実施例の洗浄装置１の作用について述べるとする。洗浄工程ユニット102による洗浄工程では、第１の搬送コンベア109によって前工程から洗浄槽112まで搬送された被洗浄物Ｔは、下降用トレー131に載置されて下降装置128によって洗浄槽112内に貯留させた洗浄剤Ｃに浸漬され、次に通過用トレー136に載置されて通過装置129によって洗浄剤Ｃに浸漬された状態で、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116間、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間の順に通過させられ、上下方向から超音波を照射されて洗浄剤Ｃと超音波により被洗浄物Ｔの洗浄が行なわれ、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間を通過した後、上昇用トレー133に載置されて上昇装置130によって洗浄槽112から引き上げられた後、第２の搬送コンベア110によってプレリンス工程へ搬送される。

ここで、プレリンス工程へと向かう途中の第２の搬送コンベア110では、第１の槽間ブロー138の第１の吹出ノズル139及び第２の槽間ブロー150の第２の吹出ノズル151から被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気が吹き付けられ、被洗浄物Ｔの水分が吹き飛ばされる。

次に、プレリンス工程ユニット103によるプレリンス工程では、第１のスプレーノズル147及び第２のスプレーノズル148から、第２の搬送コンベア110によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水がスプレーされて被洗浄物Ｔの水洗いが行われ、洗浄工程で付着した洗浄剤Ｃや汚れ等が洗い落とされた後、第２の搬送コンベア110によって第１の仕上用リンス工程へ搬送される。

続いて、第１の仕上リンス工程ユニット104による第１の仕上用リンス工程では、第１の仕上用スプレーノズル159及び第２の仕上用スプレーノズル160から被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水がスプレーされて被洗浄物Ｔの水洗いが行われ、被洗浄物Ｔの洗浄剤Ｃや汚れ等が洗い落とされ、第２の搬送コンベア110によって第２の仕上用リンス工程へ搬送される。

第２の仕上リンス工程ユニット105による第２の仕上用リンス工程においても、第３の仕上用スプレーノズル169及び第４の仕上用スプレーノズル170から被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水がスプレーされて被洗浄物Ｔの水洗いが行われ、被洗浄物Ｔの洗浄剤Ｃや汚れ等が洗い落とされ、第２の搬送コンベア110によって第３の仕上用リンス工程へ搬送される。

さらに第３の仕上リンス工程ユニット106による第３の仕上用リンス工程においても、第５の仕上用スプレーノズル179及び第６の仕上用スプレーノズル180から被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水がスプレーされて被洗浄物Ｔの水洗いが行われ、被洗浄物Ｔの洗浄剤Ｃや汚れ等が洗い落とされ、第２の搬送コンベア110によって液切り工程へ搬送される。

ここで、第３の仕上用リンス工程直後の第２の搬送コンベア110では、第３の槽間ブロー187の第３の吹出ノズル188から被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気が吹き付けられ、被洗浄物Ｔの水分が吹き飛ばされる。

液切りブロー工程ユニット107による液切りブロー工程では、液切り用ノズル（図示せず）から被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気が吹き付けられて、被洗浄物Ｔの水分が吹き飛ばされ、被洗浄物Ｔの水気を切られて、第２の搬送コンベア110によって熱風乾燥工程へ搬送される。

熱風乾燥工程ユニット108による熱風乾燥工程では、乾燥用ノズル（図示せず）から被洗浄物Ｔに上下方向から熱風が吹き付け被洗浄物Ｔの乾燥が行われ、第２の搬送コンベア110によって後工程（図示せず）へ搬送される。

本実施例の洗浄工程では、被洗浄物Ｔが搬送手段123の下降装置128によって洗浄槽112上部の開口部111から洗浄槽112内の洗浄剤Ｃに浸漬され、次に搬送手段123の通過装置129によって洗浄剤Ｃに浸漬された状態のまま水平方向に移動させられて、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116間、第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120間の順に通過させられて洗浄剤Ｃと超音波による洗浄が行われ、搬送手段123の上昇装置130によって洗浄槽112の液面Ｌ上に引き上げられるため、本実施例の洗浄槽112内には、搬送手段123による被洗浄物Ｔの移動や洗浄剤用ポンプ126による洗浄剤Ｃ浄化のための循環以外に洗浄剤Ｃに流れが生じる要素を備えていない。そのため、被洗浄物Ｔと、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116や第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120との間の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになり、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116や第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120から照射される超音波が洗浄剤Ｃの流れに邪魔されることなく被洗浄物Ｔへ照射されるため、洗浄剤Ｃと超音波による洗浄効果が向上する。

また、洗浄槽112内の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになることで、洗浄剤Ｃが洗浄槽112外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置101の清掃等のメンテナンス性の向上や洗浄剤Ｃの強力な洗浄成分による超音波洗浄装置101の塗装剥離や超音波洗浄装置101周囲の環境悪化を防止することができる。

さらに、洗浄槽112の構造においても、被洗浄物Ｔを投入及び引き上げるための開口部111を上部に備えるだけの構造でよく、洗浄槽112の簡素化やコンパクト化による洗浄工程ユニット102全体の簡素化や小型化を図ることができる。

以上のように、本実施例では、洗浄剤Ｃが貯留された洗浄槽112と、洗浄槽112内の液面Ｌ下に設置された一対の照射部としての超音波素子113〜120を備えた第１の超音波照射手段121及び第２の超音波照射手段122と、被洗浄物Ｔを洗浄槽112内の洗浄剤Ｃに浸漬して、被洗浄物Ｔを超音波素子113〜120間に通過させた後、被洗浄物Ｔを洗浄槽210外へ搬送する搬送手段123とを備えている。

この場合、被洗浄物Ｔと、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116や第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120との間の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになり、第１の超音波照射手段121の超音波素子113、114、115、116や第２の超音波照射手段122の超音波素子117、118、119、120から照射される超音波が洗浄剤Ｃの流れに邪魔されることなく被洗浄物Ｔへ照射されるため、洗浄剤Ｃと超音波による洗浄効果が向上する。また、洗浄槽112内の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになることで、洗浄剤Ｃが洗浄槽112外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置101の清掃等のメンテナンス性の向上や洗浄剤Ｃの強力な洗浄成分による超音波洗浄装置101の塗装剥離や超音波洗浄装置101周囲の環境悪化を防止することができる。

また本実施例は、搬送手段123は、被洗浄物Ｔを洗浄槽112の上部に備えた開口部111から洗浄槽112内の洗浄剤Ｃに浸漬するとともに、開口部111から洗浄槽112外へ搬送するものである。

この場合、洗浄槽112は、被洗浄物Ｔを投入及び引き上げるための開口部111を上部に備えるだけの構造でよく、洗浄槽112の簡素化やコンパクト化による洗浄工程ユニット102全体の簡素化や小型化を図ることができる。

図６乃至図８は、本発明の超音波洗浄装置の第２実施例を示しており、本実施例の超音波洗浄装置201は、加温した洗浄剤Ｃに浸漬した被洗浄物Ｔに超音波を照射して洗浄する洗浄工程ユニット202と、加温した純水Ｗに浸漬した被洗浄物Ｔに超音波を照射して洗浄するプレリンス工程ユニット203と、被洗浄物Ｔに加温した純水をスプレーして洗浄する仕上リンス工程ユニット204と、被洗浄物Ｔに空気を吹き付けて水気を切る液切りブロー工程ユニット205と、被洗浄物Ｔに熱風を吹き付けて乾燥させる熱風乾燥工程ユニット206と、の順に有して構成されている。

尚、超音波洗浄装置201には、例えばはんだ付け等の前工程（図示せず）と接続され、被洗浄物Ｔを前記前工程（図示せず）から洗浄工程ユニット202へと搬送する第１の搬送コンベア207と、被洗浄物Ｔをプレリンス工程ユニット203から仕上リンス工程ユニット204、熱風乾燥工程ユニット206を経て後工程（図示せず）へと搬送する第２の搬送コンベア208とを備えている。

洗浄工程ユニット202には、洗浄剤Ｃを貯留可能な容器の上部を開放した開口部209を備え、その開口部209から被洗浄物Ｔを浸漬及び引き上げ可能な第１の洗浄槽210と、第１の洗浄槽210内における洗浄剤Ｃの液面下に設置された一対の超音波素子211〜218をそれぞれ備えた第１の超音波照射手段219、第２の超音波照射手段220、第３の超音波照射手段221及び第４の超音波照射手段222と、第１の搬送コンベア207によって第１の洗浄槽210まで搬送された被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃに浸漬した状態で、被洗浄物Ｔを第１の超音波照射手段219の超音波素子211、212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間の順に通過させた後、被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210から引き上げる第１の搬送手段223と、を有している。

また、洗浄工程ユニット202には、第１の洗浄槽210へ供給される洗浄剤Ｃが貯留される洗浄剤用サージタンク224と、第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃを第１の洗浄槽210、洗浄剤用サージタンク224、そして第１の洗浄槽210へと循環させる洗浄剤用ポンプ225と、洗浄剤Ｃの不純物を除去するカートリッジ式の洗浄剤用フィルタ226と、洗浄剤Ｃの補給を自動的に行う洗浄剤用ストックタンク（図示せず）と、洗浄剤Ｃを所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の洗浄工程用加温手段（図示せず）と、を備えている。

ここで、第１の超音波照射手段219、第２の超音波照射手段220、第３の超音波照射手段221及び第４の超音波照射手段222の一対の超音波素子211〜218は、それぞれ照射面を上下方向に対向して設置されている。

さらに第１の搬送手段223としては、第１の搬送コンベア207から搬送された被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210の上方から第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃの液面Ｌ１下まで下降させ、被洗浄物Ｔを洗浄剤Ｃに浸漬する第１の下降装置227と、第１の下降装置227によって洗浄剤Ｃに浸漬された被洗浄物Ｔを水平方向に移動させて第１の超音波照射手段219の超音波素子211,212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間の順に通過させる第１の通過装置228と、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間を通過後の被洗浄物Ｔを上昇させ、被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210の液面Ｌ１上に引き上げる第１の上昇装置229とを備えている。

ここで、第１の下降装置227は、昇降駆動機構（図示せず）により第１の洗浄槽210の上方と第１の洗浄槽210内の液面Ｌ１下まで昇降可能に備えた第１の下降用トレー230を備えている。尚、第１の下降用トレー230には第１の下降用トレーに載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる第１の下降側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

また、第１の上昇装置229は、昇降駆動機構（図示せず）により第１の洗浄槽210の上方と第１の洗浄槽210内の液面Ｌ１下まで昇降可能に備えた第１の上昇用トレー232を備えている。尚、第１の上昇用トレー232には第１の上昇用トレー232に載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる第１の上昇側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

さらに、第１の通過装置228は、第１の水平駆動機構234により水平方向に移動可能、且つ第１の超音波照射手段219の超音波素子211、212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間、の順に通過可能に備えた第１の通過用トレー（図示せず）を備えている。尚、第１の通過用トレー（図示せず）には第１の通過用トレー（図示せず）に載置された被洗浄物Ｔを側面方向から保持する複数の爪片部からなる第１の通過用保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。尚、第１の通過装置228は、被洗浄物Ｔを水平方向に移動可能、且つ第１の超音波照射手段219の超音波素子211、212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間、の順に通過可能に設置されたコンベアでもよいものとする。ここで第１の通過装置228における通過用トレー（図示せず）やコンベア（図示せず）は、網状構造や多孔質構造により通気性及び通水性を有し、洗浄剤Ｃ及び超音波を透過可能な構造であることが好ましい。

プレリンス工程ユニット203には、純水Ｗを貯留可能な容器の上部を開放した開口部237を備え、その開口部237から被洗浄物Ｔを浸漬及び引き上げ可能な第２の洗浄槽238と、第２の洗浄槽238内における純水Ｗの液面Ｌ２下に設置された一対の超音波素子239〜242をそれぞれ備えた第１のプレリンス用超音波照射手段243、第２のプレリンス用超音波照射手段244と、後述する第３のトラバーサー283によって第２の洗浄槽238まで搬送された被洗浄物Ｔを第２の洗浄槽238内の純水Ｗに浸漬した状態で、被洗浄物Ｔを第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過させた後、被洗浄物Ｔを第２の洗浄槽238から引き上げる第２の搬送手段245と、を有している。

また、プレリンス工程ユニット203には、第２の洗浄槽238へ供給される純水Ｗが貯留されるプレリンス用サージタンク246と、第２の洗浄槽238内の純水Ｗを第２の洗浄槽238、プレリンス用サージタンク246、そして第２の洗浄槽238へと循環させるプレリンス用ポンプ247と、純水Ｗの不純物を除去するカートリッジ式のプレリンス用フィルタ248と、純水Ｗの補給を自動的に行うプレリンス用ストックタンク（図示せず）と、純水Ｗを所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等のプレリンス工程用加温手段（図示せず）と、プレリンス工程ユニット203内の純水Ｗから油分を分離する油水分離装置（図示せず）とを備えている。

ここで、第１のプレリンス用超音波照射手段243及び第２のプレリンス用超音波照射手段244の一対の超音波素子239〜242は、それぞれ照射面を上下方向に対向して設置されている。

さらに第２の搬送手段245としては、後述する第３のトラバーサー283によって第２の洗浄槽238まで搬送された被洗浄物Ｔを第２の洗浄槽238の上方から第２の洗浄槽238内の純水Ｗの液面Ｌ２下まで下降させ、被洗浄物Ｔを純水Ｗに浸漬する第２の下降装置249と、第２の下降装置249によって純水Ｗに浸漬された被洗浄物Ｔを水平方向に移動させて第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過させる第２の通過装置250と、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間を通過後の被洗浄物Ｔを上昇させ、被洗浄物Ｔを第２の洗浄槽238の液面Ｌ２上に引き上げる第２の上昇装置251とを備えている。

ここで、第２の下降装置249は、昇降駆動機構（図示せず）により第２の洗浄槽238の上方と第２の洗浄槽238内の液面Ｌ２下まで昇降可能に備えた第２の下降用トレー252を備えている。尚、第２の下降用トレー252には第２の下降用トレー252に載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる第２の下降側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

また、第２の上昇装置251は、昇降駆動機構（図示せず）により第２の洗浄槽238の上方と第２の洗浄槽238内の液面Ｌ２下まで昇降可能に備えた第２の上昇用トレー254を備えている。尚、第２の上昇用トレー254には第２の上昇用トレー254に載置された被洗浄物Ｔを上方から保持する複数の爪片部からなる第２の上昇側保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。

さらに、第２の通過装置250は、第２の水平駆動機構256により水平方向に移動可能、且つ第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過可能に備えた第２の通過用トレー（図示せず）を備えている。尚、第２の通過用トレー（図示せず）には第２の通過用トレー（図示せず）に載置された被洗浄物Ｔを側面方向から保持する複数の爪片部からなる第２の通過用保持手段（図示せず）を備えてもよいものとする。尚、第２の通過装置250は、被洗浄物Ｔを水平方向に移動可能、且つ第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過可能に備えたコンベアでもよいものとする。ここで第２の通過装置250における通過用トレー（図示せず）やコンベア（図示せず）は、網状構造や多孔質構造により通気性及び通水性を有し、純水Ｗ及び超音波を透過可能な構造であることが好ましい。

仕上リンス工程ユニット204には、第２の搬送コンベア208に設置されて第２の搬送コンベア208を搬送される被洗浄物Ｔに加温された純水をスプレーして被洗浄物Ｔを上下方向から洗浄する仕上リンス側洗浄手段259と、仕上リンス側洗浄手段259及び液切りブロー工程ユニット205からの排水を受ける仕上リンス側排水受部260と、仕上リンス側排水受部260に案内された排水を貯留する仕上リンス側サージタンク261と、仕上リンス側サージタンク261に貯留された純水を仕上リンス側洗浄手段259へ高圧状態で供給する仕上リンス側スプレーポンプ262と、仕上リンス工程ユニット204における純水の不純物を除去するカートリッジ型の仕上リンス側フィルタユニット263と、純水を所定温度に加温するスチーム式或いは電気ヒータ式等の仕上リンス側加温手段（図示せず）と、を備えている。

仕上リンス側洗浄手段259には、第２の搬送コンベア208の被洗浄物Ｔの進行方向に並設された第１の仕上リンス用スプレー264、第２の仕上リンス用スプレー265、及び第３の仕上リンス用スプレー266とを備え、第１の仕上リンス用スプレー264、第２の仕上リンス用スプレー265、及び第３の仕上リンス用スプレー266にはそれぞれ互いの吹出方向を僅かに被洗浄物Ｔの進行方向と逆向きに傾けて対向させた上下一対の第１の仕上用スプレーノズル267、第２の仕上用スプレーノズル268、及び第３の仕上用スプレーノズル269を備えており、第２の搬送コンベア208によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水をスプレー可能に備えている。

仕上リンス側排水受部260は、上方を開放して底部の中心部分に最深部を有する浅底皿状に形成されており、その最深部から仕上リンス側サージタンク261へと延設された仕上リンス側排出口271を備えている。

液切りブロー工程ユニット205には、第２の搬送コンベア208によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気を吹き付け可能な液切り用ノズル271と、液切り用ノズル部271に乾燥空気を供給するリングブロアー等の液切り用ブロアー（図示せず）と、液切り用ノズル271へ供給される空気の不純物を除去して空気の清浄化を行うＨＥＰＡフィルタ等の液切り用フィルタ（図示せず）と、を備えている。

熱風乾燥工程ユニット206には、第２の搬送コンベア208の被洗浄物Ｔの進行方向に並設され、第２の搬送コンベア208によって搬送される被洗浄物Ｔに上下方向から熱風を吹き付け可能な第１の乾燥用ダクト部272、第２の乾燥用ダクト部273、及び第３の乾燥用ダクト部274と、第１〜第３の乾燥用ダクト部272、273、274に乾燥空気を供給するリングブロアー等の乾燥用ブロアー275と、第１〜第３の乾燥用ダクト部272、273、274へ供給される空気の不純物を除去して空気の清浄化を行う耐熱型ＨＥＰＡフィルタ等の乾燥用フィルタ276と、乾燥空気を所定温度に加温する電気ヒータ式等の乾燥用加温手段277と、を備えている。

また、本実施例の超音波洗浄装置201では、前工程から搬送されてきた被洗浄物Ｔを整列させる整列用ローダー278と、整列用ローダー278によって整列された被洗浄物Ｔを水平方向に平行移動させて、第１の搬送コンベア207上に載置させる第１のトラバーサー279と、洗浄工程ユニット202直前の第１の搬送コンベア207上の被洗浄物Ｔの上部に保護及び押さえ用のカバー280を装着させる第１のカバー着脱ローダー281と、カバー280が装着された第１の搬送コンベア207上の被洗浄物Ｔを水平方向に平行移動させて、第１の下降用トレー230上に載置させる第２のトラバーサー282と、第１の洗浄槽210の液面上の開口部209まで引き上げられた第１の上昇用トレー232上の被洗浄物Ｔを水平方向に平行移動させて、第２の洗浄槽238の液面Ｌ２上の開口部237まで引き上げられた第２の下降用トレー252上に載置させる第３のトラバーサー283と、第２の洗浄槽238の液面Ｌ２上の開口部237まで引き上げられた第２の上昇用トレー254上の被洗浄物Ｔを水平方向に平行移動させて、第２の搬送コンベア208上に載置させる第４のトラバーサー284と、熱風乾燥工程ユニット206通過後の第２の搬送コンベア208上の被洗浄物Ｔを後工程へ搬送する第３の搬送コンベア285と、第３の搬送コンベア285上の被洗浄物Ｔのカバー280を取り外す第２のカバー着脱ローダー286と、第３の搬送コンベア285上の被洗浄物Ｔを取り出して後工程へ送る取出用ローダー287とを備えている。ここでカバー280は、網状構造や多孔質構造により通気性及び通水性を有し、洗浄剤Ｃ、純水Ｗ、超音波等を透過可能な構造であることが好ましい。

また、288は超音波洗浄装置201の制御盤で、289は制御盤の操作面である。尚、図示しないが、本実施例の超音波洗浄装置201も第１実施例同様、排出される気体中に同伴される液体の微粒子を気体中から分離除去する分離器であるデミスター（図示せず）、超音波洗浄装置201の装置全体のカバー（図示せず）、超音波洗浄装置201の配管（図示せず）を覆うカバーグレーチング（図示せず）を備えてもよいものとする。

以上の構成の本実施例の超音波洗浄装置201の作用について述べるとする。洗浄工程ユニット202による洗浄工程では、第１の搬送コンベア207によって前工程から第１の洗浄槽210まで搬送された被洗浄物Ｔは、第１の下降用トレー230に載置されて第１の下降装置227によって第１の洗浄槽210内に貯留させた洗浄剤Ｃに浸漬され、次に第１の通過用トレー（図示せず）に載置されて第１の通過装置228によって洗浄剤Ｃに浸漬された状態で、第１の超音波照射手段219の超音波素子211、212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間の順に通過させられ、上下方向から超音波を照射されて洗浄剤Ｃと超音波により被洗浄物Ｔの洗浄が行なわれ、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間を通過した後、第１の上昇用トレー232に載置されて第１の上昇装置229によって第１の洗浄槽210の液面Ｌ１上に引き上げられた後、第３のトラバーサー283によってプレリンス工程へ搬送される。

次に、プレリンス工程ユニット203によるプレリンス工程では、第３のトラバーサー283によって第２の下降用トレー252に載置された被洗浄物Ｔは、第２の下降装置249によって第２の洗浄槽238内に貯留させた純水Ｗに浸漬され、次に第２の通過用トレー（図示せず）に載置されて第２の通過装置250によって純水Ｗに浸漬された状態で、第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過させられ、上下方向から超音波を照射されて純水Ｗと超音波により被洗浄物Ｔの洗浄が行なわれ、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間を通過した後、第２の上昇用トレー254に載置されて第２の上昇装置251によって第２の洗浄槽238の液面Ｌ２上に引き上げられた後、第４のトラバーサー284によって第２の搬送コンベア208へ搬送される。

続いて、仕上リンス工程ユニット204による仕上用リンス工程では、第１の仕上用スプレーノズル267、第２の仕上用スプレーノズル268、及び第３の仕上用スプレーノズル269から被洗浄物Ｔに上下方向から加温された純水がスプレーされて被洗浄物Ｔの水洗いが行われ、被洗浄物Ｔの洗浄剤Ｃや汚れ等が洗い落とされ、第２の搬送コンベア208によって液切りブロー工程へ搬送される。

液切りブロー工程ユニット205による液切りブロー工程では、液切り用ノズル271から被洗浄物Ｔに上下方向から乾燥空気が吹き付けられて、被洗浄物Ｔの水分が吹き飛ばされ、被洗浄物Ｔの水気を切られて、第２の搬送コンベア208によって熱風乾燥工程へ搬送される。

熱風乾燥工程ユニット206による熱風乾燥工程では、第１〜第３の乾燥用ダクト部272、273、274から被洗浄物Ｔに上下方向から熱風が吹き付け被洗浄物Ｔの乾燥が行われ、第２の搬送コンベア208によって後工程（図示せず）へ搬送される。

本実施例の洗浄工程では、被洗浄物Ｔが第１の搬送手段223の第１の下降手段227によって第１の洗浄槽210上部の開口部209から第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃに浸漬され、次に第１の搬送手段223の第１の通過装置228によって洗浄剤Ｃに浸漬された状態のまま水平方向に移動させられて、第１の超音波照射手段219の超音波素子211、212間、第２の超音波照射手段220の超音波素子213、214間、第３の超音波照射手段221の超音波素子215、216間、第４の超音波照射手段222の超音波素子217、218間の順に通過させられて洗浄剤Ｃと超音波による洗浄が行われ、第１の搬送手段223の第１の上昇装置229によって第１の洗浄槽210の液面Ｌ１上に引き上げられるため、本実施例の第１の洗浄槽210内には、第１の搬送手段223による被洗浄物Ｔの移動や洗浄剤用ポンプ225による洗浄剤Ｃ浄化のための循環以外に洗浄剤Ｃに流れが生じる要素を備えていない。そのため、被洗浄物Ｔと、第１〜第４の超音波照射手段219、220、221、222の超音波素子211〜218との間の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになり、第１〜第４の超音波照射手段219、220、221、222の超音波素子211〜218から照射される超音波が洗浄剤Ｃの流れに邪魔されることなく被洗浄物Ｔへ照射されるため、洗浄剤Ｃと超音波による洗浄効果が向上する。

また、第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになることで、洗浄剤Ｃが第１の洗浄槽210外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置201の清掃等のメンテナンス性の向上や洗浄剤Ｃの強力な洗浄成分による超音波洗浄装置201の塗装剥離や超音波洗浄装置201周囲の環境悪化を防止することができる。

さらに、第１の洗浄槽210の構造においても、被洗浄物Ｔを投入及び引き上げるための開口部209を上部に備えるだけの構造でよく、第１の洗浄槽210の簡素化やコンパクト化による洗浄工程ユニット202全体の簡素化や小型化を図ることができる。

本実施例のプレリンス工程では、被洗浄物Ｔが第２の搬送手段245の第２の下降手段249によって第２の洗浄槽238上部の開口部237から第２の洗浄槽238内の純水Ｗに浸漬され、次に第２の搬送手段245の第２の通過装置250によって純水Ｗに浸漬された状態のまま水平方向に移動させられて、第１のプレリンス用超音波照射手段243の超音波素子239、240間、第２のプレリンス用超音波照射手段244の超音波素子241、242間の順に通過させられて純水Ｗと超音波による洗浄が行われ、第２の搬送手段245の第２の上昇装置251によって第２の洗浄槽238の液面Ｌ２上に引き上げられるため、本実施例の第２の洗浄槽238内には、第２の搬送手段245による被洗浄物Ｔの移動やプレリンス用ポンプ247による純水Ｗ浄化のための循環以外に純水Ｗに流れが生じる要素を備えていない。そのため、被洗浄物Ｔと、第１〜第２のプレリンス用超音波照射手段243、244の超音波素子239〜242との間の純水Ｗの流れが穏やかになり、第１〜第２のプレリンス用超音波照射手段243、244の超音波素子239〜242から照射される超音波が純水Ｗの流れに邪魔されることなく被洗浄物Ｔへ照射されるため、純水Ｗと超音波による洗浄効果が向上する。

また、第２の洗浄槽238内の純水Ｗの流れが穏やかになることで、純水Ｗが第２の洗浄槽238外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置201の清掃等のメンテナンス性の向上や超音波洗浄装置201周囲の環境悪化を防止することができる。

さらに、第２の洗浄槽238の構造においても、被洗浄物Ｔを投入及び引き上げるための開口部237を上部に備えるだけの構造でよく、第２の洗浄槽238の簡素化やコンパクト化によるプレリンス工程ユニット203全体の簡素化や小型化を図ることができる。

また、本実施例では、第１〜第４の超音波照射手段219〜222及び第１〜第２のプレリンス用超音波照射手段243、244における上側の超音波素子211、213、215、217、239、241の照射面を、各通過装置228、250における被洗浄物Ｔの進行方向に対して上流側を下げるとともに下流側を上げて傾斜した傾斜面として形成されており、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241の照射面に付着した気泡を照射面の傾斜に沿って上方へ逃がして、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241に気泡が付着することを防いで、被洗浄物Ｔと各超音波素子211、213、215、217、239、241との間に気泡が存在することにより各超音波素子211、213、215、217、239、241から被洗浄物Ｔへ向けて照射された超音波が減衰或いは拡散して洗浄効果が減少してしまうことを防止して、超音波による洗浄を効果的に行うことができる。

ここで、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241の照射面を、各通過装置228、250における被洗浄物Ｔの進行方向に対して上流側を下げるとともに下流側を上げて傾斜した傾斜面として形成したことで、各通過装置228、250によって搬送される被洗浄物Ｔ自体が起こす洗浄剤Ｃ又は純水Ｗの流れによって、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241の照射面に付着した気泡を照射面に沿って上方へ逃がすことが可能となり、超音波による洗浄をさらに効果的に行うことができる。

以上のように、本実施例では、洗浄剤Ｃが貯留された第１の洗浄槽210と、第１の洗浄槽210内の液面Ｌ１下に設置された一対の照射部としての超音波素子211〜218を備えた第１〜第４の超音波照射手段219、220、221、222と、被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃに浸漬して、被洗浄物Ｔを超音波素子211〜218間に通過させた後、被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210外へ搬送する第１の搬送手段223とを備えている。

この場合、被洗浄物Ｔと、第１〜第４の超音波照射手段219、220、221、222の超音波素子211〜218との間の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになり、第１〜第４の超音波照射手段219、220、221、222の超音波素子211〜218から照射される超音波が洗浄剤Ｃの流れに邪魔されることなく被洗浄物Ｔへ照射されるため、洗浄剤Ｃと超音波による洗浄効果が向上する。また、第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃの流れが穏やかになることで、洗浄剤Ｃが第１の洗浄槽210外へ飛散することも防止され、超音波洗浄装置201の清掃等のメンテナンス性の向上や洗浄剤Ｃの強力な洗浄成分による超音波洗浄装置201の塗装剥離や超音波洗浄装置201周囲の環境悪化を防止することができる。

また本実施例は、第１の搬送手段223は、被洗浄物Ｔを第１の洗浄槽210の上部に備えた開口部209から第１の洗浄槽210内の洗浄剤Ｃに浸漬するとともに、開口部209から第１の洗浄槽210外へ搬送するものである。

この場合、第１の洗浄槽210は、被洗浄物Ｔを投入及び引き上げるための開口部209を上部に備えるだけの構造でよく、第１の洗浄槽210の簡素化やコンパクト化による洗浄工程ユニット202全体の簡素化や小型化を図ることができる。

さらに本実施例は、超音波素子211〜218を上下一対に配置して、上側の超音波素子211、213、215、217の照射面を傾斜して備えている。

この場合、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241の照射面に付着した気泡を照射面の傾斜に沿って上方へ逃がして、上側の超音波素子211、213、215、217、239、241に気泡が付着することを防いで、被洗浄物Ｔと各超音波素子211、213、215、217、239、241との間に気泡が存在することにより各超音波素子211、213、215、217、239、241から被洗浄物Ｔへ向けて照射された超音波が減衰或いは拡散して洗浄効果が減少してしまうことを防止して、超音波による洗浄を効果的に行うことができる。

尚、上記各実施例における被洗浄物Ｔとしては、プリント基板、半導体、シリコンウエーハ、電子部品、一般機械部品、精密機械部品、鉄系やアルミ等の非鉄系の金属部品、ガラス製品、機械加工部品等の合成樹脂製品、化学処理後の洗浄物などが挙げられ、洗浄剤Ｃはこれら被洗浄物Ｔに応じて、CH2CL2（塩化メチレン）、HCFC-225,HCFC-123,HCFC-141bなどの第２世代フロン系、低分子シリコンなどのシリコン系、パーフルオロカーボンなどの完全フッ素系、IPA,5FDなどの低級アルコール系、イソパラフィン系炭化水素などの炭化水素系などの非水系、C5〜C15などの高級アルコール系、脂肪族炭化水素などの炭化水素系、リモネンなどのテルペン系、低分子シリコンなどのシリコン系、パーフルオロカーボンなどの完全フッ素系などの準水系、苛性ソーダなどの無機アルカリ系、ジェタノールアミンなどの有機アルカリ系、アニオン系やノニオン系などの界面活性剤系、純水などの純水系、アルカリ性電解水や酸化性機能水や還元性機能水などの機能水系などの水系の洗浄剤を適宜選択して使用する。

尚、本発明は上記各実施例に記載の内容に限定されず、適宜変更可能である。

本発明の第１実施例を示す超音波洗浄装置の正面図である。同上、超音波洗浄装置の平面図である。同上、超音波洗浄装置の側面図である。同上、超音波洗浄装置の洗浄工程ユニット付近を拡大した正面図である。同上、超音波洗浄装置のプレリンス工程ユニットから第１〜第３の仕上リンス工程ユニット付近にかけて拡大した正面図である。本発明の第２実施例を示す超音波洗浄装置の正面図である。同上、超音波洗浄装置の平面図である。同上、超音波洗浄装置の洗浄工程ユニットとプレリンス工程ユニット付近を拡大した正面図である。

101 超音波洗浄装置
111 開口部
112 洗浄槽
113〜120 超音波素子（照射部）
121 第１の超音波照射手段
122 第２の超音波照射手段
123 搬送手段
128 下降装置
129 通過装置
130 上昇装置
201 超音波洗浄装置
209 開口部
210 第１の洗浄槽
211〜218 超音波素子（照射部）
219 第１の超音波照射手段
220 第２の超音波照射手段
221 第３の超音波照射手段
222 第４の超音波照射手段
223 搬送手段
227 第1の下降装置（下降装置）
228 第1の通過装置（通過装置）
229 第1の上昇装置（上昇装置）
Ｃ洗浄剤
Ｔ被洗浄物
Ｌ、Ｌ１液面

Claims

洗浄剤が貯留された洗浄槽と、前記洗浄槽内の液面下に設置された一対の照射部を複数備えた超音波照射手段と、被洗浄物を前記洗浄槽内の前記洗浄剤に浸漬して、前記被洗浄物を前記一対の照射部間に通過させた後、前記被洗浄物を前記洗浄槽外へ搬送する搬送手段とを備え、
前記照射部を上下一対に配置して、上側の前記照射部の照射面を前記被洗浄物の進行方向に対して上流側を下げるとともに下流側を上げて傾斜して備えるとともに、下側の前記照射部の照射面を水平に備え、
前記搬送手段は、前記被洗浄物を前記洗浄槽の上方から前記洗浄槽内の前記洗浄剤の液面下まで下降させ、前記被洗浄物を前記洗浄剤に浸漬する下降装置と、前記下降装置によって前記洗浄剤に浸漬された前記被洗浄物を水平方向に移動させて前記一対の照射部間に通過させる通過装置と、前記一対の照射部間を通過後の前記被洗浄物を上昇させ、前記被洗浄物を前記洗浄槽から引き上げる上昇装置とを備え、前記被洗浄物を前記洗浄槽の上部に備えた開口部から前記洗浄槽内の前記洗浄剤に浸漬するとともに、前記開口部から前記洗浄槽外へ搬送するものとしたことを特徴とする超音波洗浄装置。