JPH07271017A - フォトマスク用ペリクル枠 - Google Patents
フォトマスク用ペリクル枠Info
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- JPH07271017A JPH07271017A JP6282594A JP6282594A JPH07271017A JP H07271017 A JPH07271017 A JP H07271017A JP 6282594 A JP6282594 A JP 6282594A JP 6282594 A JP6282594 A JP 6282594A JP H07271017 A JPH07271017 A JP H07271017A
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- frame
- pellicle
- photomask
- pellicle frame
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 重ね合わせ精度が劣化せず、取り外しが簡単
なペリクルを得る。 【構成】 フォトマスクと、このフォトマスクの外ふち
より内側に設けられたペリクル枠において、上記ペリク
ル枠は、中空の直方体と、上記直方体の一対の向かい合
う辺において外側に延在する取付部からなり、上記直方
体の一方にはペリクル膜が取り付けられ、もう一方に
は、上記取付部の四隅に上記直方体の上記辺に対して平
行に備わる固定用枠によって、上記フォトマスクが取り
付けられているフォトマスク用ペリクル枠。
なペリクルを得る。 【構成】 フォトマスクと、このフォトマスクの外ふち
より内側に設けられたペリクル枠において、上記ペリク
ル枠は、中空の直方体と、上記直方体の一対の向かい合
う辺において外側に延在する取付部からなり、上記直方
体の一方にはペリクル膜が取り付けられ、もう一方に
は、上記取付部の四隅に上記直方体の上記辺に対して平
行に備わる固定用枠によって、上記フォトマスクが取り
付けられているフォトマスク用ペリクル枠。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＬＳＩ等の半導体装
置の製造に使用されるフォトマスクに異物が付着するの
を防ぐ目的で使用される、ペリクルを設置したフォトマ
スクに関するものである。
置の製造に使用されるフォトマスクに異物が付着するの
を防ぐ目的で使用される、ペリクルを設置したフォトマ
スクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造のリソグラフィー工程に使用
されるフォトマスクは石英基板上に金属膜パターンを形
成したものであるが、このフォトマスク上に付着した異
物はウェハに転写され、歩留まり低下に大きく影響す
る。従来の技術では、例えば特開平４−１９９０５５公
報に示されているように枠体上部にペリクル膜を張り付
けたペリクル枠の底部を接着層でフォトマスク表面に接
着してフォトマスクに異物が付着するのを防いでいた。
しかし、ペリクル膜が破損したり、ウェハに露光する装
置にフォトマスクを装着する等の作業でペリクル上に、
作業者から、ペリクル上にウェハに転写される程の大き
さの異物が付着したりする場合があり、その場合、作業
者がペリクルを手作業ではがして、新しくペリクルを貼
り直す必要があるが、ペリクル枠は接着層によりフォト
マスクに強力に接着しているので、ペリクルを貼り直す
際、例えば、くさび型の金属をマスク基板と接着層を介
して接着しているペリクル枠とフォトマスクの間に押し
込んでペリクル枠をフォトマスクから浮かして取り外ず
す作業を行っており、この作業において接着層やペリク
ル枠等から異物が発生する可能性が大きくさらに歩留ま
りを下げる原因となっている。
されるフォトマスクは石英基板上に金属膜パターンを形
成したものであるが、このフォトマスク上に付着した異
物はウェハに転写され、歩留まり低下に大きく影響す
る。従来の技術では、例えば特開平４−１９９０５５公
報に示されているように枠体上部にペリクル膜を張り付
けたペリクル枠の底部を接着層でフォトマスク表面に接
着してフォトマスクに異物が付着するのを防いでいた。
しかし、ペリクル膜が破損したり、ウェハに露光する装
置にフォトマスクを装着する等の作業でペリクル上に、
作業者から、ペリクル上にウェハに転写される程の大き
さの異物が付着したりする場合があり、その場合、作業
者がペリクルを手作業ではがして、新しくペリクルを貼
り直す必要があるが、ペリクル枠は接着層によりフォト
マスクに強力に接着しているので、ペリクルを貼り直す
際、例えば、くさび型の金属をマスク基板と接着層を介
して接着しているペリクル枠とフォトマスクの間に押し
込んでペリクル枠をフォトマスクから浮かして取り外ず
す作業を行っており、この作業において接着層やペリク
ル枠等から異物が発生する可能性が大きくさらに歩留ま
りを下げる原因となっている。
【０００３】そこで、上記の問題点を解消するため、特
開平４−８１７５８に示されているペリクル枠が考えら
れている。以下、図１４〜図１７において、特開平４−
８１７５８に示されているペリクルを説明する。図１
４、１５において、５１１は固定治具、５１２はペリク
ル枠、５１３はフォトマスク、５２２はペリクル膜図１
６において５３１は薄いゴム、５３２は固定治具、５３
３はコの字型固定治具、前記ペリクル枠５１２は前記ペ
リクル枠５１２とフォトマスク５１３が接する部分が図
１４のように前記フォトマスク５１３の外周部まで広が
って設置されている。固定治具５１１は、図１４、１５
のように上下のペリクル枠５１２とフォトマスク５１３
を挟む形で配置されており、図１５のように２方向の長
手方向からフォトマスク５１３を完全に固定している。
図１６に示す構造の固定治具５３３は図１４、図１５の
固定治具５１１と同様の動作を行うものである。
開平４−８１７５８に示されているペリクル枠が考えら
れている。以下、図１４〜図１７において、特開平４−
８１７５８に示されているペリクルを説明する。図１
４、１５において、５１１は固定治具、５１２はペリク
ル枠、５１３はフォトマスク、５２２はペリクル膜図１
６において５３１は薄いゴム、５３２は固定治具、５３
３はコの字型固定治具、前記ペリクル枠５１２は前記ペ
リクル枠５１２とフォトマスク５１３が接する部分が図
１４のように前記フォトマスク５１３の外周部まで広が
って設置されている。固定治具５１１は、図１４、１５
のように上下のペリクル枠５１２とフォトマスク５１３
を挟む形で配置されており、図１５のように２方向の長
手方向からフォトマスク５１３を完全に固定している。
図１６に示す構造の固定治具５３３は図１４、図１５の
固定治具５１１と同様の動作を行うものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】フォトマスクをステッ
パに設置する際には、図１７に示すようにマスクのパタ
ーン面を下にして、フォトマスクの相対する２辺をマス
クステージに形成した吸着面によって吸着して固定して
いる。ステージに固定したマスクのパターン面の平面度
はウェハにパターンを転写する際のパターンの重ね合わ
せ精度に大きく影響する。マスクの表面の平面度はかな
り高く、１２cm角の面の高さのばらつきが２μｍ以内で
ある。一方、従来のペリクル枠及び固定治具では、図１
７に示すように従来のマスク表面が吸着していた面に固
定治具の外面が吸着することになる。また、固定治具の
外面の平面度をマスクの平面度に近づけることは非常に
困難である。これにより、転写の際のパターンの重ね合
わせ精度が悪くなってしまう。また、従来のペリクル枠
では、固定治具の薄いゴム５３１の弾力性でペリクル枠
とフォトマスクを固定しているため、フォトマスクにひ
ずみが生じ、これによってもパターンの重ねあわせ精度
に影響を及ぼす可能性がある。
パに設置する際には、図１７に示すようにマスクのパタ
ーン面を下にして、フォトマスクの相対する２辺をマス
クステージに形成した吸着面によって吸着して固定して
いる。ステージに固定したマスクのパターン面の平面度
はウェハにパターンを転写する際のパターンの重ね合わ
せ精度に大きく影響する。マスクの表面の平面度はかな
り高く、１２cm角の面の高さのばらつきが２μｍ以内で
ある。一方、従来のペリクル枠及び固定治具では、図１
７に示すように従来のマスク表面が吸着していた面に固
定治具の外面が吸着することになる。また、固定治具の
外面の平面度をマスクの平面度に近づけることは非常に
困難である。これにより、転写の際のパターンの重ね合
わせ精度が悪くなってしまう。また、従来のペリクル枠
では、固定治具の薄いゴム５３１の弾力性でペリクル枠
とフォトマスクを固定しているため、フォトマスクにひ
ずみが生じ、これによってもパターンの重ねあわせ精度
に影響を及ぼす可能性がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係るフォトマス
ク用ペリクル枠においては、フォトマスクと、このフォ
トマスクの外ふちより内側に設けられたペリクル枠にお
いて、上記ペリクル枠は、中空の直方体と、上記直方体
の一対の向かい合う辺において外側に延在する取付部か
らなり、上記直方体の一方にはペリクル膜が取り付けら
れ、もう一方には、上記取付部の４隅に上記直方体の上
記辺に対して平行に備わる固定用枠によって、上記フォ
トマスクが取り付けられている。さらには、ペリクル枠
のフォトマスクのパターン面側に接する面には第１の弾
力面が備わり、フォトマスクのパターン面の反対側の
面、と請求項１おける固定用枠との間に、補助枠がはさ
まり、上記補助枠には、上記フォトマスクのパターン面
の反対側の面との接触面に第２の弾力面が備わる。さら
には、上記固定用枠の上記ペリクル枠底部上面に接する
面において、凸部分および凹部分を備え、かつ、上記ペ
リクル枠底部上面において凹部分および凸部分を備え、
上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上記凸部
分を合わせてフォトマスク用ペリクル枠が設置される。
さらには、上記固定用枠の内側において横方向に広がり
補助枠に接する面に、凸部分および凹部分を備え、かつ
上記補助枠の、上記固定用枠の内側において横方向に広
がる面に接する面において凹部分および凸部分を備え、
上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上記凸部
分を合わせてフォトマスク用ペリクル枠が設置される。
ク用ペリクル枠においては、フォトマスクと、このフォ
トマスクの外ふちより内側に設けられたペリクル枠にお
いて、上記ペリクル枠は、中空の直方体と、上記直方体
の一対の向かい合う辺において外側に延在する取付部か
らなり、上記直方体の一方にはペリクル膜が取り付けら
れ、もう一方には、上記取付部の４隅に上記直方体の上
記辺に対して平行に備わる固定用枠によって、上記フォ
トマスクが取り付けられている。さらには、ペリクル枠
のフォトマスクのパターン面側に接する面には第１の弾
力面が備わり、フォトマスクのパターン面の反対側の
面、と請求項１おける固定用枠との間に、補助枠がはさ
まり、上記補助枠には、上記フォトマスクのパターン面
の反対側の面との接触面に第２の弾力面が備わる。さら
には、上記固定用枠の上記ペリクル枠底部上面に接する
面において、凸部分および凹部分を備え、かつ、上記ペ
リクル枠底部上面において凹部分および凸部分を備え、
上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上記凸部
分を合わせてフォトマスク用ペリクル枠が設置される。
さらには、上記固定用枠の内側において横方向に広がり
補助枠に接する面に、凸部分および凹部分を備え、かつ
上記補助枠の、上記固定用枠の内側において横方向に広
がる面に接する面において凹部分および凸部分を備え、
上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上記凸部
分を合わせてフォトマスク用ペリクル枠が設置される。
【０００６】
【作用】固定用枠をペリクル枠体の底部の広がりの四隅
に、ステッパの設置面に平行に設置させるので、露光
時、フォトマスクをステッパに設置する際、ステッパの
吸着面にはフォトマスクの表面がそのまま設置され、フ
ォトマスクの平面度を保ったまま露光でき、パターンの
重ね合わせ精度が劣化しない。フォトマスクはペリクル
枠の弾力面と補助枠の弾力面ではさまれるのでフォトマ
スクのひずみが緩和され、パターン重ね合わせ精度が劣
化しない。固定用枠、ペリクル枠、補助枠に凸部、凹部
を設け、合わせることで、固定用枠のペリクル枠、補助
枠からのズレを防ぎ、より強く固定でき、ペリクルのマ
スクへの設置中における固定用枠、ペリクル枠、補助枠
からのずれによる発じんを防ぐ。固定用枠でフォトマス
クとペリクル枠を固定させているので取り外しが容易で
ある。
に、ステッパの設置面に平行に設置させるので、露光
時、フォトマスクをステッパに設置する際、ステッパの
吸着面にはフォトマスクの表面がそのまま設置され、フ
ォトマスクの平面度を保ったまま露光でき、パターンの
重ね合わせ精度が劣化しない。フォトマスクはペリクル
枠の弾力面と補助枠の弾力面ではさまれるのでフォトマ
スクのひずみが緩和され、パターン重ね合わせ精度が劣
化しない。固定用枠、ペリクル枠、補助枠に凸部、凹部
を設け、合わせることで、固定用枠のペリクル枠、補助
枠からのズレを防ぎ、より強く固定でき、ペリクルのマ
スクへの設置中における固定用枠、ペリクル枠、補助枠
からのずれによる発じんを防ぐ。固定用枠でフォトマス
クとペリクル枠を固定させているので取り外しが容易で
ある。
【０００７】
実施例１．図１は、本発明の実施例におけるペリクル６
をフォトマスク７に固定用枠８を用いて固定した状態を
表す側面図、図２は固定用枠８の断面図、図３はこのペ
リクル６をフォトマスク７に固定用枠８を用いて固定し
た状態を表す上面図、図４はペリクルを示す断面図であ
る。以下、図について説明する。図１において、１はペ
リクル枠、２は接着剤、３はペリクル膜、４は接着剤、
５は第１の弾力面としての弾力材層、６はペリクル枠
１、接着剤２、ペリクル膜３、接着剤４、弾力材層５で
構成されるペリクル構造体としてのペリクル、７はフォ
トマスク、８は固定用枠、１５はフォトマスクのパター
ン面側、１６はフォトマスクのパターン面の反対側にあ
るフォトマスクのガラス面側、１１１は取付部として
の、ペリクル枠の広がった底部、１５０はステッパの設
置面、１５１はステッパである。ペリクル６はフォトマ
スク７の金属膜パターン面側１５に弾力材層５が接する
ように設置され、図３に示すように固定用枠８がステッ
パの設置面１５０と平行に位置し、フォトマスク７とペ
リクル枠１の広がった底部１１１の四隅３００を挟み込
むことによりペリクル６がフォトマスク７に固定されて
いる。そして図１に示すようにステッパの設置面１５０
に固定用枠８が接することなく、フォトマスク７の表面
がステッパに設置されている。図４に示すように、この
ペリクル枠１は中空の直方体と、直方体の一対の向い合
った２辺においてある厚みをもつ広がった底部１１１を
有することを特徴とし、ペリクル枠１の一方には、接着
剤２を介してペリクル膜３が接着されている。ペリクル
枠１の広がった底部１１１の裏面には接着剤４を介して
弾力材層５が接着されている。尚、本実施例におけるペ
リクル膜３、および接着剤２は、従来技術で使用されて
いるものと同様である。固定用枠８は、ステンレス、ア
ルミ合金等の金属、または、ポリ塩化ビニル等の高分子
樹脂が使用できる。ペリクル枠１の広がった底部１１１
の裏面に接着される弾力材層５にはシリコンゴム等の高
分子樹脂が使用できる。
をフォトマスク７に固定用枠８を用いて固定した状態を
表す側面図、図２は固定用枠８の断面図、図３はこのペ
リクル６をフォトマスク７に固定用枠８を用いて固定し
た状態を表す上面図、図４はペリクルを示す断面図であ
る。以下、図について説明する。図１において、１はペ
リクル枠、２は接着剤、３はペリクル膜、４は接着剤、
５は第１の弾力面としての弾力材層、６はペリクル枠
１、接着剤２、ペリクル膜３、接着剤４、弾力材層５で
構成されるペリクル構造体としてのペリクル、７はフォ
トマスク、８は固定用枠、１５はフォトマスクのパター
ン面側、１６はフォトマスクのパターン面の反対側にあ
るフォトマスクのガラス面側、１１１は取付部として
の、ペリクル枠の広がった底部、１５０はステッパの設
置面、１５１はステッパである。ペリクル６はフォトマ
スク７の金属膜パターン面側１５に弾力材層５が接する
ように設置され、図３に示すように固定用枠８がステッ
パの設置面１５０と平行に位置し、フォトマスク７とペ
リクル枠１の広がった底部１１１の四隅３００を挟み込
むことによりペリクル６がフォトマスク７に固定されて
いる。そして図１に示すようにステッパの設置面１５０
に固定用枠８が接することなく、フォトマスク７の表面
がステッパに設置されている。図４に示すように、この
ペリクル枠１は中空の直方体と、直方体の一対の向い合
った２辺においてある厚みをもつ広がった底部１１１を
有することを特徴とし、ペリクル枠１の一方には、接着
剤２を介してペリクル膜３が接着されている。ペリクル
枠１の広がった底部１１１の裏面には接着剤４を介して
弾力材層５が接着されている。尚、本実施例におけるペ
リクル膜３、および接着剤２は、従来技術で使用されて
いるものと同様である。固定用枠８は、ステンレス、ア
ルミ合金等の金属、または、ポリ塩化ビニル等の高分子
樹脂が使用できる。ペリクル枠１の広がった底部１１１
の裏面に接着される弾力材層５にはシリコンゴム等の高
分子樹脂が使用できる。
【０００８】実施例２．図５、図６、図７はそれぞれ、
本発明の他の実施例を示す図で、図５は補助枠１２の上
面図、図６は補助枠１２の拡大したＡ−Ａ面における断
面図、図７はさらに補助枠１２をフォトマスクのガラス
面側１６に設置し、固定用枠８ａではさんだときの状態
図である。図６において、９は補助枠の枠体、１０は接
着剤、１１は第２の弾力面としての弾力材層、１２は補
助枠、図７において８ａは固定用枠である。補助枠１２
は、図５に示すように実施例１でのペリクル枠１の広が
った底部１１１と同じ上面形状、大きさをもつ中空の板
で、図６に示すように構造は、補助枠体９に接着剤１０
を介して弾力材層１１を接着した構造である。図７に示
すように、この補助枠１２をフォトマスク７のガラス面
側１６に設置し、固定用枠８ａでペリクル６、フォトマ
スク７、補助枠１２をはさみ、ペリクル６をフォトマス
ク７に固定する。フォトマスクのガラス面側１６に補助
枠１２を設置することにより、固定用枠８ａのはさみ込
みの応力によるフォトマスクのそり等のゆがみを緩和す
ることができるとともに、固定用枠８ａが直接石英基板
に接触するために生じる傷をなくすことができる。
本発明の他の実施例を示す図で、図５は補助枠１２の上
面図、図６は補助枠１２の拡大したＡ−Ａ面における断
面図、図７はさらに補助枠１２をフォトマスクのガラス
面側１６に設置し、固定用枠８ａではさんだときの状態
図である。図６において、９は補助枠の枠体、１０は接
着剤、１１は第２の弾力面としての弾力材層、１２は補
助枠、図７において８ａは固定用枠である。補助枠１２
は、図５に示すように実施例１でのペリクル枠１の広が
った底部１１１と同じ上面形状、大きさをもつ中空の板
で、図６に示すように構造は、補助枠体９に接着剤１０
を介して弾力材層１１を接着した構造である。図７に示
すように、この補助枠１２をフォトマスク７のガラス面
側１６に設置し、固定用枠８ａでペリクル６、フォトマ
スク７、補助枠１２をはさみ、ペリクル６をフォトマス
ク７に固定する。フォトマスクのガラス面側１６に補助
枠１２を設置することにより、固定用枠８ａのはさみ込
みの応力によるフォトマスクのそり等のゆがみを緩和す
ることができるとともに、固定用枠８ａが直接石英基板
に接触するために生じる傷をなくすことができる。
【０００９】実施例３．図８、図９、図１０はこの発明
の他の実施例を示す図で、図８はペリクル６ａをフォト
マスク７に設置したときの上面図、図９はペリクル６ａ
をフォトマスク７に設置したときの図８におけるＢ−Ｂ
線断面を表す断面図、図１０は、固定用枠８ｂの断面図
である。実施例３は、実施例１における、ペリクル枠と
固定用枠を一部変形したものである。ペリクル枠１ａに
は、図８、図９に示すようにペリクル枠１ａの底部１１
１の上面に凹部分１００が形成されている。また、固定
用枠８ｂにおいては、図１０に示すように固定用枠８ｂ
のペリクル枠の底部１１１の上面に接する面に凸部分１
０１が形成されている。ペリクル枠１ａの凹部分１００
と固定用枠８ｂの凸部分１０１を合わせ、実施例１と同
様にして、ペリクル６ａとフォトマスク７を固定用枠８
ｂではさんでペリクル６ａとフォトマスク７を固定させ
る。実施例１ではペリクル６の底部は平面であり、固定
用枠８のはさみ込む部分も平面であったのを、ペリクル
６ａの様に凹部分１００を形成し、固定用枠８ｂに形成
した凸部１０１を合わせることでペリクル６ａとフォト
マスク７との固定をより強くすることができる。尚、ペ
リクル枠１ａの凹部分１００の代わりに凸部分を、か
つ、固定用枠８ｂの凸部分１０１の代わりに凹部分を設
け、合わせて固定してもよい。
の他の実施例を示す図で、図８はペリクル６ａをフォト
マスク７に設置したときの上面図、図９はペリクル６ａ
をフォトマスク７に設置したときの図８におけるＢ−Ｂ
線断面を表す断面図、図１０は、固定用枠８ｂの断面図
である。実施例３は、実施例１における、ペリクル枠と
固定用枠を一部変形したものである。ペリクル枠１ａに
は、図８、図９に示すようにペリクル枠１ａの底部１１
１の上面に凹部分１００が形成されている。また、固定
用枠８ｂにおいては、図１０に示すように固定用枠８ｂ
のペリクル枠の底部１１１の上面に接する面に凸部分１
０１が形成されている。ペリクル枠１ａの凹部分１００
と固定用枠８ｂの凸部分１０１を合わせ、実施例１と同
様にして、ペリクル６ａとフォトマスク７を固定用枠８
ｂではさんでペリクル６ａとフォトマスク７を固定させ
る。実施例１ではペリクル６の底部は平面であり、固定
用枠８のはさみ込む部分も平面であったのを、ペリクル
６ａの様に凹部分１００を形成し、固定用枠８ｂに形成
した凸部１０１を合わせることでペリクル６ａとフォト
マスク７との固定をより強くすることができる。尚、ペ
リクル枠１ａの凹部分１００の代わりに凸部分を、か
つ、固定用枠８ｂの凸部分１０１の代わりに凹部分を設
け、合わせて固定してもよい。
【００１０】実施例４．図１１は、本発明の他の実施例
を示す、一部断面図である。図１１において、１０２は
ペリクル枠１ｂに設けられた凸部、１０３は補助枠１２
ａに設けられた凹部、１０４は補助枠１２ｂに設けられ
た凸部である。図１１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）
はそれぞれ、実施例２の変形例を示す。図１１（ａ）に
おいて、ペリクル枠１ａ、接着剤２、ペリクル膜３、接
着剤４、弾力材層５でペリクル６ａを構成し、図１１
（ａ）は、ペリクル６ａと補助枠１２ａでフォトマスク
７をはさむ様子を示す。図１１（ｂ）において、ペリク
ル枠１ｂ、接着剤２、ペリクル膜３、接着剤４、弾力材
層５でペリクル６ｂを構成し、図１１（ｂ）はペリクル
６ｂと補助枠１２ａでフォトマスク７を挟む様子を示
す。図１１（ｃ）では、ペリクル６ａ、補助枠１２ｂで
フォトマスク７を挟む様子を示す。図１１（ｄ）では、
ペリクル６ｂ、補助枠１２ｂでフォトマスク７を挟む様
子を示す。図１２において、１０５は凹部、１０６は凸
部である。図１２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はそ
れぞれ、実施例２の変形例である固定用枠８ｃ、８ｄ、
８ｅ、８ｆの断面図である。固定用枠８ｃは図１２
（ａ）に示すように上部、下部にそれぞれ凸部分１０６
が設けられている。固定用枠８ｃの上部の凸部分１０６
と図１１（ａ）のペリクル枠１ａの凹部分１００、固定
用枠８ｃの下部の凸部分１０６と図１１（ａ）補助枠１
２ａの凹部分１０３をそれぞれはめ込み、ペリクル６ａ
及び補助枠１２ａを固定して固定用枠８ｃを使用する。
固定用枠８ｄは図１２（ｂ）に示すように上部に凹部分
１０５、下部に凸部分１０６が設けられている。固定用
枠８ｄの上部の凹部分１０５と図１１（ｂ）のペリクル
枠１ｂの凸部分１０２、固定用枠８ｄの下部の凸部分１
０６と図１１（ｂ）の補助枠１２ａの凹部分１０３をそ
れぞれはめ込み、ペリクル６ｂ及び補助枠１２ａを固定
して固定用枠８ｄを使用する。固定用枠８ｅは図１２
（ｃ）に示すように、上部に凸部分１０６、下部に凹部
分１０５が設けられている。固定用枠８ｅの上部の凸部
分１０６と図１１（ｃ）のペリクル枠１ｂの凹部分１０
０、固定用枠８ｅの下部の凹部分１０５と図１１（ｃ）
の補助枠１２ｂの凸部分１０４をそれぞれはめ込み、ペ
リクル６ａ及び補助枠１２ｂを固定して、固定用枠８ｅ
を使用する。固定用枠８ｆは図１２（ｄ）に示すよう
に、上部に凹部分１０５、下部に凹部分１０５が設けら
れている。固定用枠８ｆの上部の凹部分１０５と図１１
（ｄ）のペリクル枠１ｂの凸部分１０２、固定用枠８ｆ
の下部の凹部分１０５と図１１（ｄ）の補助枠１２ｂの
凸部分１０４をそれぞれはめ込み、ペリクル６ｂ及び補
助枠１２ｂを固定して固定用枠８ｆを使用する。このよ
うに、固定用枠で挟み込んで、ペリクル枠の凹部分と固
定用枠の凸部分、ペリクル枠の凸部分と固定用枠の凹部
分、補助枠の凹部分と固定用枠の凸部分、補助枠の凸部
分と固定用枠の凹部分を合わせて、ペリクルおよび補助
枠を固定することにより、固定用枠のペリクル枠、補助
枠からのズレを防ぎ、より強く固定することができる。
を示す、一部断面図である。図１１において、１０２は
ペリクル枠１ｂに設けられた凸部、１０３は補助枠１２
ａに設けられた凹部、１０４は補助枠１２ｂに設けられ
た凸部である。図１１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）
はそれぞれ、実施例２の変形例を示す。図１１（ａ）に
おいて、ペリクル枠１ａ、接着剤２、ペリクル膜３、接
着剤４、弾力材層５でペリクル６ａを構成し、図１１
（ａ）は、ペリクル６ａと補助枠１２ａでフォトマスク
７をはさむ様子を示す。図１１（ｂ）において、ペリク
ル枠１ｂ、接着剤２、ペリクル膜３、接着剤４、弾力材
層５でペリクル６ｂを構成し、図１１（ｂ）はペリクル
６ｂと補助枠１２ａでフォトマスク７を挟む様子を示
す。図１１（ｃ）では、ペリクル６ａ、補助枠１２ｂで
フォトマスク７を挟む様子を示す。図１１（ｄ）では、
ペリクル６ｂ、補助枠１２ｂでフォトマスク７を挟む様
子を示す。図１２において、１０５は凹部、１０６は凸
部である。図１２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）はそ
れぞれ、実施例２の変形例である固定用枠８ｃ、８ｄ、
８ｅ、８ｆの断面図である。固定用枠８ｃは図１２
（ａ）に示すように上部、下部にそれぞれ凸部分１０６
が設けられている。固定用枠８ｃの上部の凸部分１０６
と図１１（ａ）のペリクル枠１ａの凹部分１００、固定
用枠８ｃの下部の凸部分１０６と図１１（ａ）補助枠１
２ａの凹部分１０３をそれぞれはめ込み、ペリクル６ａ
及び補助枠１２ａを固定して固定用枠８ｃを使用する。
固定用枠８ｄは図１２（ｂ）に示すように上部に凹部分
１０５、下部に凸部分１０６が設けられている。固定用
枠８ｄの上部の凹部分１０５と図１１（ｂ）のペリクル
枠１ｂの凸部分１０２、固定用枠８ｄの下部の凸部分１
０６と図１１（ｂ）の補助枠１２ａの凹部分１０３をそ
れぞれはめ込み、ペリクル６ｂ及び補助枠１２ａを固定
して固定用枠８ｄを使用する。固定用枠８ｅは図１２
（ｃ）に示すように、上部に凸部分１０６、下部に凹部
分１０５が設けられている。固定用枠８ｅの上部の凸部
分１０６と図１１（ｃ）のペリクル枠１ｂの凹部分１０
０、固定用枠８ｅの下部の凹部分１０５と図１１（ｃ）
の補助枠１２ｂの凸部分１０４をそれぞれはめ込み、ペ
リクル６ａ及び補助枠１２ｂを固定して、固定用枠８ｅ
を使用する。固定用枠８ｆは図１２（ｄ）に示すよう
に、上部に凹部分１０５、下部に凹部分１０５が設けら
れている。固定用枠８ｆの上部の凹部分１０５と図１１
（ｄ）のペリクル枠１ｂの凸部分１０２、固定用枠８ｆ
の下部の凹部分１０５と図１１（ｄ）の補助枠１２ｂの
凸部分１０４をそれぞれはめ込み、ペリクル６ｂ及び補
助枠１２ｂを固定して固定用枠８ｆを使用する。このよ
うに、固定用枠で挟み込んで、ペリクル枠の凹部分と固
定用枠の凸部分、ペリクル枠の凸部分と固定用枠の凹部
分、補助枠の凹部分と固定用枠の凸部分、補助枠の凸部
分と固定用枠の凹部分を合わせて、ペリクルおよび補助
枠を固定することにより、固定用枠のペリクル枠、補助
枠からのズレを防ぎ、より強く固定することができる。
【００１１】実施例５．実施例１で、固定用枠８の内側
面にシリコンゴム等の樹脂を接着することで固定用枠の
ずれを防ぐことができる。
面にシリコンゴム等の樹脂を接着することで固定用枠の
ずれを防ぐことができる。
【００１２】実施例６．図１３は実施例６を示す断面図
である。実施例２における補助枠１２はペリクル６と同
じものを用いてもよい。
である。実施例２における補助枠１２はペリクル６と同
じものを用いてもよい。
【００１３】
【発明の効果】以上のようにこの発明においては、取り
外しが容易な上、パターンの重ね合わせ精度が劣化せ
ず、さらには、ペリクルからの発じんが低減され、歩留
まり低下を押さえるフォトマスクを得る。
外しが容易な上、パターンの重ね合わせ精度が劣化せ
ず、さらには、ペリクルからの発じんが低減され、歩留
まり低下を押さえるフォトマスクを得る。
【図１】本発明の実施例１において固定用枠を用いて、
ペリクルをフォトマスクに固定した状態を表す側面図で
ある。
ペリクルをフォトマスクに固定した状態を表す側面図で
ある。
【図２】本発明の実施例１における固定用枠の断面図で
ある。
ある。
【図３】本発明の実施例１において固定用枠を用いて、
ペリクルをフォトマスクに固定した状態を表す上面図で
ある。
ペリクルをフォトマスクに固定した状態を表す上面図で
ある。
【図４】本発明の実施例１におけるペリクルの断面図で
ある。
ある。
【図５】本発明の実施例２における補助枠の上面図であ
る。
る。
【図６】本発明の実施例２における補助枠の断面図であ
る。
る。
【図７】本発明の実施例２において固定用枠を用いて、
ペリクルと補助枠をフォトマスクに固定した状態を表す
側面図である。
ペリクルと補助枠をフォトマスクに固定した状態を表す
側面図である。
【図８】本発明の実施例３を示す上面図である。
【図９】本発明の実施例３を示す一部断面図である。
【図１０】本発明の実施例３における固定用枠の断面図
である。
である。
【図１１】本発明の実施例４におけるペリクルと補助枠
の一部断面図である。
の一部断面図である。
【図１２】本発明の実施例４における固定用枠の断面図
である。
である。
【図１３】本発明の実施例６におけるペリクルとフォト
マスクの断面図である。
マスクの断面図である。
【図１４】従来技術において、フォトマスクにペリクル
枠を装着した図である。
枠を装着した図である。
【図１５】従来技術において、フォトマスクにペリクル
枠を装着した図である。
枠を装着した図である。
【図１６】従来技術において用いた固定治具を示した図
である。
である。
【図１７】従来技術において、ステッパにフォトマスク
を設置した図である。
を設置した図である。
１ ペリクル枠 １ａ ペリクル枠 １ｂ ペリクル枠 ２ 接着剤 ３ ペリクル膜 ４ 接着剤 ５ 弾力材層 ６ ペリクル ６ａ ペリクル ６ｂ ペリクル ７ フォトマスク ８ 固定用枠 ８ａ 固定用枠 ８ｂ 固定用枠 ８ｃ 固定用枠 ８ｄ 固定用枠 ８ｅ 固定用枠 ８ｆ 固定用枠 ９ 補助枠の枠体 １０ 接着剤 １１ 弾力材層 １２ 補助枠 １２ａ 補助枠 １２ｂ 補助枠 １５ フォトマスクの金属膜パターン面側 １６ フォトマスクのガラス面側 １００ 凹部分 １０１ 凸部分 １０２ 凸部分 １０３ 凹部分 １０４ 凸部分 １０５ 凹部分 １０６ 凸部分 １１１ 広がった底部 ３００ 広がった底部の四隅 ５１１ 固定治具 ５１２ ペリクル枠 ５１３ フォトマスク ５３１ 薄いゴム ５３２ 固定治具 ５３３ コの字型固定治具 ５５０ ステッパの設置面
Claims (4)
- 【請求項１】 フォトマスクと、このフォトマスクの外
ふちより内側に設けられたペリクル枠において、上記ペ
リクル枠は、 中空の直方体と、上記直方体の一対の向かい合う辺にお
いて外側に延在する取付部からなり、 上記直方体の一方にはペリクル膜が取り付けられ、もう
一方には、上記取付部の四隅に上記直方体の上記辺に対
して平行に備わる固定用枠によって、上記フォトマスク
が取り付けられていることを特徴とするフォトマスク用
ペリクル枠。 - 【請求項２】 請求項１におけるフォトマスク用ペリク
ル枠において、上記ペリクル枠のフォトマスクのパター
ン面側に接する面には第１の弾力面が備わり、上記フォ
トマスクのパターン面の反対側の面と請求項１における
固定用枠との間に、補助枠がはさまり、上記補助枠にお
いては、上記フォトマスクのパターン面の反対側の面と
の接触面に第２の弾力面が備わることを特徴とするフォ
トマスク用ペリクル枠。 - 【請求項３】 上記固定用枠の上記ペリクル枠底部上面
に接する面において、凸部分および凹部分を備え、か
つ、上記ペリクル枠底部上面において凹部分および凸部
分を備え、 上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上記凸部
分を合わせて設置されることを特徴とする請求項第１項
のフォトマスク用ペリクル枠。 - 【請求項４】 上記固定用枠の内側において横方向に広
がり補助枠に接する面に、凸部分および凹部分を備え、
かつ上記補助枠の、上記固定用枠の内側において横方向
に広がる面に接する面において、凹部分および凸部分を
備え、上記凸部分と上記凹部分、および上記凹部分と上
記凸部分を合わせて設置されることを特徴とする請求項
第１項のフォトマスク用ペリクル枠。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6282594A JPH07271017A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | フォトマスク用ペリクル枠 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6282594A JPH07271017A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | フォトマスク用ペリクル枠 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07271017A true JPH07271017A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=13211499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6282594A Pending JPH07271017A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | フォトマスク用ペリクル枠 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07271017A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8586267B2 (en) | 2011-09-12 | 2013-11-19 | Samsung Austin Semiconductor, L.P. | Removable transparent membrane for a pellicle |
| JP2017083791A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6282594A patent/JPH07271017A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8586267B2 (en) | 2011-09-12 | 2013-11-19 | Samsung Austin Semiconductor, L.P. | Removable transparent membrane for a pellicle |
| JP2017083791A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
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