JPH01292343A - ペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体製造プロセスにおいて使用されるフォトマスクへ
の塵埃付着を防止するペリクルに関しフォトマスクへの
塵埃付着を防止するとともに、接着されるフォトマスク
の平面度を損なうことがなく、転写されたパターン精度
の劣化を防止しすることが可能なペクリルを提供するこ
とを目的とし、 透明薄膜よりなるペリクル膜を所定の空間を隔ててフォ
トマスク基板上に保持するペリクルフレームが、該ペリ
クル膜を略平面状に保持する上側フレーム部と、フォト
マスク基板に接着される下側フレーム部と、前記両フレ
ーム部の間に設けられ、前記下側フレーム部の変形を吸
収して前記上側フレーム部には伝達しない柔構造の中間
フレーム部とからなる構成である。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体製造プロセスにおいて使用されるフォ
トマスクへの塵埃付着を防止するペリクルに係り、特に
装着したマスク基板の平面度を損なわないペリクルに関
する。

〔従来の技術〕

ペリクルとは半導体製造プロセスにおけるフォトマスク
への塵埃付着を防止するためのものであり、第３図に示
されるようにペリクル膜３とペリクルフレーム１２とか
らなっており、このペリクル膜３は薄い透明材料であり
、例えばサブミクロンから１７２　ミルの厚みのニトロ
セルローズやマイラなどからなる。

フレーム１２は金属、たとえばアルミまたはアルミ合金
製で、内径１２０〜１６０ｍｍ、フレームの厚み２〜３
ａ＋ｍ、高さ４〜６ｍｍの丸型または角型に形成された
枠状の部材で、上縁にペリクル膜３が張付けられ下縁１
２ａに接着剤が塗布される。

そして使用に際しては、フォトマスク基板２の表面にそ
の下縁１２ａが接着剤で固着され、フォトマスク上に塵
埃の侵入不可能な密閉空間を形成してフォトマスクを清
浄に保つと共に、ペリクル膜３上に塵埃１３が付着した
としても、デフォーカスとなり、露光されるウェハには
転写されることはない。このためにフレームは所定の高
さが必要である。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来のペリクルにおいては、ペリクル膜を支持しフ
ォトマスクに接着されるフレームが、アルミニュウムや
その合金などの硬い材質で所定軒高さが一体に形成され
ている。

ところが通常、このフレームは機械加工で製造されるた
め加工精度が低く、第４図（ａ）に示す如く、マスク基
板に接着される下縁１２ａの平面度δは５０〜１００μ
輪であり、フォトマスク基板の平面度１〜５μ−に比べ
て極めて悪い。

従って上記の如く剛性の大きい一体のフレームをフォト
マスク基板に接着すると、第４図（ｂ）に示す如くマス
ク基板２がフレーム１１の接着面に倣って変形し、フォ
トマスクの平面度が損なわれ、これによりウェハ上に露
光されたパターンの精度が劣化する。即ち平面度の良い
マスク基板上に正しく形成されたマスクパターンが平面
度数１０μｍに歪んだ状態で転写された場合、ウェハ上
に露光されたパターンの横すれが０，５μｍにも達する
ことがあり、これはＬＳＩなどの微細パターンでは許容
できない値である。

このように、フォトマスクの精度を向上させても、ウェ
ハ上に形成されたパターンの精度は向上できず、多重露
光の場合の重ね合わせ不良や、寸法不良が発生して製造
歩留りが低下するといった問題点があった。

本発明は上記問題点に鑑み創出されたもので、フォトマ
スクへの塵埃付着を防止するとともに、接着されるフォ
トマスクの平面度を損なうことがなく、転写されたパタ
ーン精度の劣化を防止しすることが可能なフォトマスク
保護用ベクリルを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記の問題点は、 透明薄膜よりなるペリクル膜を所定の高さを隔ててフォ
トマスク基板上に保持するペリクルフレームが、 該ペリクル膜を略平面状に保持する上側フレーム部と、
フォトマスク基板に接着される下側フレーム部と、前記
両フレーム部の間に設けられ、前記下側フレーム部の変
形を吸収して前記上側フレーム部には伝達しない柔構造
の中間フレーム部とからなることをを特徴する本発明の
ペリクルにより解決される。

〔作用〕

フォトマスク基板に接着される下側フレーム部は剛性が
小いので、基板との接着面の平面度が悪くても基板に倣
って下面が平面になるように変形して接着される。そし
て中間フレーム部は柔軟な構造のため、上部フレームの
平面度が悪くてかつその剛性が高く、下側フレーム部と
の間の高さの変動をか生じても、中間フレーム部で吸収
されるれる。従って下側フレーム部はマスク基板の表面
に倣って自由に変形して全周が接着されるので、マスク
基板を歪ませることなくペリクルを装着でき、マスクパ
ターンをウェハ上に高精度で転写すること可能となる。

〔実施例〕

以下添付図により本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明のペリクルを示す斜視図、第２図は他の
実施例を示す断面図である。

本発明のペリクルは、ペリクル膜３を、下側フレーム部
４１と中間フレーム部４２と上側フレーム部４３とが積
層されてなるペリクルフレーム４の上面に張りつけた構
造である。

ペリクル膜３はニトロセルローズやマイラ等の透明薄膜
で従来例と同じである。

下側フレーム部４１は厚さが１ｍｍ程度のアルミニュウ
ム合金の枠部材で、マスク基板への接着代を確保するた
め幅を広くとっである。これは板厚方向（フレームの高
さ方向）の剛性が小さく平面度が多少悪くても、フォト
マスク基板に倣って全周で密着して接着できるようにな
っている。

中間フレーム部４２は、例えば厚さ０　、０５ｍｍ程度
のアルミニュウム合金薄板を高さが４１程度のベローズ
状に形成したもので、高さ方向に対して柔軟な構造に形
成されている。

上側フレーム部４３はその上面に張りイ１けられるペリ
クル膜３を略平面状に保持Ｊ−るに足る厚さ例えば１ｍ
ｍ程度のアルミニュウム合金よりなる枠部材である。

以上の３つのフレーム部を接着等で積層しペリクル膜３
が上側フレーム部４３の上面に貼られて本発明のペリク
ルは完成する。

下部フレーム４１は平坦でさえあれば、その平面度は余
り問題にしなくて良いため加工が容易である。

上記構造のペリクルフレーム４は側壁の高さの大部分が
、柔軟なベローズ構造となっているため高さ方向の変形
に対する剛性が、マスク基板の反り変形に対する剛性に
くらべて極めて小さいので、フレームの基板接着面４１
ａの平面度が悪くてもマスク基板に倣って接着され、従
来例の如くマスク基板を変形させることはない。

第２図は他の実施例を示すもので、幅広枠状の上側フレ
ーム部４３゛　　と下側フレーム部４１゛　が薄肉の中
間フレーム部４２′　で連結された形状を樹脂等で一体
にモールド成形してなるペリクルフレーム４゛を有する
もので、全体の剛性が小さいため同様な効果が得られる
。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、フォトマスク基板に
装着した際に、基板の平面性を損なうことないペリクル
を提供することが可能となり、高精度パターンを有する
レチクルなどの高精度マスクパターンをウェハ上に転写
することができ、パターン精度や、重ね合わせ精度の向
上に寄与するところが大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のペリクルを示す一部切欠斜視図、 第２図は他の実施例を示す断面図、 第３図は従来のペリクルを示す図、 第４図は従来技術の問題点を示す模式図、である。 図においモ、 ２−・フォトマスク基板、　　３−・ペリクル膜、４．
４“−・−ペリクルフレーム・ ４１．４１’−−・下側フレーム部、 ４２、４２’・−中間フレーム部１ 、ｉ３，４３’・−・上側フレーム部、である。 佳− 本壽Ｂ月ｎベソクルを示マ一部り刀スー科ａ回他の聚施
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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　透明薄膜よりなるペリクル膜（３）を所定の高さを隔
   ててフォトマスク基板（２）上に保持するペリクルフレ
   ーム（４）が、 該ペリクル膜（３）を略平面状に保持する上側フレーム
   部（４３）と、前記フォトマスク基板（２）に接着され
   る下側フレーム部（４１）と、前記両フレーム部（４１
   、４３）の間に設けられ、前記下側フレーム部（４１）
   の変形を吸収して前記上側フレーム部（４３）には伝達
   しない柔構造の中間フレーム部（４２）と、からなるこ
   とを特徴とするペリクル。