JPH07178908A - インクジェット式記録ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコン単結晶基板の異方性エッチングによ
りインクの流れがスムーズな、インクジェット式記録ヘ
ッド用のスペーサを作成すること。 【構成】 ノズル開口が列状に穿設されたノズルプレー
トと、圧力発生室、インク供給口、及びリザーバを形成
するスペーサと、蓋板とを備えたインクジェット式記録
ヘッドにおいて、結晶方位（１１０）のシリコン単結晶
基板を異方性エッチングする際に、圧力発生室を形成す
る通孔を区画するノズル開口近傍の壁面はシリコン単結
晶基板の表面に垂直で互いに鈍角で接する４つの壁面５
ａ、５ｈ、５ｇ、５ｂと壁面５ｇにシリコン単結晶基板
の断面方向で鈍角に接する２つの壁面５ｇ１、５ｇ２の
計６つの壁面で形成する。この結果、インクが停滞しや
すいノズル開口近傍のインク流れが可及的に均一にな
り、気泡等の停滞を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、インクジェットプリン
タ等の記録装置に用いるインクジェット式記録ヘッドに
関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット式記録ヘッドは、記録媒
体上のドットをインク滴により構成する関係上、インク
滴のサイズを小さくすることにより極めて高い解像度で
の印刷が可能であるものの、効率よく印刷するためには
ノズル開口の数を多くする必要があり、特に圧電振動子
をインク滴噴射源に使用するものにあっては、圧電振動
子のエネルギーを効率よく使用するために圧力発生室を
可及的に大きくする必要があり、小型化の要請と相反す
ることになる。このような相反する問題を解消するた
め、通常、隣り合う圧力発生室を区画している壁を可及
的に薄くするとともに、圧力発生室の形状を長手方向に
大きくして容積を稼ぐことが行われている。圧力発生室
やリザーバは、蓋板とノズルプレートとの間隔を所定の
値に保持する部材であるスペーサに穿設することにより
形成されているが、上述したように極めて小さく、しか
も複雑な形状を備えた圧力発生室に一致する通孔を形成
する必要上、通常感光性樹脂膜をエッチングする事によ
り形成されている。

【０００３】しかし、感光性樹脂膜は機械的強度が低い
ため、クロストークやたわみ等が生じ、高い解像度を実
現しようとすると印字品質が低下するという問題があ
る。

【０００４】この問題を解消するために、結晶方位（１
１０）のシリコン単結晶基板をスペーサに適した厚さに
切り出し、これを圧力発生室やリザーバを構成するのに
必要な形状に異方性エッチングを行うことが、米国特許
第４３１２００８号明細書に提案されている。この単結
晶シリコンを使用したスペーサは、機械的剛性が高いた
め、圧電振動子の変形に伴う記録ヘッド全体のたわみを
可及的に小さくすることができるとともに、エッチング
を受けた壁面が表面に対してほぼ垂直であるため、圧力
発生室を均一に構成することが可能であるという大きな
利点を備えている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エッチ
ングが結晶方位に依存するため、インクジェット式記録
ヘッドの圧力発生室として理想的な形状に加工すること
が困難で、圧力発生室内にインクのよどみや気泡の停滞
を招きやすいという不都合を抱えている。

【０００６】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、その目的とするところは、インクの流れ
が滑らかなシリコン単結晶基板の異方性エッチングによ
り加工した圧力発生室を備えたインクジェット式記録ヘ
ッドを提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
式記録ヘッドは、ノズル開口が列状に穿設されたノズル
プレートと、圧力発生室、インク供給口、及びリザーバ
を備えたスペーサと、蓋板を備え、前記スペーサは、結
晶方位（１１０）のシリコン単結晶異方性エッチングに
より形成され、前記圧力発生室のノズル開口近傍の端部
が鈍角で接する６つの壁面で形成されていることを特徴
とする。

【０００８】

【作用】インクが停滞しやすいノズル開口近傍が鈍角で
接する６つの壁面で形成されているため、滑らかな形状
となり、インクの流れをスムースにできてノズル開口近
傍の気泡の停滞を防止することができる。

【０００９】

【実施例】以下に本発明の詳細を実施例に基づいて説明
する。

【００１０】図１は本発明の一実施例を示すもので、図
中符号１はノズルプレートで、所定のピッチ、例えば１
８０ＤＰＩとなるようにノズル開口２、２、２…が穿設
された開口列３、３…が形成されている。

【００１１】４は、後述する蓋板となる振動板１０とノ
ズルプレート１との間にはさまれて配置されるスペーサ
で、図２に示したようにノズル列に対応するように圧力
発生室、リザーバ、これらを接続するインク供給口、イ
ンクタンクからのインクを各リザーバに分配する流路等
を形成する通孔５、５、５、…６、６、６、…、７、
７、７、…、８、８、８、…が形成されている。

【００１２】１０は蓋板となる振動板で、スペーサ４を
介してノズルプレート１と対向して圧力発生室を形成す
るもので、図３に示したように後述する圧電振動子ユニ
ットの２１、２１、２１、…の圧電振動子３０、３０の
先端に当接してこれの変位を可及的に広い面積に伝達す
るように剛性を備えたアイランド部１１と、これのその
周縁領域に薄肉部１２とを形成して構成されている。こ
のような構成により圧電振動子３０、３０、３０、…の
伸縮に応動して、圧力発生室を効率的に収縮、膨張させ
ることが可能となる。

【００１３】これら圧電振動子ユニット２１、２１、２
１、…は、図４に示したように圧電振動子３０、３０、
３０、…の一半を固定基板３１に一定ピッチで固定し
て、他半が縦振動モードでの振動が可能にまとめられて
いる。各振動子３０は、図５に示したように圧電振動材
料３２と駆動電極３３と共通電極３４とを交互にサンド
イッチ状に積層して構成されている。そして駆動電極３
３、３３、３３、…は、圧電振動子３０の後端列で端面
から露出していて、スパッタや蒸着などで形成された駆
動外部電極３５により並列に接続され、また共通電極３
４、３４、３４、…は圧電振動子３０の自由端側に露出
し、かつ側方にまで延長されていて共通外部電極３６に
より並列に接続されている。

【００１４】各圧電振動子３０の駆動外部電極３５は、
端面が固定基板３１とほぼ同一面となるように位置決め
されており、また圧電振動子３０、３０、３０・・・・の両
側に位置するダミー振動子３９の後端面の電極４０に導
通関係を持つように接続されている。ダミー振動子３９
の後端面には、駆動外部電極３５と同様に電極４０が構
成されていて、接続回路基板との接続が可能となってい
る。

【００１５】再び図１に戻って、図中符号４２は基台
で、圧電振動子３０、３０、３０・・・・の自由端側が露出
するように振動子ユニット２１、２１、２１・・・・を収容
するユニット収容穴４３、４３、４３・・・・と、インクタ
ンクからインクをリザーバに供給するためのインク供給
口４４が設けられており、表面に振動板１０、スペーサ
４、ノズルプレート１を位置決めして静電シールドを兼
ねる枠体４５により固定して記録ヘッド本体としてまと
め上げている。なお、図中符号４６はインクタンクから
のインクの流入口を示す。

【００１６】これにより図６に示したようにスペーサの
通孔５、５は、その開口がノズルプレート１と振動板１
０により封鎖されて圧力発生室４８を構成することにな
る。圧力発生室４８は、圧電振動子３０の伸縮をアイラ
ンド部１１により受ける振動板１０の薄肉部１２の変形
により収縮したときに、ここに存在するインクを圧縮し
て、ノズル開口２からインク滴として飛翔させることに
なる。

【００１７】図７は、前述したスペーサ４の一実施例の
圧力発生室を構成する通孔５、５、５・・・・の近傍を拡大
して示すものであって、スペーサとして必要な厚み、例
えば２２０μｍを備えた結晶方位（１１０）のシリコン
単結晶基板に圧力発生室４８となる通孔５、リサーバと
なる通孔６、及びこれらを連通するインク供給口となる
通孔７が形成されている。

【００１８】インク供給口となる通孔７は、これを区画
する両側の壁面７ａ、７ｂの一方が圧力発生室を形成す
る通孔５の一方の壁５ａと一致するように、また他方の
壁面７ｂがインク供給口に適した流路抵抗を実現できる
程度に間隔をおいて形成されている。

【００１９】これらの通孔の周囲には、振動板１０、及
びノズルプレート１との接着を接着剤によりおこなう場
合には、一辺が１００μｍ程度の接着剤吸収用の凹部５
０、５０、５０・・・・がやはり異方性エッチングにより形
成されている。これら凹部５０、５０、５０・・・・は、余
分な接着剤を収容できる程度の容積を備える最小限の深
さとなるようにそのサイズが設定されている。なお、共
晶接合等のように接着剤を必要としない場合にはこれら
接着剤吸収用の孔は不要となる。

【００２０】図８は、圧力発生室を形成する通孔、イン
ク供給口を形成する通孔を形成する壁面のなす角度を示
すものであって、圧力発生室を形成している通孔５は、
詳細には壁面５ａ乃至５ｈの９つの壁面からなってい
て、ノズル開口２が対向する面５ｂ、５ｇ、５ｈ、５ａ
はそれぞれθ４、θ５、θ６で接しており、これらの角
度θ４、θ５、θ６はそれぞれ約１１６度、１２５度、
１１０度、となる鈍角となっている。またインク供給口
となる通孔７に連通する側においては壁面５ｃ、５ｄ、
５ｅが形成されていて、インク供給口と圧力発生室とを
圧力発生室側に広がるように接続されている。

【００２１】さらにインク供給口を形成する通孔７の一
方の壁面７ａは、圧力発生室を形成する通孔５の一方の
壁面５ａと同一壁面と成るように形成され、また他方の
壁面７ｂは、インク供給口として必要十分な流路抵抗と
なる程度の間隔を空けて壁面７ａに平行に形成されてい
る。圧力発生室からインク供給口に一直線で延びる壁面
７ａは、リザーバを形成する通孔６の壁面６ａと２つの
面６ｂ、６ｃにより形成された拡開部を経て接続されて
いる。なお図中θ１で示す角度は、３０度前後であり、
またθ２で示す角度は、約７０度前後の値である。

【００２２】図９は、ノズル開口２に対向する壁面５ｇ
の断面構造を示すものであって、それぞれ表面と角度θ
７＝約３５度をなす斜面５ｇ１、５ｇ２が形成されてお
り、壁面５ｇとはともに約１４５度となる鈍角で接して
いる。この斜面５ｇ１、５ｇ２は、異方性エッチングに
随伴して生じる非対称形状に起因する圧力発生室におけ
るノズル開口２近傍の流れを可及的に均一にして、気泡
等の停滞を防止するのに寄与している。

【００２３】このように構成されたスペーサ４に接着剤
を塗布し、ノズルプレート１及び振動板１０を位置合わ
せして圧着する。この圧着により余剰となった接着剤
は、圧力発生室、インク供給口、及びリザーバとなる通
孔５、７、６を取り囲むように形成されている微細な凹
部５０、５０、５０・・・・に流れ込む。このため、圧力発
生室、インク供給口、及びリザーバの容積が接着剤の流
れ込みにより変化するのを防止される。接合が完了する
と、図７（ｂ）に示したように圧力発生室を形成する通
孔５の中心線の先端近傍にノズルプレートのノズル開口
２が、またほぼ全域に及ぶように振動板１０のアイラン
ド部１１が位置することになる。この状態で圧電振動子
３０を駆動すると、その変位がアイランド部１１を介し
て圧力発生室全体に及ぶため、圧電振動子３０の変位を
高い効率で圧力発生室の容積変化に変換することができ
る。

【００２４】図１０は上述したスペーサの製造工程を示
すものであって、図中符号６０は、スペーサとして機能
するに必要な厚み、例えば２２０μｍを有する結晶方位
（１１０）のシリコン単結晶基板で、これの表面には熱
酸化法により、異方性エッチングの保護膜として機能で
きる程度の厚み、例えば１μｍ程度の二酸化珪素膜６１
が形成されている（図１０（ａ））。

【００２５】二酸化珪素膜６１が形成された基板６０の
表面及び裏面に前述した通孔５、６、７、及び必要に応
じて凹部５０に一致した窓６３、６４を備えたフッ化水
素保護膜６２をフォトリソグラフィにより形成する（図
１０（ｂ））。

【００２６】この状態でフッ化水素によりエッチングを
実行すると、通孔５、６、７、及び凹部５０を形成すべ
き領域の窓６３、６４に一致して二酸化珪素膜６１が除
去される（図１０（ｃ））。なお、表面、及び裏面に形
成される二酸化珪素膜パターン６１ａ、及び６１ｂは、
一方の面のパターン６１ａ、及び６１ｂは、一方のパタ
ーン６１ａが他方の面のパターン６１ｂを取り囲むよう
に、サイズを若干異ならせて形成されている。

【００２７】このようにして二酸化珪素のパターン形成
が終了した段階で、一定温度、例えば８０℃に保温され
た濃度１７％程度の水酸化カリウムの水溶液を用いてエ
ッチングを実行すると、二酸化珪素膜のパターン６１
ａ、６１ｂを保護膜として窓６３、６４の部分だけが、
毎分２μｍ程度の速度で両面から表面に対して約３５度
の面、つまり結晶方位（１１１）の面に垂直にエッチン
グが進行する。

【００２８】ところで、前述したように基板６０に表
面、及び裏面に形成されているパターン６１ａ、６１ｂ
は、その一方が他方を取り囲むように大き目に設定され
ているため、エッチングが終了した段階では、窓のサイ
ズが大きなパターン６１ｂに一致するサイズの通孔６５
が形成される（図１０（ｄ））。この結果。表裏のパタ
ーンの若干のずれが生じたとしても、少なくとも外側に
位置するパターンのエッジがエッチング面となるので、
エッチング位置の管理を行うことが可能となる。

【００２９】すなわち、図１１に示したようにサイズが
等しいパターン７０、７１を基板７２の表裏に形成した
場合、これらパターンがずれていると、表裏で対向する
パターン内の形成すべき通孔７３の外側に位置するパタ
ーン７０ａ、７１ａの境界に一致して壁面７２ａ、７２
ｂが形成されるため、パターン７０、７１により規定さ
れるサイズとは異なるサイズの通孔７３が形成されるこ
とになり、通孔のサイズや、エッチング面の位置を管理
することが不可能となる。

【００３０】このようにして通孔６５が形成された段階
で、マスクとして使用した二酸化珪素膜６１ａ、６１ｂ
をフッ化水素により除去した後、再び熱酸化を行って露
出面、全面に保護膜として十分な厚み、例えば１μｍ程
度の二酸化珪素６６を形成して、インクに対する保護膜
とする（図１０（ｅ））。

【００３１】ところで、このような結晶方位（１１０）
のシリコン単結晶基板に対して異方性エッチングを実行
すると、目的のパターンに至る過程では、図１２に示し
たように結晶方位（１１０）に対して約３５度の角度、
つまり結晶方位（１１１）に面に一致してエッチングが
進行する。

【００３２】このような性質を積極的に利用するため、
図１３（ａ）に示したように圧力発生室となる通孔５の
ノズル開口が対向する側の約１／２の領域は、その壁面
を規定するエッチングパターン８０の境界線８０ａを他
方の壁面５ａとなる側に変移させて形成させておく。ま
たインク供給口となる通孔７を形成する壁面の内、圧力
発生室となる通孔５の壁面５ａと一直線上に位置する壁
面７ａに対向する側の壁面７ｂには、これから通孔５側
に延長された剣状のエッチング保護パターン８１を、さ
らにリザーバとなる通孔６には、やはりインク供給口７
を形成している各壁面７ａ、７ｂに一致する剣状のエッ
チング保護パターン８２、８３を形成しておく。

【００３３】上述のように形成したエッチングパターン
を用いて異方性エッチングを実行すると、通孔５の形成
にあたってはパターン８０がエッジ部８０ａを備えてい
るため、このエッジ部８０ａのエッチングが壁面５ｂに
対して所定の角度θ１＝３０度前後の角度をもつ壁面５
ｆを形成しながら進行する。そしてノズル開口に対向す
る領域までエッチングが進行し、壁面５ｈと壁面５ｆが
接した段階で、壁面５ｈと壁面５ｆとの間に壁面５ｈに
対して角度θ５＝約１２５角で接する新たな壁面５ｇが
形成される。それに伴って壁面５ｆは漸次消失し、壁面
５ｆが完全に消失した段階でエッチングが終了するよう
にパターン８０の壁面５ｈからの長さが調整してある。
また壁面５ｇはエッチングの進行とともに図９で説明し
た２つの新たな壁面５ｇ１、５ｇ２をシリコン単結晶基
板表面である（１１０）面との間に形成する。この結
果、ノズル開口２の近傍の壁面はシリコン単結晶基板の
表面に垂直で互いに鈍角で接する４つの壁面５ａ、５
ｈ、５ｇ、５ｂと壁面５ｇにシリコン単結晶基板の断面
方向で鈍角に接する２つの壁面５ｇ１、５ｇ２の計６つ
の壁面が形成されることになり、ノズル開口２の近傍の
インクの流れを可及的に均一にして気泡等の停滞を防止
することができる。

【００３４】一方、インク供給口となる通孔７のエッチ
ング時には、その端部が壁面から延長して形成された剣
状エッチング保護パターン８１、８２、８３の領域がエ
ッチングを受けるため（図１３（ｂ））、最終段階、つ
まり両面からのエッチングにより貫通孔が形成され、さ
らに目的の形状までエッチングが進んだ段階では、図８
に示したようにインク供給口となる通孔７の圧力発生室
側には、壁面５ｃ、及び壁面７ｂに対して角度θ１＝３
０度前後の角度を持つ壁面５ｄ、５ｅが形成され、ま
た、リザーバ側には壁面６ａ、７ａに対して角度θ１＝
３０度前後の角度を持つ壁面６ｂ、６ｃが形成されるこ
とになる。この結果、インク流入口と排出口には拡開し
た開口が形成されることになり、リザーバから圧力発生
室へのインクの流入がスムーズに行われ、気泡の停滞が
防止される。

【００３５】図１４は、１つのリザーバにより２列の圧
力発生室にインクを供給する場合の、リザーバとなる通
孔６側のパターンを拡大して示すもので、各列に配列さ
れているのノズルがそれぞれ若干位置をずらして構成さ
れている関係上、各列の圧力発生室の間隔が狭い場合に
は図１４に示すようにインク供給口となる通孔７、７、
７・・・・、及び７’、７’、７’・・・・から延長された剣状
のパターン８２、８２、８２・・・・、８３、８３、８３・・
・・、及び８２’、８２’、８２’・・・・、８３’、８
３’、８３’・・・・の一部がオーバーラップしてしまう場
合が生ずる。このようなオーバーラップが生ずると剣状
パターンが完全にエッチングされず、リザーバとなる通
孔６を形成できなくなってしまう。ただし、２列の圧力
発生室が剣状パターンの長さに対して十分長い場合や、
各列に配置されているノズルの位置関係がオーバーラッ
プを生じない場合はこのようなエッチングパターンを使
用することは可能である。

【００３６】図１５（ａ）は、前述のようなオーバーラ
ップを回避する為の異方性エッチングのパターンの一実
施例を示すものであって、この実施例においては、イン
ク供給口となる通孔７とリザーバとなる通孔６との接続
点を、細いパターンからなる連続部８５として形成し、
ここから１本の剣状のエッチング保護パターン８６をイ
ンク供給口となる通孔７の軸線方向に延長して形成した
ものである。

【００３７】この実施例のエッチングパターンによれ
ば、インク供給口７とリザーバとなる通孔６との接続点
が連続部８５により阻止されるから、１本の剣状部８６
により無用なエッチングの進行を阻止することが可能と
なる。

【００３８】この実施例によれば、前述したような１つ
のリザーバにより２列の圧力発生室にインクを供給する
場合、図１６に示したようにリザーバとなる通孔６側に
形成するインク供給口を形成する通孔７、７、７・・・・、
及び７’、７’、７’・・・・の先端にそれぞれ連続部とな
るエッチング保護パターン８５、８５、８５・・・・、及び
８５’、８５’、８５’・・・・を形成し、ここから各イン
ク供給口をなる通孔７、７、７・・・・及び７’、７’、
７’・・・・に一致するようにそれぞれ１本の剣状のエッチ
ング保護パターン８６、８６、８６・・・・、８６’、８
６’、８６’・・・・を形成すればよく、このため各ノズル
列のノズルがずれている場合には、剣状のエッチング保
護パターン８６、８６、８６・・・・、および８６’、８
６’、８６’・・・・をオーバーラップさせることなく、平
面に展開して配置することができる。

【００３９】図１７は、本発明のインクジェット式記録
ヘッドの第２の実施例のスペーサに形成する圧力発生室
とインク供給口の接続領域近傍の形状を示すものであっ
て、図中符号９０は、圧力発生室を形成する通孔で、こ
の実施例においては、リザーバを形成する通孔９１と接
続するインク供給口をなす通孔９２を、圧力発生室を区
画する長手方向の壁面９０ａ、９０ｂから斜めに延びる
壁面９０ｃ、９０ｄを形成し、圧力発生室のほぼ中心線
上で接続するように構成されている。

【００４０】この実施例によればリザーバからインクを
圧力発生室の端部中央で拡開する壁面９０ｃ、及び９０
ｄとエッチングの過程で形成される結晶軸に沿って自然
発生的に生じる壁面９０ｅ、９０ｆから供給することが
できるため、インク流れをより一層円滑して、淀みを無
くすることができる。

【００４１】図１８は、本発明のインクジェット式記録
ヘッドの第３の実施例のスペーサに形成する圧力発生室
とインク供給口の接続領域近傍の形状を示すものであっ
て、図中符号１００は、圧力発生室を形成する通孔で、
この実施例においては、リザーバを形成する通孔１０１
と接続するインク供給口１０２がＶ字状の非貫通口とし
て形成されている。インク供給口１０２は圧力発生室を
区画する長手方向の壁面１００ａに対して角度θ６＝約
５４度傾いて接続されている。また表面に対して図１９
に示すように２つの角度θ７＝約３５の傾斜面、すなわ
ち（１１１）面で形成されている。このような形状とす
ることで、圧力発生室を区画する領域が片持ち梁状態に
なるのを防ぐことができ、インク供給口１０２の寸法を
高精度に管理することができる。

【００４２】以上、実施例として圧電振動子を圧力発生
源とした構成を述べてきたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えば電気−熱変換素子を配し、熱エ
ネルギーにより発生した気泡を圧力発生源にしたもの等
においても、なんら問題なく適用することができる。

【００４３】

【発明の効果】以上、説明したように本発明において
は、ノズル開口が列状に穿設されたノズルプレートと、
圧力発生室、インク供給口、及びリザーバを形成するス
ペーサと、蓋板を備え、スペーサは結晶方位（１１０）
のシリコン単結晶の異方性エッチングにより形成され
る、インクジェット式記録ヘッドにおいて、圧力発生室
を形成するノズル開口近傍の端部が鈍角で接する６つの
壁面を持つように形成したので、インクが停滞しやすい
ノズル開口近傍が滑らかな形状となり、インクの流れを
スムーズにできてノズル開口近傍の気泡の停滞を防止す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のインクジェット式記録ヘッドの一実施
例を示す組み立て図である。

【図２】同装置に使用するスペーサの一実施例を示す平
面図である。

【図３】同装置に使用する振動板の一実施例を示す図で
ある。

【図４】同装置に使用する圧電振動子ユニットの一実施
例を示す斜視図である。

【図５】同上圧電振動子の電極構造を示す図である。

【図６】本発明の記録ヘッドの一実施例の圧力発生室を
拡大して示す断面図である。

【図７】（ａ）、（ｂ）は、それぞれ同上スペーサの圧
力発生室近傍を拡大して示す図、及びノズルプレート、
振動板、振動子を固定した場合におけるノズル開口、ア
イランド部、及び圧電振動子の位置関係を示す図であ
る。

【図８】通孔を形成する各壁面のなす角度を示す図であ
る。

【図９】圧力発生室を構成する通孔のノズル開口近傍の
断面形状を示す図である。

【図１０】結晶方位（１１０）を持つシリコン単結晶基
板を異方性エッチングしてスペーサを製造する工程を示
す説明図である。

【図１１】結晶方位（１１０）を異方性エッチングする
場合に使用する表裏両面に形成されたエッチングパター
ンの位置ずれによるエッチング状況の説明図である。

【図１２】結晶方位（１１０）をもつシリコン単結晶基
板の異方性エッチングの進行過程を示す図である。

【図１３】（ａ）、（ｂ）は、それぞれシリコン単結晶
基板を異方性エッチングによりスペーサを形成する場合
のパターンの一実施例、及びエッチング終了間際の状態
を示す図である。

【図１４】１つのリザーバにより２列の圧力発生室にイ
ンクを供給する場合のリザーバ側のエッチングパターン
のオーバーラップの説明図である。

【図１５】（ａ）、（ｂ）は、それぞれシリコン単結晶
基板を異方性エッチングによりスペーサを形成する場合
のパターンの他の実施例、及びエッチング終了間際の状
態を示す図である。

【図１６】１つのリザーバにより２列の圧力発生室にイ
ンクを供給する場合のリザーバ側のエッチングパターン
の一実施例を拡大して示す図である。

【図１７】本発明の他の実施例の通孔の形状を示す図で
ある。

【図１８】本発明の第３の実施例のスペーサに形成する
圧力発生室とインク供給口の形状を示す図である。

【図１９】同スペーサに形成する供給口の断面図であ
る。

【符号の説明】

１ ノズルプレート ２ ノズル開口 ３ ノズル開口列 ４ スペーサ ５ 圧力発生室形成用通孔 ５ａ〜５ｈ 圧力発生室を形成する通孔を区画する壁面 ６ リザーバ形成用通孔 ６ａ〜６ｃ リザーバを形成する通孔を区画する壁面 ７ インク供給口形成用通孔 ７ａ、７ｂ 壁面 １０ 振動板 １１ アイランド部 ２１ 圧電振動子ユニット ３０ 圧電振動子

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ノズル開口が穿設されたノズルプレート
   と、圧力発生室、インク供給口及びリザーバを形成する
   スペーサと、蓋板を備え、 前記スペーサは、結晶方位（１１０）のシリコン単結晶
   を異方性エッチングにより形成され、 前記圧力発生室のノズル開口近傍の端部が鈍角で接する
   ６つの壁面で形成されていることを特徴とするインクジ
   ェット式記録ヘッド。