JPH0717686B2 - 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 - Google Patents
部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法Info
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- JPH0717686B2 JPH0717686B2 JP61185177A JP18517786A JPH0717686B2 JP H0717686 B2 JPH0717686 B2 JP H0717686B2 JP 61185177 A JP61185177 A JP 61185177A JP 18517786 A JP18517786 A JP 18517786A JP H0717686 B2 JPH0717686 B2 JP H0717686B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、水に対する溶解性が高められた部分メチル化
シクロデキストリン組成物及びその製造方法に関するも
のである。
シクロデキストリン組成物及びその製造方法に関するも
のである。
従来の技術 シクロデキストリン（以下「CD」と略記する）のメチル
化物としては、ヘキサキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）
α−CD、ヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−C
D、ヘプタキス（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CDが、
またこれらの製造方法としてはCDをN,N−ジメチルホル
ムアミド（以下「DMF」という）、ジメチルスルホキシ
ド（以下「DMSO」という）等の有機溶媒中で酸化バリウ
ム及び／又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤とし
てジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめる
か、水溶液中でCDに対して15〜40倍モル当量のNaOHの存
在下、同９〜30倍モル当量のジメチル硫酸を反応せしめ
る方法が知られている（例えばChemical Abstract 98,1
08頁（1983）;Starch/Strke 32,Nr,5,165〜169頁（19
80）等）。
化物としては、ヘキサキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）
α−CD、ヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−C
D、ヘプタキス（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CDが、
またこれらの製造方法としてはCDをN,N−ジメチルホル
ムアミド（以下「DMF」という）、ジメチルスルホキシ
ド（以下「DMSO」という）等の有機溶媒中で酸化バリウ
ム及び／又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤とし
てジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめる
か、水溶液中でCDに対して15〜40倍モル当量のNaOHの存
在下、同９〜30倍モル当量のジメチル硫酸を反応せしめ
る方法が知られている（例えばChemical Abstract 98,1
08頁（1983）;Starch/Strke 32,Nr,5,165〜169頁（19
80）等）。
発明が解決しようとする問題点 CDはグルコース単位がα−1,4結合で環状に数個つなが
ったオリゴ糖であって、各種の有機化合物を包接するホ
スト分子として、医薬品、農薬、食品、香料、化粧品ま
たは浴剤等の分野で用いられている。
ったオリゴ糖であって、各種の有機化合物を包接するホ
スト分子として、医薬品、農薬、食品、香料、化粧品ま
たは浴剤等の分野で用いられている。
しかし、CDは水に溶けにくいばかりでなく、アルコール
等の有機溶媒に対する溶解性も悪いため、上述の分野で
の普遍的な応用を妨げていた。就中包接対象の広いβ−
CD（グルコース単位が７個）の水溶性は低く、使用濃度
が制限される欠点があった。
等の有機溶媒に対する溶解性も悪いため、上述の分野で
の普遍的な応用を妨げていた。就中包接対象の広いβ−
CD（グルコース単位が７個）の水溶性は低く、使用濃度
が制限される欠点があった。
一方、上述の公知メチル化CDは、主にその分子構造研究
上の興味より調製されたものであって後述する如く、水
に対して一応の溶解性の改善がなされているが、温度が
高くなるにつれその溶解度が低下し、依然上記欠点が解
消したものとはいえない。
上の興味より調製されたものであって後述する如く、水
に対して一応の溶解性の改善がなされているが、温度が
高くなるにつれその溶解度が低下し、依然上記欠点が解
消したものとはいえない。
なお、上述のいわゆる完全メチル化CD、例えばヘプタキ
ス−（2,3,6−Ｏ−メチル）β−CD等を製造する際に部
分メチル化CDの生成も知られているが、それらが如何な
る理化学的性質を示すものであるかは明瞭でない（例え
ば、西ドイツ国特許出願公開第3118218号公報参照）。
ス−（2,3,6−Ｏ−メチル）β−CD等を製造する際に部
分メチル化CDの生成も知られているが、それらが如何な
る理化学的性質を示すものであるかは明瞭でない（例え
ば、西ドイツ国特許出願公開第3118218号公報参照）。
問題点を解決するための手段 本発明者は、β−CDが同数のグルコース単位よりなる他
の鎖状オリゴ糖に比し、各種溶媒に対する溶解性が劣る
のは、その特異な分子構造にあることに着目し、上記公
知メチル化β−CDの分子構造の対称性を崩すべく各種の
部分メチル化β−CDについて検討した。
の鎖状オリゴ糖に比し、各種溶媒に対する溶解性が劣る
のは、その特異な分子構造にあることに着目し、上記公
知メチル化β−CDの分子構造の対称性を崩すべく各種の
部分メチル化β−CDについて検討した。
その結果、β−CDを異常に高濃度の水酸化ナトリウム水
溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化剤として反応せ
しめると、CD構成グルコースの２及び３位水酸基の完全
メチル化を伴うことなくそれらのメチル化率を調整し得
ることを見い出した。また、かくして得られる特定のメ
チル化率を有する部分メチル化組成物は、上述の完全メ
チル化β−CD等に比し、驚くべく水溶性が向上すること
を見い出し本発明を完成した。
溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化剤として反応せ
しめると、CD構成グルコースの２及び３位水酸基の完全
メチル化を伴うことなくそれらのメチル化率を調整し得
ることを見い出した。また、かくして得られる特定のメ
チル化率を有する部分メチル化組成物は、上述の完全メ
チル化β−CD等に比し、驚くべく水溶性が向上すること
を見い出し本発明を完成した。
しかして、本発明はシクロデキストリンを構成する全グ
ルコースにおける単位グルコース各位の水酸基の平均メ
チル化率が、 ２位：約53〜64％ ３位：約38〜51％ ６位：約70〜100％ の値を示す部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物、及びその製造方法が提供される。
ルコースにおける単位グルコース各位の水酸基の平均メ
チル化率が、 ２位：約53〜64％ ３位：約38〜51％ ６位：約70〜100％ の値を示す部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物、及びその製造方法が提供される。
即ち、本発明の部分メチル化β−CDは下記式 式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わす、 で示される部分メチル化β−シクロデキストリンの各位
の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
該組成物は、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開
溶媒：クロロホルム／メタノール＝9/1）にかけたと
き、主成分として、Rf値が約0.55、同0.42、同0.30を示
す組成分の混合物として得られる。
溶媒：クロロホルム／メタノール＝9/1）にかけたと
き、主成分として、Rf値が約0.55、同0.42、同0.30を示
す組成分の混合物として得られる。
なおRf値は一般的な糖誘導体と同様に、操作条件によっ
て若干の変動を示す。
て若干の変動を示す。
かかる部分メチル化β−CDは混合物それ自体で各種難水
溶性化合物の可溶、包接化剤として有用であるが、より
統一した規格が求められる技術分野への用途を考慮する
と、必要により、それぞれのRf値を示す個々の組成物に
分離して用いることもできる。
溶性化合物の可溶、包接化剤として有用であるが、より
統一した規格が求められる技術分野への用途を考慮する
と、必要により、それぞれのRf値を示す個々の組成物に
分離して用いることもできる。
即ち、一般に上記（ｉ）Rf値が0.55を示すものであっ
て、平均メチル化率が:2位55〜64％、３位43〜51％、６
位99〜100％であり、融点（キャピラリー法）:142〜161
℃、かつ、比旋光度：▲〔α〕25 D▼158〜162゜（ｃ＝
１、水）を示す組成物；（ii）Rf値が0.42、平均メチル
化率:2位55〜60％、３位39〜45％、６位86〜88％、融点
（同上）:159〜170℃、比旋光度：▲〔α〕25 D▼156〜1
59゜（ｃ＝１、水）を示す組成物；または、（iii）Rf
値が0.30、平均メチル化率:2位53〜61％、３位38〜45
％、６位70〜77％、融点（同上）:167〜180、比旋光
度：▲〔α〕25 D▼155〜159゜（ｃ＝１、水）を示す組
成物として提供することもできる。
て、平均メチル化率が:2位55〜64％、３位43〜51％、６
位99〜100％であり、融点（キャピラリー法）:142〜161
℃、かつ、比旋光度：▲〔α〕25 D▼158〜162゜（ｃ＝
１、水）を示す組成物；（ii）Rf値が0.42、平均メチル
化率:2位55〜60％、３位39〜45％、６位86〜88％、融点
（同上）:159〜170℃、比旋光度：▲〔α〕25 D▼156〜1
59゜（ｃ＝１、水）を示す組成物；または、（iii）Rf
値が0.30、平均メチル化率:2位53〜61％、３位38〜45
％、６位70〜77％、融点（同上）:167〜180、比旋光
度：▲〔α〕25 D▼155〜159゜（ｃ＝１、水）を示す組
成物として提供することもできる。
これらのうち、本発明の方法によれば上記（ｉ）で示さ
れる組成物が調製の容易さ収率の観点から好適なものと
いえる。
れる組成物が調製の容易さ収率の観点から好適なものと
いえる。
なお、本明細書にいう平均メチル化率は、いわゆるガス
クロマトグラフィー法、より具体的には次の方法によっ
て算出した値を用いたものである。
クロマトグラフィー法、より具体的には次の方法によっ
て算出した値を用いたものである。
メチル化率の算出方法 〔Ａ〕メチル化率測定用のサンプルの調整 １）加水分解 メチル化β−CD約100mgを水4.25mlに溶かし、トリフル
オロ酢酸0.75を加えて100℃で１晩加熱する。反応液
を減圧農食してトリフルオロ酢酸を除く。残渣に水少量
を加え再び減圧濃縮する。
オロ酢酸0.75を加えて100℃で１晩加熱する。反応液
を減圧農食してトリフルオロ酢酸を除く。残渣に水少量
を加え再び減圧濃縮する。
２）還元 濃縮残渣を水5mlに溶かし、氷水浴で冷却する。水素化
ホウ素ナトリウム0.56gを少しずつ加えた後、０℃にて
４時間撹拌する。反応後30％酢酸で過剰の水素化ホウ素
ナトリウムを分解する。20℃で１時間撹拌後、アンバー
ライト（Amberlite）IR−120B（H+form）15mlに通し、
減圧濃縮する。残渣にメタノール少量を加え、再び減圧
濃縮する。
ホウ素ナトリウム0.56gを少しずつ加えた後、０℃にて
４時間撹拌する。反応後30％酢酸で過剰の水素化ホウ素
ナトリウムを分解する。20℃で１時間撹拌後、アンバー
ライト（Amberlite）IR−120B（H+form）15mlに通し、
減圧濃縮する。残渣にメタノール少量を加え、再び減圧
濃縮する。
３）アセチル化 濃縮残渣にピリジン10ml、無水酢酸5mlを加え０℃で一
晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去は40℃
以下で行なう。残渣にクロロホルム60mlを加え、飽和食
塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。
晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去は40℃
以下で行なう。残渣にクロロホルム60mlを加え、飽和食
塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。
残渣にアセトン1mlを加えてガスクロマトグラフィー（G
C）用サンプルとする。
C）用サンプルとする。
〔Ｂ〕GC分析条件 Column:3％ECNSS−Ｍ（島津製作所）2m×3mmφ Sapport:Chromosorb W（AW−DMCS）100−120mesh Column temp:180℃ Injeetion temp:260℃ N2flow rate:22.5ml/min H2press:0.6kg/cm2 〔Ｃ〕メチル化率の算定 第１図に示したようなガスクロマトグラフィーから、各
位がメチル化されたアセチルグルコースのそれぞれの割
合を求め、例えば６位のメチル化率は６−Ｏ−メチルを
含む全てのアセチルグルコースの割合の和として算出し
た。
位がメチル化されたアセチルグルコースのそれぞれの割
合を求め、例えば６位のメチル化率は６−Ｏ−メチルを
含む全てのアセチルグルコースの割合の和として算出し
た。
上述の組成物は、以下に示す本出願の第２の発明の方法
によって有利に製造できる。
によって有利に製造できる。
即ち、β−CDとジメチル硫酸を10（重量／容量：以下単
に％で表わすときは同様の意味を表わす。）％以上の水
酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫酸をβ−CDに対し
て20倍モル当量以上反応せしめることを特徴とする上記
部分メチル化β−シクロデキストリンの製造方法によっ
て製造できる。
に％で表わすときは同様の意味を表わす。）％以上の水
酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫酸をβ−CDに対し
て20倍モル当量以上反応せしめることを特徴とする上記
部分メチル化β−シクロデキストリンの製造方法によっ
て製造できる。
なお、本製造方法における水酸化ナトリウム水溶液の濃
度は、10％以上、実質的に本反応が遂行できる濃度であ
ればその上限は制限されないが、上記主要３組成分
（（ｉ）〜（iii））のうち、（ｉ）の組成分の生成率
を高めるには、30〜40％が好適である。
度は、10％以上、実質的に本反応が遂行できる濃度であ
ればその上限は制限されないが、上記主要３組成分
（（ｉ）〜（iii））のうち、（ｉ）の組成分の生成率
を高めるには、30〜40％が好適である。
また、同様の目的を達成するにはジメチル硫酸をβ−CD
に対して、60〜130倍モル当量用いるのが望ましい。
に対して、60〜130倍モル当量用いるのが望ましい。
反応温度はβ−CDが実質的に分解しない温度であれば特
に限定されないが、約０〜10℃において行うのが望まし
い。また、反応時間は使用する水酸化ナトリウム水溶液
の濃度及び反応温度によって変動し、臨界的でないが、
約７〜20時間の範囲に選定するのがよい。
に限定されないが、約０〜10℃において行うのが望まし
い。また、反応時間は使用する水酸化ナトリウム水溶液
の濃度及び反応温度によって変動し、臨界的でないが、
約７〜20時間の範囲に選定するのがよい。
なお、反応混合物から各組成物を単離、精製する方法は
クロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭素等の炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出する場合に用い
られる有機溶媒による抽出法によるか、シリカゲル、ア
ルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロマトグラフィ
ー等によって実施することができる。
クロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭素等の炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出する場合に用い
られる有機溶媒による抽出法によるか、シリカゲル、ア
ルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロマトグラフィ
ー等によって実施することができる。
下記表−１に各種反応条件下における各部分メチル化β
−CDの生成割合を示す。
−CDの生成割合を示す。
以下に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例１ β−CD（RINGDEX−Ｂ、三楽（株）製）75.0g（6.61×10
-2モル）を、40％（wt/v）NaOH水溶液400.0ml（4.00モ
ル、β−CDの60倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜10
℃でジメチル硫酸375.5ml（3.97モル、β−CDの60倍モ
ル当量）を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応を続け
た。反応後濃アンモニア水110ml（1.63モル）を添加し
未反応のジメチル硫酸を分解し、更に６時間撹拌した。
反応液を希塩酸にて中和し、pH約６に調整した。クロロ
ホルム１を添加し、部分メチル化β−CDを抽出し、ク
ロロホルム層を水で数回洗浄した。クロロホルム層を芒
硝で乾燥後、クロロホルムを留去し残留分をエタノール
200mlに溶解し溶媒を留去した。更に水200mlを加え水溶
液とした後濃縮乾固し、部分メチル化β−CD71.1gを得
た。
-2モル）を、40％（wt/v）NaOH水溶液400.0ml（4.00モ
ル、β−CDの60倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜10
℃でジメチル硫酸375.5ml（3.97モル、β−CDの60倍モ
ル当量）を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応を続け
た。反応後濃アンモニア水110ml（1.63モル）を添加し
未反応のジメチル硫酸を分解し、更に６時間撹拌した。
反応液を希塩酸にて中和し、pH約６に調整した。クロロ
ホルム１を添加し、部分メチル化β−CDを抽出し、ク
ロロホルム層を水で数回洗浄した。クロロホルム層を芒
硝で乾燥後、クロロホルムを留去し残留分をエタノール
200mlに溶解し溶媒を留去した。更に水200mlを加え水溶
液とした後濃縮乾固し、部分メチル化β−CD71.1gを得
た。
得られた部分メチル化β−CDの比旋光度▲〔α〕25 D▼
は＋161.3゜（ｃ＝1.0、水）、融点144.5〜152.0℃、溶
解度は第２図に示す溶解度を示した。
は＋161.3゜（ｃ＝1.0、水）、融点144.5〜152.0℃、溶
解度は第２図に示す溶解度を示した。
ガスクロマトグラフィー法によるメチル化率の分析の結
果、構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそ
れぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
果、構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそ
れぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
２位 56.8％ ３位 46.4％ ６位 98.9％ 平均 67.4％ 実施例２ β−CD（RINGDEX−Ｂ、三楽（株）製）80.0g（7.05×10
-2モル）を40％（wt/v）NaOH水溶液282.0ml（2.12モ
ル、β−CDの30倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜10
℃でジメチル硫酸200.2ml（2.11モル、β−CDの30倍モ
ル当量）を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応を続け
た。反応後濃アンモニア水60ml（0.89モル）を添加し、
未反応のジメチル硫酸を分解し更に６時間撹拌した。反
応液を希塩酸にて中和し、pH約６に調整した。クロロホ
ルム800mlで部分メチル化β−CDを抽出し、クロロホル
ム層を水で数回洗浄した。クロロホルム層を芒硝で乾燥
後クロロホルムを留去し、残留分をエタノール200mlに
溶解し溶媒を留去した。更に水200mlを加え水溶液とし
た後濃縮乾固し、部分メチル化β−CD80.4gを得た。
-2モル）を40％（wt/v）NaOH水溶液282.0ml（2.12モ
ル、β−CDの30倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜10
℃でジメチル硫酸200.2ml（2.11モル、β−CDの30倍モ
ル当量）を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応を続け
た。反応後濃アンモニア水60ml（0.89モル）を添加し、
未反応のジメチル硫酸を分解し更に６時間撹拌した。反
応液を希塩酸にて中和し、pH約６に調整した。クロロホ
ルム800mlで部分メチル化β−CDを抽出し、クロロホル
ム層を水で数回洗浄した。クロロホルム層を芒硝で乾燥
後クロロホルムを留去し、残留分をエタノール200mlに
溶解し溶媒を留去した。更に水200mlを加え水溶液とし
た後濃縮乾固し、部分メチル化β−CD80.4gを得た。
得られた部分メチル化β−CDの比旋光度▲〔α〕25 D▼
は＋159.7゜（ｃ＝1.0、水）、融点149.4〜158.3℃、ガ
スクロマトグラフィー法によるメチル化率の分析の結
果、構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそ
れぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
は＋159.7゜（ｃ＝1.0、水）、融点149.4〜158.3℃、ガ
スクロマトグラフィー法によるメチル化率の分析の結
果、構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそ
れぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
２位 54.1％ ３位 43.5％ ６位 88.6％ 平均 62.1％ 得られた部分メチル化β−CDの混合物420mgを取り、少
量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカゲル薄
層クロマトグラフィー（Merck社製、Art5744、20×20cm
×15枚）にスポットしクロロホルム−メタノール展開系
において精製分離し、構成する主３成分を得た。得られ
た３成分の収得量及び物性値は以下に示す値であった。
各成分のメチル化分析はガスクロマトグラフィー法によ
った。
量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカゲル薄
層クロマトグラフィー（Merck社製、Art5744、20×20cm
×15枚）にスポットしクロロホルム−メタノール展開系
において精製分離し、構成する主３成分を得た。得られ
た３成分の収得量及び物性値は以下に示す値であった。
各成分のメチル化分析はガスクロマトグラフィー法によ
った。
構成成分１ 収得量220mg、Rf値0.55（但し、展開溶媒系クロロホル
ム−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋160.1゜
（ｃ＝1.0、水）、融点152.5〜160.0℃、溶解度133g/10
0ml水（25℃）、メチル化率（位置は構成グルコース単
位の水酸基） ２位 55.6％ ３位 45.7％ ６位 100％ 平均 67.1％ 構成成分２ 収得量97mg、Rf値0.42（但し、展開溶媒系クロロホルム
−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋158.2゜
（ｃ＝1.0、水）、融点161.5〜167.0℃、メチル化率
（位置は構成グルコース単位の水酸基） ２位 55.6％ ３位 42.7％ ６位 87.5％ 平均 61.9％ 構成成分３ 収得量28mg、Rf値0.30（但し、展開溶媒系クロロホルム
−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋158.2゜
（ｃ＝1.0、水）、融点167.0〜173.5℃、メチル化率
（位置は構成グルコース単位の水酸基） ２位 52.8％ ３位 40.6％ ６位 77.4％ 平均 56.9％ 実施例３ β−CD（RINGDEX−Ｂ、三楽（株）製）250.0g（2.20×1
0-1モル）を40％（wt/v）NaOH水溶液2860ml（28.6モ
ル、β−CDの130倍モル当量）に溶解し反応温度０〜15
℃でジメチル硫酸2700ml（28.6モル、β−CDの130倍モ
ル当量）を約10時間かけて滴下し、更に15時間撹拌下反
応を続けた。反応後濃アンモニア水794ml（11.8モル）
を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に一夜放置
した。反応液を希塩酸にて中和しpH約６に調整した。ク
ロロホルム8.7でメチル化β−CDを抽出した。クロロ
ホルム層を水で洗浄し、芒硝で乾燥後クロロホルムを留
去した。残留分をエタノール1.5に溶解した後溶媒を
留去した。更に水２を加え、水溶液とした後５μｍの
ミリポアフィルターで過後凍結乾燥し、メチル化β−
CD261.4gを得た。
ム−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋160.1゜
（ｃ＝1.0、水）、融点152.5〜160.0℃、溶解度133g/10
0ml水（25℃）、メチル化率（位置は構成グルコース単
位の水酸基） ２位 55.6％ ３位 45.7％ ６位 100％ 平均 67.1％ 構成成分２ 収得量97mg、Rf値0.42（但し、展開溶媒系クロロホルム
−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋158.2゜
（ｃ＝1.0、水）、融点161.5〜167.0℃、メチル化率
（位置は構成グルコース単位の水酸基） ２位 55.6％ ３位 42.7％ ６位 87.5％ 平均 61.9％ 構成成分３ 収得量28mg、Rf値0.30（但し、展開溶媒系クロロホルム
−メタノール（9:1））、▲〔α〕25 D▼：＋158.2゜
（ｃ＝1.0、水）、融点167.0〜173.5℃、メチル化率
（位置は構成グルコース単位の水酸基） ２位 52.8％ ３位 40.6％ ６位 77.4％ 平均 56.9％ 実施例３ β−CD（RINGDEX−Ｂ、三楽（株）製）250.0g（2.20×1
0-1モル）を40％（wt/v）NaOH水溶液2860ml（28.6モ
ル、β−CDの130倍モル当量）に溶解し反応温度０〜15
℃でジメチル硫酸2700ml（28.6モル、β−CDの130倍モ
ル当量）を約10時間かけて滴下し、更に15時間撹拌下反
応を続けた。反応後濃アンモニア水794ml（11.8モル）
を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に一夜放置
した。反応液を希塩酸にて中和しpH約６に調整した。ク
ロロホルム8.7でメチル化β−CDを抽出した。クロロ
ホルム層を水で洗浄し、芒硝で乾燥後クロロホルムを留
去した。残留分をエタノール1.5に溶解した後溶媒を
留去した。更に水２を加え、水溶液とした後５μｍの
ミリポアフィルターで過後凍結乾燥し、メチル化β−
CD261.4gを得た。
得られたメチル化β−CDの比旋光度▲〔α〕25 D▼は＋1
60.1゜（ｃ＝1.0、水）、融点143.0〜152.0℃、溶解度
は図に示す溶解度を示した。
60.1゜（ｃ＝1.0、水）、融点143.0〜152.0℃、溶解度
は図に示す溶解度を示した。
ガスクロマトグラフィー法によるメチル化率の分析の結
果構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそれ
ぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
果構成する全グルコースの単位グルコースにおけるそれ
ぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の割合であっ
た。
２位 61.4％ ３位 49.3％ ６位 100％ 平均 70.2％ 作用・効果 まず、第１の発明である部分メチル化CDの作用・効果
は、第２図より明らかなごとく、CD自体またはその公知
メチル化CDに比し、水に対して数倍の溶解性を示し、殊
に特徴的なのは、公知のメチル化CDが温度の上昇につれ
て、その溶解性が低下するのに対し、本発明による部分
メチル化CDは逆に向上するという特性を有することであ
る。
は、第２図より明らかなごとく、CD自体またはその公知
メチル化CDに比し、水に対して数倍の溶解性を示し、殊
に特徴的なのは、公知のメチル化CDが温度の上昇につれ
て、その溶解性が低下するのに対し、本発明による部分
メチル化CDは逆に向上するという特性を有することであ
る。
このことは、本発明による部分メチル化CDが広範な使用
条件での応用を可能にしたことを窮わせるものである。
条件での応用を可能にしたことを窮わせるものである。
次に、第２の本発明は、この発明の属する技術分野にお
いて常識を脱したメチル化剤及び反応促進剤としてのア
ルカリ金属水酸化物を用いる部分メチル化CDの製造方法
であるが、これによってCDを構成する全グルコースの単
位の３位水酸基のメチル化率を一定の割合に調整できる
とともに、収率よく目的の化合物を製造することが出来
る効果がある。
いて常識を脱したメチル化剤及び反応促進剤としてのア
ルカリ金属水酸化物を用いる部分メチル化CDの製造方法
であるが、これによってCDを構成する全グルコースの単
位の３位水酸基のメチル化率を一定の割合に調整できる
とともに、収率よく目的の化合物を製造することが出来
る効果がある。
第１図は、Rf値が0.55である本発明の組成物に由来する
ガスクロマトグラフを表わす。第２図は、本発明の部分
メチル化CD混合物、原料β−CD、並びに公知メチル化CD
であるヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−CD及
びヘプタキス−（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CDの
各温度における水に対する溶解性を示したものである。 なお図中、 △：β−CD ○：ヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−CD ▲：ヘプタキス−（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CD ●：本発明の部分メチル化β−CD組成分（ｉ） を表わす。
ガスクロマトグラフを表わす。第２図は、本発明の部分
メチル化CD混合物、原料β−CD、並びに公知メチル化CD
であるヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−CD及
びヘプタキス−（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CDの
各温度における水に対する溶解性を示したものである。 なお図中、 △：β−CD ○：ヘプタキス−（2,6−ジ−Ｏ−メチル）β−CD ▲：ヘプタキス−（2,3,6−トリ−Ｏ−メチル）β−CD ●：本発明の部分メチル化β−CD組成分（ｉ） を表わす。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 弘實 謙二
Claims (6)
- 【請求項１】シクロデキストリンを構成する全グルコー
スにおける単位グルコース各位の水酸基の平均メチル化
率が、 ２位：約53〜64％ ３位：約38〜51％ ６位：約70〜100％ の値を示す部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物。 - 【請求項２】下記Ａ）〜Ｃ）の理化学的性質 Ａ）平均メチル化率 ２位:55〜64％ ３位:43〜51％ ６位:99〜100％ Ｂ）融点（キャピラリー法） 142〜161℃ Ｃ）比旋光度 ▲〔α〕25 D▼:158〜162゜（ｃ＝1,水） を示し、かつ、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝9/1）にて、単一
スポットを与える組成物を主成分とする特許請求の範囲
第１項記載の部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物。 - 【請求項３】下記Ａ）〜Ｃ）の理化学的性質 Ａ）平均メチル化率 ２位:55〜60％ ３位:39〜45％ ６位:86〜88％ Ｂ）融点（キャピラリー法） 159〜170℃ Ｃ）比旋光度 ▲〔α〕25 D▼:156〜159゜（ｃ＝1,水） を示し、かつ、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝9/1）にて、単一
スポットを与える組成物を主成分とする特許請求の範囲
第１項記載の部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物。 - 【請求項４】下記Ａ）〜Ｃ）の理化学的性質 Ａ）平均メチル化率 ２位:53〜61％ ３位:38〜45％ ６位:70〜77％ Ｂ）融点（キャピラリー法） 167〜180℃ Ｃ）比旋光度 ▲〔α〕25 D▼:167〜180゜（ｃ＝1,水） を示し、かつ、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝9/1）にて、単一
スポットを与える組成物を主成分とする特許請求の範囲
第１項記載の部分メチル化β−シクロデキストリン組成
物。 - 【請求項５】β−シクロデキストリンとジメチル硫酸を
10（重量／容量）％以上の濃度の水酸化ナトリウム水溶
液中、ジメチル硫酸をβ−シクロデキストリンに対し
て、20倍モル当量以上反応せしめることを特徴とするシ
クロデキストリンを構成する全グルコースにおける各位
の水酸基の平均メチル化率が、 ２位：約53〜64％ ３位：約38〜51％ ６位：約70〜100％ の値を示す部分メチル化β−シクロデキストリン組成物
の製造方法。 - 【請求項６】水酸化ナトリウム水溶液の濃度が、30〜40
（重量／容量）％、かつ、ジメチル硫酸をβ−シクロデ
キストリンに対して、60〜130倍モル当量用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の部分メチル化β
−シクロデキストリン組成物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61185177A JPH0717686B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61185177A JPH0717686B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6510796A Division JP2643105B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
| JP6511196A Division JP2643107B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
| JP6510996A Division JP2643106B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341505A JPS6341505A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0717686B2 true JPH0717686B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=16166183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61185177A Expired - Lifetime JPH0717686B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717686B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3201411B2 (ja) * | 1990-06-15 | 2001-08-20 | メルシャン株式会社 | ビタミンｄ類の生物学的製造方法 |
| DE4333598A1 (de) * | 1993-10-01 | 1995-04-06 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung von alkylierten Cyclodextrin-Derivaten, nach dem Verfahren herstellbare methylierte Cyclodextrin-Derivate und die Verwendung der Produkte |
| CN112062877B (zh) * | 2020-06-09 | 2021-05-25 | 北京博诺安科科技有限公司 | 一种甲基化-β-环糊精及其制备、表征方法和应用 |
| CN117683154B (zh) * | 2024-01-31 | 2024-04-05 | 淄博千汇生物科技有限公司 | 低取代度甲基-β-环糊精的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4542211A (en) * | 1983-03-11 | 1985-09-17 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Process for the manufacture of heptakis-[2,6-di-O-methyl]-beta-cyclodextrin |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP61185177A patent/JPH0717686B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4542211A (en) * | 1983-03-11 | 1985-09-17 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Process for the manufacture of heptakis-[2,6-di-O-methyl]-beta-cyclodextrin |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6341505A (ja) | 1988-02-22 |
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