JP2643106B2 - 部分メチル化シクロデキストリン - Google Patents
部分メチル化シクロデキストリンInfo
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水に対する溶解性
が高められた部分メチル化シクロデキストリンに関する
ものである。
が高められた部分メチル化シクロデキストリンに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】シクロデキストリン(以下「CD」と略
記する場合あり)のメチル化物としては、ヘキサキス−
(2,6−ジ−O−メチル)α−CD、ヘプタキス−
(2,6−ジ−O−メチル)β−CD、ヘプタキス(2,
3,6−トリ−O−メチル)β−CDが、またこれらの
製造方法としてはCDをN,N−ジメチルホルムアミド
(以下「DMF」という)、ジメチルスルホキシド(以
下「DMSO」という)等の有機溶媒中で酸化バリウム
及び/又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤として
ジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめるか、
水溶液中でCDに対して15〜40倍モル当量のNaO
Hの存在下、同9〜30倍モル当量のジメチル硫酸を反
応せしめる方法が知られている(例えば Chemical Abst
ract 98、108頁(1983);Starch/Staerke 3
2,Nr,5,165〜169頁(1980)等)。
記する場合あり)のメチル化物としては、ヘキサキス−
(2,6−ジ−O−メチル)α−CD、ヘプタキス−
(2,6−ジ−O−メチル)β−CD、ヘプタキス(2,
3,6−トリ−O−メチル)β−CDが、またこれらの
製造方法としてはCDをN,N−ジメチルホルムアミド
(以下「DMF」という)、ジメチルスルホキシド(以
下「DMSO」という)等の有機溶媒中で酸化バリウム
及び/又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤として
ジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめるか、
水溶液中でCDに対して15〜40倍モル当量のNaO
Hの存在下、同9〜30倍モル当量のジメチル硫酸を反
応せしめる方法が知られている(例えば Chemical Abst
ract 98、108頁(1983);Starch/Staerke 3
2,Nr,5,165〜169頁(1980)等)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】CDはグルコース単位
がα−1,4結合で環状に数個つながったオリゴ糖であ
って、各種の有機化合物を包接するホスト分子として、
医薬品、農薬、食品、香料、化粧品または浴剤等の分野
で用いられている。
がα−1,4結合で環状に数個つながったオリゴ糖であ
って、各種の有機化合物を包接するホスト分子として、
医薬品、農薬、食品、香料、化粧品または浴剤等の分野
で用いられている。
【0004】しかし、CDは水に溶けにくいばかりでな
く、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性も悪いた
め、上述の分野での普遍的な応用を妨げていた。就中包
接対象の広いβ−CD(グルコース単位が7個)の水溶
性は低く、使用濃度が制限される欠点があった。
く、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性も悪いた
め、上述の分野での普遍的な応用を妨げていた。就中包
接対象の広いβ−CD(グルコース単位が7個)の水溶
性は低く、使用濃度が制限される欠点があった。
【0005】一方、上述の公知メチル化CDは、主にそ
の分子構造研究上の興味より調製されたものであって後
述する如く、水に対して一応の溶解性の改善がなされて
いるが、温度が高くなるにつれその溶解度が低下し、依
然上記欠点が解消したものとはいえない。
の分子構造研究上の興味より調製されたものであって後
述する如く、水に対して一応の溶解性の改善がなされて
いるが、温度が高くなるにつれその溶解度が低下し、依
然上記欠点が解消したものとはいえない。
【0006】なお、上述のいわゆる完全メチル化CD、
例えばヘプタキス−(2,3,6−O−メチル)β−CD
等を製造する際に部分メチル化CDの生成も知られてい
るが、それらが如何なる理化学的性質を示すものである
かは明瞭でない(例えば、西ドイツ国特許出願公開第3
118218号公報参照)。
例えばヘプタキス−(2,3,6−O−メチル)β−CD
等を製造する際に部分メチル化CDの生成も知られてい
るが、それらが如何なる理化学的性質を示すものである
かは明瞭でない(例えば、西ドイツ国特許出願公開第3
118218号公報参照)。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、β−CDが
同数のグルコース単位よりなる他の鎖状オリゴ糖に比
し、各種溶媒に対する溶解性が劣るのは、その特異な分
子構造にあることに着目し、上記公知メチル化β−CD
の分子構造の対称性を崩すべく各種の部分メチル化β−
CDについて検討した。
同数のグルコース単位よりなる他の鎖状オリゴ糖に比
し、各種溶媒に対する溶解性が劣るのは、その特異な分
子構造にあることに着目し、上記公知メチル化β−CD
の分子構造の対称性を崩すべく各種の部分メチル化β−
CDについて検討した。
【0008】その結果、β−CDを異常に高濃度の水酸
化ナトリウム水溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化
剤として反応せしめると、CD構成グルコースの2及び
3位水酸基の完全メチル化を伴うことなくそれらのメチ
ル化率を調整し得ることを見い出した。また、かくして
得られる特定のメチル化率を有する部分メチル化組成物
は、上述の完全メチル化β−CD等に比し、驚くべく水
溶性が向上することを見い出し本発明を完成した。こう
して得られる組成物は、単位グルコース各位の水酸基の
平均メチル化率が、 2位:約53〜64% 3位:約38〜51% 6位:約70〜100% の値を示す各種部分メチル化β−シクロデキストリンの
混合物である。
化ナトリウム水溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化
剤として反応せしめると、CD構成グルコースの2及び
3位水酸基の完全メチル化を伴うことなくそれらのメチ
ル化率を調整し得ることを見い出した。また、かくして
得られる特定のメチル化率を有する部分メチル化組成物
は、上述の完全メチル化β−CD等に比し、驚くべく水
溶性が向上することを見い出し本発明を完成した。こう
して得られる組成物は、単位グルコース各位の水酸基の
平均メチル化率が、 2位:約53〜64% 3位:約38〜51% 6位:約70〜100% の値を示す各種部分メチル化β−シクロデキストリンの
混合物である。
【0009】部分メチル化β−CD組成物は下記式
【0010】
【化1】
【0011】式中、Rは水素原子又はメチル基を表わ
す、で示される部分メチル化β−シクロデキストリンの
各位の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
す、で示される部分メチル化β−シクロデキストリンの
各位の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
【0012】該組成物は、シリカゲル薄層グロマトグラ
フィー(展開溶媒:クロロホルム/メタノール=9/
1)にかけたとき、主成分として、Rf値が約0.5
5、同0.42、同0.30を示す成分の混合物として得
られ、各成分は適当な分離手段により単離できる。なお
Rf値は一般的な糖誘導体と同様に、操作条件によって
若干の変動を示す。
フィー(展開溶媒:クロロホルム/メタノール=9/
1)にかけたとき、主成分として、Rf値が約0.5
5、同0.42、同0.30を示す成分の混合物として得
られ、各成分は適当な分離手段により単離できる。なお
Rf値は一般的な糖誘導体と同様に、操作条件によって
若干の変動を示す。
【0013】かかる部分メチル化β−CDは混合物それ
自体で各種難水溶性化合物の可溶、包接化剤として有用
であるが、より統一した規格が求められる技術分野への
用途を考慮すると、必要により、それぞれのRf値を示
す個々の成分に分離して用いることが好ましい。
自体で各種難水溶性化合物の可溶、包接化剤として有用
であるが、より統一した規格が求められる技術分野への
用途を考慮すると、必要により、それぞれのRf値を示
す個々の成分に分離して用いることが好ましい。
【0014】従って、本発明によれば、(A) シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー[薄層:Merck 社製、Art
5744;展開溶媒系:クロロホルム−メタノール
(9:1)]にて、Rf値が0.42であり、そして
(B) 前処理後のガスクロマトグラフィー法により算
定したメチル化率は、構成グルコース単位の各水酸基に
ついて、それぞれ2位が55.6%、3位が42.7%、
6位が87.5%である、ことを特徴とする部分メチル
化−β−シクロデキストリンが提供される。
ゲル薄層クロマトグラフィー[薄層:Merck 社製、Art
5744;展開溶媒系:クロロホルム−メタノール
(9:1)]にて、Rf値が0.42であり、そして
(B) 前処理後のガスクロマトグラフィー法により算
定したメチル化率は、構成グルコース単位の各水酸基に
ついて、それぞれ2位が55.6%、3位が42.7%、
6位が87.5%である、ことを特徴とする部分メチル
化−β−シクロデキストリンが提供される。
【0015】前記本発明にいう「前処理後のガスクロマ
トグラフィー法」は、詳細には後述する方法を意味す
る。すなわち、より具体的には次の方法によって算出し
た値を用いたものである。
トグラフィー法」は、詳細には後述する方法を意味す
る。すなわち、より具体的には次の方法によって算出し
た値を用いたものである。
【0016】メチル化率の算出方法 [A] メチル化率測定用のサンプルの調整 1) 加水分解 メチル化β−CD約100mgを水4.25mlに溶か
し、トリフルオロ酢酸0.75mlを加えて100℃で
1晩加熱する。反応液を減圧濃縮してトリフルオロ酢酸
を除く。残渣に水少量を加え再び減圧濃縮する。
し、トリフルオロ酢酸0.75mlを加えて100℃で
1晩加熱する。反応液を減圧濃縮してトリフルオロ酢酸
を除く。残渣に水少量を加え再び減圧濃縮する。
【0017】2) 還元 濃縮残渣を水5mlに溶かし、氷水浴で冷却する。水素
化ホウ素ナトリウム0.56gを少しずつ加えた後、0
℃にて4時間撹拌する。反応後30%酢酸で過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。20℃で1時間撹拌
後、アンバーライト(Amberlite)IR−120B(H+f
orm)15mlに通し、減圧濃縮する。残渣にメタノー
ル少量を加え、再び減圧濃縮する。
化ホウ素ナトリウム0.56gを少しずつ加えた後、0
℃にて4時間撹拌する。反応後30%酢酸で過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。20℃で1時間撹拌
後、アンバーライト(Amberlite)IR−120B(H+f
orm)15mlに通し、減圧濃縮する。残渣にメタノー
ル少量を加え、再び減圧濃縮する。
【0018】3) アセチル化 濃縮残渣にピリジン10ml、無水酢酸5mlを加え0
℃で一晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去
は40℃以下で行なう。残渣にクロロホルム60mlを
加え、飽和食塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮する。残渣にアセトン1mlを加えてガスクロ
マトグラフィー(GC)用サンプルとする。
℃で一晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去
は40℃以下で行なう。残渣にクロロホルム60mlを
加え、飽和食塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮する。残渣にアセトン1mlを加えてガスクロ
マトグラフィー(GC)用サンプルとする。
【0019】[B] GC分析条件 Column:3%ECNSS−M(島津製作所)2m×3m
mφ Support:Chromosorb W(AW−DMCS)100−1
20mesh Column temp:180℃ Injection temp:260℃ N2 flow rate:22.5ml/min H2 press:0.6kg/cm2 [C] メチル化率の算定 第1図に示したようなガスクロマトグラフィーの結果に
基づいて、各位がメチル化されたアセチルグルコースの
それぞれの割合を求め、例えば6位のメチル化率は6−
O−メチルを含む全てのアセチルグルコースの割合の和
として算出した。
mφ Support:Chromosorb W(AW−DMCS)100−1
20mesh Column temp:180℃ Injection temp:260℃ N2 flow rate:22.5ml/min H2 press:0.6kg/cm2 [C] メチル化率の算定 第1図に示したようなガスクロマトグラフィーの結果に
基づいて、各位がメチル化されたアセチルグルコースの
それぞれの割合を求め、例えば6位のメチル化率は6−
O−メチルを含む全てのアセチルグルコースの割合の和
として算出した。
【0020】本発明の部分メチル化−β−シクロデキス
トリンは、以下に示す方法によって得られた生成物から
適当な手段で単離することにより製造できる。
トリンは、以下に示す方法によって得られた生成物から
適当な手段で単離することにより製造できる。
【0021】即ち、β−CDとジメチル硫酸を10(重
量/容量:以下単に%で表わすときは同様の意味を表わ
す。)%以上の水酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫
酸をβ−CDに対して20倍モル当量以上反応せしめる
ことにより種々の部分メチル化β−CDが得られる。
量/容量:以下単に%で表わすときは同様の意味を表わ
す。)%以上の水酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫
酸をβ−CDに対して20倍モル当量以上反応せしめる
ことにより種々の部分メチル化β−CDが得られる。
【0022】こうして得られる生成物は、一般に(i)
Rf値が0.55を示すものであって、平均メチル化率
が:2位55〜64%、3位43〜51%、6位99〜
100%であり、融点(キャピラリー法):142〜1
61℃、かつ、比旋光度:[α]25 D 158〜162°
(c=1、水)を示す部分メチル化−β−CD混合組成
物;(ii)Rf値が0.42、平均メチル化率:2位
55〜60%、3位39〜45%、6位86〜88%、
融点(同上):159〜170℃、比旋光度:[α]25
D 156〜159°(c=1、水)を示す部分メチル化
−β−CD混合組成物;または、(iii)Rf値が
0.30、平均メチル化率:2位53〜61%、3位3
8〜45%、6位70〜77%、融点(同上):167
〜180、比旋光度:[α]25 D 155〜159°(c
=1、水)を示す部分メチル化−β−CD混合組成物、
を主とするものである。
Rf値が0.55を示すものであって、平均メチル化率
が:2位55〜64%、3位43〜51%、6位99〜
100%であり、融点(キャピラリー法):142〜1
61℃、かつ、比旋光度:[α]25 D 158〜162°
(c=1、水)を示す部分メチル化−β−CD混合組成
物;(ii)Rf値が0.42、平均メチル化率:2位
55〜60%、3位39〜45%、6位86〜88%、
融点(同上):159〜170℃、比旋光度:[α]25
D 156〜159°(c=1、水)を示す部分メチル化
−β−CD混合組成物;または、(iii)Rf値が
0.30、平均メチル化率:2位53〜61%、3位3
8〜45%、6位70〜77%、融点(同上):167
〜180、比旋光度:[α]25 D 155〜159°(c
=1、水)を示す部分メチル化−β−CD混合組成物、
を主とするものである。
【0023】上記方法における水酸化ナトリウム水溶液
の濃度は、10%以上、実質的に本反応が遂行できる濃
度であればその上限は制限されないが、上記主要3組成
分((i)〜(iii)のうち、(i)の組成分の生成
率を高めるには、30〜40%が好適である。
の濃度は、10%以上、実質的に本反応が遂行できる濃
度であればその上限は制限されないが、上記主要3組成
分((i)〜(iii)のうち、(i)の組成分の生成
率を高めるには、30〜40%が好適である。
【0024】また、同様の目的を達成するにはジメチル
硫酸をβ−CDに対して、60〜130倍モル当量用い
るのが望ましい。
硫酸をβ−CDに対して、60〜130倍モル当量用い
るのが望ましい。
【0025】反応温度はβ−CDが実質的に分解しない
温度であれば特に限定されないが、約0〜10℃におい
て行うのが望ましい。また、反応時間は使用する水酸化
ナトリウム水溶液の濃度及び反応温度によって変動し、
臨界的でないが、約7〜20時間の範囲に選定するのが
よい。
温度であれば特に限定されないが、約0〜10℃におい
て行うのが望ましい。また、反応時間は使用する水酸化
ナトリウム水溶液の濃度及び反応温度によって変動し、
臨界的でないが、約7〜20時間の範囲に選定するのが
よい。
【0026】なお、反応混合物から目的成分を単離、精
製する方法はクロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭
素等の炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出す
る場合に用いられる有機溶媒による抽出法によるか、シ
リカゲル、アルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロ
マトグラフィー等によって実施することができる。
製する方法はクロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭
素等の炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出す
る場合に用いられる有機溶媒による抽出法によるか、シ
リカゲル、アルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロ
マトグラフィー等によって実施することができる。
【0027】下記表−1に各種反応条件下における各部
分メチル化β−CDの生成割合を示す。
分メチル化β−CDの生成割合を示す。
【0028】 表−1 NaOH濃度 (CH3)2SO4量 反応温度 生成物組成(%)*(%,w/v) (当量:対β-CD) (℃) 0.55 0.42 0.30 10 20 0〜 5 7.3 20.7 34.9 20 20 -10〜 0 3.1 14.1 34.9 30 20 0〜10 17.5 33.1 31.8 40 20 0〜10 36.5 33.5 22.2 10 30 0〜 5 16.7 23.1 28.1 30 30 0〜10 47.2 36.8 13.5 40 30 0〜10 66.6 26.9 5.5 40 40 0〜10 85.0 13.4 1.4 40 60 0〜10 92.4 7.0 0.6 40 100 0〜10 98.5 1.5 - 10 130 0〜 5 29.6 40.0 22.3 20 130 0〜10 76.2 20.6 3.0 30 130 0〜10 95.5 4.1 0.4 40 130 0〜10 98.7 1.3 - * サンプルは反応液よりCHCl3抽出したものをシリカゲルTLC(展開系 :CHCl3−MeOH=9:1)で展開し、硫酸発色した後、各Rf値のスポ ットをクロマトスキャナーで測定した相対値。
【0029】
【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【0030】参考例1 β−CD(RINGDEX−B、メルシャン(株)製)75.0
g(6.61×10-2モル)を、40%(wt/v)N
aOH水溶液400.0ml(4.00モル、β−CDの
60倍モル当量)に溶解し、反応温度0〜10℃でジメ
チル硫酸375.5ml(3.97モル、β−CDの60
倍モル当量)を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水110ml(1.63
モル)を添加し未反応のジメチル硫酸を分解し、更に6
時間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、pH約6に
調整した。クロロホルム1lを添加し、部分メチル化β
−CDを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。
クロロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し
残留分をエタノール200mlに溶解し溶媒を留去し
た。更に水200mlを加え水溶液とした後濃縮乾固
し、部分メチル化β−CD71.1gを得た。
g(6.61×10-2モル)を、40%(wt/v)N
aOH水溶液400.0ml(4.00モル、β−CDの
60倍モル当量)に溶解し、反応温度0〜10℃でジメ
チル硫酸375.5ml(3.97モル、β−CDの60
倍モル当量)を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水110ml(1.63
モル)を添加し未反応のジメチル硫酸を分解し、更に6
時間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、pH約6に
調整した。クロロホルム1lを添加し、部分メチル化β
−CDを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。
クロロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し
残留分をエタノール200mlに溶解し溶媒を留去し
た。更に水200mlを加え水溶液とした後濃縮乾固
し、部分メチル化β−CD71.1gを得た。
【0031】得られた部分メチル化β−CDの比旋光度
[α]25 D は+161.3°(c=1.0、水)、融点1
44.5〜152.0℃、溶解度は第2図に示す溶解度を
示した。
[α]25 D は+161.3°(c=1.0、水)、融点1
44.5〜152.0℃、溶解度は第2図に示す溶解度を
示した。
【0032】ガスクロマトグラフィー法によるメチル化
率の分析の結果、構成する全グルコースの単位グルコー
スにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記
の割合であった。
率の分析の結果、構成する全グルコースの単位グルコー
スにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記
の割合であった。
【0033】2位 56.8% 3位 46.4% 6位 98.9% 平均 67.4% 実施例 β−CD(RINGDEX−B、メルシャン(株)製)80.0
g(7.05×10-2モル)を、40%(wt/v)N
aOH水溶液282.0ml(2.12モル、β−CDの
30倍モル当量)に溶解し、反応温度0〜10℃でジメ
チル硫酸200.2ml(2.11モル、β−CDの30
倍モル当量)を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水60ml(0.89モ
ル)を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に6時
間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、pH約6に調
整した。クロロホルム800mlで部分メチル化β−C
Dを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。クロ
ロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し、残
留分をエタノール200mlに溶解し溶媒を留去した。
更に水200mlを加え水溶液とした後濃縮乾固し、部
分メチル化β−CD80.4gを得た。
g(7.05×10-2モル)を、40%(wt/v)N
aOH水溶液282.0ml(2.12モル、β−CDの
30倍モル当量)に溶解し、反応温度0〜10℃でジメ
チル硫酸200.2ml(2.11モル、β−CDの30
倍モル当量)を徐々に滴下し、更に15時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水60ml(0.89モ
ル)を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に6時
間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、pH約6に調
整した。クロロホルム800mlで部分メチル化β−C
Dを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。クロ
ロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し、残
留分をエタノール200mlに溶解し溶媒を留去した。
更に水200mlを加え水溶液とした後濃縮乾固し、部
分メチル化β−CD80.4gを得た。
【0034】得られた部分メチル化β−CDの比旋光度
[α]25 D は+159.7°(c=1.0、水)、融点1
49.4〜158.3℃、ガスクロマトグラフィー法によ
るメチル化率の分析の結果、構成する全グルコースの単
位グルコースにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル
化率は下記の割合であった。
[α]25 D は+159.7°(c=1.0、水)、融点1
49.4〜158.3℃、ガスクロマトグラフィー法によ
るメチル化率の分析の結果、構成する全グルコースの単
位グルコースにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル
化率は下記の割合であった。
【0035】2位 54.1% 3位 43.5% 6位 88.6% 平均 62.1% 得られた部分メチル化β−CDの混合物420mgを取
り、少量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー(Merck 社製、Art 574
4、20×20cm×15枚)にスポットしクロロホル
ム−メタノール展開系において精製分離し、構成する主
3成分を得た。得られた3成分の収得量及び物性値は以
下に示す値であった。各成分のメチル化分析はガスクロ
マトグラフィー法によった。
り、少量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー(Merck 社製、Art 574
4、20×20cm×15枚)にスポットしクロロホル
ム−メタノール展開系において精製分離し、構成する主
3成分を得た。得られた3成分の収得量及び物性値は以
下に示す値であった。各成分のメチル化分析はガスクロ
マトグラフィー法によった。
【0036】構成成分1 収得量220mg、Rf値0.55(但し、展開溶媒系
クロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :
+160.1°(c=1.0、水)、融点152.5〜1
60.0℃、溶解度133g/100ml水(25
℃)、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水酸
基) 2位 55.6% 3位 45.7% 6位 100% 平均 67.1% 構成成分2 収得量97mg、Rf値0.42(但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :+
158.2°(c=1.0、水)、融点161.5〜16
7.0℃、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水
酸基) 2位 55.6% 3位 42.7% 6位 87.5% 平均 61.9% 構成成分3 収得量28mg、Rf値0.30(但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :+
158.2°(c=1.0、水)、融点167.0〜17
3.5℃、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水
酸基) 2位 52.8% 3位 40.6% 6位 77.4% 平均 56.9% 参考例2 β−CD(RINGDEX−B、メルシャン(株)製)250.
0g(2.20×10-1モル)を、40%(wt/v)
NaOH水溶液2860ml(28.6モル、β−CD
の130倍モル当量)に溶解し反応温度0〜15℃でジ
メチル硫酸2700ml(28.6モル、β−CDの1
30倍モル当量)を約10時間かけて滴下し、更に15
時間撹拌下反応を続けた。反応後濃アンモニア水794
ml(11.8モル)を添加し、未反応のジメチル硫酸
を分解し更に一夜放置した。反応液を希塩酸にて中和し
pH約6に調整した。クロロホルム8.7lでメチル化
β−CDを抽出した。クロロホルム層を水で洗浄し、芒
硝で乾燥後クロロホルムを留去した。残留分をエタノー
ル1.5lに溶解した後溶媒を留去した。更に水2lを
加え、水溶液とした後5μmのミリポアフィルターで濾
過後凍結乾燥し、メチル化β−CD261.4gを得
た。
クロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :
+160.1°(c=1.0、水)、融点152.5〜1
60.0℃、溶解度133g/100ml水(25
℃)、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水酸
基) 2位 55.6% 3位 45.7% 6位 100% 平均 67.1% 構成成分2 収得量97mg、Rf値0.42(但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :+
158.2°(c=1.0、水)、融点161.5〜16
7.0℃、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水
酸基) 2位 55.6% 3位 42.7% 6位 87.5% 平均 61.9% 構成成分3 収得量28mg、Rf値0.30(但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール(9:1))、[α]25 D :+
158.2°(c=1.0、水)、融点167.0〜17
3.5℃、メチル化率(位置は構成グルコース単位の水
酸基) 2位 52.8% 3位 40.6% 6位 77.4% 平均 56.9% 参考例2 β−CD(RINGDEX−B、メルシャン(株)製)250.
0g(2.20×10-1モル)を、40%(wt/v)
NaOH水溶液2860ml(28.6モル、β−CD
の130倍モル当量)に溶解し反応温度0〜15℃でジ
メチル硫酸2700ml(28.6モル、β−CDの1
30倍モル当量)を約10時間かけて滴下し、更に15
時間撹拌下反応を続けた。反応後濃アンモニア水794
ml(11.8モル)を添加し、未反応のジメチル硫酸
を分解し更に一夜放置した。反応液を希塩酸にて中和し
pH約6に調整した。クロロホルム8.7lでメチル化
β−CDを抽出した。クロロホルム層を水で洗浄し、芒
硝で乾燥後クロロホルムを留去した。残留分をエタノー
ル1.5lに溶解した後溶媒を留去した。更に水2lを
加え、水溶液とした後5μmのミリポアフィルターで濾
過後凍結乾燥し、メチル化β−CD261.4gを得
た。
【0037】得られたメチル化β−CDの比旋光度
〔α〕25 D は+160.1°(c=1.0、水)、融点1
43.0〜152.0℃、溶解度は図に示す溶解度を示し
た。
〔α〕25 D は+160.1°(c=1.0、水)、融点1
43.0〜152.0℃、溶解度は図に示す溶解度を示し
た。
【0038】ガスクロマトグラフィー法によるメチル化
率の分析の結果構成する全グルコースの単位グルコース
におけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の
割合であった。
率の分析の結果構成する全グルコースの単位グルコース
におけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の
割合であった。
【0039】2位 61.4% 3位 49.3% 6位 100% 平均 70.2%
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、CD自体またはその公
知メチル化CDに比し、水に対して数倍の溶解性を示
し、殊に特徴的なのは、公知のメチル化CDが温度の上
昇につれて、その溶解性が低下するのに対し、逆に向上
するという特性を有する部分メチル化CDが提供され
る。
知メチル化CDに比し、水に対して数倍の溶解性を示
し、殊に特徴的なのは、公知のメチル化CDが温度の上
昇につれて、その溶解性が低下するのに対し、逆に向上
するという特性を有する部分メチル化CDが提供され
る。
【図1】薄層クロマトグラフィーによるRf値が0.5
5のメチル化β−CD組成物に由来するガスクロマトグ
ラフを表す。
5のメチル化β−CD組成物に由来するガスクロマトグ
ラフを表す。
【図2】薄層クロマトグラフィーによるRf値が0.5
5のメチル化−β−CD組成物及び原料β−CD、並び
に公知メチル化CDであるヘプタキス−(2,6−ジ−
O−メチル)β−CD及びヘプタキス−(2,3,6−ト
リ−O−メチル)β−CDの各温度における水に対する
溶解性を示したものである。なお図中、△:β−CD :ヘプタキス−(2.6−ジ−O−メチル)β−CD ▲:ヘプタキス−(2,3,6−トリ−O−メチル)β−
CD ●:本発明の部分メチル化β−CD組成物(i) を表わす。
5のメチル化−β−CD組成物及び原料β−CD、並び
に公知メチル化CDであるヘプタキス−(2,6−ジ−
O−メチル)β−CD及びヘプタキス−(2,3,6−ト
リ−O−メチル)β−CDの各温度における水に対する
溶解性を示したものである。なお図中、△:β−CD :ヘプタキス−(2.6−ジ−O−メチル)β−CD ▲:ヘプタキス−(2,3,6−トリ−O−メチル)β−
CD ●:本発明の部分メチル化β−CD組成物(i) を表わす。
フロントページの続き (72)発明者 八木 佳明 神奈川県藤沢市藤沢5437−38 (72)発明者 石倉 知之 神奈川県茅ヶ崎市小和田1丁目22−32
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー[薄層:Merck 社製、Art 5744;展開溶媒系:ク
ロロホルム−メタノール(9:1)]にて、 Rf値が0.42であり、そして(B)前処理後のガス
クロマトグラフィー法により算定したメチル化率は、構
成グルコース単位の各水酸基について、それぞれ2位が
55.6%、 3位が42.7%、 6位が87.5%である、ことを特徴とする部分メチル
化−β−シクロデキストリン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6510996A JP2643106B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6510996A JP2643106B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61185177A Division JPH0717686B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08333405A JPH08333405A (ja) | 1996-12-17 |
JP2643106B2 true JP2643106B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=13277411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6510996A Expired - Lifetime JP2643106B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2643106B2 (ja) |
-
1996
- 1996-02-28 JP JP6510996A patent/JP2643106B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08333405A (ja) | 1996-12-17 |
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