JPH0687820A - Ｎ−アルキルスルホンアミドの製法 - Google Patents
Ｎ−アルキルスルホンアミドの製法Info
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- JPH0687820A JPH0687820A JP4063952A JP6395292A JPH0687820A JP H0687820 A JPH0687820 A JP H0687820A JP 4063952 A JP4063952 A JP 4063952A JP 6395292 A JP6395292 A JP 6395292A JP H0687820 A JPH0687820 A JP H0687820A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
- C07C303/38—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reaction of ammonia or amines with sulfonic acids, or with esters, anhydrides, or halides thereof
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式（Ｉ）
Ｒ1 −ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ2 （Ｉ）
（Ｒ1 はアルキル、アルケニル又はアルキニル──これ
らは場合によりハロゲンにより置換されている──等、
そしてＲ2 は水素又は（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルキルである）
の化合物を、一般式（II） Ｒ1 ＳＯ2 Ｃｌ （II） （Ｒ1 は上記の意味を有する）の化合物と、約等モル量
の補助塩基の存在下式（III) Ｒ2 −ＮＨ2 (III) の約等モル量の化合物とをハロゲン化芳香族溶剤中で反
応させ、反応混合物を水性アルカリ金属水酸化物又はア
ルコレートと反応させて補助塩基の塩酸塩を中和しそし
て補助塩基を留出することにより製造する方法。 【効果】 スルホニル尿素除草剤の製造における中間体
である本化合物は水性又は極性溶剤の使用と関係のあ
る、他の方法で慣用な大過剰のアミン成分の使用が避け
られる。
らは場合によりハロゲンにより置換されている──等、
そしてＲ2 は水素又は（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルキルである）
の化合物を、一般式（II） Ｒ1 ＳＯ2 Ｃｌ （II） （Ｒ1 は上記の意味を有する）の化合物と、約等モル量
の補助塩基の存在下式（III) Ｒ2 −ＮＨ2 (III) の約等モル量の化合物とをハロゲン化芳香族溶剤中で反
応させ、反応混合物を水性アルカリ金属水酸化物又はア
ルコレートと反応させて補助塩基の塩酸塩を中和しそし
て補助塩基を留出することにより製造する方法。 【効果】 スルホニル尿素除草剤の製造における中間体
である本化合物は水性又は極性溶剤の使用と関係のあ
る、他の方法で慣用な大過剰のアミン成分の使用が避け
られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般式（Ｉ） Ｒ1 −ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ2 （Ｉ） （式中Ｒ1 は（Ｃ1 −Ｃ6 ）アルキル、（Ｃ2 −Ｃ6 ）
アルケニル又は（Ｃ2 −Ｃ6）アルキニル──そのそれ
ぞれは場合によりハロゲンにより置換されている──、
（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルコキシ又は（Ｃ1 −Ｃ4 −アルコキ
シ）カルボニルでありそしてＲ2 は水素又は（Ｃ1 −Ｃ
4 ）アルキルである）で示される化合物を製造する方法
において、一般式（II） Ｒ1 ＳＯ2 Ｃｌ （II） （式中Ｒ1 は上記の意味を有する）で示される化合物
を、約等モル量の補助塩基の存在下一般式（III) Ｒ2 −ＮＨ2 （III) （式中Ｒ2 は上記の意味を有する）で示される、約等モ
ル量の化合物とハロゲン化芳香族溶剤中で反応させ、次
に反応混合物を水性アルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと反応させて補助塩基の塩酸塩を中和しそして補助
塩基を蒸留により除去することを特徴とする方法に関す
る。
アルケニル又は（Ｃ2 −Ｃ6）アルキニル──そのそれ
ぞれは場合によりハロゲンにより置換されている──、
（Ｃ1 −Ｃ4 ）アルコキシ又は（Ｃ1 −Ｃ4 −アルコキ
シ）カルボニルでありそしてＲ2 は水素又は（Ｃ1 −Ｃ
4 ）アルキルである）で示される化合物を製造する方法
において、一般式（II） Ｒ1 ＳＯ2 Ｃｌ （II） （式中Ｒ1 は上記の意味を有する）で示される化合物
を、約等モル量の補助塩基の存在下一般式（III) Ｒ2 −ＮＨ2 （III) （式中Ｒ2 は上記の意味を有する）で示される、約等モ
ル量の化合物とハロゲン化芳香族溶剤中で反応させ、次
に反応混合物を水性アルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと反応させて補助塩基の塩酸塩を中和しそして補助
塩基を蒸留により除去することを特徴とする方法に関す
る。
【０００２】上記式におけるＲ1 は、好ましくは（Ｃ1
−Ｃ6)アルキル、特にメチル又はエチルである。Ｒ
2 は、好ましくはメチル又はエチルである。
−Ｃ6)アルキル、特にメチル又はエチルである。Ｒ
2 は、好ましくはメチル又はエチルである。
【０００３】
【従来の技術】一般式（Ｉ）の化合物は、除草作用を有
するスルホニル尿素を製造する場合の有用な中間体であ
る（米国特許第４，１６９，７１９号明細書、欧州特許
出願公開第０７１９５８号明細書＝米国特許出願公開第
４，４９２，５９８号明細書）。
するスルホニル尿素を製造する場合の有用な中間体であ
る（米国特許第４，１６９，７１９号明細書、欧州特許
出願公開第０７１９５８号明細書＝米国特許出願公開第
４，４９２，５９８号明細書）。
【０００４】一般式IIのスルホニルクロリドとアンモニ
ア又はアミンとの反応による一般式（Ｉ）の化合物の製
造は、すでに公知である。しかし、この公知方法は、水
性、アルコール性、ベンゼン又はエーテル溶剤の存在下
低温（≦０℃）及び大過剰（＞３モル当量）のアミン成
分で実施される（Houben-Weyl, Meyl 、 Methoden der
organischen Chemie (Methods of Organic Chemi
stry) ，第IX巻、第３９８−４００頁、第４２４−４２
５頁及び第６０５−６２２頁；Baxter等、Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．１９５５第６６９頁及び第６７０頁； Asi
nger，Chem．Ber.７５Ｂ，４０（１９４２）参照）。
ア又はアミンとの反応による一般式（Ｉ）の化合物の製
造は、すでに公知である。しかし、この公知方法は、水
性、アルコール性、ベンゼン又はエーテル溶剤の存在下
低温（≦０℃）及び大過剰（＞３モル当量）のアミン成
分で実施される（Houben-Weyl, Meyl 、 Methoden der
organischen Chemie (Methods of Organic Chemi
stry) ，第IX巻、第３９８−４００頁、第４２４−４２
５頁及び第６０５−６２２頁；Baxter等、Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．１９５５第６６９頁及び第６７０頁； Asi
nger，Chem．Ber.７５Ｂ，４０（１９４２）参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この方法において、ア
ミン成分は、副生成物の生成（スルフィミド及びスルホ
ン酸アンモニウム塩の生成）を抑圧するために、常に大
過剰で使用される。
ミン成分は、副生成物の生成（スルフィミド及びスルホ
ン酸アンモニウム塩の生成）を抑圧するために、常に大
過剰で使用される。
【０００６】アミンの大過剰の場合しかこれら方法にお
いて十分な収率を得ることができない。しかしアミン大
過剰の使用は、大なる経済的及び生態学的短所を伴い、
過剰のアミンは、その中和後除去されねばならないか又
はアミンの塩酸塩は抽出又は濾過により単離そして廃棄
物を処理されねばならない。
いて十分な収率を得ることができない。しかしアミン大
過剰の使用は、大なる経済的及び生態学的短所を伴い、
過剰のアミンは、その中和後除去されねばならないか又
はアミンの塩酸塩は抽出又は濾過により単離そして廃棄
物を処理されねばならない。
【０００７】抽出及び濾過は、付加的に水性媒体におけ
る生成物の高溶解性及び生成物Ｉにおける補助塩基のア
ミン塩酸塩の高溶解性（補助塩基の塩酸塩１００ｇが、
生成物Ｉ １０００ｇ中に溶解する）により困難にされ
る。
る生成物の高溶解性及び生成物Ｉにおける補助塩基のア
ミン塩酸塩の高溶解性（補助塩基の塩酸塩１００ｇが、
生成物Ｉ １０００ｇ中に溶解する）により困難にされ
る。
【０００８】このことは付加的な工業的経費を意味す
る。著しい癈気又は廃水問題が、処理されねばならな
い。過剰アミン１モル当たり、廃水において塩１モルを
与える、付加的１モルの酸を必要とする（Houben-Weyl,
第IX巻，第６０６頁）。
る。著しい癈気又は廃水問題が、処理されねばならな
い。過剰アミン１モル当たり、廃水において塩１モルを
与える、付加的１モルの酸を必要とする（Houben-Weyl,
第IX巻，第６０６頁）。
【０００９】反応中の冷却は又必要である。そうしなけ
れば収率が著しく低下するからである（Pantlitschko，
Monatshefte ８９（１９５８）第２８５−２８７頁；Fi
eld,Grunwald，J. Am ．Chem．Soc ．７５（１９５３）
第９３６頁参照）。
れば収率が著しく低下するからである（Pantlitschko，
Monatshefte ８９（１９５８）第２８５−２８７頁；Fi
eld,Grunwald，J. Am ．Chem．Soc ．７５（１９５３）
第９３６頁参照）。
【００１０】アミンとニトロアルカンの存在下でのスル
ホニルクロリドとの反応は、又公知である（ドイツ特許
出願公告第１，９２９，２９５号公報）。該反応は、少
過剰のアミン成分を使用して実施される。
ホニルクロリドとの反応は、又公知である（ドイツ特許
出願公告第１，９２９，２９５号公報）。該反応は、少
過剰のアミン成分を使用して実施される。
【００１１】しかしニトロアルカンの高毒性のために、
該方法を工業的規模で実施することは非常に問題であ
る。経済的理由で、工業的方法におけるニトロアルカン
の使用は、この溶剤の高い製造コスト及び複雑な後処理
のため非常に好ましくない（ドイツ特許出願公告第１９
２９２９５号公報＝米国特許出願公開第３，５７４、７
４０号明細書）。
該方法を工業的規模で実施することは非常に問題であ
る。経済的理由で、工業的方法におけるニトロアルカン
の使用は、この溶剤の高い製造コスト及び複雑な後処理
のため非常に好ましくない（ドイツ特許出願公告第１９
２９２９５号公報＝米国特許出願公開第３，５７４、７
４０号明細書）。
【００１２】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、本発明
により、約等モル量のアミンしか使用されないけれど
も、一般式（Ｉ）のスルホンアミドは定量的収率及び９
９％以上の純度で得られる。
により、約等モル量のアミンしか使用されないけれど
も、一般式（Ｉ）のスルホンアミドは定量的収率及び９
９％以上の純度で得られる。
【００１３】本発明による方法は、高選択率及び高反応
率により特色づけられる。モル比II：III は、工業的理
由のため１０％までの変化を以って約１：１である。
率により特色づけられる。モル比II：III は、工業的理
由のため１０％までの変化を以って約１：１である。
【００１４】成分II及びIII を反応させるための反応温
度は、０乃至１００℃、好ましくは１０°乃至７０℃で
ある。本発明による方法において使用される補助塩基
は、副生成物として生成する塩化水素を中和させるため
に役立つ。使用することができる補助塩基は、例えば有
機アミン、例えばトリエチルアミンである。アミン成分
III は、好ましくは補助塩基として使用される。
度は、０乃至１００℃、好ましくは１０°乃至７０℃で
ある。本発明による方法において使用される補助塩基
は、副生成物として生成する塩化水素を中和させるため
に役立つ。使用することができる補助塩基は、例えば有
機アミン、例えばトリエチルアミンである。アミン成分
III は、好ましくは補助塩基として使用される。
【００１５】使用することができるハロゲン化芳香族炭
化水素は、例えばクロルベンゼン又はジクロルベンゼン
である。本発明により使用されるべき溶剤において、一
般式Ｉの生成物は、予想外に悪い溶解度を有し、それゆ
えこれらは反応混合物中に懸濁した油として得られる。
クロルベンゼン１０００ｍｌ中でＣＨ3 ＳＯ2 ＮＨＣＨ
3 １５−２０ｇしか室温において溶解しない。
化水素は、例えばクロルベンゼン又はジクロルベンゼン
である。本発明により使用されるべき溶剤において、一
般式Ｉの生成物は、予想外に悪い溶解度を有し、それゆ
えこれらは反応混合物中に懸濁した油として得られる。
クロルベンゼン１０００ｍｌ中でＣＨ3 ＳＯ2 ＮＨＣＨ
3 １５−２０ｇしか室温において溶解しない。
【００１６】反応中生成した、補助塩基の塩酸塩は、分
散液として得られるので、不均質３−相混合物が生成す
る。該塩酸塩は、大なる工業的経費を以ってしかこの混
合物から単離することができない。
散液として得られるので、不均質３−相混合物が生成す
る。該塩酸塩は、大なる工業的経費を以ってしかこの混
合物から単離することができない。
【００１７】しかし、本発明者は、補助塩基を回収する
ことができる別の後処理法を見出した。このためには、
塩酸塩をアルカリ金属水酸化物又はアルコレート、例え
ばアルカリ金属アルコレート、特に相応するアルコール
性溶液中で中和しそして遊離したアミンを直接反応混合
物から留出するのである。
ことができる別の後処理法を見出した。このためには、
塩酸塩をアルカリ金属水酸化物又はアルコレート、例え
ばアルカリ金属アルコレート、特に相応するアルコール
性溶液中で中和しそして遊離したアミンを直接反応混合
物から留出するのである。
【００１８】後処理は、不均質３−相混合物に約等モル
量のアルカリ金属水酸化物溶液又はアルコレートを０乃
至１００℃の温度において配量しそして温度を溶剤の還
流温度に高めて補助塩基を塩酸塩から遊離し、これを留
出することによって実施される。
量のアルカリ金属水酸化物溶液又はアルコレートを０乃
至１００℃の温度において配量しそして温度を溶剤の還
流温度に高めて補助塩基を塩酸塩から遊離し、これを留
出することによって実施される。
【００１９】反応混合物からの蒸留による補助塩基の完
全な除去後、水を還流温度における留出による循環から
除去するか又はアルコールを留出する。驚くべきこと
に、それ自体加水分解に対し過敏な一般式Ｉのスルホン
アミド（Houben-Weyl ，第IX巻、第３９８頁、下から３
番目のパラグラフ参照）は、高い反応温度が適用される
けれども、加水分解されない。
全な除去後、水を還流温度における留出による循環から
除去するか又はアルコールを留出する。驚くべきこと
に、それ自体加水分解に対し過敏な一般式Ｉのスルホン
アミド（Houben-Weyl ，第IX巻、第３９８頁、下から３
番目のパラグラフ参照）は、高い反応温度が適用される
けれども、加水分解されない。
【００２０】スルホンアミドＩは補助塩基の塩酸塩より
強い酸である（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド：ｐＫ
a ＝９．３／メチルアミンヒドロクロリド：ｐＫa ＝１
０．６）から、塩酸塩の代わりに、スルホンアミドＩ
は、アルカリ金属水酸化物溶液又はアルカリ金属アルコ
レートとスルホンアミド塩の生成下優先的に反応するこ
とは予期できた。
強い酸である（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド：ｐＫ
a ＝９．３／メチルアミンヒドロクロリド：ｐＫa ＝１
０．６）から、塩酸塩の代わりに、スルホンアミドＩ
は、アルカリ金属水酸化物溶液又はアルカリ金属アルコ
レートとスルホンアミド塩の生成下優先的に反応するこ
とは予期できた。
【００２１】しかし、強いｐＫa 差にもかかわらず、塩
酸塩のみが、添加したアルカリ金属水酸化物溶液又はア
ルコレートと反応して、およそ等モル量の水酸化物又は
アルコレートのみが必要である。補助塩基及びスルホン
アミドＩは、実質的に定量的収率及び純度＞９９％で得
られる。
酸塩のみが、添加したアルカリ金属水酸化物溶液又はア
ルコレートと反応して、およそ等モル量の水酸化物又は
アルコレートのみが必要である。補助塩基及びスルホン
アミドＩは、実質的に定量的収率及び純度＞９９％で得
られる。
【００２２】別の工業的反応に関して、なおアルカリ金
属塩化物を含有する、クロルベンゼン中一般式（Ｉ）の
化合物の粗懸濁液を予精製なしに別の反応（例えば除草
剤を製造するためのクロルスルホニルイソシアネートと
の反応）に直接使用することができるか又はアルカリ金
属塩化物から、好ましくは加熱下留出することができ
る。
属塩化物を含有する、クロルベンゼン中一般式（Ｉ）の
化合物の粗懸濁液を予精製なしに別の反応（例えば除草
剤を製造するためのクロルスルホニルイソシアネートと
の反応）に直接使用することができるか又はアルカリ金
属塩化物から、好ましくは加熱下留出することができ
る。
【００２３】後処理後、補助塩基をふたたび反応に使用
することができ、すなわち再循環させることができる。
溶剤は、又実質的に定量的に再循環できる。
することができ、すなわち再循環させることができる。
溶剤は、又実質的に定量的に再循環できる。
【００２４】本発明による方法は、好都合には、一般式
（III)のアミンを一般式（II）の化合物の溶液中に配量
することにより実施される。しかし、同様にアミン成分
を、又まず、この溶液中に配量した溶剤及びスルホニル
クロリドと共に導入することができる。成分Ｉ及びIIの
溶剤への同時的添加も可能である。
（III)のアミンを一般式（II）の化合物の溶液中に配量
することにより実施される。しかし、同様にアミン成分
を、又まず、この溶液中に配量した溶剤及びスルホニル
クロリドと共に導入することができる。成分Ｉ及びIIの
溶剤への同時的添加も可能である。
【００２５】たとえ絶対には必要でなくても、反応への
酸素の妨害効果を避けるために、本方法を不活性ガスふ
ん囲気、例えば窒素下実施することが好都合である。本
発明による方法は、連続的に又は回分式で実施すること
ができる。
酸素の妨害効果を避けるために、本方法を不活性ガスふ
ん囲気、例えば窒素下実施することが好都合である。本
発明による方法は、連続的に又は回分式で実施すること
ができる。
【００２６】
【実施例】本発明による方法を次の例により説明する。 例 １ Ｎ−メチルメタンスルホンアミド １０リットル容４首フラスコにおいて、全部で２５１ｇ
のメチルアミンをガスとしてクロルベンゼン４０００ｍ
ｌ及びメタンスルホニルクロリド４５８ｇの溶液に２０
〜２５℃において３〜４時間にわたって添加する。
のメチルアミンをガスとしてクロルベンゼン４０００ｍ
ｌ及びメタンスルホニルクロリド４５８ｇの溶液に２０
〜２５℃において３〜４時間にわたって添加する。
【００２７】反応が完結した後、その後混合物を３時間
攪拌する。５０％水酸化ナトリウム溶液３２１ｇを２５
℃において滴加しそして混合物を１００℃に２時間加熱
する。
攪拌する。５０％水酸化ナトリウム溶液３２１ｇを２５
℃において滴加しそして混合物を１００℃に２時間加熱
する。
【００２８】この時間中、全部で１２５ｇのメチルアミ
ンを留出しそしてコールドラップに採集する。次に水を
還流温度で分離器において循環から除去する。溶剤を真
空中で留出する。
ンを留出しそしてコールドラップに採集する。次に水を
還流温度で分離器において循環から除去する。溶剤を真
空中で留出する。
【００２９】塩化ナトリウムから分離した後、理論値の
収率９９％に相当する、９９．０％の純度を有する粗生
成物４３８ｇが得られる：ｎD 22：１．４５０９。 例 ２ Ｎ−メチルエタンスルホンアミド ２リットル容４首フラスコにおいて、１２５ｇのメチル
アミンをまずクロルベンゼン２０００ｍｌ及びエタンス
ルホニルクロリド２５７ｇ中に２０〜２５℃において滴
加する。
収率９９％に相当する、９９．０％の純度を有する粗生
成物４３８ｇが得られる：ｎD 22：１．４５０９。 例 ２ Ｎ−メチルエタンスルホンアミド ２リットル容４首フラスコにおいて、１２５ｇのメチル
アミンをまずクロルベンゼン２０００ｍｌ及びエタンス
ルホニルクロリド２５７ｇ中に２０〜２５℃において滴
加する。
【００３０】反応が完結した後、その後混合物を２時間
攪拌する。２５％水酸化ナトリウム溶液３２１ｇを２５
℃において滴加しそして反応混合物の還流温度において
２時間加熱する。
攪拌する。２５％水酸化ナトリウム溶液３２１ｇを２５
℃において滴加しそして反応混合物の還流温度において
２時間加熱する。
【００３１】この時間中、全部で６２ｇのメチルアミン
を留出しそしてコールドラップに採集する。次に水を還
流温度で分離器において循環から除去する。溶剤を真空
中で留出する。塩化ナトリウムから分離した後、９９．
６％の純度を有する粗生成物４３８ｇがえられる。薄層
蒸留後、９８．４８％の収率に相当する、純度９９．８
％の蒸留生成物２４２ｇが得られる；ｎD 25：１．４５
３０。
を留出しそしてコールドラップに採集する。次に水を還
流温度で分離器において循環から除去する。溶剤を真空
中で留出する。塩化ナトリウムから分離した後、９９．
６％の純度を有する粗生成物４３８ｇがえられる。薄層
蒸留後、９８．４８％の収率に相当する、純度９９．８
％の蒸留生成物２４２ｇが得られる；ｎD 25：１．４５
３０。
【００３２】例 ３ Ｎ−エチルメタンスルホンアミド メタンスルホニルクロリド４５８ｇ及びエチルアミン３
６０ｇを同時に窒素保護ガスふん囲気下２０〜３０℃に
おいて４時間にわたってクロルベンゼン４００ｍｌの溶
液中に配量する。反応が完結した後、その後混合物を３
時間攪拌しそして２５％水酸化ナトリウム溶液６４２ｇ
を２５℃で処理する。エチルアミンを２時間の間で反応
混合物の還流温度において遊離しそして留出する。エチ
ルアミン（１７８ｇ）の留出後、水を反応混合物の還流
温度において循環から除去する。
６０ｇを同時に窒素保護ガスふん囲気下２０〜３０℃に
おいて４時間にわたってクロルベンゼン４００ｍｌの溶
液中に配量する。反応が完結した後、その後混合物を３
時間攪拌しそして２５％水酸化ナトリウム溶液６４２ｇ
を２５℃で処理する。エチルアミンを２時間の間で反応
混合物の還流温度において遊離しそして留出する。エチ
ルアミン（１７８ｇ）の留出後、水を反応混合物の還流
温度において循環から除去する。
【００３３】留出後、塩化ナトリウムから分離した後、
９９．７％の純度を有する生成物４９３ｇを含有する、
Ｎ−エチルメタンスルホンアミドのクロルベンゼン溶液
４４９３ｍｌが得られる。
９９．７％の純度を有する生成物４９３ｇを含有する、
Ｎ−エチルメタンスルホンアミドのクロルベンゼン溶液
４４９３ｍｌが得られる。
【００３４】例 ４ Ｎ−メチルメタンスルホンアミド １０リットル容４首フラスコにおいて、２５０ｇのメチ
ルアミンをガスとしてクロルベンゼン２０００ｍｌに添
加する。
ルアミンをガスとしてクロルベンゼン２０００ｍｌに添
加する。
【００３５】メタンスルホニルクロリド４５８ｇをこの
溶液に４０℃において４時間の間で不活性ガスふん囲気
下、配量する。反応が完結した後、その後混合物を２時
間攪拌しそして２５％水酸化ナトリウム溶液６４２ｇで
処理しそして１２５ｇのメチルアミンを２時間還流条件
下留出する。
溶液に４０℃において４時間の間で不活性ガスふん囲気
下、配量する。反応が完結した後、その後混合物を２時
間攪拌しそして２５％水酸化ナトリウム溶液６４２ｇで
処理しそして１２５ｇのメチルアミンを２時間還流条件
下留出する。
【００３６】次に水を還流温度で分離器において循環か
ら除去する。溶剤を真空中で留出する。塩化ナトリウム
から分離した後、９９．２％の純度を有する粗生成物４
３６ｇが得られる：ｎD 22：１．４５１０。
ら除去する。溶剤を真空中で留出する。塩化ナトリウム
から分離した後、９９．２％の純度を有する粗生成物４
３６ｇが得られる：ｎD 22：１．４５１０。
【００３７】例 ５ Ｎ−メチルメタンスルホンアミド １０リットル容４首フラスコにおいて、４５８ｇのメタ
ンスルホニルクロリドを不活性ガスふん囲気下クロルベ
ンゼン２０００ｍｌに滴加する。２６０ｇのメチルアミ
ンをガスとしてこの溶液に１０〜４０℃において２時間
の間に添加する。その後２時間攪拌した後、混合物を２
５％水酸化ナトリウム溶液６６０ｇで処理しそしてメチ
ルアミン１３５ｇを、反応混合物を加熱還流しながら留
出する。
ンスルホニルクロリドを不活性ガスふん囲気下クロルベ
ンゼン２０００ｍｌに滴加する。２６０ｇのメチルアミ
ンをガスとしてこの溶液に１０〜４０℃において２時間
の間に添加する。その後２時間攪拌した後、混合物を２
５％水酸化ナトリウム溶液６６０ｇで処理しそしてメチ
ルアミン１３５ｇを、反応混合物を加熱還流しながら留
出する。
【００３８】次に水を還流温度において２時間の間に循
環から除去する。クロルベンゼンの留出及び塩化ナトリ
ウムからの分離の後、９９．５％の純度を有する粗生成
物４３７ｇが得られる；収率：９９．５％；ｎD 22：
１．４５１２。
環から除去する。クロルベンゼンの留出及び塩化ナトリ
ウムからの分離の後、９９．５％の純度を有する粗生成
物４３７ｇが得られる；収率：９９．５％；ｎD 22：
１．４５１２。
【００３９】一般式（Ｉ）の次の化合物を、例えば例１
〜５において記載した方法に類似して製造することがで
きる： 例 Ｒ1 Ｒ2 ６ ＣＨ3 Ｃ3 Ｈ7 ７ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ2 Ｈ5 ８ Ｃ3 Ｈ7 ＣＨ3 ９ ＣＨ3 Ｈ １０ Ｃ2 Ｈ5 Ｈ １１ Ｃｌ−ＣＨ2 Ｈ １２ Ｃｌ−ＣＨ2 −ＣＨ2 Ｃ3 Ｈ7 １３ ＣＨ3 Ｏ−ＣＨ2 Ｃ2 Ｈ5 １４ Ｃｌ−ＣＨ2 ＣＨ3 １５ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ3 Ｈ7 比較例 Ａ Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、第IX巻、第６０６頁によるＮ
−メチルメタンスルホンアミドの製造 エーテル３０００ｍｌ中メチルアミン２５０ｇの冷却溶
液をメタンスルホニルクロリド４５８ｇに０℃において
３時間の間で添加する。その後０℃において１０分間攪
拌した後、濃塩酸を水の同じ容量で添加しそして次に溶
剤を留出する。残留する油状残留物を酢酸エチル中に採
取し、水性濾液を酢酸エチルとの振とうにより２回抽出
しそして一緒にした有機相を蒸留する。
〜５において記載した方法に類似して製造することがで
きる： 例 Ｒ1 Ｒ2 ６ ＣＨ3 Ｃ3 Ｈ7 ７ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ2 Ｈ5 ８ Ｃ3 Ｈ7 ＣＨ3 ９ ＣＨ3 Ｈ １０ Ｃ2 Ｈ5 Ｈ １１ Ｃｌ−ＣＨ2 Ｈ １２ Ｃｌ−ＣＨ2 −ＣＨ2 Ｃ3 Ｈ7 １３ ＣＨ3 Ｏ−ＣＨ2 Ｃ2 Ｈ5 １４ Ｃｌ−ＣＨ2 ＣＨ3 １５ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ3 Ｈ7 比較例 Ａ Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、第IX巻、第６０６頁によるＮ
−メチルメタンスルホンアミドの製造 エーテル３０００ｍｌ中メチルアミン２５０ｇの冷却溶
液をメタンスルホニルクロリド４５８ｇに０℃において
３時間の間で添加する。その後０℃において１０分間攪
拌した後、濃塩酸を水の同じ容量で添加しそして次に溶
剤を留出する。残留する油状残留物を酢酸エチル中に採
取し、水性濾液を酢酸エチルとの振とうにより２回抽出
しそして一緒にした有機相を蒸留する。
【００４０】９７．８％の純度を有する蒸留生成物３４
４ｇが得られる。 収率：７６．９％。 比較例 Ｂ Baxter等、Ｊ．Chem．Soc ．１９５５，第６７０頁によ
るＮ−メチルメタンスルホアミドの製造 乾燥エーテル３０００ｍｌ中メタンスルホニルクロリド
４５８ｇの溶液を０℃においてエーテル２０００ｍｌ中
メチルアミン３７５ｇの溶液に徐々に添加する。その後
反応混合物を室温において１時間攪拌しそして得られる
メチルアミンヒドロクロリドを濾出する。
４ｇが得られる。 収率：７６．９％。 比較例 Ｂ Baxter等、Ｊ．Chem．Soc ．１９５５，第６７０頁によ
るＮ−メチルメタンスルホアミドの製造 乾燥エーテル３０００ｍｌ中メタンスルホニルクロリド
４５８ｇの溶液を０℃においてエーテル２０００ｍｌ中
メチルアミン３７５ｇの溶液に徐々に添加する。その後
反応混合物を室温において１時間攪拌しそして得られる
メチルアミンヒドロクロリドを濾出する。
【００４１】濾過残留物をエーテル及びクロロホルムで
洗浄する。メチルアミンヒドロクロリド（８５％）２２
９．５ｇが得られる。蒸留後、９７．９％の純度を有す
る生成物３８４ｇが得られる；収率：８６％。
洗浄する。メチルアミンヒドロクロリド（８５％）２２
９．５ｇが得られる。蒸留後、９７．９％の純度を有す
る生成物３８４ｇが得られる；収率：８６％。
【００４２】比較例Ａは、公知方法において等モル量の
アミンを使用する場合不十分な生成物収率しか得られな
いことを示す。その結果は、工業的基準に達しない。多
量のアミンを使用する場合（比較例Ｂ参照）でも、公知
方法は、所望の生成物を収率約８５％でしか与えない。
アミンを使用する場合不十分な生成物収率しか得られな
いことを示す。その結果は、工業的基準に達しない。多
量のアミンを使用する場合（比較例Ｂ参照）でも、公知
方法は、所望の生成物を収率約８５％でしか与えない。
【００４３】比較例 Ｃ 補助塩基を留出しない水の存在下でのＮ−メチルメタン
スルホンアミドの製造１０リットル容４首フラスコにお
いてメチルアミン２５１ｇをガスとしてクロルベンゼン
３０００ｇ及び水１５００ｇの混合物中に通す。メタン
スルホニルクロリド４５８ｇを２０乃至２５℃において
３乃至４時間の間で滴加して、ｐＨを水酸化ナトリウム
溶液の添加により７乃至９に保つ。添加を完結した後、
その後混合物を３時間攪拌しそして有機相を分離する。
クロルベンゼンを留出後、理論値の２５．８％の収率に
相当する、Ｎ−メチルメタンスルホンアミドの９５．８
％の含有率を有する粗生成物６２ｇが残留する。
スルホンアミドの製造１０リットル容４首フラスコにお
いてメチルアミン２５１ｇをガスとしてクロルベンゼン
３０００ｇ及び水１５００ｇの混合物中に通す。メタン
スルホニルクロリド４５８ｇを２０乃至２５℃において
３乃至４時間の間で滴加して、ｐＨを水酸化ナトリウム
溶液の添加により７乃至９に保つ。添加を完結した後、
その後混合物を３時間攪拌しそして有機相を分離する。
クロルベンゼンを留出後、理論値の２５．８％の収率に
相当する、Ｎ−メチルメタンスルホンアミドの９５．８
％の含有率を有する粗生成物６２ｇが残留する。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、公知のＮ−アルキ
ルスルホンアミドの製法の場合、副生成物の生成（スル
フィミド及びスルホン酸アンモニウム塩の生成）を抑圧
するために、アミン成分は常に大過剰で使用され、アミ
ンの大過剰の場合しか十分な収率を得ることができな
い。しかしアミン大過剰の使用は、大なる経済的及び生
態学的短所を伴い、過剰のアミンは、その中和後除去さ
れねばならないか又はアミンの塩酸塩は抽出又は濾過に
より単離そして廃棄物を処理されねばならないという短
所を有する。これに対し、本発明による該製法の場合、
約等モル量のアミンしか使用されないけれども、Ｎ−ア
ルキルスルホンアミドが、定量的収率及び９９％以上の
純度で得られ、前記の短所を有しないという長所を有す
る。
ルスルホンアミドの製法の場合、副生成物の生成（スル
フィミド及びスルホン酸アンモニウム塩の生成）を抑圧
するために、アミン成分は常に大過剰で使用され、アミ
ンの大過剰の場合しか十分な収率を得ることができな
い。しかしアミン大過剰の使用は、大なる経済的及び生
態学的短所を伴い、過剰のアミンは、その中和後除去さ
れねばならないか又はアミンの塩酸塩は抽出又は濾過に
より単離そして廃棄物を処理されねばならないという短
所を有する。これに対し、本発明による該製法の場合、
約等モル量のアミンしか使用されないけれども、Ｎ−ア
ルキルスルホンアミドが、定量的収率及び９９％以上の
純度で得られ、前記の短所を有しないという長所を有す
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） Ｒ1 −ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ2 （Ｉ） （式中Ｒ1 は（Ｃ1 −Ｃ6)アルキル、（Ｃ2 −Ｃ6)アル
ケニル又は（Ｃ2 −Ｃ6)アルキニル──そのそれぞれは
場合によりハロゲンにより置換されている──、（Ｃ1
−Ｃ4)アルコキシ又は（Ｃ1 −Ｃ4 −アルコキシ）カル
ボニルでありそしてＲ2 は水素又は（Ｃ1 −Ｃ4 ）アル
キルである）で示される化合物を製造する方法におい
て、一般式（II） Ｒ1 ＳＯ2 Ｃｌ （II） （式中Ｒ1 は上記の意味を有する）で示される化合物
を、約等モル量の補助塩基の存在下一般式（III) Ｒ2 −ＮＨ2 （III) （式中Ｒ2 は上記の意味を有する）で示される、約等モ
ル量の化合物とハロゲン化芳香族溶剤中で反応させ、次
に反応混合物を水性アルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと反応させて補助塩基の塩酸塩を中和しそして補助
塩基を蒸留により除去することを特徴とする方法。 - 【請求項２】 使用される補助塩基が、一般式（III)の
化合物である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 使用される溶剤が、クロルベンゼン又は
ジクロルベンゼン又はその混合物である請求項１又は２
記載の方法。 - 【請求項４】 成分II及びIII を反応させるための反応
温度が０°乃至１００℃である請求項１乃至３のいずれ
か一つに記載の方法。 - 【請求項５】 成分II及びIII を反応させるための反応
温度が１０°乃至７０℃である請求項１乃至４のいずれ
か一つに記載の方法。 - 【請求項６】 反応混合物を溶剤の還流温度に加熱して
補助塩基の塩酸塩を中和させる請求項１乃至５のいずれ
か一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE41092430 | 1991-03-21 | ||
| DE4109243 | 1991-03-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0687820A true JPH0687820A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=6427858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4063952A Withdrawn JPH0687820A (ja) | 1991-03-21 | 1992-03-19 | Ｎ−アルキルスルホンアミドの製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0504873A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0687820A (ja) |
| AU (1) | AU645182B2 (ja) |
| CA (1) | CA2063648A1 (ja) |
| IL (1) | IL101304A0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998042660A1 (fr) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Azwell Inc. | Procede de production de derives d'halogenoalkylsulfonamide |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705689A (en) * | 1995-06-19 | 1998-01-06 | Associated Universities, Inc. | Aza compounds as anion receptors |
| US5599983A (en) * | 1995-08-21 | 1997-02-04 | Smith; Gary S. | Preparation of alkanesulfonamides with low residual ammonium impurities |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4970339A (en) * | 1988-11-30 | 1990-11-13 | Atochem North America, Inc. | Preparation of alkanesulfonamides |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP4063952A patent/JPH0687820A/ja not_active Withdrawn
- 1992-03-19 IL IL101304A patent/IL101304A0/xx active Protection Beyond IP Right Term
- 1992-03-19 EP EP92104778A patent/EP0504873A1/de not_active Withdrawn
- 1992-03-20 CA CA002063648A patent/CA2063648A1/en not_active Abandoned
- 1992-03-20 AU AU13069/92A patent/AU645182B2/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998042660A1 (fr) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Azwell Inc. | Procede de production de derives d'halogenoalkylsulfonamide |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0504873A1 (de) | 1992-09-23 |
| AU1306992A (en) | 1992-09-24 |
| CA2063648A1 (en) | 1992-09-22 |
| AU645182B2 (en) | 1994-01-06 |
| IL101304A0 (en) | 1992-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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