JPH0677174B2 - ホログラム転写シートおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、ホログラム転写シートおよびその製造方法に
関し、さらに詳しくは、クレジットカード、バンクカー
ドなどのカード類、本の表紙、レコードジャケットなど
の表面にホログラムを転写法により設けるのに適したホ
ログラム転写シートおよびその製造方法に関する。
関し、さらに詳しくは、クレジットカード、バンクカー
ドなどのカード類、本の表紙、レコードジャケットなど
の表面にホログラムを転写法により設けるのに適したホ
ログラム転写シートおよびその製造方法に関する。
ホログラフイーとは、物体からの光の波面を記録する新
しい技術であって、この技術によって作られたホログラ
ムによれば、立体像を再生することができしかも多重記
録も可能となる。またホログラムの記録の一方法として
物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹凸
模様で記録することができ、このホログラムは大量複製
が容易である。
しい技術であって、この技術によって作られたホログラ
ムによれば、立体像を再生することができしかも多重記
録も可能となる。またホログラムの記録の一方法として
物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹凸
模様で記録することができ、このホログラムは大量複製
が容易である。
このようなホログラムを、たとえばクレジットカード、
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変
造が困難なカード類が得られる。また、本の表紙、レコ
ードジャケット、あるいは衣類などに設ければ、美しさ
および目新らしさを備えた製品が得られる。
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変
造が困難なカード類が得られる。また、本の表紙、レコ
ードジャケット、あるいは衣類などに設ければ、美しさ
および目新らしさを備えた製品が得られる。
ホログラムをカード類あるいは本の表紙、レコードジャ
ケットなどの表面に設けるためには、物体からの光の波
面に相当する干渉縞を凹凸模様の形でホログラムに記録
し、これを大量に複製することが必要となり、この場合
この凹凸模様を効率よくカード類などに設ける必要があ
る。
ケットなどの表面に設けるためには、物体からの光の波
面に相当する干渉縞を凹凸模様の形でホログラムに記録
し、これを大量に複製することが必要となり、この場合
この凹凸模様を効率よくカード類などに設ける必要があ
る。
従来、ホログラムをカード類あるいは本の表紙、レコー
ドジャケットなどの表面に設けるには、複製されたホロ
グラムをカード類などの表面にいちいち貼着させてい
た。ところがこの方法によれば、貼着に際して手間がか
かり、大量生産には適していないという問題点があっ
た。したがってホログラムをカード類などの表面に効率
よく設けることが求められていた。
ドジャケットなどの表面に設けるには、複製されたホロ
グラムをカード類などの表面にいちいち貼着させてい
た。ところがこの方法によれば、貼着に際して手間がか
かり、大量生産には適していないという問題点があっ
た。したがってホログラムをカード類などの表面に効率
よく設けることが求められていた。
ところでカード類における記録層としては、磁気記録層
が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一般
に熱転写法によってカード基材上に設けられている。こ
のため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法に
よって設けることができるならば、既存の設備によりホ
ログラムをカード類の表面に効率よく設けることができ
るという利点が得られる。
が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一般
に熱転写法によってカード基材上に設けられている。こ
のため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法に
よって設けることができるならば、既存の設備によりホ
ログラムをカード類の表面に効率よく設けることができ
るという利点が得られる。
ところで、ホログラムを熱転写法によりカード紙などの
基材上に転写する場合には、ホログラム層は一般に熱可
塑性樹脂によって形成されているため、転写に際してホ
ログラム層に熱が加えられ、この際に物体からの光の波
面に相当する干渉縞である凹凸模様が一部消滅してしま
うという重大な問題点があった。
基材上に転写する場合には、ホログラム層は一般に熱可
塑性樹脂によって形成されているため、転写に際してホ
ログラム層に熱が加えられ、この際に物体からの光の波
面に相当する干渉縞である凹凸模様が一部消滅してしま
うという重大な問題点があった。
本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであり、以下のような目的を有する。
とするものであり、以下のような目的を有する。
(a) ホログラムをカード類、本の表紙、レコードジ
ャケットなどの表面に、熱転写法により効率的に設ける
ことを可能とするホログラム転写シートならびにその製
造方法を提供すること。
ャケットなどの表面に、熱転写法により効率的に設ける
ことを可能とするホログラム転写シートならびにその製
造方法を提供すること。
(b) ホログラムをカード類表面に熱転写法により設
けることができ、したがって既存の設備をほぼそのまま
で利用でき、しかもホログラム層の熱転写に際して物体
からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が消滅
することなく熱転写されるという利点を有するホログラ
ム転写シートならびにその製造方法を提供すること。
けることができ、したがって既存の設備をほぼそのまま
で利用でき、しかもホログラム層の熱転写に際して物体
からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が消滅
することなく熱転写されるという利点を有するホログラ
ム転写シートならびにその製造方法を提供すること。
本発明に係るアナログ転写シートは、基材フィルム上
に、剥離層、表面に物体からの光の波面に相当する干渉
縞が凹凸の形で形成されているホログラム層、反射性金
属蒸着層および感熱接着剤層がこの順序で設けられてい
るホログラム転写シートにおいて、前記ホログラム層が
硬化された紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からな
ることを特徴とする。必要に応じて、基材フイルムとホ
ログラム層との間に、剥離層またはオーバープリント層
あるいはこの両者が設けられていてもよく、さらに金属
蒸着層および接着剤層との間に、アンカー層が設けられ
ていてもよい。
に、剥離層、表面に物体からの光の波面に相当する干渉
縞が凹凸の形で形成されているホログラム層、反射性金
属蒸着層および感熱接着剤層がこの順序で設けられてい
るホログラム転写シートにおいて、前記ホログラム層が
硬化された紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からな
ることを特徴とする。必要に応じて、基材フイルムとホ
ログラム層との間に、剥離層またはオーバープリント層
あるいはこの両者が設けられていてもよく、さらに金属
蒸着層および接着剤層との間に、アンカー層が設けられ
ていてもよい。
また、本発明に係るホログラム転写シートの製造方法
は、基材フィルム上に剥離層が形成され、前記剥離層上
に熱成形性を有し固体状の紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂層が形成されたホログラム形成用フィルムを準
備した後、前記ホログラム形成用フィルムと、表面に物
体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形で形成さ
れているホログラム原版とを、前記樹脂が加熱されてい
る条件下で、前記ホログラム形成用フィルムの前記樹脂
が前記ホログラム原版に接するようにして圧接させて、
前記樹脂に凹凸を形成して、紫外線または電子線を前記
ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂を硬化さ
せて、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性金属薄膜
を被着させ、次いでこの反射性金属薄膜層上に感熱接着
剤層を設けることを特徴としている。
は、基材フィルム上に剥離層が形成され、前記剥離層上
に熱成形性を有し固体状の紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂層が形成されたホログラム形成用フィルムを準
備した後、前記ホログラム形成用フィルムと、表面に物
体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形で形成さ
れているホログラム原版とを、前記樹脂が加熱されてい
る条件下で、前記ホログラム形成用フィルムの前記樹脂
が前記ホログラム原版に接するようにして圧接させて、
前記樹脂に凹凸を形成して、紫外線または電子線を前記
ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂を硬化さ
せて、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性金属薄膜
を被着させ、次いでこの反射性金属薄膜層上に感熱接着
剤層を設けることを特徴としている。
基材フイルムと樹脂との間に、必要に応じて剥離層また
はオーバープリント層のいずれかあるいはこの両者を設
けてもよい。本発明に係るホログラム転写シートの好ま
しい態様の製造方法では、基材フイルム上に紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラム
形成用フイルムと、表面に物体からの光の波面に相当す
る干渉縞が凹凸の模様として形成されているホログラム
原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして必要な場
合には加熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し
た後紫外線または電子線をホログラム形成用フイルムに
照射して前記樹脂を硬化させ、次に凹凸が形成された樹
脂表面に反射性金属薄膜層を被着させ、次にこの反射性
金属薄膜層上に接着剤層を設けることを特徴としてい
る。基材フイルムと樹脂との間に、剥離層またはオーバ
ープリント層のいずれかあるいはこの両者を設けてもよ
く、さらに反射性金属薄膜層および接着剤層との間に、
アンカー層を設けてもよい。
はオーバープリント層のいずれかあるいはこの両者を設
けてもよい。本発明に係るホログラム転写シートの好ま
しい態様の製造方法では、基材フイルム上に紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラム
形成用フイルムと、表面に物体からの光の波面に相当す
る干渉縞が凹凸の模様として形成されているホログラム
原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして必要な場
合には加熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し
た後紫外線または電子線をホログラム形成用フイルムに
照射して前記樹脂を硬化させ、次に凹凸が形成された樹
脂表面に反射性金属薄膜層を被着させ、次にこの反射性
金属薄膜層上に接着剤層を設けることを特徴としてい
る。基材フイルムと樹脂との間に、剥離層またはオーバ
ープリント層のいずれかあるいはこの両者を設けてもよ
く、さらに反射性金属薄膜層および接着剤層との間に、
アンカー層を設けてもよい。
以下、本発明を図面に示す具体例について説明する。
本発明に係るホログラム転写シート1は、その断面図が
第1図に示されるように、基材フイルム2上に、ホログ
ラム層3、反射性金属薄膜層4および接着剤層5がこの
順序で設けられて構成されている。また別の具体例であ
るホログラム転写シート1は、その断面図が第2図に示
されるように、基材フイルム2とホログラム層3との間
には、剥離層6およびオーバープリント層7がこの順序
で設けられ、しかも反射性金属薄膜層4と接着剤層5と
の間には、アンカー層8が設けられている。
第1図に示されるように、基材フイルム2上に、ホログ
ラム層3、反射性金属薄膜層4および接着剤層5がこの
順序で設けられて構成されている。また別の具体例であ
るホログラム転写シート1は、その断面図が第2図に示
されるように、基材フイルム2とホログラム層3との間
には、剥離層6およびオーバープリント層7がこの順序
で設けられ、しかも反射性金属薄膜層4と接着剤層5と
の間には、アンカー層8が設けられている。
基材フイルム2としては、フイルム状のあらゆる材料が
用いられうる。具体的には、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレ
ン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの重
合体フイル、合成紙、鉄などの金属フイルムなどが用い
られうる。また、これらの積層体も用いられうる。この
基材フイルムの膜厚は1〜200μm、望ましくは10〜50
μmであることが好ましい。
用いられうる。具体的には、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレ
ン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの重
合体フイル、合成紙、鉄などの金属フイルムなどが用い
られうる。また、これらの積層体も用いられうる。この
基材フイルムの膜厚は1〜200μm、望ましくは10〜50
μmであることが好ましい。
ホログラム層3は、熱成形性を有する紫外線または電子
線で硬化する樹脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂
で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが凹
凸模様で形成されている。
線で硬化する樹脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂
で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが凹
凸模様で形成されている。
このホログラム層3は、後述するが、物体からの光の波
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法により形成する。
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法により形成する。
ホログラム層の厚みは、0.1〜50μm、望ましくは0.5〜
5μmであることが好ましい。
5μmであることが好ましい。
本発明に使用可能なホログラム層用の樹脂は、ホログラ
ムの成形(複製)時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられうる。
ムの成形(複製)時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられうる。
本発明においては、硬化時間の遅い、紫外線もしくは電
子線で硬化する樹脂が適している。
子線で硬化する樹脂が適している。
具体的には、たとえばメチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレン
グリコールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソル
ビトールテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート、などのラジカル重合性不飽和基を有する単量体
が用いられうる。
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレン
グリコールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソル
ビトールテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート、などのラジカル重合性不飽和基を有する単量体
が用いられうる。
さらに熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂と
しては、以下の化合物〜を重合もしくは共重合させ
た重合体に対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラ
ジカル性不飽和基を導入したものが用いられる。
しては、以下の化合物〜を重合もしくは共重合させ
た重合体に対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラ
ジカル性不飽和基を導入したものが用いられる。
水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルアミ
ド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプ
ロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキ
シプロピルアクリレート、など。
ド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプ
ロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキ
シプロピルアクリレート、など。
カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレ
ートなど。
ートなど。
アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエ
チルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなど。
チルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなど。
アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルフォン酸など。
2−メチルプロパンスルフォン酸など。
イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエンジ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの
1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの
1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
さらに、上記の共重合体のガス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
を共重合させることができる。このような共重合可能な
単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−
ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、などが挙げられる。
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
を共重合させることができる。このような共重合可能な
単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−
ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、などが挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬
化樹脂が得られる。
法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬
化樹脂が得られる。
(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
(ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。
(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させても良
い。
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させても良
い。
またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線
または電子線硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
または電子線硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
また上記のものは電子線により十分な硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノ
ン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものも用いることができる。
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノ
ン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものも用いることができる。
反射性金属薄膜層4は、ホログラム層3に反射性を与え
るためのものであって、Cr,Ti,Fe,Co,Ni,Cu,Ag,Au,Ge,A
l,Mg,Sb,Pb,Cd,Bi,Sn,Se,In,Ga,Rbなどの金属およびそ
の酸化物、窒化物などを単独もしくは2種以上組合せて
用いて形成される。これらの金属のうちAl,Cr,Ni,Ag,Au
などが特に好ましい。
るためのものであって、Cr,Ti,Fe,Co,Ni,Cu,Ag,Au,Ge,A
l,Mg,Sb,Pb,Cd,Bi,Sn,Se,In,Ga,Rbなどの金属およびそ
の酸化物、窒化物などを単独もしくは2種以上組合せて
用いて形成される。これらの金属のうちAl,Cr,Ni,Ag,Au
などが特に好ましい。
このような反射性金属薄膜層をホログラム層上に形成す
るには、上記のような金属あるいは合金を準備し、これ
をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、電気メッキ法などの従来既知の方法によってホロ
グラム層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の
膜厚は10〜10.000Å望ましくは200〜2000Åであること
が好ましい。
るには、上記のような金属あるいは合金を準備し、これ
をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、電気メッキ法などの従来既知の方法によってホロ
グラム層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の
膜厚は10〜10.000Å望ましくは200〜2000Åであること
が好ましい。
接着剤層5は、ホログラム転写シートをカード類あるい
は本の表紙、レコードジャケットなどに接着させる役割
を果している。接着剤層としては、アクリル系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来接着剤層として
既知のものが広く使用できる。この接着剤層の膜厚は、
0.1〜50μm、望ましくは0.5〜10μmであることが好ま
しい。
は本の表紙、レコードジャケットなどに接着させる役割
を果している。接着剤層としては、アクリル系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来接着剤層として
既知のものが広く使用できる。この接着剤層の膜厚は、
0.1〜50μm、望ましくは0.5〜10μmであることが好ま
しい。
剥離層6は、基材フイルム2とホログラム層3との間に
剥離性を与えしかも転写後の表面の印刷適正およびホロ
グラム層の保護などを与えるための役割を果している。
剥離層6としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹
脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹
脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂
などの従来剥離層としての既知のものが広く使用でき
る。この剥離層の膜厚は、0.05〜10μm、望ましくは0.
2〜2μmであることが好ましい。
剥離性を与えしかも転写後の表面の印刷適正およびホロ
グラム層の保護などを与えるための役割を果している。
剥離層6としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹
脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹
脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂
などの従来剥離層としての既知のものが広く使用でき
る。この剥離層の膜厚は、0.05〜10μm、望ましくは0.
2〜2μmであることが好ましい。
なおホログラム層が上記の剥離層としての役割を果す場
合には、基本的には剥離層は不要である。
合には、基本的には剥離層は不要である。
オーバープリント層7は、ホログラム層3と剥離層6と
の間に接着性を高め、しかもホログラムの耐久性を与え
る役割を果している。オーバープリント層としては、硬
化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン
系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来オー
バープリント層として既知のものが広く使用できる。こ
のオーバープリント層の膜厚は、0.5〜10μm、望まし
くは0.2〜2μmであることが好ましい。
の間に接着性を高め、しかもホログラムの耐久性を与え
る役割を果している。オーバープリント層としては、硬
化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン
系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来オー
バープリント層として既知のものが広く使用できる。こ
のオーバープリント層の膜厚は、0.5〜10μm、望まし
くは0.2〜2μmであることが好ましい。
アンカー層8は、反射性金属薄膜層4と接着剤層5との
間に接着性を高める役割を果している。アンカー層8と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル
系樹脂、などの従来アンカーそとして既知のものが広く
使用できる。このアンカー層の膜厚は、0.02〜10μm、
望ましくは0.2〜2μmであることが好ましい。
間に接着性を高める役割を果している。アンカー層8と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル
系樹脂、などの従来アンカーそとして既知のものが広く
使用できる。このアンカー層の膜厚は、0.02〜10μm、
望ましくは0.2〜2μmであることが好ましい。
次に、本発明に係るホログラム転写シートの製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、基材フイルム2上に、必要に応じて剥離層6およ
びオーバープリント層7を介して熱成形性を有する紫外
線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂、好まし
くは熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または熱成形性を
有する電子線硬化樹脂を設けてホログラム形成用フイル
ムを形成する。
びオーバープリント層7を介して熱成形性を有する紫外
線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂、好まし
くは熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または熱成形性を
有する電子線硬化樹脂を設けてホログラム形成用フイル
ムを形成する。
ホログラム層3を熱成形性の紫外線硬化樹脂または電子
線硬化樹脂で形成するには、基材フイルム上に紫外線硬
化樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラ
ム形成用フイルムとホログラム原版とを圧接させ、次い
で紫外線または電子線をこのフイルム上に照射して前記
樹脂を硬化させて、樹脂の表面に物体からの光の波面に
相当する凹凸を形成すればよい。
線硬化樹脂で形成するには、基材フイルム上に紫外線硬
化樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラ
ム形成用フイルムとホログラム原版とを圧接させ、次い
で紫外線または電子線をこのフイルム上に照射して前記
樹脂を硬化させて、樹脂の表面に物体からの光の波面に
相当する凹凸を形成すればよい。
また、ホログラム層3を紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂で形成する場合には、従来用いられてきた種類の
紫外線硬化樹脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体状
態にあるため、基材フイルム上に塗布した場合に著しく
べたつき、したがって基材フイルム上に従来の紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を塗布してなるホログラム形成用フ
イルムは巻取って保管することができず、ホログラム原
版と接触する直前に基材フイルム上にいちいち紫外線硬
化樹脂を塗布してホログラム形成用フイルムを作成しな
ければならない。
化樹脂で形成する場合には、従来用いられてきた種類の
紫外線硬化樹脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体状
態にあるため、基材フイルム上に塗布した場合に著しく
べたつき、したがって基材フイルム上に従来の紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を塗布してなるホログラム形成用フ
イルムは巻取って保管することができず、ホログラム原
版と接触する直前に基材フイルム上にいちいち紫外線硬
化樹脂を塗布してホログラム形成用フイルムを作成しな
ければならない。
したがって本発明においては、ホログラム層3を上記の
方法によっても作成しうるが、以下の方法によって作成
することが最も好ましい。
方法によっても作成しうるが、以下の方法によって作成
することが最も好ましい。
すなわち基材フイルム上に熱成形性を有する紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が設けら
れてなるホログラム形成用フイルムと、表面に物体から
の光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様に形成したホロ
グラム原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または
電子線硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして加
熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し、原版と
フイルムとが密着した状態で紫外線または電子線をホロ
グラム形成用フイルムに照射するかあるいは熱を加える
ことにより、前記樹脂を硬化させてホログラム層3を作
成する。
樹脂または電子線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が設けら
れてなるホログラム形成用フイルムと、表面に物体から
の光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様に形成したホロ
グラム原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または
電子線硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして加
熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し、原版と
フイルムとが密着した状態で紫外線または電子線をホロ
グラム形成用フイルムに照射するかあるいは熱を加える
ことにより、前記樹脂を硬化させてホログラム層3を作
成する。
この方法によれば、ホログラム層を形成している樹脂は
硬化されているので、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとを複数回にわたって加熱、冷却をくり返す
必要がなく、したがってホログラム原版の凹凸の劣化が
減少できる。またホログラム原版とホログラム形成用フ
イルムとを加熱状態に保って圧接して該フイルム上に凹
凸を形成した後直ちに圧接状態を解除することができ、
したがって冷却工程が必ずしも必要ではなくなる。さら
にホログラム形成用フイルムを巻取って保存することが
でき、したがってホログラムの複製工程を簡素化できる
とともに大量生産が可能となる。
硬化されているので、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとを複数回にわたって加熱、冷却をくり返す
必要がなく、したがってホログラム原版の凹凸の劣化が
減少できる。またホログラム原版とホログラム形成用フ
イルムとを加熱状態に保って圧接して該フイルム上に凹
凸を形成した後直ちに圧接状態を解除することができ、
したがって冷却工程が必ずしも必要ではなくなる。さら
にホログラム形成用フイルムを巻取って保存することが
でき、したがってホログラムの複製工程を簡素化できる
とともに大量生産が可能となる。
ホログラム原版とホログラム形成用フイルムとを加熱圧
接するに際しては、加熱ロールなどの加熱圧接手段を用
いることができ、この際加熱ロールの温度は、用いられ
べき樹脂の種類ベースフイルムの材料、厚み等によって
大きく変化するが、一般的には、100〜200℃であること
が適当である。また、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとは0.1kg/cm2以上、望ましくは1kg/cm2以上
の圧力下に圧接することが好ましい。
接するに際しては、加熱ロールなどの加熱圧接手段を用
いることができ、この際加熱ロールの温度は、用いられ
べき樹脂の種類ベースフイルムの材料、厚み等によって
大きく変化するが、一般的には、100〜200℃であること
が適当である。また、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとは0.1kg/cm2以上、望ましくは1kg/cm2以上
の圧力下に圧接することが好ましい。
この際に、紫外線または電子線を照射する場合には、そ
の照射強度はホログラム原版のホログラムの凹凸を成形
したフイルムを版より剥離した後に再度照射しても良
く、樹脂を十分に硬化させることが好ましい。紫外線、
電子線の照射量は、使用する樹脂に応じて適宜決めるこ
とが必要である。
の照射強度はホログラム原版のホログラムの凹凸を成形
したフイルムを版より剥離した後に再度照射しても良
く、樹脂を十分に硬化させることが好ましい。紫外線、
電子線の照射量は、使用する樹脂に応じて適宜決めるこ
とが必要である。
なお、熱成形性の紫外線または電子線硬化樹脂を用いて
ホログラムを成形する場合には、従来の一般の熱可塑性
樹脂を用いた場合と同様に加熱加圧下でホログラムの凹
凸を成形しその状態で冷却した後フイルムを剥離し、ホ
ログラムを複製しても良く、その後に紫外線または電子
線を照射し、樹脂を硬化させてもよい。
ホログラムを成形する場合には、従来の一般の熱可塑性
樹脂を用いた場合と同様に加熱加圧下でホログラムの凹
凸を成形しその状態で冷却した後フイルムを剥離し、ホ
ログラムを複製しても良く、その後に紫外線または電子
線を照射し、樹脂を硬化させてもよい。
次に、反射性金属薄膜層を被着させる。この反射性金属
薄膜層は、前述のごとく、イオンプレーティング法、真
空蒸着法などによってホログラム層上に設けることがで
きる。
薄膜層は、前述のごとく、イオンプレーティング法、真
空蒸着法などによってホログラム層上に設けることがで
きる。
次いで、この反射性金属薄膜層上に、必要に応じてアン
カー層を設けた後に、接着剤層を塗布法などにより設け
ると、本発明に係るホログラム転写シートが得られる。
カー層を設けた後に、接着剤層を塗布法などにより設け
ると、本発明に係るホログラム転写シートが得られる。
本発明においては、特定の構成を有するホログラム転写
シートおよびその製造方法が提供されるので、以下のよ
うな効果が得られる。
シートおよびその製造方法が提供されるので、以下のよ
うな効果が得られる。
(a) ホログラムをカード類、本の表紙、レコードジ
ャケットなどの表面に、熱転写法によって効率よく設け
ることが可能となる。
ャケットなどの表面に、熱転写法によって効率よく設け
ることが可能となる。
(b) ホログラムを特にカード類表面に設ける場合に
は、既存の設備がほぼそのままで利用しうる。
は、既存の設備がほぼそのままで利用しうる。
(c) ホログラム層の熱転写に際して、ホログラム層
は硬化された樹脂によって形成されているため、ホログ
ラムの微細な凹凸模様が消滅することがない。
は硬化された樹脂によって形成されているため、ホログ
ラムの微細な凹凸模様が消滅することがない。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1 基材としての厚み25μmのポリエチレンテレフタレート
フイルムに、剥離層としてアクリル系樹脂(アクリナー
ル#100、東栄化成製アクリル樹脂)を0.5μmの厚みに
塗布し、さらにこの上にホログラム形成用樹脂として、
トリメチロールプロパントリアクリレートを2μm塗布
してホログラム形成用フイルムを作製した。
フイルムに、剥離層としてアクリル系樹脂(アクリナー
ル#100、東栄化成製アクリル樹脂)を0.5μmの厚みに
塗布し、さらにこの上にホログラム形成用樹脂として、
トリメチロールプロパントリアクリレートを2μm塗布
してホログラム形成用フイルムを作製した。
次に、このホログラム形成用フイルムの樹脂面にホログ
ラム原版として、ホログラムが凹凸形状で記録させてい
る金型を加圧密着させ、この状態でこれをフイルム面よ
り175kV,10Mradの強度の電子線下に5m/minの速さで通し
つつ電子線を照射してホログラム形成用樹脂を硬化させ
た。
ラム原版として、ホログラムが凹凸形状で記録させてい
る金型を加圧密着させ、この状態でこれをフイルム面よ
り175kV,10Mradの強度の電子線下に5m/minの速さで通し
つつ電子線を照射してホログラム形成用樹脂を硬化させ
た。
次にこのホログラムが形成された上記フイルムをホログ
ラム原版より剥離し凹凸が形成された面にアルミニウム
を800Åの厚みに真空蒸着し、さらにその上に接着剤層
として、アクリナール#3000(東栄化成製アクリル樹
脂)を3μmの厚みに塗布し転写シートを作製した。
ラム原版より剥離し凹凸が形成された面にアルミニウム
を800Åの厚みに真空蒸着し、さらにその上に接着剤層
として、アクリナール#3000(東栄化成製アクリル樹
脂)を3μmの厚みに塗布し転写シートを作製した。
この様にして作製したホログラム転写シートを接着剤層
を下にして紙の上にのせ上方より170℃ 50kg/cm2の条
件で加熱加圧し、転写シートと紙とを剥離したところ、
紙にホログラムが転写された。
を下にして紙の上にのせ上方より170℃ 50kg/cm2の条
件で加熱加圧し、転写シートと紙とを剥離したところ、
紙にホログラムが転写された。
実施例2 ホログラム形成用樹脂として、トリメチロールプロパン
トアクリレート100部に対し、増感材としてイルガキニ
アー184(チバガイギー社製)を4%加えたものを使用
した以外は、実施例1に記載した方法と同様にしてホロ
グラム形成用フイルムを作製し、ホログラム原版に加圧
密着した。
トアクリレート100部に対し、増感材としてイルガキニ
アー184(チバガイギー社製)を4%加えたものを使用
した以外は、実施例1に記載した方法と同様にしてホロ
グラム形成用フイルムを作製し、ホログラム原版に加圧
密着した。
次にフイルム面より、80W/cm水銀灯下10cmの位置を2m/m
inの速さで通して紫外線を照射し、ホログラム形成用樹
脂を硬化させた。
inの速さで通して紫外線を照射し、ホログラム形成用樹
脂を硬化させた。
さらに実施例1で示した方法と同様にアルミニウムの真
空蒸着、接着剤層を塗布しホログラム転写シートを作製
したところ、実施例1と同様に紙上にホログラムが転写
された。
空蒸着、接着剤層を塗布しホログラム転写シートを作製
したところ、実施例1と同様に紙上にホログラムが転写
された。
実施例3 下記組成物を6時間還流させ、共重合を行った。
メチルメタクリレート 284重量部 2−ヒドロキシエチル 130 〃 メタクリレート 酢酸エチル 1100 〃 α,α′−アゾビス 2 〃 イソブチロニトリル 次いで、得られた反応物に0.1重量部のパラメトキシフ
ェノールを加え反応を停止させた後、100重量部の2ヒ
ドロキシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソシ
アネートの1モル対1モル付加物を加えさらにジブチル
チンジラウリレートを5重量部加えて、乾燥空気を送り
ながら80℃で5時間反応させた。
ェノールを加え反応を停止させた後、100重量部の2ヒ
ドロキシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソシ
アネートの1モル対1モル付加物を加えさらにジブチル
チンジラウリレートを5重量部加えて、乾燥空気を送り
ながら80℃で5時間反応させた。
反応液を室温まで冷却した後15重量部の紫外線増感材
(イルガキニア184チバガイギー社製)を加え均一に溶
解させて、紫外線硬化可能な塗工材料を得た。
(イルガキニア184チバガイギー社製)を加え均一に溶
解させて、紫外線硬化可能な塗工材料を得た。
実施例1と同様に、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム25μmに剥離層を設け、次いで上記で得られた材料を
乾燥した状態で厚み2.5μmの厚みになるように均一に
塗布してホログラム成形用フイルムとした。この塗工フ
イルムは常温ではベタつかず巻取状態で保管できる。
ム25μmに剥離層を設け、次いで上記で得られた材料を
乾燥した状態で厚み2.5μmの厚みになるように均一に
塗布してホログラム成形用フイルムとした。この塗工フ
イルムは常温ではベタつかず巻取状態で保管できる。
次にこの塗工フイルムの樹脂面と、ホログラムが凹凸の
形状で記憶されている金型の凹凸面とを重ね合せ150℃2
0kg/cm2の圧力でニップロールを用いて加熱加圧し、金
型と塗工フイルムとを密着させた。
形状で記憶されている金型の凹凸面とを重ね合せ150℃2
0kg/cm2の圧力でニップロールを用いて加熱加圧し、金
型と塗工フイルムとを密着させた。
次にこれらを密着した状態でフイルム側より80W/cmの出
力を有する紫外線ランプの10cm下を1m/minの速度で通し
て紫外線を照射し塗工した樹脂を停止した。この後、前
記フイルムを金型より剥離した。次に実施例1と同様に
して転写シートを作製した。
力を有する紫外線ランプの10cm下を1m/minの速度で通し
て紫外線を照射し塗工した樹脂を停止した。この後、前
記フイルムを金型より剥離した。次に実施例1と同様に
して転写シートを作製した。
本方法を用いることによりきわめて効率良く転写シート
を作製できた。
を作製できた。
第1図および第2図は、本発明に係るホログラム転写シ
ートの断面図である。 1……ホログラム転写シート、2……基材フイルム、 3……ホログラム層、4……反射性金属薄膜層、5……
接着剤層。
ートの断面図である。 1……ホログラム転写シート、2……基材フイルム、 3……ホログラム層、4……反射性金属薄膜層、5……
接着剤層。
Claims (3)
- 【請求項1】基材フィルム上に、剥離層、表面に物体か
らの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形で形成されて
いるホログラム層、反射性金属蒸着層および感熱接着剤
層がこの順序で設けられているホログラム転写シートに
おいて、前記ホログラム層が硬化された紫外線硬化樹脂
または電子線硬化樹脂からなることを特徴とするホログ
ラム転写シート。 - 【請求項2】剥離層とホログラム層との間に、ホログラ
ムの耐久性を与えるオーバープリント層が形成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のホロ
グラム転写シート。 - 【請求項3】基材フィルム上に剥離層が形成され、前記
剥離層上に熱成形性を有し固体状の紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂層が形成されたホログラム形成用フィ
ルムを準備した後、前記ホログラム形成用フィルムと、
表面に物体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形
で形成されているホログラム原版とを、前記樹脂が加熱
されている条件下で、前記ホログラム形成用フィルムの
前記樹脂が前記ホログラム原版に接するようにして圧接
させて、前記樹脂に凹凸を形成して、紫外線または電子
線を前記ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂
を硬化させて、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性
金属薄膜を被着させ、次いでこの反射性金属薄膜層上に
感熱接着剤層を設けることを特徴とするホログラム転写
シートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111664A JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59111664A JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60254175A JPS60254175A (ja) | 1985-12-14 |
JPH0677174B2 true JPH0677174B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=14567054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59111664A Expired - Fee Related JPH0677174B2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0677174B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0447748Y2 (ja) * | 1986-03-06 | 1992-11-11 | ||
JPS62222282A (ja) * | 1986-03-24 | 1987-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム転写箔の製造方法 |
JPH0622864Y2 (ja) * | 1986-04-21 | 1994-06-15 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム転写シート |
JPH0434538Y2 (ja) * | 1986-05-13 | 1992-08-17 | ||
JPS62190512U (ja) * | 1986-05-23 | 1987-12-04 | ||
JPH0435913Y2 (ja) * | 1986-11-05 | 1992-08-25 | ||
JPH0435914Y2 (ja) * | 1986-11-05 | 1992-08-25 | ||
JPH075000B2 (ja) * | 1986-11-18 | 1995-01-25 | 尾池工業株式会社 | 転写箔 |
JPS6387096U (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-07 | ||
JPH07115446B2 (ja) * | 1988-08-02 | 1995-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 賦型性を有する転写箔及びその製造方法 |
JP2579877B2 (ja) * | 1992-12-10 | 1997-02-12 | バンドー化学株式会社 | 積層シートとその製造方法 |
JP3498279B2 (ja) * | 1996-06-12 | 2004-02-16 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 熱転写シート及びそれを用いて形成した画像要素 |
JPH11300829A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-02 | Toyota Motor Corp | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5835578A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラムの複製方法 |
JPS58132271A (ja) * | 1982-02-01 | 1983-08-06 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム製造方法 |
JPS5988780A (ja) * | 1982-11-08 | 1984-05-22 | アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− | 光回折記録体及び光回折パタ−ンを作る方法 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP59111664A patent/JPH0677174B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60254175A (ja) | 1985-12-14 |
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