JP2522680B2 - 可撓性レ―ザ―ディスクの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） この発明は可撓性レーザーディスクの製造方法に関
し、さらに詳しくは複製工程を著しく簡素化できると共
に、大量生産が可能な可撓性レーザーディスクの製造方
法に関する。

（技術的背景と解決すべき問題点） レーザーディスク（光ディスク）は、コンピュータの
飛躍的な発展に支えられた情報化社会における大容量メ
モリの需要，ポストカラーテレビの目玉商品としてのビ
デオディスクへの熱い眼差し、レーザー技術の進歩、こ
れらに支えられて来た。レーザーディスクの記録容量、
記録密度は磁気メモリに比べて圧倒的な大きさであり、
光を用いる目的はここにある。しかし、光メモリは現状
ではROM型の専用メモリにならざるを得ず、この点で記
録、再生が繰返し可能な磁気メモリとは相補的な関係に
あり、それぞれに適した応用分野がある。

光学式の利点は次の通りである。

記録密度が高く搬送周波数を上げ得、VTRのトラック
幅58μに対し、レーザーディスクでは２μ以下である。

非接触の再生方式であり、傷やほこりによるドロップ
アウトノイズに強い。接触型再生方式では小さなほこり
でもそれを再生針が引きずるため、ほこりの見掛け上の
大きさが非常に大きくなる。

操作性及び保守性が秀れている。接触型ではほこりの
出ない特殊エンベローブが不可欠であるほか、取扱い時
にも手指等の油脂からの保護など最新の注意が必要とな
る。

ディスクやピックアップの消耗がなく、長寿命であ
る。

再生モードが多様である。

上述のように、レーザーディスクに最も期待されてい
る特長の一つは安価な大容量メモリということであり、
これはレーザーディスクの製造の容易さによって期待さ
れているものである。再生専用型のレーザーディスクも
またプリフォーマット，プリグリープを持つ記録可能型
レーザーディスクも１枚の原盤金型を作って、これから
の大量レプリカを作ることにより、対容量のレーザーデ
ィスクの生産が容易にできる。

しかしながら、従来のレーザーディスクは、剛性を持
った形体となっているため、PMMA（ポリメチルメタクリ
レート）やPC（ポリカーボネート）を原料として、噴出
成形方法により１枚ずつ作製するのが一般的である。こ
のため、レーザーディスクの複製も工程として複雑であ
り、レーザーディスクを本や物品等に貼付あるいは収納
して手軽に運搬、販売することは不可能であった。

このことから、運搬や販売等に便利なソノシート型の
可撓性レーザーディスクの開発と共に、その製造方法の
出現が望まれていた。

（発明の目的） この発明は上記従来技術に伴なう欠点を解決しようと
するものであり、レーザーディスク原版とレーザーディ
スク形成用フイルムとに加熱冷却を繰り返す必要がな
く、レーザーディスク原版を劣化させることがないと共
に、ピット形成前に反射膜層を予め層設して工程を簡略
化し、運搬等に便利な可撓性レーザーディスクを大量に
複製するに最適なレーザーディスクの製造方法を提供す
ることを目的としている。

（問題点を解決するための手段） この発明は可撓性レーザーディスクの製造方法に関
し、この発明の上記目的は基材フイルム上に熱成形性を
有する樹脂層が層設され、前記樹脂層上に金属反射層が
平滑に層設されているレーザーディスク形成用フイルム
の前記金属反射層に対し、情報が表面の凹凸で記録され
ているレーザーディスク原版を当接するようにし加熱条
件下で圧接して前記金属反射層に前記凹凸を記録するこ
とによって達成される。

（発明の作用） この発明の可撓性レーザーディスクの製造方法は基板
フイルム上に紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂を塗布
し、その表面に金属の反射膜層を形成した可撓性レーザ
ーディスク形成用フイルムにレーザーディスク原版を当
接させ、加熱圧接して前記反射膜層にレーザーディスク
原版の凹凸の情報を記録した後、上記紫外線硬化樹脂又
は電子線硬化樹脂に紫外線又は電子線を照射して樹脂硬
化を行って製品としているため複製工程が簡素化され、
大量生産が可能になっている。

（発明の実施例） 第１図は、この発明に使用する可撓性のレーザーディ
スク形成用フイルムの断面を示す図である。厚さが100
μ程度の可撓性のレーザーディスク形成用フイルム１
は、基材フイルム２上に熱成形性を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂３が層設されて構成されてい
る。基材フイルム２としては、フイルム状のあらゆる材
料が用いられ得る。具体的には、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、ポリカーボネートなどの重合体フイル
ム、紙、合成紙、鉄などの金属フイルムなどが用いられ
得る。さらに、これらの積層体も用いられ得る。

この発明に用いる熱成形性を有する紫外線硬化樹脂ま
たは電子線硬化樹脂３は、常温では固体状であって、基
材フイルム２上に設けられた場合に、表面がベタつくこ
となく巻取り可能である。したがって、基材フイルム２
上に前記樹脂を設けて成るレーザーディスク形成用フイ
ルム１は巻取って保存することができるため、レーザー
ディスク原版と接触する直前に、基材フイルム２上にい
ちいち前記樹脂層を設ける必要はない。

この発明の可撓性レーザーディスクの記録層に使用可
能な材料としては、ラジカル重合性不飽和基を有する熱
成形性物体であり、次の２種類のものがある。

（１）ガラス転移温度が０〜250℃のポリマー中にラジ
カル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には、
ポリマーとしては以下の化合物〜を重合もしくは共
重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜（ニ）に
よりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いるこ
とができる。

水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルアミ
ド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フエノキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フエ
ノキシプロピルアクリレートなど。

カルボキシル基を有する単量体：アクリル酸、メタク
リル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートな
ど。

エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタクリレー
トなど。

アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエチ
ルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリ
ルなど。

アミノ基を有する単量体：アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。

スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−２
−メチルプロパンスフォン酸など。

イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエンジイ
ソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの１
モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性水素
を有するラジアル重合性単量体の付加物など。

さらに、上記共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と、
この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合
させることもできる。このような共重合可能な単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリルリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレートなどが挙げられる。

次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べ
る方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性
不飽和基を導入することによって、この発明に係る材料
を得ることができる。

（イ）水酸基を有する単量体の重合体、または共重合体
の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ
ル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。

（ハ）エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。

（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。

上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの
重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが
好ましい。

（２）融点が０〜250℃であり、ラジカル重合性不飽和
基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレー
ト、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシア
ネート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シク
ロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコー
ルジアクリレート、スピログリコールメタクリレートな
どが挙げられる。

このようなラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射
線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるも
のであって、前述の単量体の他にエチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジ
アクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテ
ルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジル
エーテルテトラメタクリレートなどを用いることがで
き、前記した共重合体混合物の固型分100重量部に対し
て、0.1〜100重量部で用いることが好ましい。また、上
記のものは電子線により十分に硬化可能であるが、紫外
線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノ
ン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベン
ゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビア
チル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するもの
も用いることができる。

更に、紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂３で成る樹
脂層の上には蒸着スパッタリング，イオンプレーティン
グ，メッキ等によって厚さが約500〜1000Åのアルミニ
ウム等の反射膜層７が形成されている。

次に、可撓性のレーザーディスク形成用フイルム１の
具体的な製造例について説明する。

まず、基材フイルム２として厚さ100μｍのポリエチ
レンテレフタレートフイルム（東レ製ルミラー）を用意
し、この表面に、下記の製法により得られる紫外線硬化
樹脂３を塗布する。

表１の組成物を６時間還流させて共重合を行ない、次
いで0.1重量部のパラメトキシフェノールを加え反応を
停止させる。得られた反応物に100重量部の２−ヒドロ
キシエチルアクリレートと、2,4−トルエンジイソシア
ネートの１モル対１モル付加物を加え、更にゾブチルチ
ンジラウリレートを５重量部加え乾燥空気を送りながら
80℃で５時間反応させた。反応液を室温まで冷却した
後、15重量部の紫外線増感材（チバガイギー社製 イル
ガキユア184）を加え、均一に溶解させて（情報ビット
形成層）用の樹脂液を得た。次に、この樹脂液を上記基
材フイルム２に固型分が3g/m²になるように塗布し、溶
剤を乾燥させた。そして、反射膜層７としてアルミニウ
ムを真空蒸着法によって800Åの厚さに積層させ、レー
ザーディスク形成用フイルム１を完成させた。

次に、このレーザーディスク形成用フイルム１を使用
した可撓性レーザーディスクの製法について説明する。

この発明ではレーザーディスク形成用フイルム１にレ
ーザーディスク原版を作用させて可撓性レーザーディス
クを製造している。

第２図は可撓性レーザーディスクの製造方法の概略を
示しており、レーザーディスク原版４はその表面に、音
声や画像等の電気信号に対応した凹凸が記録情報として
形成されている。このレーザーディスク原版４は従来既
知の方法によって作成することができ、また、レーザー
ディスク原版４に形成される記録層は材料表面の凹凸に
より情報を記録できるタイプのものである。

上記のようなレーザーディスク形成用フイルム１とレ
ーザーディスク原版とを、加熱ローラなどの加熱圧接手
段である加熱圧接ローラ5aを介して、フイルム１の反射
膜層７がレーザーディスク原版４に接するようにして加
熱圧接し、レーザーディスク形成用フイルム１の反射膜
層７の表面にレーザーディスク原版４の凹凸態様を複製
する。

この際、加熱ローラの温度は、反射膜層７上方に用い
られている紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂３の種
類によって大きく変化するが、50〜300℃、望ましくは1
00〜200℃であることが好ましい。さらに、レーザーデ
ィスク形成用フイルム１とレーザーディスク原版４と
は、0.1kg/cm以上、望ましくは1kg/cm以上の圧力下に圧
接されることが好ましい。

このようにして、レーザーディスク形成用フイルム１
の反射膜層７の表面に、音声や画像等の電気信号に対応
した凹凸の模様を形成し、レーザーディスク原版４との
圧接状態で紫外線硬化樹脂ならば紫外線を、また電子線
硬化樹脂ならば電子線を、それぞれレーザーディスク形
成用フイルム１上に照射して前記樹脂３を硬化させる。
紫外線又は電子線のレーザーディスク形成用フイルム１
上への照射は、照射光源６により行なえば良い。この
際、紫外線または電子線の照射は、レーザーディスク原
版４の凹凸を形成したフイルムを版により剥離した後に
再度照射してもよく、樹脂を十分に硬化させることが好
ましい。紫外線または電子線の照射量は使用する樹脂に
より適宜決めることが必要である。

このようにして、レーザーディスク形成用フイルム１
の紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を
形成した状態で、紫外線又は電子線を照射して前記樹脂
を硬化させることによって、直ちにレーザーディスク原
版とレーザーディスク形成用フイルムとの間にかけてい
た圧力を解除して冷却することが可能となる。なぜなら
ば前記樹脂は紫外線または電子線の照射によって直ちに
硬化し、レーザーディスク原版４とレーザーディスク形
成用フイルム１との間にかけていた圧力を解除しても、
形成された凹凸は消滅しないためである。また、紫外線
あるいは電子線の照射により樹脂が三次元架橋硬化する
ため、耐熱耐溶剤性が付与される。なお、レーザーディ
スク原版４及びレーザーディスク形成用フイルム１を、
紫外線又は電子線の照射前あるいは照射後に強制的に冷
却してもよいが、通常は自然に冷却すれば充分である。

次に、表面に凹凸模様が形成されたレーザーディスク
形成用フイルム１の凹凸模様面に更に第３図に示すよう
に透明樹脂の保護層８をコーティングで層設しても良
い。このようにして反射膜層７に凹凸模様が形成され、
必要に応じて更に保護層８が層設されたレーザーディス
ク形用フイルム１を通常の打抜方法で所定の形状、サイ
ズに打抜き、第４図に示すような可撓性レーザーディス
ク100が得られる。具体的な製造例では、樹脂に紫外線
硬化樹脂を使用し160℃,30kg/cmの条件で加熱圧接ロー
ラ5aを通しレーザーディスク原版にレーザーディスク形
成用フイルム１を密着させ、照射光源（80W/cm水銀灯）
６を使用して10m/minの速度で紫外線を照射して樹脂を
硬化させ、耐熱性耐溶剤性に優れた可撓性レーザーディ
スク100が得られた。

第５図は、この発明の一実施例を示す可撓性レーザー
ディスクの製造装置の概略正面断面図であり、第６図は
その側面図である。可撓性レーザーディスク製造装置10
には、ベッド13に固定された一対の本体フレーム12に給
紙装置20、転写装置30、照射装置50、巻取装置60が順次
配設されている。

給紙装置20は、本体フレーム12に固定されたコロ23に
回転自在に支持されたシャフト22と、支持部材25により
本体フレーム12に固定されたパウダーブレーキ24とで成
り、シャフト22にはレーザーディスク形成用フイルム１
の巻取ロール21が装着され、その先端はパウダーブレー
キ24に連結されている。

転写装置30は、本体フレーム12の中央部に固定された
軸受33に軸32が回転自在に支持されたエンボスローラ31
と、一対のアーム42に回転自在に支持された押付けロー
ラ40と、加圧機構38とで成る。加圧機構38は一対のアー
ム42及びエアシリンダ45で成り、エアシリンダ45のピス
トンロッド46の先端にはアタッチメント47が装着され、
アタッチメント47はアーム42の中央下部にピン48を介し
て回転自在に支持され、エアシリンダ45は本体フレーム
12に固定されたピン49に回転自在に支持されている。一
対のアーム42はロッド44で固定連結され、本体フレーム
12に固定されたピン43に回転自在に支持されている。従
って、エアシリンダ45のピストンロッド46の作動により
アーム42がピン43を支点として回転し、押付けローラ40
がエンボスローラ31に押付けられる。なお、加圧機構38
は上記機構に限定するものではなく、油圧シリンダー、
電動モータ、メカプレス等により、押付けローラ40をエ
ンボスローラ31に押付ける機構のものであってもよい。
押付けローラ40には加熱装置（図示せず）が装備され、
押付けローラ40の表面を加熱するようになっている。こ
の加熱装置としては、押付けローラ40の内部に設けられ
た電熱ヒータ、或いは押付けローラ40の内部に蒸気を供
給する装置、或いは押付けローラ40の外部に設けられた
遠赤外線ヒータ等を適宜選択できる。また、上記加熱装
置は押付けローラ40を加熱するものであるが、エンボス
ローラ31を加熱する装置であってもよく、この場合には
上記押付けローラ40の加熱装置と同じものを使用すれば
よい。エンボスローラ31は、第７図に示すようにその周
表面にレーザーディスク原版４が設けられたもので、レ
ーザーディスク原版としては樹脂版又は金属版が使用可
能であり、樹脂版をレーザーディスク原版としてシリン
ダの周表面に貼りつけたもの、またはシリンダの周表面
に直にあるいはメッキを施した後、腐食，彫刻等により
レーザーディスク原版を形成したものが使用される。エ
ンボスローラ31の軸32の駆動側先端に装着され、本体フ
レーム12上部に設けられた架台18に固定された駆動モー
タ14の駆動軸先端に装着されたプーリー17とはベルト35
で連結されている。また、エンボスローラ31には、軸32
にロータリージョイント，ホース，冷却水供給装置等が
接続された冷却装置（図示せず）が装備され、ローラ表
面を冷却するようになっている。なお、エンボスローラ
31に加熱装置を設けた場合には、上記冷却装置は必要な
い。

照射装置50は、距離を隔てて本体フレーム12に固定の
軸受53に回転自在に支持された巻付けローラ51と対向す
る位置に、支持部材（図示せず）を介して本体フレーム
12に固定され、巻付けローラ51に巻付けられたレーザー
ディスク形成用フイルム１に紫外線または電子線を照射
するようになっている。また、照射装置50の巻付位置は
上記位置に限定されるものではなく、エンボスローラ31
の近傍に設けて、レーザーディスク形成用フイルム１が
エンボスローラ31に巻付けられている状態で、或いはエ
ンボスローラ31から剥離された直後にレーザーディスク
形成用フイルム１に紫外線または電子線を照射してもよ
い。なお、巻付けローラ51の軸52にロータリジョイン
ト，ホース，冷却水供給装置等が接続された冷却装置
（図示せず）を設けて、その表面を冷やした方がよい。

巻取装置60は、本体フレーム12に固定されたコロ63に
回転自在に支持されたシャフト62と、支持部材65により
本体フレーム12に固定されたパウダークラッチ64とで成
り、パウダークラッチ64の入力側にはプーリー67が装着
された軸66が連結され、出力側にはシャフト62が連結さ
れている。シャフト62にレーザーディスク形成用フイル
ム１が巻取られるようになっている。

また、エンボスローラ31と給紙装置20との間には、本
体フレーム12に回転自在に支持されたガイドローラ71,7
2が設けられ、エンボスローラ31と巻付けローラ51との
間のエンボスローラ31の近傍には、ガイドローラ73が設
けられている。ガイドローラ739はレーザーディスク形
成用フイルム１のエンボスローラ31への巻付け角を決定
するものであり、第５図の位置に限定するものではな
く、加熱温度，エンボスローラ31の回転等の諸条件に応
じて適宜配設されるものである。なお、エンボスローラ
31と給紙装置20との間に予熱装置（図示せず）を設け
て、レーザーディスク形成用フイルム１を予め加熱し、
押付けローラ40とエンボスローラ31との間で行われる樹
脂層３の軟化を促進させてもよい。

次に、上述の可撓性レーザーディスクの製造装置10の
動作を説明する。

まず、給紙装置20より繰り出されたレーザーディスク
形成用フイルム１は、ガイドローラ71,72を介してエン
ボスローラ31に案内される。このとき、パウダーブレー
キ24によりレーザーディスク形成用フイルム１は適性な
テンションに調整されている。次いで、エアシリンダ45
の作動により、押付けローラ40によってフイルム１がエ
ンボスローラ31に一定圧で押付けられる。押付けローラ
40の表面は加熱されているために反射膜層７上部の反射
膜７が軟化し、第７図に示すようにレーザーディスク原
版４の凹凸が反射膜層７に転写され、樹脂層３がレーザ
ーディスク原版４に密着した状態でエンボスローラ31が
駆動モータ14により回転され、ガイドローラ73の近傍に
てレーザーディスク原版４より凹凸の形成された反射膜
層７が剥離される。このとき、エンボスローラ31の表面
は冷却されているため軟化状態にある反射膜層７上部の
樹脂層３はある程度固まり、レーザーディスク原版４よ
り剥離されても転写時の凹凸状態をくずすことなく、次
の巻付けローラ51に案内される。巻付けローラ51に巻付
けられたフイルム１に、照射装置50より紫外線または電
子線を照射することにより、凹凸の形成された樹脂層３
が硬化する。ここで、巻付けローラ51は冷却されている
ため、紫外線または電子線の照射によってフイルム１が
発熱し、熱収縮するのを防止することができる。この
後、フイルム１は駆動モータ14に連結されたシャフト62
に巻取られる。このとき、パウダークラッチ64によりフ
イルム１は適性なテンションに調整されているため、し
わ等が発生せずに巻取られる。

この後、巻取られたレーザーディスク形成用フイルム
１を巻戻して一般的な打抜方法で円盤状の形に１枚ずつ
打抜いて後、前述したような保護層を形成するか、或い
は巻取られたレーザーディスク形成用フイルム１を巻戻
しながら、複製された凹凸面に保護層を形成して後、一
般的な打抜方法で円盤状に１形に枚ずつ打抜くことによ
り、第４図に示すようなレーザーディスク100を作成す
ることができる。このレーザーディスク100は100μ程度
の厚さの基材フイルム２の反射膜層７及び樹脂層３にレ
ーザーディスク原版４の凹凸を複製したものであるか
ら、全体として可撓性がありソノシートと同様な形態を
有したものとなる。

上述のようにして製造された可撓性レーザーディスク
100は第８図に断面構造を示すように、基材フイルム２
と凹凸情報を形成された樹脂層３、反射膜層７とが層設
された構造となっており、全体の厚さは100μ程度が可
撓性のようなものである。ここにおいて、可撓性レーザ
ーディスク100の記録情報を読出す場合には、同図に示
すように光学系200でレーザーディスク100上にレーザー
光を集束させているので、レーザーディスク100上に
塵，埃，ごみ等の不着物210が付着すると光を遮断して
しまい、レーザーディスク100の記録情報を読出すこと
ができない。

このため、この発明では上述のような可撓性レーザー
ディスク100と同一形状の第９図に示すような厚さ1.0mm
及び0.3mm程度の透明材で成るアダプタ130及び140を用
意し、このアダプタ130,140を第10図に示すようにレー
ザーディスク100に配設して記録情報の読出しを行な
う。

上記可撓性レーザーディスク100を、CDプレイヤー
（例えばソニー製CDP−M30）で再生するため音楽情報を
記録されたレーザーディスク100を製造し、中心部に15m
mφの穴をあけ同心内に外側を120mmφで切り抜き第９図
のようなレーザーディスク100と同形状のアダプタ130,1
40を使用して再生したところ市販CDソフトと同等な音声
を聞くことができた。

（発明の効果） 以上のようにこの発明の可撓性レーザーディスク製造
方法は、基材フイルム上に熱成形性を有する紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂が設けられ前記樹脂層上に金
属反射層が層設されているレーザーディスク形成用フイ
ルムと、表面に音声等の電気信号に対応して凹凸が形成
されているレーザーディスク原版とを、加熱条件下で圧
接させて上記金属反射層に凹凸を形成し、次いで紫外線
または電子線を上記フイルムに照射するようにしてお
り、製造工程では上記フイルムを巻取状態より繰り出
し、押付けローラと表面にレーザーディスク原版が設け
られたエンボスローラとにより加熱圧着した後、紫外線
または電子線を照射してレーザーディスク形成用フイル
ムを巻取る方式であるため、以下のような効果が得られ
る。

（ａ）レーザーディスク原版とレーザーディスク形成用
フイルムとを長時間にわたって加熱状態に圧接する必要
がなく、レーザーディスク原版の凹凸が熱により消滅し
て劣化することがない。

（ｂ）レーザーディスク形成用フイルムとレーザーディ
スク原版とを加熱状態に保って圧接して凹凸を形成した
後、直ちに圧接状態を解除することができ、冷却工程を
短時間で行なうことができ、可撓性レーザーディスクの
製造工程を著しく簡素化できると共に、大量生産が可能
となる。

（ｃ）レーザーディスク形成用フイルムは、レーザーデ
ィスク原版と加熱圧接して凹凸を形成する前に予め金属
反射膜層が層設されているため、可撓性レーザーディス
クの製造工程を著しく簡素化できると共に、良質な製品
の大量生産が可能となる。

（ｄ）レーザーディスク形成用フイルムを巻取って保存
することができ可撓性レーザーディスクの製造工程を簡
素化させると共に大量生産が可能となる。

（ｅ）可撓性レーザーディスク形成用フイルムは予め金
属反射層が層設されてレーザーディスク原版と熱圧接し
て凹凸が形成されるため、凹凸形成後金属反射層を蒸着
法等で形成する方法に比べて可撓性フイルム側とは逆側
にレーザー光をあて情報ピットを読み取る場合、情報ピ
ット形状の反射金属膜厚分の形状劣化がないので、可撓
性基材フイルムとして光学的条件を満たさないものなど
が使用でき、基材の選択の幅が広がる。

（ｆ）耐熱性、耐溶剤性に優れた安価な可撓性レーザー
ディスクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の可撓性レーザーディスク形成用フイ
ルムの断面図、第２図及び第３図はそれぞれこの発明の
可撓性レーザーディスクの一例を示す断面構造図、第４
図は作成された可撓性レーザーディスクの一例を示す斜
視図、第５図はこの発明の一実施例を示す可撓性レーザ
ーディスクの複製装置の概略正面図、第６図はその側面
図、第７図は第５図及び第６図に示す可撓性レーザーデ
ィスクの複製装置の一部拡大断面図、第８図乃び第10図
は可撓性レーザーディスクの再生方法を説明する図、第
９図は再生に使用されるアダプタの使用方法を説明する
図である。 １……レーザーディスク形成用フイルム、２……基材フ
イルム、３……紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂、
４……レーザーディスク原版、10……可撓性レーザーデ
ィスクの製造装置、14……駆動モータ、20……給紙装
置、21……巻取ロール、30……転写装置、31……エンボ
スローラ、38……加圧機構、40……押付けローラ、42…
…アーム、45……エアシリンダ、50……照射装置、51…
…巻付けローラ、60……巻取装置、62……シャフト、7
1,72,73……ガイドローラ。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材フイルム上に熱成形性を有する樹脂層
   が層設され、前記樹脂層上に金属反射層が平滑に層設さ
   れているレーザーディスク形成用フイルムの前記金属反
   射層に対し、情報が表面の凹凸で記録されているレーザ
   ーディスク原版を当接するようにし加熱条件下で圧接し
   て前記金属反射層に前記凹凸を記録するようにした可撓
   性レーザーディスクの製造方法。
2. 【請求項２】前記熱成形性を有する樹脂層が紫外線硬化
   樹脂又は電子線硬化樹脂から成り、前記レーザーディス
   ク形成用フイルムに凹凸を記録した後、前記樹脂層に紫
   外線又は電子線を照射して前記樹脂を硬化するようにし
   た特許請求の範囲第１項に記載の可撓性レーザーディス
   クの製造方法。