JPH066645B2 - ポリオレフイン組成物 - Google Patents
ポリオレフイン組成物Info
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- JPH066645B2 JPH066645B2 JP60278465A JP27846585A JPH066645B2 JP H066645 B2 JPH066645 B2 JP H066645B2 JP 60278465 A JP60278465 A JP 60278465A JP 27846585 A JP27846585 A JP 27846585A JP H066645 B2 JPH066645 B2 JP H066645B2
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- Japan
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- butyl
- hydroxy
- compound
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/527—Cyclic esters
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は耐候性の改良されたポリオレフィン組成物に関
する。更に詳しくは、特定の酸化防止剤及び耐候安定剤
を配合したポリオレフィン組成物に関するものである。
する。更に詳しくは、特定の酸化防止剤及び耐候安定剤
を配合したポリオレフィン組成物に関するものである。
〈従来の技術〉 ポリオレフィンは、その機械的性質が優れ成形品、フィ
ルム、繊維などとして非常に有用であるが、屋外で使用
される場合に見られるように紫外線の作用によって容易
に劣化を受ける欠点を有する。その為、一般的には紫外
線による劣化を抑制すべく耐候安定剤として例えばサル
チル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ
ール系あるいはニッケルキレート系、ヒンダードアミン
系などの各化合物を単独または併用でポリオレフィンに
配合することが知られている（特開昭５８−１１３２３
６号公報、特開昭５９−２１９３５３号公報）。
ルム、繊維などとして非常に有用であるが、屋外で使用
される場合に見られるように紫外線の作用によって容易
に劣化を受ける欠点を有する。その為、一般的には紫外
線による劣化を抑制すべく耐候安定剤として例えばサル
チル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ
ール系あるいはニッケルキレート系、ヒンダードアミン
系などの各化合物を単独または併用でポリオレフィンに
配合することが知られている（特開昭５８−１１３２３
６号公報、特開昭５９−２１９３５３号公報）。
〈発明が解決しようとする問題点〉 最近はポリオレフィンを各種用途に使用する目的でその
機械的物性の改良および成形品の性能、外観等を改良す
るために、合成ゴム、無機充填剤、顔料等を添加するこ
とが多くなってきている。また、耐候性能の要求も厳し
くなり、従来に比べ高温時における耐候性が必要になっ
てきている。
機械的物性の改良および成形品の性能、外観等を改良す
るために、合成ゴム、無機充填剤、顔料等を添加するこ
とが多くなってきている。また、耐候性能の要求も厳し
くなり、従来に比べ高温時における耐候性が必要になっ
てきている。
特にこれらの充填剤、添加剤を加えた組成物からの成形
品は耐候性が必要な用途に使われているが、無機充填剤
等を加えると耐候性が低下する傾向にあり、又高温時に
おける耐候性能は著しく低下する傾向にある。従って従
来の前記の各種耐候安定剤のみでは十分な性能を維持で
きず満足な結果が得られないことが明らかになってきて
いる。斯かる現状下、本願発明の目的は、酸化防止剤と
耐候安定剤の組合せを特定化することにより上記問題点
の改良したポリオレフィン組成物を提供する事にある。
品は耐候性が必要な用途に使われているが、無機充填剤
等を加えると耐候性が低下する傾向にあり、又高温時に
おける耐候性能は著しく低下する傾向にある。従って従
来の前記の各種耐候安定剤のみでは十分な性能を維持で
きず満足な結果が得られないことが明らかになってきて
いる。斯かる現状下、本願発明の目的は、酸化防止剤と
耐候安定剤の組合せを特定化することにより上記問題点
の改良したポリオレフィン組成物を提供する事にある。
〈問題点を解決するための手段〉 発明者らは高温時における耐候性の改良されたポリオレ
フィン組成物を得るために鋭意検討を行なった結果、ポ
リオレフィンに配合する酸化防止剤と耐候安定剤の組合
せを特定化することにより、すぐれた耐候性が得られる
ことを見出し本発明に到ったものである。
フィン組成物を得るために鋭意検討を行なった結果、ポ
リオレフィンに配合する酸化防止剤と耐候安定剤の組合
せを特定化することにより、すぐれた耐候性が得られる
ことを見出し本発明に到ったものである。
すなわち、本発明はポリオレフィンに(1)トリス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）イソ
シアヌレート、(2)一般式 （式中、Ｒ1はメチル基または第３ブチル基または第３
アミル基を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基、第３ブチ
ル基、第３アミル基、フェニル基またはシクロヘキシル
基を示す。Ｒ3は水素原子、メチル基、または第３ブチ
ル基を示す。Ｒ4は水素原子またはメチル基または第３
ブチル基を示す。ただしＲ2，Ｒ3およびＲ4がすべて同
時に水素原子を示すことはない。）で示されるペンタエ
リスリトールジホスファイト系化合物、(3)フェニルベ
ンゾエイト系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物又は
ベンゾフェノン系化合物から選ばれた１種の化合物、
(4)ヘテロサイクリックヒンダードアミン系化合物とを
併せて配合したことを特徴とする組成物である。
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）イソ
シアヌレート、(2)一般式 （式中、Ｒ1はメチル基または第３ブチル基または第３
アミル基を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基、第３ブチ
ル基、第３アミル基、フェニル基またはシクロヘキシル
基を示す。Ｒ3は水素原子、メチル基、または第３ブチ
ル基を示す。Ｒ4は水素原子またはメチル基または第３
ブチル基を示す。ただしＲ2，Ｒ3およびＲ4がすべて同
時に水素原子を示すことはない。）で示されるペンタエ
リスリトールジホスファイト系化合物、(3)フェニルベ
ンゾエイト系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物又は
ベンゾフェノン系化合物から選ばれた１種の化合物、
(4)ヘテロサイクリックヒンダードアミン系化合物とを
併せて配合したことを特徴とする組成物である。
本発明において用いられるポリオレフィンとは、エチレ
ン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、４−メチ
ル−ペンテン−１などのα−オレフィンの単独重合体あ
るいは２種以上からなるランダムおよびブロック共重合
であり、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリイソブテン、ポリ−３−メチル−ブテン−１、
ポリ−４−メチル−ペンテン−１、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−１共重合体、プロピレ
ン−４−メチル−ペンテン−１共重合体、プロピレン−
ブテン−１共重合体、ピロピレン−４−メチル−ペンテ
ン−１共重合体、デセン−１−４−メチル−ペンテン−
１共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン−１共重合
体などが例示される。
ン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、４−メチ
ル−ペンテン−１などのα−オレフィンの単独重合体あ
るいは２種以上からなるランダムおよびブロック共重合
であり、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリイソブテン、ポリ−３−メチル−ブテン−１、
ポリ−４−メチル−ペンテン−１、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−１共重合体、プロピレ
ン−４−メチル−ペンテン−１共重合体、プロピレン−
ブテン−１共重合体、ピロピレン−４−メチル−ペンテ
ン−１共重合体、デセン−１−４−メチル−ペンテン−
１共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン−１共重合
体などが例示される。
共重合の場合には、α−オレフィンと共に共役ジエンや
非共役ジエンのような多不飽和化合物あるいはアクリル
酸、メタクリル酸、酢酸ビニル等を共重合成分とするも
のも含まれる。これらの重合体は酸変性されたもの、例
えば、α，β−不飽和脂肪酸、脂環族カルボン酸、また
はこれらの誘導体でグラフト変成された重合体であって
もよく、ゴム状、脂肪状、ワックス状の重合体も含む。
非共役ジエンのような多不飽和化合物あるいはアクリル
酸、メタクリル酸、酢酸ビニル等を共重合成分とするも
のも含まれる。これらの重合体は酸変性されたもの、例
えば、α，β−不飽和脂肪酸、脂環族カルボン酸、また
はこれらの誘導体でグラフト変成された重合体であって
もよく、ゴム状、脂肪状、ワックス状の重合体も含む。
さらに本発明においては、用途に応じてこれらポリオレ
フィンに合成ゴム、無機充填剤を添加した混合物を用い
ることができる。本発明において用いることのできる合
成ゴムとしてはエチレン−α−オレフィン共重合体ゴム
が好ましい。エチレン−α−オレフィン共重体ゴムとし
ては、エチレンとα−オレフィン、例えばプロピレン、
ブテン−１、ヘキセン−１などの共重合体ゴム、または
エチレン−プロピレンの系に第三成分として非共役ジエ
ン類、例えば、エチリデンノルボルネン、シクロペンタ
ジエンなどを共重合させた三元共重合体ゴム（以下「EPD
M」と略す）等があげられる。これらの内ではエチレン−
プロピレン共重合体ゴムまたはＥＰＤＭが好ましい。
フィンに合成ゴム、無機充填剤を添加した混合物を用い
ることができる。本発明において用いることのできる合
成ゴムとしてはエチレン−α−オレフィン共重合体ゴム
が好ましい。エチレン−α−オレフィン共重体ゴムとし
ては、エチレンとα−オレフィン、例えばプロピレン、
ブテン−１、ヘキセン−１などの共重合体ゴム、または
エチレン−プロピレンの系に第三成分として非共役ジエ
ン類、例えば、エチリデンノルボルネン、シクロペンタ
ジエンなどを共重合させた三元共重合体ゴム（以下「EPD
M」と略す）等があげられる。これらの内ではエチレン−
プロピレン共重合体ゴムまたはＥＰＤＭが好ましい。
また本発明において用いることのできる無機充填剤とし
てはタルク、マイカ、ワラストナイト、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、クレー、アルミ
ナ、シリカ、硫酸カルシウム、炭素繊維、ガラス繊維、
金属繊維、けい砂、けい石、カーボンブラック、酸化チ
タン、水酸化マグネシウム、アスベスト、ゼオライト、
モリブデン、けいそう土、セリサイト、シラス、水酸化
カルシウム、亜硫酸カルシウム、硫酸ソーダ、ペントナ
イト、黒鉛等があげられる。
てはタルク、マイカ、ワラストナイト、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、クレー、アルミ
ナ、シリカ、硫酸カルシウム、炭素繊維、ガラス繊維、
金属繊維、けい砂、けい石、カーボンブラック、酸化チ
タン、水酸化マグネシウム、アスベスト、ゼオライト、
モリブデン、けいそう土、セリサイト、シラス、水酸化
カルシウム、亜硫酸カルシウム、硫酸ソーダ、ペントナ
イト、黒鉛等があげられる。
これらの内低温耐衝撃性、成形性、塗装性を向上させる
ものとしてはタルク、マイカ、炭酸カルシウム、ガラス
繊維、ワラストナイト等が好ましい。
ものとしてはタルク、マイカ、炭酸カルシウム、ガラス
繊維、ワラストナイト等が好ましい。
また特に、低温耐衝撃性、成形性、塗装性を向上させた
ポリオレフィン組成物を得るには、結晶性ポリオレフィ
ンを２５〜９０重量％、エチレン−α−オレフィン共重
合体ゴムを５〜35重量％および無機充填剤を５〜４０重
量％を混合するのが好ましい。
ポリオレフィン組成物を得るには、結晶性ポリオレフィ
ンを２５〜９０重量％、エチレン−α−オレフィン共重
合体ゴムを５〜35重量％および無機充填剤を５〜４０重
量％を混合するのが好ましい。
本発明において用いる酸化防止剤はトリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート（以下「化合物(I)」という。）と一般式 （式中、Ｒ1はメチル基または第３ブチル基または第３
アミル基を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基、第３ブチ
ル基、第３アミル基、フェニル基またはシクロヘキシル
基を示す。Ｒ3は水素原子、メチル基、または第３ブチ
ル基を示す。Ｒ4は水素原子またはメチル基または第３
ブチル基を示す。ただしＲ2，Ｒ3およびＲ4がすべて同
時に水素原子を示すことはない。）で示されるペンタエ
リスリトールジホスファイト系化合物（以下「化合物(I
I)」という。）である。これらの添加量は前記ポリオレ
フィン１００重量部に対して化合物(I)の場合が0.01〜
1.0重量部、好ましくは0.05〜0.5重量部である。化合物
(II)の場合は0.01〜0.5重量部が好ましく、さらに0.05
〜0.3重量部が特に好ましい。
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート（以下「化合物(I)」という。）と一般式 （式中、Ｒ1はメチル基または第３ブチル基または第３
アミル基を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基、第３ブチ
ル基、第３アミル基、フェニル基またはシクロヘキシル
基を示す。Ｒ3は水素原子、メチル基、または第３ブチ
ル基を示す。Ｒ4は水素原子またはメチル基または第３
ブチル基を示す。ただしＲ2，Ｒ3およびＲ4がすべて同
時に水素原子を示すことはない。）で示されるペンタエ
リスリトールジホスファイト系化合物（以下「化合物(I
I)」という。）である。これらの添加量は前記ポリオレ
フィン１００重量部に対して化合物(I)の場合が0.01〜
1.0重量部、好ましくは0.05〜0.5重量部である。化合物
(II)の場合は0.01〜0.5重量部が好ましく、さらに0.05
〜0.3重量部が特に好ましい。
本発明で用いられる耐候安定剤はフェニルベンゾエイト
系化合物（以下「化合物(III)」という。）又はベンゾ
トリアゾール系化合物（以下「化合物(IV)」という。）
あるいはベンゾフェノン系化合物（以下「化合物(V)」
という。）から選ばれた１種の化合物とヘテロサイクリ
ックヒンダードアミン系化合物（以下「化合物(VI)」と
いう。）である。
系化合物（以下「化合物(III)」という。）又はベンゾ
トリアゾール系化合物（以下「化合物(IV)」という。）
あるいはベンゾフェノン系化合物（以下「化合物(V)」
という。）から選ばれた１種の化合物とヘテロサイクリ
ックヒンダードアミン系化合物（以下「化合物(VI)」と
いう。）である。
とりわけ(III)と化合物(VI)の併用が好ましい。
化合物(III)の例としては、サルチル酸フェニル、サル
チル酸Ｐ−ブチルフェニル、サルチル酸Ｐ−オクチルフ
ェニル、レゾルシノールモノベンゾエイト、２，４−ジ
−ｔ−ブチル−フェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエイト、４−オクチルフェニル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイト
等が挙げられる。とりわけ、2,4−ジ−ｔ−ブチル−フ
ェニル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
エイトが好ましい。
チル酸Ｐ−ブチルフェニル、サルチル酸Ｐ−オクチルフ
ェニル、レゾルシノールモノベンゾエイト、２，４−ジ
−ｔ−ブチル−フェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエイト、４−オクチルフェニル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイト
等が挙げられる。とりわけ、2,4−ジ−ｔ−ブチル−フ
ェニル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
エイトが好ましい。
化合物(IV)の例としては、２−（２′−ヒドロキシ−
５′−メチルフェニル）ベナゾトリアゾール、２−
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロ
キシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒド
ロキシ−３′，５′−ジ−イソアミルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−
ジ−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′
−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ
−３′，５′−ジメチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−
ジクロロフェニル）ベンゾトリアゾール等があげられ
る。
５′−メチルフェニル）ベナゾトリアゾール、２−
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロ
キシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒド
ロキシ−３′，５′−ジ−イソアミルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−
ジ−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′
−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ
−３′，５′−ジメチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−
ジクロロフェニル）ベンゾトリアゾール等があげられ
る。
化合物(V)の例として２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−ステアリロキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノ
ン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４′−メチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベ
ンゾイロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロ
キシ−ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメト
キシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−ｎ
−オクトキシベンゾフェノン等があげられる。
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−ステアリロキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノ
ン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４′−メチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベ
ンゾイロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロ
キシ−ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメト
キシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−ｎ
−オクトキシベンゾフェノン等があげられる。
化合物(VI)はヒンダードアミン窒素原子および任意に他
の異原子好ましくは窒素または酸素を含む６員複素環か
らなるものである。
の異原子好ましくは窒素または酸素を含む６員複素環か
らなるものである。
具体例としては、ビス−（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケート、４−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸とＮ−（２
−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6テトラメチル−４−ヒ
ドロキシピペリジンとの重縮合物、1,2,3,4−テトラ
（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）−ブタン
テトラカルボキシレート、1,4−ジ−（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−2,3−ブタンジオン、トリ
ス−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）トリ
メリテート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ルステアレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル−ｎ−オクトエート、ビス−（1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）セパケート、トリス−（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）−ニトリルア
セテート、４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル、４−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン、ポリ〔（６−モルホリノ−Ｓ−トリアジン
−2,4−ジイル）〔（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ）〕、ポリ〔〔６−
（1,1,3,3−テトラメチルブチル）アミノ−1,3,5−トリ
アジン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕、Ｎ，Ｎ′−
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキ
サメチレンジアミンと1,2−ジプロモエタンとの重縮合
物などがあげられる。
−ピペリジル）セバケート、４−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸とＮ−（２
−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6テトラメチル−４−ヒ
ドロキシピペリジンとの重縮合物、1,2,3,4−テトラ
（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）−ブタン
テトラカルボキシレート、1,4−ジ−（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−2,3−ブタンジオン、トリ
ス−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）トリ
メリテート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ルステアレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル−ｎ−オクトエート、ビス−（1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）セパケート、トリス−（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）−ニトリルア
セテート、４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル、４−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン、ポリ〔（６−モルホリノ−Ｓ−トリアジン
−2,4−ジイル）〔（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリジル）イミノ）〕、ポリ〔〔６−
（1,1,3,3−テトラメチルブチル）アミノ−1,3,5−トリ
アジン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕、Ｎ，Ｎ′−
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキ
サメチレンジアミンと1,2−ジプロモエタンとの重縮合
物などがあげられる。
これらの添加量は化合物(III)〜(VI)の何れも前記ポリ
オレフィン１００重量部に対して0.01〜1.0重量部、好
ましくは0.05〜0.5重量部である。さらに本発明におけ
る組成物からなる成形品の外装、美観を向上させるため
に各種顔料を組成物に添加し着色することができる。本
発明に用いられる顔料としてポリオレフィンに好適な無
機顔料、有機顔料を用いることができる。例えば酸化チ
タン、カーボンブラック、黄色酸化鉄、チタン黄、ハン
ザイエロー、ベンジンイエロー、ベンガラ、パーマネン
トレッド、チオインジゴレッド、チオインジゴマルー
ン、マンガン紫、ジオキサジンバイオレット、群青、フ
タロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、イソイ
ンドリノンイエロー、キノフタロンイエロー、縮合アゾ
イエロー、ベリノンオレンジ、キナクリドンレッド、キ
ナクリドンスカーレット、ペリレンレッド、ペリレンス
カーレット縮合アゾレッド、ジオキサジンバイオレッ
ト、インダンスロンブル、シンカシアレッド、カーボン
ブラック、酸化チタン等があげられる。また顔料の分散
剤としてはカルシウムステアレート、マグネシウムステ
アレート等の金属石けん類、ポリエチレンワックス、ポ
リプロピレンワックス等が用いられる。ポリオレフィン
ワックスはその分散効果を高めるためあらかじめ顔料と
ワックスを粉体用ボールミル等で混合しておいて用いる
のが好ましい。
オレフィン１００重量部に対して0.01〜1.0重量部、好
ましくは0.05〜0.5重量部である。さらに本発明におけ
る組成物からなる成形品の外装、美観を向上させるため
に各種顔料を組成物に添加し着色することができる。本
発明に用いられる顔料としてポリオレフィンに好適な無
機顔料、有機顔料を用いることができる。例えば酸化チ
タン、カーボンブラック、黄色酸化鉄、チタン黄、ハン
ザイエロー、ベンジンイエロー、ベンガラ、パーマネン
トレッド、チオインジゴレッド、チオインジゴマルー
ン、マンガン紫、ジオキサジンバイオレット、群青、フ
タロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、イソイ
ンドリノンイエロー、キノフタロンイエロー、縮合アゾ
イエロー、ベリノンオレンジ、キナクリドンレッド、キ
ナクリドンスカーレット、ペリレンレッド、ペリレンス
カーレット縮合アゾレッド、ジオキサジンバイオレッ
ト、インダンスロンブル、シンカシアレッド、カーボン
ブラック、酸化チタン等があげられる。また顔料の分散
剤としてはカルシウムステアレート、マグネシウムステ
アレート等の金属石けん類、ポリエチレンワックス、ポ
リプロピレンワックス等が用いられる。ポリオレフィン
ワックスはその分散効果を高めるためあらかじめ顔料と
ワックスを粉体用ボールミル等で混合しておいて用いる
のが好ましい。
その他本発明組成物には、その特性を害さない限り、他
の添加物、例えばプロセス油、可塑剤、潤滑剤、滑剤、
造核剤、帯電防止剤、離型剤、防かび剤等を添加するこ
とができる。
の添加物、例えばプロセス油、可塑剤、潤滑剤、滑剤、
造核剤、帯電防止剤、離型剤、防かび剤等を添加するこ
とができる。
本発明組成物で用いる以外の酸化防止剤についても、そ
の特性を害さない限り添加しても良い。しかしチオエス
テル系酸化防止剤、例えばジラウリル−チオ−ジプロポ
オネート、ジミリスチル−チオ−ジプロピオネート、ジ
ステアリル−チオ−ジプロピオネートなどは耐候性を著
しく害するので、これらの添加はヘチロサイクリックヒ
ンダードアミン系化合物の添加量に対し1/8以下にしな
ければならない。
の特性を害さない限り添加しても良い。しかしチオエス
テル系酸化防止剤、例えばジラウリル−チオ−ジプロポ
オネート、ジミリスチル−チオ−ジプロピオネート、ジ
ステアリル−チオ−ジプロピオネートなどは耐候性を著
しく害するので、これらの添加はヘチロサイクリックヒ
ンダードアミン系化合物の添加量に対し1/8以下にしな
ければならない。
本発明組成物は一軸押出機、二軸押出機、バンバリーミ
キサーロール、ブラベンダー、ニーダー等の通常の混練
機を用いて加熱溶融状態で混練することによって得られ
る。
キサーロール、ブラベンダー、ニーダー等の通常の混練
機を用いて加熱溶融状態で混練することによって得られ
る。
以上本発明のポリオレフィン組成物より得られた製品は
高温においても極めて優れた耐候性を有している。
高温においても極めて優れた耐候性を有している。
〈実施例〉 以下、実施例をあげ、本発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
なお、実施例における耐候性の試験法は次の通りであ
る。そして耐候性の評価は試験片表面に亀裂（クラッ
ク）等外観異常が発生する時間で行なった。
る。そして耐候性の評価は試験片表面に亀裂（クラッ
ク）等外観異常が発生する時間で行なった。
（耐候性試験法） スガ試験機K.K.製 サンシャインスーパーロングライフ
ウェザーメーター（WEL-SUN-DC型）を用いて促進耐候試
験を行なった。試験条件を次に示す。
ウェザーメーター（WEL-SUN-DC型）を用いて促進耐候試
験を行なった。試験条件を次に示す。
(1)試験片寸法：７０mm×２５mm×３mmｔ (2)ブラックパネル温度：８８℃ (3)スプレ−／ドライサイクル：１８分/120分 (4)試験機槽内温度：５０％ＲＨ (5)亀裂等外観異常の観察：顕微鏡（×50）による観察 実施例１ 結晶性エチレン−プロピエンブロック共重合体（エチレ
ン含有量：7.2重量％、メルトインデックス：3.0ｇ／10
分）の粉末１００重量部に対し、ステアリン酸カルシウ
ムを0.05重量部、および酸化防止剤としてトリス（3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）イソシ
アヌレートを0.1重量部およびビス（2,4−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトを0.
05重量部、耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−
３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾールを0.1重量部およびビス−（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジン）セバケートを0.1
重量部を添加し、ヘンシェルミキサーで混合し、４０mm
φ押出機を用いて２３０℃で窒素雰囲気下で押出してペ
レット化した。
ン含有量：7.2重量％、メルトインデックス：3.0ｇ／10
分）の粉末１００重量部に対し、ステアリン酸カルシウ
ムを0.05重量部、および酸化防止剤としてトリス（3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）イソシ
アヌレートを0.1重量部およびビス（2,4−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトを0.
05重量部、耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−
３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾールを0.1重量部およびビス−（2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジン）セバケートを0.1
重量部を添加し、ヘンシェルミキサーで混合し、４０mm
φ押出機を用いて２３０℃で窒素雰囲気下で押出してペ
レット化した。
このペレットを２３０℃で１０分間予熱して厚さ３mmの
プレスシートを作成した。そしてこのシートから７０mm
×２５mmの試験片を切り出しサンシャインウェザーメー
ターによる促進耐候試験を行なった。この時試験片表面
に亀裂が発生した時間を第１表に示す。
プレスシートを作成した。そしてこのシートから７０mm
×２５mmの試験片を切り出しサンシャインウェザーメー
ターによる促進耐候試験を行なった。この時試験片表面
に亀裂が発生した時間を第１表に示す。
実施例２ 耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイトを添加す
る以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生
時間を第１表に示す。
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイトを添加す
る以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生
時間を第１表に示す。
実施例３ 耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに２−ヒドロキシ−４−オクトキシ・ベ
ンゾフェノンを添加する以外は実施例１と同様に行なっ
た。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに２−ヒドロキシ−４−オクトキシ・ベ
ンゾフェノンを添加する以外は実施例１と同様に行なっ
た。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
実施例４ 耐候安定剤としてビス−（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケートの代りにポリ〔〔６−（1,1,
3,3−テトラ−メチルブチル）アミン−1,3,5−トリアジ
ン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕を添加する以外は
実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を第
１表に示す。
−ピペリジル）セバケートの代りにポリ〔〔６−（1,1,
3,3−テトラ−メチルブチル）アミン−1,3,5−トリアジ
ン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕を添加する以外は
実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を第
１表に示す。
比較例１ 酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第１表に示す。
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第１表に示す。
比較例２ 酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトを除いた以外
は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を
第１表に示す。
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトを除いた以外
は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を
第１表に示す。
比較例３ 酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトの代りにトリ
ス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを添
加した以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂
発生時を第１表に示す。
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトの代りにトリ
ス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを添
加した以外は実施例１と同様に行なった。この時の亀裂
発生時を第１表に示す。
比較例４ 耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ−ト
リアゾールを除いた以外は実施例１と同様に行なった。
この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ−ト
リアゾールを除いた以外は実施例１と同様に行なった。
この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
比較例５ 耐候安定剤としてビス−（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケートを除いた以外は実施例１と同
様に行なった。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
−ピペリジル）セバケートを除いた以外は実施例１と同
様に行なった。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
比較例６ 酸化防止剤としてジミリスチル−チオ−ジプロピオネー
トを0.1重量部追加添加した以外は実施例１と同様に行
なった。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
トを0.1重量部追加添加した以外は実施例１と同様に行
なった。この時の亀裂発生時間を第１表に示す。
比較例７ 酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加す
る以外は実施例４と同様に行なった。この時の亀裂発生
時間を第１表に示す。
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加す
る以外は実施例４と同様に行なった。この時の亀裂発生
時間を第１表に示す。
実施例５ 結晶性エチレン−プロピレンブロック共重体（エチレン
含有量：7.2重量％、メルトインデックス：15.0ｇ／１
０分）の粉末７０重量％、EPDM（エチレン含有量：５０
重量％、ムーニー粘度：４５）２０重量％、タルク（平
均粒子径：2.7μ）１０重量％からなる混合物１００重
量部に対し、ステアリン酸カルシウムを0.05重量部およ
び酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートを0.2重量部
およびビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイトを0.1重量部、耐候安定剤
として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールを
0.3重量部、およびビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバレートを0.3重量部、さらに顔料とし
てカーボンブラックとポリエチレンワックスを４：６の
割合で事前に混合したものを1.5重量部添加し、１８０
℃のバンバリーミキサーで１０分間溶融混練した。そし
て、このものをロールで厚さ５mmのシートに冷却固化さ
せた後、切断しペレット化した。得られたペレットを射
出圧力６０kg/cm2Ｇ成形温度２３０℃、金型温度５０℃
の射出成形条件で厚さ３mmの平板を作成した。そしてこ
の平板から７０mm×２５mmの試験片を切り出し、サンシ
ャインウェザーメーターによる促進耐候試験を行なっ
た。この時の試験片表面に亀裂が発生した時間を第２表
に示す。
含有量：7.2重量％、メルトインデックス：15.0ｇ／１
０分）の粉末７０重量％、EPDM（エチレン含有量：５０
重量％、ムーニー粘度：４５）２０重量％、タルク（平
均粒子径：2.7μ）１０重量％からなる混合物１００重
量部に対し、ステアリン酸カルシウムを0.05重量部およ
び酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートを0.2重量部
およびビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイトを0.1重量部、耐候安定剤
として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールを
0.3重量部、およびビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）セバレートを0.3重量部、さらに顔料とし
てカーボンブラックとポリエチレンワックスを４：６の
割合で事前に混合したものを1.5重量部添加し、１８０
℃のバンバリーミキサーで１０分間溶融混練した。そし
て、このものをロールで厚さ５mmのシートに冷却固化さ
せた後、切断しペレット化した。得られたペレットを射
出圧力６０kg/cm2Ｇ成形温度２３０℃、金型温度５０℃
の射出成形条件で厚さ３mmの平板を作成した。そしてこ
の平板から７０mm×２５mmの試験片を切り出し、サンシ
ャインウェザーメーターによる促進耐候試験を行なっ
た。この時の試験片表面に亀裂が発生した時間を第２表
に示す。
実施例６ 耐候安定剤として２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブ
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに、2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイトを添加
する以外は実施例５と同様に行った。この時の亀裂発生
時間を第２表に示す。
チル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾールの代りに、2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイトを添加
する以外は実施例５と同様に行った。この時の亀裂発生
時間を第２表に示す。
実施例７ 耐候安定剤としてビス−（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケートの代りにポリ〔〔６−（1,1,
3,3−テトラ−メチルブチル）アミノ−1,3,5−トリアジ
ン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ）〕を添加する以外は
実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を第
２表に示す。
−ピペリジル）セバケートの代りにポリ〔〔６−（1,1,
3,3−テトラ−メチルブチル）アミノ−1,3,5−トリアジ
ン−2,4−ジイル〕〔2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ）〕を添加する以外は
実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を第
２表に示す。
比較例８ 酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第２表に示す。
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第２表に示す。
比較例９ 酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトを除いた以外
は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を
第２表に示す。
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトを除いた以外
は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂発生時間を
第２表に示す。
比較例１０ 酸化防止剤としてビス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトの代りにトリ
ス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを添
加した以外は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂
発生時間を第２表に示す。
ル）ペンタエリスリトールジホスファイトの代りにトリ
ス（2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを添
加した以外は実施例５と同様に行なった。この時の亀裂
発生時間を第２表に示す。
比較例１１ 酸化防止剤としてジミリスチル−チオ−ジプロピオネー
トを0.1重量部追加添加した以外は実施例５と同様に行
なった。この時の亀裂発生時間を第２表に示す。
トを0.1重量部追加添加した以外は実施例５と同様に行
なった。この時の亀裂発生時間を第２表に示す。
比較例１２ 酸化防止剤としてトリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例９と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第２表に示す。
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートの代りにペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を添加
する以外は実施例９と同様に行なった。この時の亀裂発
生時間を第２表に示す。
尚、第１表、第２表で用いた酸化防止剤、耐候安定剤は
以下の通りである。
以下の通りである。
酸化防止剤Ａ−１：トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ−ト 酸化防止剤Ａ−２：ペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネ−ト〕 酸化防止剤Ａ−３：ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリト−ルジホスファイト 酸化防止剤Ａ−４：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ホスファイト 酸化防止剤Ａ−５：ジミリスチル−チオ−ジプロピオネ
−ト 耐候安定剤Ｂ−１：２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール 耐候安定剤Ｂ−２：２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイト 耐候安定剤Ｂ−３：２−ヒドロキシ−４−オクトキシ・
ベンゾフェノン 耐候安定剤Ｂ−４：ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）セバケ−ト 耐候安定剤Ｂ−５：ポリ〔〔６−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−
２，４−ジイル〕〔２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕 〈発明の効果〉 本発明により、ポリオレフィンに配合する酸化防止剤と
耐候安定剤の組合せを特定化することによって極めて優
れた耐候性が得られることが明らかになった。
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ−ト 酸化防止剤Ａ−２：ペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネ−ト〕 酸化防止剤Ａ−３：ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリト−ルジホスファイト 酸化防止剤Ａ−４：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ホスファイト 酸化防止剤Ａ−５：ジミリスチル−チオ−ジプロピオネ
−ト 耐候安定剤Ｂ−１：２（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール 耐候安定剤Ｂ−２：２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエイト 耐候安定剤Ｂ−３：２−ヒドロキシ−４−オクトキシ・
ベンゾフェノン 耐候安定剤Ｂ−４：ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）セバケ−ト 耐候安定剤Ｂ−５：ポリ〔〔６−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−
２，４−ジイル〕〔２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕〕 〈発明の効果〉 本発明により、ポリオレフィンに配合する酸化防止剤と
耐候安定剤の組合せを特定化することによって極めて優
れた耐候性が得られることが明らかになった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ０８Ｋ 5/00 5:3477 5:527 5:07 5:3475 5:10 5:3435） (56)参考文献 特開 昭60−199039（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−124642（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−80452（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−113236（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】ポリオレフィン１００重量部に対して(1)
トリス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレートを0.01〜1.0重量部、 (2)一般式 （式中、Ｒ1はメチル基または第３ブチル基または第３
アミル基を示す。Ｒ2は水素原子、メチル基、第３ブチ
ル基、第３アミル基、フェニル基またはシクロヘキシル
基を示す。Ｒ3は水素原子、メチル基、または第３ブチ
ル基を示す。Ｒ4は水素原子またはメチル基または第３
ブチル基を示す。ただしＲ2，Ｒ3およびＲ4がすべて同
時に水素原子を示すことはない。） で示されるペンタエリスリトールジホスファイト系化合
物を0.01〜0.5重量部、(3)フェニルベンゾエイト系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物又はベンゾフェノン系
化合物から選ばれた１種の化合物を0.01〜1.0重量部、
および(4)ヘテロサイクリックヒンダードアミン系化合
物を0.01〜1.0重量部配合したことを特徴とするポリオ
レフィン組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60278465A JPH066645B2 (ja) | 1985-12-11 | 1985-12-11 | ポリオレフイン組成物 |
| CA000524278A CA1298021C (en) | 1985-12-11 | 1986-12-02 | Polyolefin composition |
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