JPH0665712A - 金属蒸着フィルムの製造方法 - Google Patents
金属蒸着フィルムの製造方法Info
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- JPH0665712A JPH0665712A JP22593992A JP22593992A JPH0665712A JP H0665712 A JPH0665712 A JP H0665712A JP 22593992 A JP22593992 A JP 22593992A JP 22593992 A JP22593992 A JP 22593992A JP H0665712 A JPH0665712 A JP H0665712A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】酸素透過率、および水蒸気透過率の優れた金属
蒸着フィルムを安定して、かつ廉価に製造できる。 【構成】プラスチックフィルムからなる基体の表面を、
マグネトロン電極を使用し、6×10−1 パスカル以下
の圧力で炭酸ガスの低温プラズマ雰囲気中で前処理し、
該処理面に連続して金属蒸着膜を設けたことを特徴とす
る金属蒸着フィルム。
蒸着フィルムを安定して、かつ廉価に製造できる。 【構成】プラスチックフィルムからなる基体の表面を、
マグネトロン電極を使用し、6×10−1 パスカル以下
の圧力で炭酸ガスの低温プラズマ雰囲気中で前処理し、
該処理面に連続して金属蒸着膜を設けたことを特徴とす
る金属蒸着フィルム。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属蒸着フィルムの製
造方法に関する。更に詳しくは、酸素などの気体の遮断
性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着フィルム
の製造方法に関するものである。
造方法に関する。更に詳しくは、酸素などの気体の遮断
性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着フィルム
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】これまで、アルミニウム等の金属あるい
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品などに幅広く用いられてき
た。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体であるプ
ラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着されるた
め、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々改良
方法が検討されている。
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品などに幅広く用いられてき
た。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体であるプ
ラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着されるた
め、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々改良
方法が検討されている。
【0003】例えば、プラスチックフィルムを低温プラ
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭52−25868、特開昭
63−242534、特開昭63−270455、特開
平3−247750などの提案がある。
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭52−25868、特開昭
63−242534、特開昭63−270455、特開
平3−247750などの提案がある。
【0004】しかしながら、かかる従来の、低温プラズ
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
【0005】特公昭52−25868、特開昭63−2
42534に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行うことができない。特開昭63−27
0455のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に保
つ方法はポリプロピレンフィルム等のようなガラス転移
温度が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバ
リア性の改良効果も小さい。また、特開平3−2477
50に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高
く、緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリ
ア性が得られない。
42534に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行うことができない。特開昭63−27
0455のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に保
つ方法はポリプロピレンフィルム等のようなガラス転移
温度が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバ
リア性の改良効果も小さい。また、特開平3−2477
50に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高
く、緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリ
ア性が得られない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】近年、食生活が豊かと
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化を防止し、できたての品質をより
長期間確保するため、これまで以上のガスバリア性が要
望されはじめた。
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化を防止し、できたての品質をより
長期間確保するため、これまで以上のガスバリア性が要
望されはじめた。
【0007】本発明は、かかる蒸着膜の酸素等のガスバ
リア性に対する格段の向上を目的として、汎用用途のプ
ラスチックフィルム上に長時間安定して低温プラズマ処
理と蒸着ができ、かつ酸素などのガスバリア性に優れた
金属蒸着フィルムを製造することを目的とするものであ
る。
リア性に対する格段の向上を目的として、汎用用途のプ
ラスチックフィルム上に長時間安定して低温プラズマ処
理と蒸着ができ、かつ酸素などのガスバリア性に優れた
金属蒸着フィルムを製造することを目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
フィルムからなる基体の表面を、マグネトロン電極を使
用し、6×10−1 パスカル以下の圧力で炭酸ガスの低
温プラズマ雰囲気中で前処理し、該処理面に連続して金
属蒸着膜を設けることにより、本発明の目的が達成され
ることを見出したのである。
フィルムからなる基体の表面を、マグネトロン電極を使
用し、6×10−1 パスカル以下の圧力で炭酸ガスの低
温プラズマ雰囲気中で前処理し、該処理面に連続して金
属蒸着膜を設けることにより、本発明の目的が達成され
ることを見出したのである。
【0009】本発明でいうプラスチックフィルムとは、
有機重合体を溶融または溶解押出しし、必要に応じて長
手方向および幅方向に延伸したものである。有機重合体
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン−2,6−ナフタレートなどのポリエステル、
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12などのポリア
ミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテ
ルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリ
レート、ポリフェニレンサルファィド、ポリフェニレン
オキサイド、テトラフルオロエチレン、1塩化3弗化エ
チレン、弗素化エチレンプロピレン共重合体などがあげ
られる。
有機重合体を溶融または溶解押出しし、必要に応じて長
手方向および幅方向に延伸したものである。有機重合体
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン−2,6−ナフタレートなどのポリエステル、
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12などのポリア
ミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテ
ルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリ
レート、ポリフェニレンサルファィド、ポリフェニレン
オキサイド、テトラフルオロエチレン、1塩化3弗化エ
チレン、弗素化エチレンプロピレン共重合体などがあげ
られる。
【0010】また、これらの共重合体や、他の有機重合
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、中で
も長手方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロ
ピレンフィルムに最も有効な手段として用いることがで
きる。
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、中で
も長手方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロ
ピレンフィルムに最も有効な手段として用いることがで
きる。
【0011】本発明のプラスチックフィルムの厚さは、
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から3〜
200μmの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、好ましくは、5〜100μmの範囲であり、より
好ましくは、8〜30μmである。
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から3〜
200μmの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、好ましくは、5〜100μmの範囲であり、より
好ましくは、8〜30μmである。
【0012】かかるプラスチックフィルムの少なくとも
一方の面に、真空蒸着法により、金属を原料として、金
属膜が形成される。原料の金属としては、Al、Zn、
Mg、Sn等の金属が好ましいが、Ti、In、Cr、
Ni、Cu、Pb、Fe等も使用できる。これらの金属
は不純物が少なく、純度が99%以上、望ましくは9
9.5%以上の粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤ
ー状あるいはルツボの形状に加工したものが好ましい。
一方の面に、真空蒸着法により、金属を原料として、金
属膜が形成される。原料の金属としては、Al、Zn、
Mg、Sn等の金属が好ましいが、Ti、In、Cr、
Ni、Cu、Pb、Fe等も使用できる。これらの金属
は不純物が少なく、純度が99%以上、望ましくは9
9.5%以上の粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤ
ー状あるいはルツボの形状に加工したものが好ましい。
【0013】また、金属の真空蒸着に用いられるルツボ
は、アルミナ製が望ましく、通常のアルミニウムなどの
金属の蒸着に用いられるカーボン製やマグネシア製のル
ツボでもよい。
は、アルミナ製が望ましく、通常のアルミニウムなどの
金属の蒸着に用いられるカーボン製やマグネシア製のル
ツボでもよい。
【0014】このアルミナ製ルツボに金属を入れて行う
真空蒸着方法における、真空装置内の圧力は、金属膜の
光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、ガスバリア性
に大きく影響することが、本発明により明らかとなって
おり、優れたガスバリア性を有する金属蒸着膜を得るた
めには、6×10−1 パスカル以下の圧力で行う必要が
ある。好ましくは、4×10−1 パスカル以下の圧力が
望ましい。
真空蒸着方法における、真空装置内の圧力は、金属膜の
光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、ガスバリア性
に大きく影響することが、本発明により明らかとなって
おり、優れたガスバリア性を有する金属蒸着膜を得るた
めには、6×10−1 パスカル以下の圧力で行う必要が
ある。好ましくは、4×10−1 パスカル以下の圧力が
望ましい。
【0015】かかる圧力で真空蒸着を行うためには、同
一真空層内で行う前処理の低温プラズマ処理は、プラズ
マ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極として、
プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型マグ
ネトロン電極を選択することが必要である。
一真空層内で行う前処理の低温プラズマ処理は、プラズ
マ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極として、
プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型マグ
ネトロン電極を選択することが必要である。
【0016】かかる電極を使用して行う低温プラズマ処
理時に導入する炭酸ガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇
を極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の
流量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処
理を行う領域に図1の9に示したようなカバーを設け、
プラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くするこ
とでより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
理時に導入する炭酸ガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇
を極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の
流量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処
理を行う領域に図1の9に示したようなカバーを設け、
プラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くするこ
とでより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
【0017】低温プラズマ処理の処理強度は、単位面積
(1m2 )当たりの、電力(W)×単位時間(1分)す
なわち、E値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、20W・分/m2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
(1m2 )当たりの、電力(W)×単位時間(1分)す
なわち、E値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、20W・分/m2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
【0018】蒸着金属膜の膜厚としては、ガスバリア性
および可撓性などの点で、10〜200nmの範囲が好
ましい。膜厚が薄いと、ガスバリア性が悪くなり、10
nm未満では、ガスバリア性、特に、酸素バリア性が十
分でなく、膜厚が厚いと、蒸着時の熱負けの発生や金属
膜の可撓性が悪くなり、特に、200nmを越えると折
曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくなる。より
好ましくは、20〜100nmである。
および可撓性などの点で、10〜200nmの範囲が好
ましい。膜厚が薄いと、ガスバリア性が悪くなり、10
nm未満では、ガスバリア性、特に、酸素バリア性が十
分でなく、膜厚が厚いと、蒸着時の熱負けの発生や金属
膜の可撓性が悪くなり、特に、200nmを越えると折
曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくなる。より
好ましくは、20〜100nmである。
【0019】通常、プラスチックフィルムは蒸着時にル
ツボからの輻射熱や、金属蒸気の凝縮熱を受けて熱収縮
を起こすため、冷却が行われる。しかしながら、発明者
らは、過度の冷却がガスバリア性を損なうことを見出し
た。すなわち、プラスチックフィルムが熱収縮などの変
形を起こすぎりぎりの温度までプラスチックフィルムを
加熱しながら、金属膜を形成することでガスバリア性に
優れた金属蒸着フィルムが得られることを新たに見出し
た。従って、金属膜が形成されるプラスチックフィルム
を冷却するドラムの温度は、使用されるプラスチックフ
ィルムの熱変形温度によって異なるが、通常−30℃〜
60℃が好ましく、30℃〜60℃の範囲がより好まし
い。
ツボからの輻射熱や、金属蒸気の凝縮熱を受けて熱収縮
を起こすため、冷却が行われる。しかしながら、発明者
らは、過度の冷却がガスバリア性を損なうことを見出し
た。すなわち、プラスチックフィルムが熱収縮などの変
形を起こすぎりぎりの温度までプラスチックフィルムを
加熱しながら、金属膜を形成することでガスバリア性に
優れた金属蒸着フィルムが得られることを新たに見出し
た。従って、金属膜が形成されるプラスチックフィルム
を冷却するドラムの温度は、使用されるプラスチックフ
ィルムの熱変形温度によって異なるが、通常−30℃〜
60℃が好ましく、30℃〜60℃の範囲がより好まし
い。
【0020】以下、本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
【0021】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法の一
例を図1を用いて説明する。
例を図1を用いて説明する。
【0022】1の真空容器内に設置された2のフィルム
巻出し軸より巻き出された5のプラスチックフィルム
は、−30℃〜60℃に温度調節された3の加熱・冷却
ドラムに沿って、走行しながら4のフィルム巻取り軸に
巻き取られる。同時に、6の蒸発器内の7のルツボから
金属が蒸発され、走行フィルムに積層される。金属が積
層される前部分に8のマグネトロン電極を設け、9の電
極カバー内に炭酸ガスを導入しながら低温プラズマ処理
を行う。
巻出し軸より巻き出された5のプラスチックフィルム
は、−30℃〜60℃に温度調節された3の加熱・冷却
ドラムに沿って、走行しながら4のフィルム巻取り軸に
巻き取られる。同時に、6の蒸発器内の7のルツボから
金属が蒸発され、走行フィルムに積層される。金属が積
層される前部分に8のマグネトロン電極を設け、9の電
極カバー内に炭酸ガスを導入しながら低温プラズマ処理
を行う。
【0023】
【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値は以下の測定法による。
性値は以下の測定法による。
【0024】(1)OD値 マクベス社製マクベス濃度計TR−927を用いて、透
過法で測定した。
過法で測定した。
【0025】(2)酸素透過率 ASTM D−3985に準じて、モダンコントロール
社製酸素透過率測定装置OX−TRAN100を用い
て、20℃、0%RHの条件にて測定した。
社製酸素透過率測定装置OX−TRAN100を用い
て、20℃、0%RHの条件にて測定した。
【0026】
【実施例】以下実施例について説明する。
【0027】実施例1 包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(東レ(株)製“ルミラー”タイプP60、厚さ
12μm)を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
ィルム(東レ(株)製“ルミラー”タイプP60、厚さ
12μm)を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
【0028】電子ビーム加熱型真空蒸着機を2×10
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力4×10−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、同軸円柱型マグネトロン
電極を使用し、E値200W・分/m2 の強度で低温プ
ラズマ処理を行い、続いて、アルミニウムの真空蒸着を
行った。真空蒸着はアルミナルツボ(日本カーボンセラ
ム(株)製)に粒状アルミニウム(真空冶金(株)製、
純度99.99%)を充填して、アルミニウムを電子ビ
ームで加熱溶融しながら蒸発せしめ、膜厚30nmのア
ルミニウム膜を形成した。この時のフィルム冷却ドラム
の温度は30℃であった。このアルミニウム蒸着フィル
ムを実施例1とした。
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力4×10−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、同軸円柱型マグネトロン
電極を使用し、E値200W・分/m2 の強度で低温プ
ラズマ処理を行い、続いて、アルミニウムの真空蒸着を
行った。真空蒸着はアルミナルツボ(日本カーボンセラ
ム(株)製)に粒状アルミニウム(真空冶金(株)製、
純度99.99%)を充填して、アルミニウムを電子ビ
ームで加熱溶融しながら蒸発せしめ、膜厚30nmのア
ルミニウム膜を形成した。この時のフィルム冷却ドラム
の温度は30℃であった。このアルミニウム蒸着フィル
ムを実施例1とした。
【0029】実施例2、実施例3、実施例4 実施例1の低温プラズマ処理強度を50W・分/m2 、
100W・分/m2 、300W・分/m2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例2、実施例
3、実施例4とした。
100W・分/m2 、300W・分/m2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例2、実施例
3、実施例4とした。
【0030】実施例5 実施例1の包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム(東レ(株)製“トレファン”
タイプY746、厚さ18μm)を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例5とした。
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム(東レ(株)製“トレファン”
タイプY746、厚さ18μm)を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例5とした。
【0031】実施例6、実施例7、実施例8 実施例5の低温プラズマ処理強度を50W・分/m2 、
100W・分/m2 、300W・分/m2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例6、実施例
7、実施例8とした。
100W・分/m2 、300W・分/m2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例6、実施例
7、実施例8とした。
【0032】実施例9、実施例10 実施例5のフィルム冷却ドラムの温度を−20℃、50
℃としたときのアルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実
施例9、実施例10とした。
℃としたときのアルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実
施例9、実施例10とした。
【0033】比較例1 実施例1で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例1とした。
着フィルムを比較例1とした。
【0034】比較例2 実施例1の真空槽へ導入する炭酸ガスの替わりに、アル
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例2とした。
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例2とした。
【0035】比較例3 実施例5で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例3とした。
着フィルムを比較例3とした。
【0036】比較例4 実施例5の真空槽へ導入する炭酸ガスの替わりに、アル
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例4とした。
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例4とした。
【0037】比較例5 実施例5の炭酸ガス導入量を増加し、圧力1×100 パ
スカルで低温プラズマ処理を行ったときのアルミニウム
蒸着フィルムを比較例5とした。この場合、マグネトロ
ン電極周辺での異常放電が頻繁に発生し、かつアルミニ
ウム蒸着フィルムのガスバリア性も劣ったものであっ
た。
スカルで低温プラズマ処理を行ったときのアルミニウム
蒸着フィルムを比較例5とした。この場合、マグネトロ
ン電極周辺での異常放電が頻繁に発生し、かつアルミニ
ウム蒸着フィルムのガスバリア性も劣ったものであっ
た。
【0038】実施例1〜10、比較例1〜5の特性を表
1に示す。
1に示す。
【0039】
【表1】
【0040】
【発明の効果】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法に
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られる金属
蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性を活用して、
食品、医薬品、電子部品、機械部品などの包装材料とし
て広く用いることができる。
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られる金属
蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性を活用して、
食品、医薬品、電子部品、機械部品などの包装材料とし
て広く用いることができる。
【図1】本発明の製造方法を実施するための低温プラズ
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
1:真空容器 2:フィルム巻出し軸 3:加熱・冷却ドラム 4:フィルム巻取り軸 5:プラスチックフィルム 6:蒸発器 7:ルツボ 8:マグネトロン電極 9:電極カバー 10:ガス流量制御装置 11:炭酸ガスボンベ
Claims (3)
- 【請求項1】 プラスチックフィルムからなる基体の表
面を、マグネトロン電極を使用し、6×10−1 パスカ
ル以下の圧力で炭酸ガスの低温プラズマ雰囲気中で前処
理し、該処理面に連続して金属蒸着膜を設けることを特
徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 - 【請求項2】 低温プラズマ処理の処理強度がE値で2
0W・分/m2 以上である請求項1記載の金属蒸着フィ
ルムの製造方法。 - 【請求項3】 金属蒸着膜を形成する際の基体冷却ドラ
ムの温度を30〜60℃の範囲に高め、プラスチックフ
ィルムを加熱しながら金属薄膜を形成することを特徴と
する請求項1または2に記載の金属蒸着フィルムの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22593992A JP3331631B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22593992A JP3331631B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0665712A true JPH0665712A (ja) | 1994-03-08 |
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