JPH0650983Y2

JPH0650983Y2 - 薄膜形成装置の基板カート

Info

Publication number: JPH0650983Y2
Application number: JP7138888U
Authority: JP
Inventors: 正義今村
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 1988-05-30
Filing date: 1988-05-30
Publication date: 1994-12-21
Anticipated expiration: 2003-05-30
Also published as: JPH01174922U

Description

【考案の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この考案は、薄膜形成装置、特にインライン方式のプラ
ズマCVD装置における基板カートに関するものである。

〔従来の技術〕

半導体集積回路の絶縁膜等を形成する方法としては、従
来よりプラズマCVD法が採用されている。このプラズマC
VD法は、例えば成膜室内に基板を配置するとともに、こ
の基板に対向して平行平板電極を設け、該電極に高周波
電圧を印加して基板との間にグロー放電を起こさせ、こ
れにより反応ガスを励起して前記基板上に成膜を行うも
のである。

このようなプラズマCVD法による成膜装置（以下、プラ
ズマCVD装置と記す）において、連続的に各処理を行う
ためにインライン方式の装置が用いられる。このインラ
イン方式のプラズマCVD装置は、例えば基板取り入れ
室，成膜室等の処理室，及び基板切り出し室が連続的に
配置されている。そして、これらの各室間で基板を搬送
するために、基板カートが用いられる。

このインライン方式のプラズマCVD装置における成膜室
の概略構成を第３図に示す。この第３図に示す構成の装
置は、電極及びこれに接続されるマッチングボックスを
共用化し、構造を簡単にするために本件出願人が開発し
たものであり、いわゆる縦形二面方式となっている。図
において、１はチャンバ（真空室）であり、このチャン
バ１には図示しないガス導入系，排気系等が接続されて
いる。そして、このチャンバ１の前後（紙面垂直方向）
には、バルブを介して準備室等が設けられている。前記
チャンバ１の中央部には、高周波電圧の印加される電極
（以下、高周波電極と記す）２が配置されており、この
高周波電極２は図示しないマッチングボックス等を介し
て高周波電源に接続されている。そして、基板を保持す
る基板カート３が、コロ４等により前記チャンバ１内に
搬送されてくるようになっている。基板カート３はコ字
状に構成されており、前記高周波電極２の両面と基板と
が対向し得るようになっている。また、チャンバ１内の
側壁には、前記高周波電極２の各面と対向して、基板加
熱用のシースヒータ5a,5bが設けられている。

〔考案が解決しようとする課題〕

ところで、前記第３図に示した装置では、基板カート３
の内側の面が放電面となるため、基板の取付けは該基板
カート３の外側から行う必要がある。しかし、縦形のた
めに基板カート３に直接基板の着脱を行う作業は困難で
ある。そこで、第４図（ａ）に示すように、基板カート
３の基板取付け部3a,3bを回動自在に設け、基板の着脱
に際しては、同図に示すように水平状態に倒して行うよ
うにすることも考えられる。しかしこの場合、第４図
（ｂ）に示すように、基板５を固定している面3cが下側
になり、着脱作業はやはり困難で、作業性は改善されな
い。また成膜面が上になるので、作業時のダスト付着が
問題となる。なお、第４図（ｂ）において、６は高周波
電極２に対向する電極としてのバックプレートであり、
基板５はこのバックプレート６とともに、固定具７によ
り基板カート３に固定されるようになっている。

そこで、一旦作業性の良い状態でサブホルダに基板を保
持しておき、そのサブホルダを第３図に示したような基
板カート３に取りつけるという方式も採用されている
が、このような従来のサブホルダ方式では、作業工程が
増え、またこの作業を自動化したときに作業工程の増加
に伴ってミス率も増加するという欠点を有している。

この考案は、かかる点に鑑みてなされたもので、簡単
で、作業性の良い薄膜形成装置の基板カートを得ること
を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この考案に係る薄膜形成装置の基板カートは、基板カー
トのベースとなるカート台を設けるとともに、このカー
ト台の上面に直立状態及び水平状態を取りうるホルダ本
体を回動自在に装着し、さらにこのホルダ本体のほぼ中
央部に形成された切欠き部に、基板ホルダを回転自在に
装着したものである。

〔作用〕

この考案においては、例えば基板を基板カートに装着す
る際は、ホルダ本体を回動して水平状態とし、かつこの
ホルダ本体に装着された基板ホルダを回転して基板の取
付け面を上側にする。この状態で、基板ホルダに対して
上側から基板の装着を行う。そしてこの基板カートを搬
送する際は、前記ホルダ本体を回動して直立状態とし、
かつ基板ホルダを回転して、基板の成膜面が高周波電極
と対向する側に位置させる。

〔実施例〕

以下、本考案の実施例を図に基づいて説明する。第１図
に本考案の一実施例による基板カートの斜視図を示す。
本実施例では、前記第３図で示したような構成、即ち高
周波電極がチャンバ内の中央に配置されており、縦形二
面方式で成膜を行う場合の基板カート30を示す。図にお
いて、31はコロ４により移動自在のカート台であり、こ
のカート台31の上面には、２組の第１ヒンジ32a,32bが
固定されている。この各第１ヒンジ32a,32bには、それ
ぞれホルダ本体33a,33bの下端が回動自在に支持されて
おり、ホルダ本体33a,33bは第１図に示すような直立状
態、あるいは第２図に示すような水平状態の位置を取り
得るようになっている。

前記ホルダ本体33a,33bの中央部には、その上方が開放
する切欠き34a,34bが形成されており、その側部中央に
第２ヒンジ35a,35bが固定されている。そして、前記各
ホルダ本体33a,33bの切欠き34a,34bには、基板ホルダ36
a,36bが嵌め込まれ、かつこの基板ホルダ36a,36bは前記
第２ヒンジ35a,35bに回転自在に支持されている。ま
た、前記ホルダ本体33a,33bの上端には止め具37a,37bが
回動自在に装着されており、これにより、基板搬送時等
において前記基板ホルダ36a,36bが回転するのを禁止し
ている。

また、前記基板ホルダ36a,36bの中央部には、第４図
（ｂ）の拡大図で示す構造と同様の、基板装着用の段付
開口部（第１図及び第２図では図示せず）が形成されて
おり、この段付開口部の周囲には、該開口部に装着され
た基板５を保持するための固定具38が回動自在に設けら
れている。

次に作用効果について説明する。ここで、基板カート30
は２組の基板ホルダ，基板等を有しているが、これらの
作用は同様であるので、ここではその一方のみの作用に
ついて説明する。

まず、基板カート30に基板５を装着する場合は、第２図
に示すように、第１ヒンジ32aを中心にホルダ本体33aを
回動して水平状態とする。このとき、基板ホルダ36a
は、固定具38が上側に位置するように回転させておく。
そして、基板装着時にじゃまにならないように、各固定
具38を退避位置に回転させておき、成膜面が下方になる
ようにして基板５を基板ホルダ36aの段付開口部に装着
する。この後、固定具38を回転して基板５を固定する。

そして、前記基板カート30を移動させる場合は、前記基
板５の装着されたホルダ本体33aを回動して直立状態と
する。このとき、基板５の成膜面は外側（水平状態では
下方）を向いているので、第２ヒンジ35aを中心に、基
板ホルダ36aを180°回転し、基板５の成膜面が内側とな
るように、即ち、成膜室において成膜面が高周波電極と
対向するようにする。この基板ホルダ36aの回転は、第
２図に示す水平状態で行ってもよい。基板ホルダ36aが
正規の方向に回転したところで、止め具37aを基板ホル
ダ36aの上部両端に係合し、基板ホルダ36aの回転を固定
する。

このような動作により、基板カート30の両基板ホルダ36
a,36bに保持された基板５は、それぞれその成膜面が内
側を向くことになり、成膜室に搬入されたとき、高周波
電極と対向する。即ち、第３図に示した状態となり、従
来装置同様にプラズマCVD法による成膜が可能となる。
また、基板の取り出し動作は、前記の装着動作と逆の動
作により行われる。

このような本実施例では、基板５の着脱は水平状態で、
しかも上側から行うことができるので、作業が非常に容
易になり、またこの作業中は基板成膜面が下側にあるの
で、成膜面へのダスト付着を防止することができる。

なお、前記実施例では第1,第２ヒンジをそれぞれ独立し
て作動するようにしたが、これらのヒンジ部をリンク機
構等により連結して、ホルダ本体と基板ホルダとが連動
するようにしてもよい。即ち、ホルダ本体が水平状態か
ら直立状態に回動する際は、これに連動して基板の成膜
面が内側を向くように基板ホルダを回転させ、またホル
ダ本体が直立状態から水平状態に回動するときは、これ
に連動して基板の成膜面が外側（水平状態では下方）を
向くように基板ホルダを回転させるようにしてもよい。
このようにすれば、前記実施例と同様の効果に加え、さ
らに工程が減少し、作業を自動化する際に有効となる。

また、前記基板ホルダの回転は180°だけ回転すればよ
いので、この基板ホルダを支持するヒンジ部も、180°
だけ往復回転するものを用いてもよい。

さらに、前記実施例では本考案をプラズマCVD装置に適
用した場合について説明したが、本考案は前記第３図に
示したような構成のプラズマCVD装置に連続して設けら
れたスパッタリング装置等に適用して有効なものであ
る。

〔考案の効果〕

以上のように、本考案によれば、従来の基板ホルダをホ
ルダ本体と基板ホルダとに分割するとともに、これらを
それぞれ回転自在に構成したので、簡単な構成で、基板
の着脱作業が非常に容易になり、しかもその作業中の基
板成膜面へのダスト付着を防止できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例による基板カートの斜視図、
第２図はその動作を説明するための図、第３図は従来の
基板カートをプラズマCVD装置の成膜室内に搬送した場
合の断面構成図、第４図（ａ）は従来の基板カートの構
成を改良した場合の図、第４図（ｂ）はその一部拡大図
である。５…基板、30…基板カート、31…カート台、32a,32b…
第１ヒンジ、33a、33b…ホルダ本体、35a,35b…第２ヒ
ンジ、36a,36b…基板ホルダ。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】薄膜形成装置の成膜室に基板を搬入，搬出
するための基板カートであって、移動自在に設けられた
カート台と、その下端が前記カート台の上面に回動自在
に装着され直立状態及び水平状態を取りうるホルダ本体
と、このホルダの切欠き部に回転自在に装着され基板を
着脱自在に保持する基板ホルダとを備えたことを特徴と
する薄膜形成装置の基板カート。