JPH0637716B2 - 電解処理方法 - Google Patents

電解処理方法

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JPH0637716B2
JPH0637716B2 JP62206584A JP20658487A JPH0637716B2 JP H0637716 B2 JPH0637716 B2 JP H0637716B2 JP 62206584 A JP62206584 A JP 62206584A JP 20658487 A JP20658487 A JP 20658487A JP H0637716 B2 JPH0637716 B2 JP H0637716B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、金属板の電解処理において、電解反応を最適
に制御しうる電解処理方法に関するものである。
〔従来の技術〕
アルミニウム、鉄などの金属の表面に電解処理する方法
は例えば鍍金処理、電解粗面化処理、電解エッチング処
理、陽極酸化処理、電解着色、梨地処理などあって広汎
に実用化されており、利用される電源は要求される品質
や反応効率の向上の目的から直流、商用交流、重畳波形
電流、その他サイリスター制御による特殊波形や矩形波
交番電流等が用いられる。
第5図は従来の黒鉛電極を利用した、金属ウエブの連続
電解処理システムの一具体例を示す。金属ウエブ1はガ
イドローラ2より電解セル4に導かれ、パスローラ3に
より支持され電解セル4を水平に搬送されガイドローラ
5によりセル外に移送される。電解セル4はインシュレ
ーター6により2つの室に分割されそれぞれに主電極で
ある黒鉛電極8,9が金属ウエブ1に対向して配置され
る。28は電解液であり循環タンク29にストックされ
ポンプ30により電解セル4内に設置された電解液供給
口11、12に送液される。黒鉛電極8,9と金属ウエ
ブ1との間を電解液が満たし排出口13を経て循環タン
ク29にもどる。14は電源であり黒鉛電極8,9に接
続し、電圧を印加する。このようにすることにより金属
ウエブ1に連続的に電解処理を施すことが出来る。
電源14には直流波形,交番波形,そして矩形波交番波
形等が利用される。
金属ウエブに電解処理を施す場合、目的とするピット
径、及びピット周期等の表面処理形状と電解電流条件と
の間には非常に密接な関係があり、電解電流の制御が電
解処理でのポイントとなっている。
電解電流として交番波形電流を用いる場合、順側電流平
均値I(n) と逆側電流平均値I(r) との比 を電流比と呼んでおり、電解処理においては特にこの電
流比により電解処理による表面処理形状が大きく変化す
ることが知られている。たとえば特公昭56−1928
0号公報ではA1板の電解処理に於てアノード時電圧が
カソード時電圧より大なるよう印加した交番波形電流即
ち電流比 を用いることによりオフセット印刷版支持体として優れ
た粗面化処理が可能になるという記載がある。
従来、前記電流比を制御する方法としては、非対称交番
波形電流を発生させることのできる特別な電源装置を使
用することにより順側電流平均値と逆側電流平均値との
比を制御した交番電流を用いる方法,又は電極と金属ウ
エブとの距離を変化させたり、有効電極面積を変化させ
るという方法が考えられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、前者の方法は電源設備が複雑になり、コ
ストが大きくなったり、変圧器が偏磁してしまうという
問題点があり、又後者の方法は電解処理槽や電極の構造
等が複雑となり実用には適さないという問題点があっ
た。
本発明の目的は上記問題点を解消し、通常の電源設備を
用い、電解セルや電極構造も複雑にすることなく、容
易,確実に電解反応を最適に制御出来る電解処理方法を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕
発明者は上記の従来技術での問題点を解決するため、補
助アノード電極を使用することにより、電解電流の電流
比を制御する方法を発明した。
即ち、本発明は、交番波形電流を使用する液体給電によ
る金属ウエブの連続電解処理方法において、電流値の一
部を主電極とは別に設けた補助アノード電極に直流電流
として分流させることにより、金属ウエブ表面で作用す
るアノード反応にあずかる電流値とカソード反応にあず
かる電流値との比を制御することを特徴とする電解処理
方法である。
本発明において補助アノード電極に流す直流電流は脈流
とすることが好ましい。
この理由としては、主電極より流れる電流比 にするためには、本発明の場合補助電極へ分流する電流
値を順側と逆側で変えることが最も簡単で好ましいこと
であり、その結果補助アノード電極に流す直流電流が脈
流になるのである。
以下本発明の実施態様を第1図,第2図によって詳細に
説明する。
第1図は本発明による金属ウエブの連続電解処理方法の
1実施態様を示す説明図である。
第2図は第1図で使用する交番波形電流の1実施例を示
す。
第1図において金属ウエブ1はガイドローラ2により電
解セル4に導かれる。電解セル4内ではサポートローラ
3により水平に搬送されローラ5によりセル外に移送さ
れる。電解セル4には金属ウエブ1に対向する位置に難
溶性の補助アノード電極10が設置される。難溶性の補
助アノード電極としては白金、鉛等が利用される。
又電解セル4はインシュレータ6,7により3つの部分
に分割され、金属ウエブに対向して前述の補助アノード
電極10と主電極である黒鉛電極8,9が夫々の部分に
設置される。電解液28はポンプ30により電解セル4
の内部に設置された電解液供給口11,12に送られ、
黒鉛電極8,9及び補助アノード電極10と対面する金
属ウエブ1との間隙を電解液で満たし排出口13を経て
循環タンク29にもどる。電解液は図面には記してない
が循環系の一部に熱交換器及びフイルターが設置され精
密に温度制御されるとともにフイルターにより不純物が
分離除却されるのが普通である。
このような電極配置を構成する電解セルに第2図のa
(点線)で示すような交番波形電流を電源14により流
すことが出来る。
本発明において電流値の一部を主電極とは別に設けた補
助アノード電極に直流電流として分流させるということ
は、例えば電源14は順側端子を主電極である黒鉛電極
8及びサイリスタ又はダイオード22を通じて補助アノ
ード電極10へ接続させ、同様に逆側端子は主電極であ
る黒鉛電極9及びサイリスタ又はダイオード23を通じ
て補助アノード電極10へ接続させることをいう。
又金属ウエブ表面で作用するアノード反応にあずかる電
流値とカソード反応にあずかる電流値との比を制御する
ということは、例えば補助アノード電極10へ流れる電
流を制御すれば可能であり、電流の制御の方法はサイリ
スタによりゲートタイムを制御することも出来るし又ダ
イオードの場合は、電気回路中に可変抵抗等を入れて制
御することも出来る。又補助アノード電極10と金属ウ
エブ1との極間距離や補助アノード電極10の有効電極
面積を制御することによっても可能である。又第1図に
は記していないが補助アノード電極10用の専用の電解
セル及び電解液循環タンクを設けて電解液の種類、電解
浴条件、温度、温度等を必要に応じて変化させても良
い。
第1図において、電解電流の流れを説明すると、順側電
流の場合電源14から発生した順側電流I(n) は黒鉛電
極8と補助アノード電極10とに分流される。黒鉛電極
8と補助アノード電極10とに流る電流をそれぞれI′
(n) ,β(n) とすると I(n) =I′(n) +β(n) , β(n) >0となる。こ
れらの電流は電解液28を介して金属ウエブ1へ流れる
が、この時黒鉛電極8及び補助アノード電極10の表面
ではアノード反応が起こり、これらの電極と対面する金
属ウエブ1の表面ではカソード反応が起こっている。
順側電流はさらに、金属ウエブ1から、電解液28を介
して黒鉛電極9へ流れ電源14へ戻るが、この時、黒鉛
電極9の表面ではカソード反応が起こり、対面する金属
ウエブ1の表面ではI(n)によるアノード反応が起こっ
ている。
逆側電流の場合、電源14から発生した逆側電流I(r)
は黒鉛電極9と補助アノード電極10とに分流される。
黒鉛電極9と補助アノード電極10とに流れる電流をそ
れぞれI′(r) ,β(r) とするとI(r) =I′(r) +β
(r) β(r) >0となる。
これらの電流は電解液28を介して金属ウエブ1へ流れ
るがこの時黒鉛電極9及び補助アノード電極10の表面
ではアノード反応が起こり、これらの電極と対面する金
属ウエブ1の表面ではカソード反応が起こっている。逆
側電流はさらに、金属ウエブ1ら電解液28を介して黒
鉛電極8へ流れ、電源14へ戻るがこの時黒鉛電極8の
表面ではカソード反応が起こり、対面する金属ウエブ1
の表面ではアノード反応が起こっている。第2図は第1
図の例における電解電流波形を示したものであるが、主
電極である黒鉛電極8,9へ流れる電解電流は、aの波
形が補助アノード電極10への分流の為、第2図中の実
線bのような波形となる。
したがって、金属ウエブ1の電解反応を制御するために
は、補助アノード電極10への分流電流β(n) とβ(r)
とを制御するため、第2図中の実線bの波形を変化させ
ることにより、反応に寄与する順側電流と逆側電流との
比を制御できる。
第3図は、補助アノード電極10への電流を供給する専
用の直流補助電源15と中性点をとり出すための変圧器
16を使用した実施例であり、この場合の電解電流波形
は第4図のようになる。
直流補助電源15により発生する電流により、反応に寄
与する電解電流のゼロラインが第4図中C線よりd線に
オフセットしており、順側電流と逆側電流との比が制御
されている。
以上、本発明の実施態様について説明したが、本発明の
特徴は補助アノード電極を用いて、電解反応に寄与する
電解電流の電流比を制御することにある。
従って、当然のことながら電解セルの形状や分割数,電
極の配列の順序,電解液の種類により制限を受けるもの
ではない。又、交番波形電流についても、非対称性や、
波形の種類によって制限を受けるものではない。
〔実施例〕
本発明の効果を明確に示すため実施例を以下に掲げる。
実施例−1 硝酸1%水溶液中で温度35℃でオフセット印刷版支持
体としてアルミニウム板の連続電解粗面化処理を第3図
に示す電極配置にて、第4図に示す交番波形電流を使用
して行った。主電極としては黒鉛電極を使用し、補助ア
ノード電極としては白金を使用した。順側電流I(n) =
300(A) 逆側電流I(r) =300(A) の設定にて処理
速度1m/分にて、5時間連続電解処理を行なった。又
主電極としての黒鉛電極と補助アノード電極への順側電
流の分流の方法として、補助アノード電極の有効電極長
を変えることにより、β(n) 及びβ(r) を変化させ第1
表に示す結果を得た。
上記条件のNo.1即ち、補助アノード電極を使用しない
場合又は の場合は黒鉛電極に消耗が発生して長時間運転には好ま
しくないが、No.2,No.3のβ(n),β(r) の場合 となり電極の消耗もなく、電解処理後の表面状況も良好
であった。β(n) 及びβ(r) の電流値の変化により、表
面形状に変化がみられたが、いずれもオフセット印刷版
支持体として、優れた粗面化表面に得ることができた。
実施例−2 塩酸1%水溶液中で温度35℃で実施例1と同様の条件
で実験を行なったところ、電解処理後の表面状態は全て
良好であり、第1表と同様な結果が得られた。ただし、
表面形状については、実施例1で得られた形状と少し異
なっているが、オフット印刷版支持体として優れた粗面
化表面を得た。
〔発明の効果〕
通常の電解条件では主電極よりの電流比 が1より小さく設定されている為、主電極へ流す電流が
非対称交番電流となり、従来変圧器の容量を大きくする
必要が生じたり、電解電流の偏磁制御を行なう必要があ
ったため、電解電源装置が大型化、複雑化していたが本
発明は交番波形電流を使用する液体給電による金属ウエ
ブの連続電解処理方法において、主電極とは別に補助ア
ノード電極に直流電流を流すことにより、金属ウエブ表
面で作用するアノード反応にあずかる電流値とカソード
反応にあずかる電流値との比を制御すること特徴とする
電解処理方法によって、主電極へ流す電流の電流比制御
が補助アノード電極へ流れる電流を制御することで自由
に設定できる。したがって、電源としては電流比γ=1
にすることにより、対称型の交番電流を使用することが
できるため本発明は通常の電源設備を用い電源装置を小
型化、単純化することが可能となり電解セルや電極構造
も複雑にすることなく、設備コストを低減させ且つ容
易,確実に電解反応を最適に制御することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第3図は、本発明の電解処理方法を利用した
連続電解処理装置の実施態様を示す模式的説明図、第2
図は第1図の、第4図は第3図の方法を利用した場合の
電流波形を示す説明図、第5図は従来の連続電解処理装
置の一例を示す模式的説明図である。 1……金属ウエブ、4……電解セル 8,9……黒鉛電極 10……補助アノード電極 14……電源、15……補助電源 16……変圧器 22,23……ダイオード又はサイリスタ 28……電解液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25D 21/00 J C25F 7/00 D 8414−4K

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】交番波形電流を使用する液体給電による金
    属ウエブの連続電解処理方法において、電流値の一部を
    二つの主電極とは別に設けた補助アノード電極に直流電
    流として分流させることにより、金属ウエブ表面で作用
    するアノード反応にあずかる電流値とカソード反応にあ
    ずかる電流値との比を制御することを特徴とする電解処
    理方法。
  2. 【請求項2】該補助アノード電極に流す直流電流を脈流
    とすることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電
    解処理方法。
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5174869A (en) * 1989-08-21 1992-12-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing aluminum support for printing plate
JP2660582B2 (ja) * 1989-08-21 1997-10-08 富士写真フイルム株式会社 電解処理方法
US5152877A (en) * 1989-10-13 1992-10-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for producing support for printing plate
US5164033A (en) * 1990-04-17 1992-11-17 Tir Systems Ltd. Electro-chemical etch device
JPH04128010A (ja) * 1990-09-19 1992-04-28 Kyoto Handotai Kk シリコン単結晶の切断方法
US5358610A (en) * 1992-07-20 1994-10-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for electrolytic treatment
EP0689096B1 (en) 1994-06-16 1999-09-22 Kodak Polychrome Graphics LLC Lithographic printing plates utilizing an oleophilic imaging layer
JP3342776B2 (ja) * 1994-08-30 2002-11-11 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法並びにアルミニウム支持体の粗面化処理方法
US6344131B1 (en) 1994-08-30 2002-02-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing aluminum support for planographic printing plate
DE69610002T2 (de) * 1995-03-06 2001-01-11 Fuji Photo Film Co Ltd Träger für lithographische Druckplatten, Herstellungsverfahren desselben und Vorrichtung zur elektrochemischen Aufrauhung
JPH0939431A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の粗面化処理方法
DE19859216A1 (de) * 1998-12-21 2000-06-29 Agfa Gevaert Ag Verfahren und Vorrichtung zum Aufrauhen eines Trägers für lichtempfindliche Schichten
US6780305B2 (en) 2001-02-20 2004-08-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for producing support for planographic printing plate, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor
KR100516484B1 (ko) * 2002-01-17 2005-09-23 주식회사 케이피티 다수의 전원장치를 구비하는 도금장치 및 그를 이용한도금방법
US20050230267A1 (en) * 2003-07-10 2005-10-20 Veatch Bradley D Electro-decontamination of contaminated surfaces
JP4410714B2 (ja) 2004-08-13 2010-02-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
ATE395195T1 (de) 2005-04-13 2008-05-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung eines flachdruckplattenträgers
DE602006009919D1 (de) * 2006-08-03 2009-12-03 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenträger
KR100960005B1 (ko) * 2008-02-28 2010-05-28 주식회사 에이스테크놀로지 알에프 장비의 도금 방법 및 이에 의해 제조된 알에프 장비
JP2009208140A (ja) 2008-03-06 2009-09-17 Fujifilm Corp 平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、ならびに該製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版用支持体
WO2010038812A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 電解処理方法および電解処理装置
CN102460749A (zh) 2009-06-26 2012-05-16 富士胶片株式会社 光反射基板及其制造方法
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
JP2012033853A (ja) 2010-04-28 2012-02-16 Fujifilm Corp 絶縁性光反射基板
KR20190139284A (ko) 2017-06-21 2019-12-17 후지필름 가부시키가이샤 알루미늄 복합 재료
CN113936861B (zh) * 2021-12-15 2022-03-11 深圳乐能电子有限公司 一种车载usb充电线缆表面覆层电解处理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5619280A (en) * 1979-07-26 1981-02-23 Toshio Oiwa Electronic photo album
JPS59215500A (ja) * 1983-05-19 1984-12-05 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理方法
CH655135A5 (de) * 1983-07-14 1986-03-27 Alusuisse Vorbehandlung eines bandes oder einer folie aus aluminium durch elektrochemische oxidation.
JPS6056099A (ja) * 1983-09-05 1985-04-01 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPS6067699A (ja) * 1983-09-21 1985-04-18 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理方法
JPH0620029B2 (ja) * 1984-08-30 1994-03-16 松下電器産業株式会社 アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3828291A1 (de) 1989-03-02
JPS6452098A (en) 1989-02-28
DE3828291C2 (de) 2000-05-04
US4919774A (en) 1990-04-24

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