JPH0636287A

JPH0636287A - 光ディスク原盤及び原盤露光装置

Info

Publication number: JPH0636287A
Application number: JP19191192A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Shimizu; 明彦清水
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1992-07-20
Filing date: 1992-07-20
Publication date: 1994-02-10

Abstract

(57)【要約】【目的】クロストークが大きくなるのを防いで常に安
定した記録、再生を行うことが可能な光ディスク原盤及
び原盤露光装置を提供する。【構成】レーザ光源から出射されたレーザビームを対
物レンズにより集光して露光することにより、ＥＦＭ変
調された情報として用いられる位相ピット２５と、追記
時にトラッキング用の案内溝として用いられるグルーブ
２６とが形成された光ディスク原盤において、位相ピッ
ト２５及びグルーブ２６のディスク半径方向の断面形状
はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝から
なり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面
部のフラットな面の位置が等しく、かつ、位相ピット２
５の深さをグルーブ２６の深さよりも大きく形成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤及び原
盤露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来におけるハイブリッドＣＤ−Ｒディ
スクの構成を図１０〜図１８に基づいて説明する。図１
０は、ＲＯＭ部１と追記部２とを有するハイブリットＣ
Ｄ−Ｒディスクの構成を示すものである。図１１は図１
０の断面形状を示すものであり、ＲＯＭ部１には予め基
板３（ＰＣ、ポリカーボネート）上にピット４が形成さ
れており、このピット４はＥＦＭ変調された情報として
記録されている。追記部２には、予め基板３上にグルー
ブ５が形成されている。この追記時にグルーブ５をトラ
ッキング用の案内溝として記録を行う。この基板３に記
録層６としてシアニン色素などの有機膜を塗布し、反射
層７としてＡｕ膜をスパッタする。この場合、ＣＤ−Ｒ
ディスクの特徴は、記録後のディスクがＣＤプレーヤで
再生できる点であり、このためＲＯＭ部１と追記部２の
追記後の再生信号特性が同じである必要がある。このＣ
Ｄ−Ｒディスクの規格は、Ｏrange Ｂook （Ｓony Ｐhi
lips社）より標準化されている。

【０００３】図１２及び図１３は、ピット及びグルーブ
深さに対する再生信号の特性例を示すものである。この
場合、図１４（ａ）（ｂ）に示す関係を参考にして、ト
ラックピッチ１．６μｍ、ピット４は矩形溝幅ｗｐ＝
０．４μｍ、グルーブ５のＶ形溝幅ｗｇ＝０．４μｍに
設定されているものとする。変調度＞０．６５を満足す
るには、ピット４の位相深さＤｐはＤｐ＝（３／１６）
λ〜（５／１６）λである必要がある。また、記録後の
プッシュプル振幅０．０４〜０．０９を満足するには、
グルーブ５の位相深さＤｇは、Ｄｇ＝（１／２４）λ〜
（１／８）λである必要がある。このように再生信号特
性が規格を満足するためには、ピット４とグルーブ５の
溝深さが異なる。

【０００４】次に、異なる溝深さのピット４とグルーブ
５を有する基板の作製方法について説明する。基板は、
一般的に射出成形法によって作製されるが、射出成形に
おいて使用する金型（スタンパ）は、図１５に示すよう
に、フォトリソグラフィ及び電鋳工程によって作製する
ことができる。まず、ガラス基板８上にフォトレジスト
９をスピンコートし、８０〜９０°で約３０分ベーク
（フォトレジスト９の膜厚はピット深さと同じ）した
後、光ディスク原盤露光装置（後述する）により露光す
る。この露光された部分は現像処理によってリフトオフ
され、フォトレジスト９の面にピット４とグルーブ５の
パターンが形成される（ｂ）。このフォトレジスト９の
面にＮｉスパッタ膜１０を形成する（ｃ）。このＮｉス
パッタ膜１０を電鋳処理し、約０．３ｍｍの厚みのＮｉ
電鋳１１を作製する（ｄ）。このＮｉ電鋳１１の裏面の
研磨、内外径加工を行い、Ｎｉスタンパ１２を完成させ
る。このような一連の工程により金型の作製を行うこと
ができる。

【０００５】次に、光ディスク原盤露光装置の構成を図
１６に基づいて説明する。Ａｒのレーザ光源１３から出
射された光は、パルス変調器１４、λ／２板１５、ミラ
ー１６を介して、光量変調器１７に入射し、これにより
光量変換が行われる。この光量変換されたパルス光は、
偏光器１８により所定の偏光角に変換される。この偏光
された光は偏光ビームスプリッタ１９を通過することに
より一定方向に偏光された光のみが選択され、この選択
された光はλ／４板２０を介して対物レンズ２１により
集光され、光ディスク原盤２２のフォトレジスト９面上
に露光される。なお、対物レンズ２１は、フォーカスア
クチュエータ２１ａにより光軸方向に移動調整できるよ
うになっている。

【０００６】ハイブリッドＣＤ−Ｒの場合、異なる位相
深さをもつピット４とグルーブ５を形成する必要があ
る。フォトレジスト面にピット４とグルーブ５をパター
ンニングする際、露光するピット４とグルーブ５のレー
ザパワーを図１６の光量変調器１７により変更して行
う。このため、ピット４は図１４（ａ）に示すように矩
形に近い台形溝となり、グルーブ５はＶ形の溝となる。
また、ピット４で大きな変調度を得るためには、記録層
の厚みを均一にする必要がある（表面張力によるピット
４及びグルーブ５の液だまりをなくし、記録層厚みを均
一にする）。また、グルーブ５はＡＴＩＲ情報がウォブ
リングされてプリフォーマットされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】次に、ＣＤ−Ｒディス
クの記録メカニズムを、図１７、図１８に基づいて説明
する。このＣＤ−Ｒのディスクの場合、露光されるレー
ザ光２３が光ディスク原盤２２の焦点を結ぶ位置は反射
率が最も高い反射層７（Ａｕ）と記録層６との部分であ
り、集光されたレーザ光２３の約７０％が反射される
が、残りの光は熱エネルギーとして記録に作用する。こ
の熱エネルギーは記録層６及び基板部（ポリカーボネイ
ト）に吸収され、熱による記録層６の変質と基板部の変
形を起こす。図１７はグルーブ５がＶ形状の溝の場合、
図１８はグルーブ５の溝の底面部がフラットな台形状の
場合をそれぞれ示すものである。この場合、表面張力の
影響によりＶ字形に比べ台形の方がエッジ効果により広
い面積に熱が伝達しないことや台形の方が熱による基板
変形が広がりにくいことにより、図１７（ｂ）、図１８
（ｂ）に示すように、グルーブ５はＶ形状の方が台形状
に比べ記録材の熱変化及び基板の変形する面積の割合が
大きくなる。このようにＶ字形と矩形とでは、記録によ
る熱変化（記録層６の変質と基板の変形）の面積が異な
るが、未記録部分と記録部分（以下、記録ピットと呼
ぶ）とでは、記録層６の変質による屈折率の変化と、基
板の変形による光学的位相の変化との２つの効果によ
り、再生時の反射光に差が生じ、記録ピットを再生する
ことが可能となる。

【０００８】上述したように、ハイブリットＣＤ−Ｒに
おいては、予め基板に形成されるピット４（以下、位相
ピット４と呼ぶ）とグルーブ５との位相深さが異なり、
このため従来においてはグルーブ５の形状はＶ字形にな
ってしまう。グルーブ５の形状がＶ字形の場合には、図
１７、図１８に示したように、台形の形状に比べ記録ピ
ットの面積は大きくなる。このように再生時に隣接トラ
ックからのノイズ（クロストーク）が大きくなることに
よりＣ／Ｎが低くなり、再生不良となる恐れがある。ま
た、ＣＤプレーヤにおいては、シーク時にオフトラック
中の再生信号からＥＦＭパターンを検知し、スピンドル
サーボを行っているため、上述したようなクロストーク
が大きいとサーボエラーが発生し、これによりシークエ
ラーが発生することになる。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、レーザ光源から出射されたレーザビームを対物レン
ズにより集光して露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとが形成さ
れた光ディスク原盤において、前記位相ピット及び前記
グルーブのディスク半径方向の断面形状はそれらの溝底
面部がフラットな面とされた台形溝からなり、これらの
台形溝はその溝深さ方向に対して前記溝底面部のフラッ
トな面の位置が等しく、かつ、前記位相ピットの深さを
前記グルーブの深さよりも大きく形成した。

【００１０】請求項２記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する２本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第１ハーフミラーと、この第１ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第１光量変調器と、前記
第１ハーフミラーにより分離された他方の前記２本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第２パルス変調器及び光量を調節するための第２光
量変調器と、この第２光量変調器を通過した前記２本の
グルーブ用ビームを１本ずつのビームに分離させる第２
ハーフミラーと、この第２ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に１／３トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第１光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第２ハーフミラー
により１本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された３本のビームにＡＴ
ＩＰ情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設けた。

【００１１】請求項３記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相
ピットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブにより記
録されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ターン
テーブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダと、
ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び前記
ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けた。

【００１２】請求項４記載の発明では、請求項２又は３
記載の発明において、位相ピットを形成する際には１本
の位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記
１本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径
方向に１／３トラックピッチ離れた位置に配置された２
本のグルーブ用ビームとを用いるようにした。

【００１３】請求項５記載の発明では、請求項４記載の
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する２本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くした。

【００１４】請求項６記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する２本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第１ハーフミラーと、この第１ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第１光量変調器と、前記
第１ハーフミラーにより分離された他方の前記２本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第２パルス変調器及び光量を調節するための第２光
量変調器と、この第２光量変調器を通過した前記２本の
グルーブ用ビームを１本ずつのビームに分離させる第２
ハーフミラーと、この第２ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に１／３トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第１光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第２ハーフミラー
により１本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された３本のビームにＡＴ
ＩＰ情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるＥＦ
Ｍ情報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰ
Ｕと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるＰ／
Ｇ切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転させるＣ
ＬＶ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、前記
ＥＦＭエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。

【００１５】請求項７記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パル
ス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器と、
この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第１光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された１本のビームにＡＴＩＰ
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設けた。

【００１６】請求項８記載の発明では、請求項７記載の
発明において、位相ピットを形成する際には１本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記１本の
位相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に１
本のビームを付加して露光するようにした。

【００１７】請求項９記載の発明では、請求項８記載の
発明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上
でフォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグル
ーブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態と
した。

【００１８】請求項１０記載の発明では、請求項８記載
の発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対し
てグルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム
径を小さくした。

【００１９】請求項１１記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パ
ルス変調器と、この第１パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パ
ルス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器
と、この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ
用ビームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスする
ためのデフォーカスレンズと、前記第１光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレン
ズによりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された１本のビームにＡＴ
ＩＰ情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるＥＦ
Ｍ情報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰ
Ｕと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるＰ／
Ｇ切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転させるＣ
ＬＶ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、前記
ＥＦＭエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。

【００２０】請求項１２記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パ
ルス変調器と、この第１パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パ
ルス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器
と、この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け
た。

【００２１】請求項１３記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パ
ルス変調器と、この第１パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パ
ルス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器
と、この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、
位相ピットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブによ
り記録されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回
路と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるた
めにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのための
イネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ター
ンテーブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送
りを実行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダ
と、ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び
前記ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータと、対物レンズをパターンニングす
るためのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズ
セット回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォ
ーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露
光制御系を設けた。

【００２２】

【作用】請求項１記載の発明では、ハイブリッドＣＤ−
Ｒディスクの位相ピット及びグルーブ形状において記録
ピットの広がりを防止することができ、これにより再生
時の信号特性マージンを増大させることが可能となる。

【００２３】請求項２記載の発明では、位相ピット及び
グルーブ形状を１回の露光で簡単にマスタリングする光
学系を実現することが可能となる。

【００２４】請求項３記載の発明では、光学系及びディ
スク原盤露光機の制御を安定して実現することが可能と
なる。

【００２５】請求項４，５，６，７，８，９，１０記載
の発明では、請求項２記載の発明と同様な効果を得るこ
とが可能となる。

【００２６】請求項１１記載の発明では、請求項３記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。

【００２７】請求項１２記載の発明では、請求項２記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。

【００２８】請求項１３記載の発明では、請求項３記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。

【００２９】

【実施例】本発明の第一の実施例を図１〜図６に基づい
て説明する。まず、本発明における原盤露光装置におい
て作製される光ディスク原盤の表面形状の様子を図１に
基づいて説明する。図１（ａ）は、本実施例において作
製された光ディスク原盤２４の様子を示すものである。
本光ディスク原盤２４には、ＥＦＭ変調された情報とし
て用いられる位相ピット２５と、追記時にトラッキング
用の案内溝として用いられるグルーブ２６とが形成され
ている。このような光ディスク原盤２４において、ハイ
ブリッドＣＤ−Ｒにおいて、記録ピットを小さくするた
めには、グルーブ２６（図１８参照）が台形状であるこ
とが望ましい。従って、本実施例では、図１（ａ）に示
すように、位相ピット２５及びグルーブ２６のディスク
半径方向の断面形状はそれらの溝底面部がフラットな面
とされた台形溝からなっている。また、この場合、それ
ら台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面部のフラット
な面の位置が等しく、かつ、位相ピット２５の深さＤｐ
がグルーブ２６の深さＤｇよりも大きく形成された形と
なっている。また、図１（ａ）にような位相ピット２５
とグルーブ２６は、図１（ｂ）のような形状においても
作成することができ、相対的に溝深さは等しいため、光
学位相的にも同じ再生信号特性を得ることが可能であ
る。

【００３０】図２は、本実施例におけるグルーブ２６の
位相の深さＤｇとプッシュプル振幅との関係を示したも
のである。グルーブ２６の溝幅ｗｇが大きいほどプッシ
ュプル振幅（以下、ＰＰＡと呼ぶ）は大きくなる。例え
ば、グルーブ２６の溝幅Ｗｇが０．６μｍの場合、規格
を満足するグルーブ２６の位相の深さＤｇの範囲は、
０．０４〜０．１０λである。

【００３１】次に、ハイブリッドＣＤ−Ｒ用の上述した
ような台形溝からなる位相ピット２５及びグルーブ２６
の形状を実現するための作製方法について説明する。図
３は、本実施例における原盤露光装置の露光光学系の構
成例を示すものである。レーザ光源２７から出射された
レーザビームａの光路上には、オンオフ動作及びＥＦＭ
変調をさせるための第１パルス変調器２８が配置されて
いる。この第１パルス変調器２８により変調されたレー
ザビームａの光路上には、λ／２板２９を介して、位相
ピット２５及びグルーブ２６を露光するための１本の位
相ピット用ビームｂとグルーブ露光時に付加する２本の
グルーブ用ビームｃ，ｄとを分離生成する第１ハーフミ
ラー３０が配置されている。この第１ハーフミラー３０
により分離された一方の位相ピット用ビームｂの光路上
には、光量を調節する第１光量変調器３１が配置されて
いる。

【００３２】また、第１ハーフミラー３０により分離さ
れた他方の２本のグルーブ用ビームｂ，ｃの光路上に
は、オンオフ動作をさせる第２パルス変調器３２及び光
量を調節するための第２光量変調器３３が配置されてい
る。この第２光量変調器３３を通過した２本のグルーブ
用ビームｃ，ｄを１本ずつのビームに分離させる第２ハ
ーフミラー３４が設けられている。また、第２ハーフミ
ラー３４により分離されたそれぞれのグルーブ用ビーム
ｃ，ｄを位相ピット用ビームｂの両端部の半径方向に１
／３トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ー３５，３６，３７が配置されている。これらミラー３
５，３６，３７により所定の間隔の開けられた前記グル
ーブ用ビームｃ，ｄの光路中にはλ／２板３８が設けら
れている。

【００３３】そして、第１光量変調器３１を通過した位
相ピット用ビームｂと第２ハーフミラー３４により１本
ずつに分離されたグルーブ用ビームｃ，ｄとが交差する
位置には、これら２つのビームを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタ３９が配置されている。また、同一
方向に集光された３本のビームｂ，ｃ，ｄの光路上に
は、λ／４板４０を介して、それら集光された３本のビ
ームｂ，ｃ，ｄにＡＴＩＰ情報をプリフォーマットする
ための偏向器４１が配置されている。この偏向器４１に
より偏向された３本のビームｂ，ｃ，ｄは対物レンズ４
２により集光され、光ディスク原盤２４上に照射され
る。前記対物レンズ４２は、フォーカスアクチュエータ
４３により駆動制御される。光ディスク原盤２４は、ガ
ラス基板４４とフォトレジスト膜４５とからなってい
る。

【００３４】このような構成において、レーザ光源２７
から出射されたレーザビームａは、第１，第２ハーフミ
ラー３０，３４により３つのビームｂ，ｃ，ｄに分岐さ
れる。ビームｂは、第１パルス変調器２８により、ＲＯ
Ｍ部露光時にはＥＦＭパターンにパルス変調がかけら
れ、グルーブ部露光時には開放のシャッタ動作が行われ
る。このビームｂは第１光量変調器３１により任意のレ
ーザパワーに可変することが可能である。また、ビーム
ｃ，ｄは、第２パルス変調器３２により、ＲＯＭ部露光
時には閉のシャッタ動作が行われ、グルーブ部露光時に
は開のシャッタ動作が行われる。このビームｃ，ｄの光
量調整は、第２光量変調器３３により行われる。フォト
レジスト膜４５上でのビーム配置調整は、ミラー３５，
３７によって行われる。そして、偏光ビームスプリッタ
（ＰＢＳ）３９により、それら３つのビームｂ，ｃ，ｄ
は合成され、偏向器４１によりウォブリングがかけら
れ、これによりＣＤ−ＲのＡＴＩＰ情報がプリフォーマ
ットされることになる。

【００３５】３つのビームｂ，ｃ，ｄの光強度分布及び
フォトレジスト膜４５上のビーム配置を図４に示す。こ
の場合、３つのビームｂ，ｃ，ｄは、半径方向に（１／
３）トラックピッチ（以下、Ｐと呼ぶ）の間隔で配置さ
れている。ビームｂは位相ピット２５及びグルーブ２６
を形成するための主ビームであり、ビームｃ，ｄはグル
ーブ領域の表面を位相深さで（Ｄｐ−Ｄｇ）分だけリフ
トオフするために使用される副ビームである。ビーム
ｂ，ｃ，ｄの光強度分布は、ビームｂが最も大きく、ビ
ームｃ，ｄは互いに等しい。このような３つのビーム
ｂ，ｃ，ｄを合成した光強度分布を図４（ａ）に示す。
また、この他に、３つのビームｂ，ｃ，ｄの配置位置を
変えた様子を図４（ｂ）〜（ｄ）に示し、この場合にも
図４（ａ）の場合と同様な効果を得ることができる。

【００３６】次に、ハイブリットＣＤ−Ｒ用の原盤露光
装置の露光制御系の構成を図５及び図６に基づいて説明
する。位相ピット２５とグルーブ２６との切換えの同期
をとるためにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵ４６が設け
られている。このＣＰＵ４６は、インターフェイス用の
パラレルＩ／Ｏ４７を介して、各ユニットの管理を行
う。このパラレルＩ／Ｏ４７には、ＥＦＭエンコーダ４
８と、ＡＴＩＰエンコーダ４９と、光量変調制御回路５
０（Ｄ／Ａコンバータ）と、横送りを実行させる横送り
駆動回路５１と、リニアスケール５２と、ターンテーブ
ルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路５３と、対物レン
ズ４２をパターンニングするためのフォトガラス基板上
にレンズセットするレンズセット回路５４と、フォーカ
スエラー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォ
ーカスサーボ回路５５と、フォーカスエラーモニタ５６
（Ａ／Ｄコンバータ）とが接続されている。

【００３７】前記ＥＦＭエンコーダ４８には、切換えの
ためのイネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路５
７が接続されている。前記ＥＦＭエンコーダ４８と前記
ＡＴＩＰエンコーダ４９との間には、位相ピット２５に
より記録されるＥＦＭ情報とグルーブ２６により記録さ
れるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路５８が
接続されている。前記ＥＦＭエンコーダ４８及び前記Ａ
ＴＩＰエンコーダ４９とを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータ５９が設けられている。また、前記
横送り駆動回路５１には図示しないターンテーブルを横
送りする横送りモータ６０が接続されている。前記ＣＬ
Ｖ駆動回路５３にはターンテーブルモータ６１が接続さ
れ、これにより光ディスク原盤の回転制御をしている。
前記レンズセット回路５４には対物レンズ４２をセット
するためのレンズセットモータ６２が接続されている。
前記フォーカスエラーモータ５６にはフォーカスエラー
検出回路６３が接続されている。

【００３８】このような構成において、本装置の制御シ
ステムを図６のフローに基づいて説明する。パターンニ
ングされる位相ピット２５及びグルーブ２６の情報に同
期をとるために、ＥＦＭエンコーダ４８、ＡＴＩＰエン
コーダ４９、図示しないターンテーブルの横送り及び回
転駆動は、パルスジェネレータ５９から発生した同一ク
ロックにより制御される。また、ＥＦＭエンコーダ４８
とＡＴＩＰエンコーダ４９との同期をとるために同期回
路５８によりＡＴＩＰのｓｙｎｃパターンを検出し、こ
のｓｙｎｃパターンによりＥＦＭエンコーダ４８をスタ
ートさせる。さらに、同期回路５８はＣＰＵ４６からの
切換命令と前述したｓｙｎｃパターンに同期して切換え
を行い、これにより位相ピット２５とグルーブ２６の露
光切換えをタイミング良く行わせる。実際には、ＣＰＵ
４６はＡＴＩＰを監視し、切換時間となったら切換命令
を発生させる。この切換命令のｅｎａｂｌｅと前述した
ｓｙｎｃパターンが同時にＯＮとなった時に位相ピット
２５とグルーブ２６の切換えを行う。また、光量変調を
行うには、ＣＰＵ４６から光量変調制御回路５０にデー
タをセットし、この電圧により第１光量変調器３１及び
第２光量変調器３３を駆動することにより行うことがで
きる。さらに、光ディスク原盤２２にビームｂ，ｃ，ｄ
をフォーカスするための、対物レンズ４２のレンズセッ
ト及びフォーカスサーボ回路５５も前記ＣＰＵ４６によ
り統括して制御される。

【００３９】ここで、原盤露光装置の光ディスク原盤２
４の原盤露光条件を示しておく。

【００４０】フォトレジスト膜厚：約１３００Å フォトレジスト塗布条件：レジストＯＦＰＲ８００
２ＣＰ（東京応化製）、回転数１１００ｒｐｍ、プリ
ベーク９０°Ｃ３０ｍｉｎビームｂ露光パワー：４．０ｍＷビームｃ，ｄ露光パワー：１．６〜１．８ｍＷ形成されたパターン：位相ピット溝幅約
０．６μｍ、溝深さ約１３００Å グルーブ溝幅約０．６μｍ、溝深さ約３００
Å 現像条件：ＤＥ−３４０％（東京
応化製）現像時間６０ｓｅｃ、ポストべーク１２０°Ｃ３０ｍｉｎこのような条件で作製したフォトレジストパターンを従
来技術で示した図１５の作製工程を用いてスタンパを作
製することができる。

【００４１】上述したように、本実施例のように、位相
ピット２５及びグルーブ２６を台形溝になるように露光
制御して形成することにより、記録ピットの広がりを防
止することができ、これにより再生時の信号特性マージ
ンを増大させ、光ディスク原盤の作製の品質を安定化さ
せることができる。また、本露光光学系を用いたことに
より、位相ピット２５及びグルーブ２６の形状を１回の
露光で簡単にマスタリングすることが可能となり、これ
により従来法と同一の原盤作製工程を使用しても作製を
行うことができる。さらに、本露光制御系を用いたこと
により、常に安定して露光制御を行えるため、スタンパ
の品質を安定させることができる。

【００４２】次に、本発明の第二の実施例を図７〜図９
に基づいて説明する。なお、第一の実施例と同一部分に
ついては同一符号を用いる。

【００４３】前述した第一の実施例では３つのビーム
ｂ，ｃ，ｄを用いて位相ピット２５及びグルーブ２６を
形成する原盤露光方法について述べたが、ここでは２つ
のビームを用いて作製する方法について述べる。すなわ
ち、２つのビームのうち、１つの主ビームｂは変わらな
いが、もう一つの副ビームとしては、前述したビーム
ｃ，ｄの代わりに光ディスク面に対してデフォーカスさ
れたビームｅを用いる。図７は、そのデフォーカスさせ
るための露光光学系の様子を示すものである。図３の露
光光学系を参考にして、ビームａがハーフミラー３０に
より分岐されたビームｅの光路上にはデフォーカスレン
ズ６４が配置されており、これによりビームｅはデフォ
ーカスされた状態となっている。図８（ａ）〜（ｄ）
は、ビームｂ，ｅの光強度分布の様子を示すものであ
る。（ａ）はビームｅのデフォーカスされた状態での光
強度分布６５を示し、（ｂ）は通常のビームｂの状態で
の光強度分布６６を示し、（ｃ）は２つのビームｂ，ｅ
の合成された光強度分布６７の様子を示すものである。

【００４４】また、図９は、２ビーム露光光学系の他の
構成例を示すものである。この場合、対物レンズ４２に
入射するビームｅのビーム径がビームｂのビーム径より
も小さくなるようにビームエキスパンダ６８を配置した
場合の例を示すものである。これにより、光ディスク面
上での集光ビーム径が大きくなり、図８で示した光強度
分布と同じ分布を得ることができる。

【００４５】ここで、上述したデフォーカス法及びビー
ムエキスパンダ法の具体的な露光条件について述べてお
く。

【００４６】＜デフォーカス法＞ビームｅ：露光パワー２．０ｍＷ、デフォーカス
量約０．０５μｍ（対物レンズＮＡ＝０．９５）ビームｂ：露光パワー３．５ｍＷなお、その他の条件は前述した３ビームの場合と同一と
する。

【００４７】＜ビームエキスパンダ＞ビームｅ：露光パワー２．０ｍＷ、ビーム径約
１ｍｍビームｂ：露光パワー３．５ｍＷ、ビーム径約
３ｍｍなお、その他の条件は前述した３ビームの場合と同一と
する。

【００４８】上述したような条件設定により、３ビーム
法とほぼ同様の台形溝からなる位相ピット２５及びグル
ーブ２６を得ることができる。

【００４９】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、前記
位相ピット及び前記グルーブのディスク半径方向の断面
形状はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝
からなり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して前
記溝底面部のフラットな面の位置が等しく、かつ、前記
位相ピットの深さを前記グルーブの深さよりも大きく形
成したので、ハイブリッドＣＤ−Ｒディスクの位相ピッ
ト及びグルーブ形状において記録ピットの広がりを防止
することが可能となり、これにより再生時の信号特性マ
ージンを増大させ、光ディスク原盤の品質を向上させる
ことができるものである。

【００５０】請求項２記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パルス
変調器と、この第１パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する２本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第１ハーフミラーと、この第１ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第１光量変調器と、前記第
１ハーフミラーにより分離された他方の前記２本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第２パルス変調器及び光量を調節するための第２光量
変調器と、この第２光量変調器を通過した前記２本のグ
ルーブ用ビームを１本ずつのビームに分離させる第２ハ
ーフミラーと、この第２ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に１／３トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第１光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第２ハーフミラーに
より１本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された３本のビームにＡＴＩ
Ｐ情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設けたので、位相ピット及びグルーブ形状
を１回の露光で簡単にマスタリングする光学系を実現す
ることが可能であり、これにより従来と同じ工法及び工
程で光ディスク原盤を作製することができるものであ
る。

【００５１】請求項３記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相ピ
ットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブにより記録
されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路と、
位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるためにＡ
ＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのためのイネー
ブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ターンテー
ブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送りを実
行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダと、ＡＴ
ＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び前記ＡＴ
ＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させるパルスジ
ェネレータと、対物レンズをパターンニングするための
フォトガラス基板上にレンズセットするレンズセット回
路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカスサ
ーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制御系
を設けたので、光学系及びディスク原盤露光機の制御を
安定して実現することが可能であり、スタンパの品質を
安定化させることができるものである。

【００５２】請求項４記載の発明は、請求項２又は３記
載の発明において、位相ピットを形成する際には１本の
位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記１
本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径方
向に１／３トラックピッチ離れた位置に配置された２本
のグルーブ用ビームとを用いるようにしたので、請求項
２記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。

【００５３】請求項５記載の発明では、請求項４記載の
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する２本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くしたので、請求項２記載の発明と同様な効果を得るこ
とができるものである。

【００５４】請求項６記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パルス
変調器と、この第１パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する２本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第１ハーフミラーと、この第１ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第１光量変調器と、前記第
１ハーフミラーにより分離された他方の前記２本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第２パルス変調器及び光量を調節するための第２光量
変調器と、この第２光量変調器を通過した前記２本のグ
ルーブ用ビームを１本ずつのビームに分離させる第２ハ
ーフミラーと、この第２ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に１／３トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第１光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第２ハーフミラーに
より１本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された３本のビームにＡＴＩ
Ｐ情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるＥＦＭ
情報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報との同期
をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切
換えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵ
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ
切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転させるＣＬ
Ｖ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦ
Ｍエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項２記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。

【００５５】請求項７記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パルス
変調器と、この第１パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを分離
生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分離
された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設さ
れた光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフミラ
ーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビーム
の光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パルス
変調器及び光量を調節するための第２光量変調器と、こ
の第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ用ビー
ムを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするための
デフォーカスレンズと、前記第１光量変調器を通過した
前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズによ
りデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一方
向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビーム
スプリッタにより集光された１本のビームにＡＴＩＰ情
報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露光
光学系を設けたので、請求項２記載の発明と同様な効果
を得ることができるものである。

【００５６】請求項８記載の発明は、請求項７記載の発
明において、位相ピットを形成する際には１本の位相用
ビームを用い、グルーブを形成する際には前記１本の位
相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に１本
のビームを付加して露光するようにしたので、請求項２
記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。

【００５７】請求項９記載の発明は、請求項８記載の発
明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上で
フォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグルー
ブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態とし
たので、請求項２記載の発明と同様な効果を得ることが
できるものである。

【００５８】請求項１０記載の発明は、請求項８記載の
発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対して
グルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム径
を小さくしたので、請求項２記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。

【００５９】請求項１１記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パル
ス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器と、
この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第１光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された１本のビームにＡＴＩＰ
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設け、位相ピットにより記録されるＥＦＭ情
報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報との同期を
とるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切換
えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵ
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ
切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転させるＣＬ
Ｖ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦ
Ｍエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項３記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。

【００６０】請求項１２記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パル
ス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器と、
この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたの
で、請求項２記載の発明と同様な効果を得ることができ
るものである。

【００６１】請求項１３記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、ＥＦＭ変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びＥＦＭ変調をさせるための第１パル
ス変調器と、この第１パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための１本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する１本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第１光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記１本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第２パル
ス変調器及び光量を調節するための第２光量変調器と、
この第２光量変調器を通過した前記１本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位
相ピットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブにより
記録されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ターン
テーブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダと、
ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び前記
ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたので、請求項３記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例である光ディスク原盤の
構成を示す断面図である。

【図２】グルーブ深さに対するプッシュプル振幅の様子
を示す特性図である。

【図３】３ビーム露光光学系の様子を示す光路図であ
る。

【図４】３ビーム露光の原理を示す模式図である。

【図５】露光制御系の様子を示すブロック図である。

【図６】フローチャートである。

【図７】本発明の第二の実施例である２ビーム露光光学
系の構成を示す光路図である。

【図８】２ビーム露光の原理を示す模式図である。

【図９】２ビーム露光光学系の他の構成例を示す光路図
である。

【図１０】光ディスク原盤の構成を示す平面図である。

【図１１】光ディスク面に形成される各種溝形状を示す
模式図である。

【図１２】ピット深さに対する変調度の変化の度合いを
示す特性図である。

【図１３】グルーブ深さに対するプッシュプル振幅の変
化の度合いを示す特性図である。

【図１４】ピット及びグルーブに形成される溝形状を示
す側面図である。

【図１５】光ディスク原盤の作製工程を示す工程図であ
る。

【図１６】従来の露光光学系を示す光路図である。

【図１７】記録ピットがＶ字形の場合における記録前後
の様子を示す断面図である。

【図１８】記録ピットが台形溝の場合における記録前後
の様子を示す断面図である。

【符号の説明】

２５位相ピット２６グルーブ２７レーザ光源２８第１パルス変調器３０第１ハーフミラー３１第１光量変調器３２第２パルス変調器３３第２光量変調器３４第２ハーフミラー３５〜３７ミラー３９偏光ビームスプリッタ４１偏向器４２対物レンズ６４デフォーカスレンズ６８ビームエキスパンダ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して露光することにより、ＥＦ
Ｍ変調された情報として用いられる位相ピットと、追記
時にトラッキング用の案内溝として用いられるグルーブ
とが形成された光ディスク原盤において、前記位相ピッ
ト及び前記グルーブのディスク半径方向の断面形状はそ
れらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝からな
り、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して前記溝底
面部のフラットな面の位置が等しく、かつ、前記位相ピ
ットの深さを前記グルーブの深さよりも大きく形成した
ことを特徴とする光ディスク原盤。
【請求項２】レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥＦ
Ｍ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
２本のグルーブ用ビームとを分離生成する第１ハーフミ
ラーと、この第１ハーフミラーにより分離された一方の
前記位相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調
節する第１光量変調器と、前記第１ハーフミラーにより
分離された他方の前記２本のグルーブ用ビームの光路上
に配設されたオンオフ動作をさせる第２パルス変調器及
び光量を調節するための第２光量変調器と、この第２光
量変調器を通過した前記２本のグルーブ用ビームを１本
ずつのビームに分離させる第２ハーフミラーと、この第
２ハーフミラーにより分離された前記それぞれのグルー
ブ用ビームを前記位相用ビームの両端部の半径方向に１
／３トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ーと、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記第２ハーフミラーにより１本ずつに分離さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された３本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたこ
とを特徴とする原盤露光装置。
【請求項３】レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、位相ピットにより記録される
ＥＦＭ情報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報と
の同期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブ
との切換えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視する
ＣＰＵと、切換えのためのイネーブル信号を発生させる
Ｐ／Ｇ切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転させ
るＣＬＶ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回
路と、ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、前
記ＥＦＭエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同一
のクロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レ
ンズをパターンニングするためのフォトガラス基板上に
レンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラ
ー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカス
サーボ回路とを備えた露光制御系を設けたことを特徴と
する原盤露光装置。
【請求項４】位相ピットを形成する際には１本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記１本の
位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径方向に
１／３トラックピッチ離れた位置に配置された２本のグ
ルーブ用ビームとを用いるようにしたことを特徴とする
請求項２又は３記載の原盤露光装置。
【請求項５】位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する２本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
いことを特徴とする請求項４記載の原盤露光装置。
【請求項６】レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥＦ
Ｍ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
２本のグルーブ用ビームとを分離生成する第１ハーフミ
ラーと、この第１ハーフミラーにより分離された一方の
前記位相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調
節する第１光量変調器と、前記第１ハーフミラーにより
分離された他方の前記２本のグルーブ用ビームの光路上
に配設されたオンオフ動作をさせる第２パルス変調器及
び光量を調節するための第２光量変調器と、この第２光
量変調器を通過した前記２本のグルーブ用ビームを１本
ずつのビームに分離させる第２ハーフミラーと、この第
２ハーフミラーにより分離された前記それぞれのグルー
ブ用ビームを前記位相用ビームの両端部の半径方向に１
／３トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ーと、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記第２ハーフミラーにより１本ずつに分離さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された３本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位
相ピットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブにより
記録されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ターン
テーブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダと、
ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び前記
ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたことを特徴とする原盤露光装置。
【請求項７】レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥＦ
Ｍ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
１本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラー
と、このハーフミラーにより分離された一方の前記位相
ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する第
１光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された他
方の前記１本のグルーブ用ビームの光路上に配設された
オンオフ動作をさせる第２パルス変調器及び光量を調節
するための第２光量変調器と、この第２光量変調器を通
過した前記１本のグルーブ用ビームを光ディスク原盤面
に対してデフォーカスするためのデフォーカスレンズ
と、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記デフォーカスレンズによりデフォーカスされ
た前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光ビ
ームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより集
光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマッ
トするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたこと
を特徴とする原盤露光装置。
【請求項８】位相ピットを形成する際には１本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記１本の
位相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に１
本のビームを付加して露光することを特徴とする請求項
７記載の原盤露光装置。
【請求項９】位相ピット用ビームは光ディスク原盤上
にフォーカスされており、グルーブ露光時に付加するグ
ルーブ用ビームは光ディスク原盤上にデフォーカスされ
ていることを特徴とする請求項８記載の原盤露光装置。
【請求項１０】位相ピット用ビームのビーム径に対し
てグルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム
径が小さいことを特徴とする請求項８記載の原盤露光装
置。
【請求項１１】レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥ
ＦＭ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る１本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第１光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記１本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第２パルス変調器及び光量を調
節するための第２光量変調器と、この第２光量変調器を
通過した前記１本のグルーブ用ビームを光ディスク原盤
面に対してデフォーカスするためのデフォーカスレンズ
と、前記第１光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記デフォーカスレンズによりデフォーカスされ
た前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光ビ
ームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより集
光された１本のビームにＡＴＩＰ情報をプリフォーマッ
トするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位相
ピットにより記録されるＥＦＭ情報とグルーブにより記
録されるＡＴＩＰ情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にＡＴＩＰ情報を監視するＣＰＵと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるＰ／Ｇ切換え回路と、ターン
テーブルをＣＬＶ回転させるＣＬＶ駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、ＥＦＭエンコーダと、
ＡＴＩＰエンコーダと、前記ＥＦＭエンコーダ及び前記
ＡＴＩＰエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたことを特徴とする原盤露光装置。
【請求項１２】レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥ
ＦＭ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る１本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第１光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記１本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第２パルス変調器及び光量を調
節するための第２光量変調器と、この第２光量変調器を
通過した前記１本のグルーブ用ビームのビーム径を変更
するためのビームエキスパンダと、前記第１光量変調器
を通過した前記位相ピット用ビームと前記ビームエキス
パンダによりビーム径の変更された前記グルーブ用ビー
ムとを同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、こ
の偏光ビームスプリッタにより集光された１本のビーム
にＡＴＩＰ情報をプリフォーマットするための偏向器と
を備えた露光光学系を設けたことを特徴とする原盤露光
装置。
【請求項１３】レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、ＥＦＭ変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びＥ
ＦＭ変調をさせるための第１パルス変調器と、この第１
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の１本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る１本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第１光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記１本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第２パルス変調器及び光量を調
節するための第２光量変調器と、この第２光量変調器を
通過した前記１本のグルーブ用ビームのビーム径を変更
するためのビームエキスパンダと、前記第１光量変調器
を通過した前記位相ピット用ビームと前記ビームエキス
パンダによりビーム径の変更された前記グルーブ用ビー
ムとを同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、こ
の偏光ビームスプリッタにより集光された１本のビーム
にＡＴＩＰ情報をプリフォーマットするための偏向器と
を備えた露光光学系を設け、位相ピットにより記録され
るＥＦＭ情報とグルーブにより記録されるＡＴＩＰ情報
との同期をとるための同期回路と、位相ピットとグルー
ブとの切換えの同期をとるためにＡＴＩＰ情報を監視す
るＣＰＵと、切換えのためのイネーブル信号を発生させ
るＰ／Ｇ切換え回路と、ターンテーブルをＣＬＶ回転さ
せるＣＬＶ駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動
回路と、ＥＦＭエンコーダと、ＡＴＩＰエンコーダと、
前記ＥＦＭエンコーダ及び前記ＡＴＩＰエンコーダを同
一のクロックで動作させるパルスジェネレータと、対物
レンズをパターンニングするためのフォトガラス基板上
にレンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエ
ラー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカ
スサーボ回路とを備えた露光制御系を設けたことを特徴
とする原盤露光装置。