JPH0636287A - 光ディスク原盤及び原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤及び原盤露光装置Info
- Publication number
- JPH0636287A JPH0636287A JP19191192A JP19191192A JPH0636287A JP H0636287 A JPH0636287 A JP H0636287A JP 19191192 A JP19191192 A JP 19191192A JP 19191192 A JP19191192 A JP 19191192A JP H0636287 A JPH0636287 A JP H0636287A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- master
- phase
- modulator
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クロストークが大きくなるのを防いで常に安
定した記録、再生を行うことが可能な光ディスク原盤及
び原盤露光装置を提供する。 【構成】 レーザ光源から出射されたレーザビームを対
物レンズにより集光して露光することにより、EFM変
調された情報として用いられる位相ピット25と、追記
時にトラッキング用の案内溝として用いられるグルーブ
26とが形成された光ディスク原盤において、位相ピッ
ト25及びグルーブ26のディスク半径方向の断面形状
はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝から
なり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面
部のフラットな面の位置が等しく、かつ、位相ピット2
5の深さをグルーブ26の深さよりも大きく形成した。
定した記録、再生を行うことが可能な光ディスク原盤及
び原盤露光装置を提供する。 【構成】 レーザ光源から出射されたレーザビームを対
物レンズにより集光して露光することにより、EFM変
調された情報として用いられる位相ピット25と、追記
時にトラッキング用の案内溝として用いられるグルーブ
26とが形成された光ディスク原盤において、位相ピッ
ト25及びグルーブ26のディスク半径方向の断面形状
はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝から
なり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面
部のフラットな面の位置が等しく、かつ、位相ピット2
5の深さをグルーブ26の深さよりも大きく形成した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤及び原
盤露光装置に関する。
盤露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来におけるハイブリッドCD−Rディ
スクの構成を図10〜図18に基づいて説明する。図1
0は、ROM部1と追記部2とを有するハイブリットC
D−Rディスクの構成を示すものである。図11は図1
0の断面形状を示すものであり、ROM部1には予め基
板3(PC、ポリカーボネート)上にピット4が形成さ
れており、このピット4はEFM変調された情報として
記録されている。追記部2には、予め基板3上にグルー
ブ5が形成されている。この追記時にグルーブ5をトラ
ッキング用の案内溝として記録を行う。この基板3に記
録層6としてシアニン色素などの有機膜を塗布し、反射
層7としてAu膜をスパッタする。この場合、CD−R
ディスクの特徴は、記録後のディスクがCDプレーヤで
再生できる点であり、このためROM部1と追記部2の
追記後の再生信号特性が同じである必要がある。このC
D−Rディスクの規格は、Orange Book (Sony Phi
lips社)より標準化されている。
スクの構成を図10〜図18に基づいて説明する。図1
0は、ROM部1と追記部2とを有するハイブリットC
D−Rディスクの構成を示すものである。図11は図1
0の断面形状を示すものであり、ROM部1には予め基
板3(PC、ポリカーボネート)上にピット4が形成さ
れており、このピット4はEFM変調された情報として
記録されている。追記部2には、予め基板3上にグルー
ブ5が形成されている。この追記時にグルーブ5をトラ
ッキング用の案内溝として記録を行う。この基板3に記
録層6としてシアニン色素などの有機膜を塗布し、反射
層7としてAu膜をスパッタする。この場合、CD−R
ディスクの特徴は、記録後のディスクがCDプレーヤで
再生できる点であり、このためROM部1と追記部2の
追記後の再生信号特性が同じである必要がある。このC
D−Rディスクの規格は、Orange Book (Sony Phi
lips社)より標準化されている。
【0003】図12及び図13は、ピット及びグルーブ
深さに対する再生信号の特性例を示すものである。この
場合、図14(a)(b)に示す関係を参考にして、ト
ラックピッチ1.6μm、ピット4は矩形溝幅wp=
0.4μm、グルーブ5のV形溝幅wg=0.4μmに
設定されているものとする。変調度>0.65を満足す
るには、ピット4の位相深さDpはDp=(3/16)
λ〜(5/16)λである必要がある。また、記録後の
プッシュプル振幅0.04〜0.09を満足するには、
グルーブ5の位相深さDgは、Dg=(1/24)λ〜
(1/8)λである必要がある。このように再生信号特
性が規格を満足するためには、ピット4とグルーブ5の
溝深さが異なる。
深さに対する再生信号の特性例を示すものである。この
場合、図14(a)(b)に示す関係を参考にして、ト
ラックピッチ1.6μm、ピット4は矩形溝幅wp=
0.4μm、グルーブ5のV形溝幅wg=0.4μmに
設定されているものとする。変調度>0.65を満足す
るには、ピット4の位相深さDpはDp=(3/16)
λ〜(5/16)λである必要がある。また、記録後の
プッシュプル振幅0.04〜0.09を満足するには、
グルーブ5の位相深さDgは、Dg=(1/24)λ〜
(1/8)λである必要がある。このように再生信号特
性が規格を満足するためには、ピット4とグルーブ5の
溝深さが異なる。
【0004】次に、異なる溝深さのピット4とグルーブ
5を有する基板の作製方法について説明する。基板は、
一般的に射出成形法によって作製されるが、射出成形に
おいて使用する金型(スタンパ)は、図15に示すよう
に、フォトリソグラフィ及び電鋳工程によって作製する
ことができる。まず、ガラス基板8上にフォトレジスト
9をスピンコートし、80〜90°で約30分ベーク
(フォトレジスト9の膜厚はピット深さと同じ)した
後、光ディスク原盤露光装置(後述する)により露光す
る。この露光された部分は現像処理によってリフトオフ
され、フォトレジスト9の面にピット4とグルーブ5の
パターンが形成される(b)。このフォトレジスト9の
面にNiスパッタ膜10を形成する(c)。このNiス
パッタ膜10を電鋳処理し、約0.3mmの厚みのNi
電鋳11を作製する(d)。このNi電鋳11の裏面の
研磨、内外径加工を行い、Niスタンパ12を完成させ
る。このような一連の工程により金型の作製を行うこと
ができる。
5を有する基板の作製方法について説明する。基板は、
一般的に射出成形法によって作製されるが、射出成形に
おいて使用する金型(スタンパ)は、図15に示すよう
に、フォトリソグラフィ及び電鋳工程によって作製する
ことができる。まず、ガラス基板8上にフォトレジスト
9をスピンコートし、80〜90°で約30分ベーク
(フォトレジスト9の膜厚はピット深さと同じ)した
後、光ディスク原盤露光装置(後述する)により露光す
る。この露光された部分は現像処理によってリフトオフ
され、フォトレジスト9の面にピット4とグルーブ5の
パターンが形成される(b)。このフォトレジスト9の
面にNiスパッタ膜10を形成する(c)。このNiス
パッタ膜10を電鋳処理し、約0.3mmの厚みのNi
電鋳11を作製する(d)。このNi電鋳11の裏面の
研磨、内外径加工を行い、Niスタンパ12を完成させ
る。このような一連の工程により金型の作製を行うこと
ができる。
【0005】次に、光ディスク原盤露光装置の構成を図
16に基づいて説明する。Arのレーザ光源13から出
射された光は、パルス変調器14、λ/2板15、ミラ
ー16を介して、光量変調器17に入射し、これにより
光量変換が行われる。この光量変換されたパルス光は、
偏光器18により所定の偏光角に変換される。この偏光
された光は偏光ビームスプリッタ19を通過することに
より一定方向に偏光された光のみが選択され、この選択
された光はλ/4板20を介して対物レンズ21により
集光され、光ディスク原盤22のフォトレジスト9面上
に露光される。なお、対物レンズ21は、フォーカスア
クチュエータ21aにより光軸方向に移動調整できるよ
うになっている。
16に基づいて説明する。Arのレーザ光源13から出
射された光は、パルス変調器14、λ/2板15、ミラ
ー16を介して、光量変調器17に入射し、これにより
光量変換が行われる。この光量変換されたパルス光は、
偏光器18により所定の偏光角に変換される。この偏光
された光は偏光ビームスプリッタ19を通過することに
より一定方向に偏光された光のみが選択され、この選択
された光はλ/4板20を介して対物レンズ21により
集光され、光ディスク原盤22のフォトレジスト9面上
に露光される。なお、対物レンズ21は、フォーカスア
クチュエータ21aにより光軸方向に移動調整できるよ
うになっている。
【0006】ハイブリッドCD−Rの場合、異なる位相
深さをもつピット4とグルーブ5を形成する必要があ
る。フォトレジスト面にピット4とグルーブ5をパター
ンニングする際、露光するピット4とグルーブ5のレー
ザパワーを図16の光量変調器17により変更して行
う。このため、ピット4は図14(a)に示すように矩
形に近い台形溝となり、グルーブ5はV形の溝となる。
また、ピット4で大きな変調度を得るためには、記録層
の厚みを均一にする必要がある(表面張力によるピット
4及びグルーブ5の液だまりをなくし、記録層厚みを均
一にする)。また、グルーブ5はATIR情報がウォブ
リングされてプリフォーマットされている。
深さをもつピット4とグルーブ5を形成する必要があ
る。フォトレジスト面にピット4とグルーブ5をパター
ンニングする際、露光するピット4とグルーブ5のレー
ザパワーを図16の光量変調器17により変更して行
う。このため、ピット4は図14(a)に示すように矩
形に近い台形溝となり、グルーブ5はV形の溝となる。
また、ピット4で大きな変調度を得るためには、記録層
の厚みを均一にする必要がある(表面張力によるピット
4及びグルーブ5の液だまりをなくし、記録層厚みを均
一にする)。また、グルーブ5はATIR情報がウォブ
リングされてプリフォーマットされている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】次に、CD−Rディス
クの記録メカニズムを、図17、図18に基づいて説明
する。このCD−Rのディスクの場合、露光されるレー
ザ光23が光ディスク原盤22の焦点を結ぶ位置は反射
率が最も高い反射層7(Au)と記録層6との部分であ
り、集光されたレーザ光23の約70%が反射される
が、残りの光は熱エネルギーとして記録に作用する。こ
の熱エネルギーは記録層6及び基板部(ポリカーボネイ
ト)に吸収され、熱による記録層6の変質と基板部の変
形を起こす。図17はグルーブ5がV形状の溝の場合、
図18はグルーブ5の溝の底面部がフラットな台形状の
場合をそれぞれ示すものである。この場合、表面張力の
影響によりV字形に比べ台形の方がエッジ効果により広
い面積に熱が伝達しないことや台形の方が熱による基板
変形が広がりにくいことにより、図17(b)、図18
(b)に示すように、グルーブ5はV形状の方が台形状
に比べ記録材の熱変化及び基板の変形する面積の割合が
大きくなる。このようにV字形と矩形とでは、記録によ
る熱変化(記録層6の変質と基板の変形)の面積が異な
るが、未記録部分と記録部分(以下、記録ピットと呼
ぶ)とでは、記録層6の変質による屈折率の変化と、基
板の変形による光学的位相の変化との2つの効果によ
り、再生時の反射光に差が生じ、記録ピットを再生する
ことが可能となる。
クの記録メカニズムを、図17、図18に基づいて説明
する。このCD−Rのディスクの場合、露光されるレー
ザ光23が光ディスク原盤22の焦点を結ぶ位置は反射
率が最も高い反射層7(Au)と記録層6との部分であ
り、集光されたレーザ光23の約70%が反射される
が、残りの光は熱エネルギーとして記録に作用する。こ
の熱エネルギーは記録層6及び基板部(ポリカーボネイ
ト)に吸収され、熱による記録層6の変質と基板部の変
形を起こす。図17はグルーブ5がV形状の溝の場合、
図18はグルーブ5の溝の底面部がフラットな台形状の
場合をそれぞれ示すものである。この場合、表面張力の
影響によりV字形に比べ台形の方がエッジ効果により広
い面積に熱が伝達しないことや台形の方が熱による基板
変形が広がりにくいことにより、図17(b)、図18
(b)に示すように、グルーブ5はV形状の方が台形状
に比べ記録材の熱変化及び基板の変形する面積の割合が
大きくなる。このようにV字形と矩形とでは、記録によ
る熱変化(記録層6の変質と基板の変形)の面積が異な
るが、未記録部分と記録部分(以下、記録ピットと呼
ぶ)とでは、記録層6の変質による屈折率の変化と、基
板の変形による光学的位相の変化との2つの効果によ
り、再生時の反射光に差が生じ、記録ピットを再生する
ことが可能となる。
【0008】上述したように、ハイブリットCD−Rに
おいては、予め基板に形成されるピット4(以下、位相
ピット4と呼ぶ)とグルーブ5との位相深さが異なり、
このため従来においてはグルーブ5の形状はV字形にな
ってしまう。グルーブ5の形状がV字形の場合には、図
17、図18に示したように、台形の形状に比べ記録ピ
ットの面積は大きくなる。このように再生時に隣接トラ
ックからのノイズ(クロストーク)が大きくなることに
よりC/Nが低くなり、再生不良となる恐れがある。ま
た、CDプレーヤにおいては、シーク時にオフトラック
中の再生信号からEFMパターンを検知し、スピンドル
サーボを行っているため、上述したようなクロストーク
が大きいとサーボエラーが発生し、これによりシークエ
ラーが発生することになる。
おいては、予め基板に形成されるピット4(以下、位相
ピット4と呼ぶ)とグルーブ5との位相深さが異なり、
このため従来においてはグルーブ5の形状はV字形にな
ってしまう。グルーブ5の形状がV字形の場合には、図
17、図18に示したように、台形の形状に比べ記録ピ
ットの面積は大きくなる。このように再生時に隣接トラ
ックからのノイズ(クロストーク)が大きくなることに
よりC/Nが低くなり、再生不良となる恐れがある。ま
た、CDプレーヤにおいては、シーク時にオフトラック
中の再生信号からEFMパターンを検知し、スピンドル
サーボを行っているため、上述したようなクロストーク
が大きいとサーボエラーが発生し、これによりシークエ
ラーが発生することになる。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、レーザ光源から出射されたレーザビームを対物レン
ズにより集光して露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとが形成さ
れた光ディスク原盤において、前記位相ピット及び前記
グルーブのディスク半径方向の断面形状はそれらの溝底
面部がフラットな面とされた台形溝からなり、これらの
台形溝はその溝深さ方向に対して前記溝底面部のフラッ
トな面の位置が等しく、かつ、前記位相ピットの深さを
前記グルーブの深さよりも大きく形成した。
は、レーザ光源から出射されたレーザビームを対物レン
ズにより集光して露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとが形成さ
れた光ディスク原盤において、前記位相ピット及び前記
グルーブのディスク半径方向の断面形状はそれらの溝底
面部がフラットな面とされた台形溝からなり、これらの
台形溝はその溝深さ方向に対して前記溝底面部のフラッ
トな面の位置が等しく、かつ、前記位相ピットの深さを
前記グルーブの深さよりも大きく形成した。
【0010】請求項2記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記
第1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光
量変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本の
グルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2
ハーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラー
により1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された3本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設けた。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記
第1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光
量変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本の
グルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2
ハーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラー
により1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された3本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設けた。
【0011】請求項3記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相
ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより記
録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けた。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相
ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより記
録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けた。
【0012】請求項4記載の発明では、請求項2又は3
記載の発明において、位相ピットを形成する際には1本
の位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記
1本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径
方向に1/3トラックピッチ離れた位置に配置された2
本のグルーブ用ビームとを用いるようにした。
記載の発明において、位相ピットを形成する際には1本
の位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記
1本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径
方向に1/3トラックピッチ離れた位置に配置された2
本のグルーブ用ビームとを用いるようにした。
【0013】請求項5記載の発明では、請求項4記載の
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する2本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くした。
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する2本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くした。
【0014】請求項6記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記
第1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光
量変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本の
グルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2
ハーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラー
により1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された3本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEF
M情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCP
Uと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/
G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるC
LV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記
EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分
離生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラー
により分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路
上に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記
第1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグ
ルーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさ
せる第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光
量変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本の
グルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2
ハーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離され
た前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビーム
の両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置
に配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラー
により1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された3本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEF
M情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCP
Uと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/
G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるC
LV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記
EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。
【0015】請求項7記載の発明では、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された1本のビームにATIP
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設けた。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された1本のビームにATIP
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設けた。
【0016】請求項8記載の発明では、請求項7記載の
発明において、位相ピットを形成する際には1本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の
位相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に1
本のビームを付加して露光するようにした。
発明において、位相ピットを形成する際には1本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の
位相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に1
本のビームを付加して露光するようにした。
【0017】請求項9記載の発明では、請求項8記載の
発明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上
でフォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグル
ーブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態と
した。
発明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上
でフォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグル
ーブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態と
した。
【0018】請求項10記載の発明では、請求項8記載
の発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対し
てグルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム
径を小さくした。
の発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対し
てグルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム
径を小さくした。
【0019】請求項11記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスする
ためのデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレン
ズによりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された1本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEF
M情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCP
Uと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/
G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるC
LV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記
EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスする
ためのデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通
過した前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレン
ズによりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを
同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光
ビームスプリッタにより集光された1本のビームにAT
IP情報をプリフォーマットするための偏向器とを備え
た露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEF
M情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同
期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの
切換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCP
Uと、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/
G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるC
LV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路
と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記
EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一の
クロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レン
ズをパターンニングするためのフォトガラス基板上にレ
ンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラー
信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサ
ーボ回路とを備えた露光制御系を設けた。
【0020】請求項12記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された1本のビームにATIP情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け
た。
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された1本のビームにATIP情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け
た。
【0021】請求項13記載の発明では、レーザ光源か
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された1本のビームにATIP情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、
位相ピットにより記録されるEFM情報とグルーブによ
り記録されるATIP情報との同期をとるための同期回
路と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるた
めにATIP情報を監視するCPUと、切換えのための
イネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ター
ンテーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送
りを実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダ
と、ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び
前記ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータと、対物レンズをパターンニングす
るためのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズ
セット回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォ
ーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露
光制御系を設けた。
ら出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して
光ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調さ
れた情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラ
ッキング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記
光ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レ
ーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設さ
れたオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パ
ルス変調器と、この第1パルス変調器により変調された
前記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及び
グルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームと
グルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを
分離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより
分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配
設された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフ
ミラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビ
ームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パ
ルス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器
と、この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ
用ビームのビーム径を変更するためのビームエキスパン
ダと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更
された前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタによ
り集光された1本のビームにATIP情報をプリフォー
マットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、
位相ピットにより記録されるEFM情報とグルーブによ
り記録されるATIP情報との同期をとるための同期回
路と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるた
めにATIP情報を監視するCPUと、切換えのための
イネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ター
ンテーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送
りを実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダ
と、ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び
前記ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータと、対物レンズをパターンニングす
るためのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズ
セット回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォ
ーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露
光制御系を設けた。
【0022】
【作用】請求項1記載の発明では、ハイブリッドCD−
Rディスクの位相ピット及びグルーブ形状において記録
ピットの広がりを防止することができ、これにより再生
時の信号特性マージンを増大させることが可能となる。
Rディスクの位相ピット及びグルーブ形状において記録
ピットの広がりを防止することができ、これにより再生
時の信号特性マージンを増大させることが可能となる。
【0023】請求項2記載の発明では、位相ピット及び
グルーブ形状を1回の露光で簡単にマスタリングする光
学系を実現することが可能となる。
グルーブ形状を1回の露光で簡単にマスタリングする光
学系を実現することが可能となる。
【0024】請求項3記載の発明では、光学系及びディ
スク原盤露光機の制御を安定して実現することが可能と
なる。
スク原盤露光機の制御を安定して実現することが可能と
なる。
【0025】請求項4,5,6,7,8,9,10記載
の発明では、請求項2記載の発明と同様な効果を得るこ
とが可能となる。
の発明では、請求項2記載の発明と同様な効果を得るこ
とが可能となる。
【0026】請求項11記載の発明では、請求項3記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
【0027】請求項12記載の発明では、請求項2記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
【0028】請求項13記載の発明では、請求項3記載
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
の発明と同様な効果を得ることが可能となる。
【0029】
【実施例】本発明の第一の実施例を図1〜図6に基づい
て説明する。まず、本発明における原盤露光装置におい
て作製される光ディスク原盤の表面形状の様子を図1に
基づいて説明する。図1(a)は、本実施例において作
製された光ディスク原盤24の様子を示すものである。
本光ディスク原盤24には、EFM変調された情報とし
て用いられる位相ピット25と、追記時にトラッキング
用の案内溝として用いられるグルーブ26とが形成され
ている。このような光ディスク原盤24において、ハイ
ブリッドCD−Rにおいて、記録ピットを小さくするた
めには、グルーブ26(図18参照)が台形状であるこ
とが望ましい。従って、本実施例では、図1(a)に示
すように、位相ピット25及びグルーブ26のディスク
半径方向の断面形状はそれらの溝底面部がフラットな面
とされた台形溝からなっている。また、この場合、それ
ら台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面部のフラット
な面の位置が等しく、かつ、位相ピット25の深さDp
がグルーブ26の深さDgよりも大きく形成された形と
なっている。また、図1(a)にような位相ピット25
とグルーブ26は、図1(b)のような形状においても
作成することができ、相対的に溝深さは等しいため、光
学位相的にも同じ再生信号特性を得ることが可能であ
る。
て説明する。まず、本発明における原盤露光装置におい
て作製される光ディスク原盤の表面形状の様子を図1に
基づいて説明する。図1(a)は、本実施例において作
製された光ディスク原盤24の様子を示すものである。
本光ディスク原盤24には、EFM変調された情報とし
て用いられる位相ピット25と、追記時にトラッキング
用の案内溝として用いられるグルーブ26とが形成され
ている。このような光ディスク原盤24において、ハイ
ブリッドCD−Rにおいて、記録ピットを小さくするた
めには、グルーブ26(図18参照)が台形状であるこ
とが望ましい。従って、本実施例では、図1(a)に示
すように、位相ピット25及びグルーブ26のディスク
半径方向の断面形状はそれらの溝底面部がフラットな面
とされた台形溝からなっている。また、この場合、それ
ら台形溝はその溝深さ方向に対して溝底面部のフラット
な面の位置が等しく、かつ、位相ピット25の深さDp
がグルーブ26の深さDgよりも大きく形成された形と
なっている。また、図1(a)にような位相ピット25
とグルーブ26は、図1(b)のような形状においても
作成することができ、相対的に溝深さは等しいため、光
学位相的にも同じ再生信号特性を得ることが可能であ
る。
【0030】図2は、本実施例におけるグルーブ26の
位相の深さDgとプッシュプル振幅との関係を示したも
のである。グルーブ26の溝幅wgが大きいほどプッシ
ュプル振幅(以下、PPAと呼ぶ)は大きくなる。例え
ば、グルーブ26の溝幅Wgが0.6μmの場合、規格
を満足するグルーブ26の位相の深さDgの範囲は、
0.04〜0.10λである。
位相の深さDgとプッシュプル振幅との関係を示したも
のである。グルーブ26の溝幅wgが大きいほどプッシ
ュプル振幅(以下、PPAと呼ぶ)は大きくなる。例え
ば、グルーブ26の溝幅Wgが0.6μmの場合、規格
を満足するグルーブ26の位相の深さDgの範囲は、
0.04〜0.10λである。
【0031】次に、ハイブリッドCD−R用の上述した
ような台形溝からなる位相ピット25及びグルーブ26
の形状を実現するための作製方法について説明する。図
3は、本実施例における原盤露光装置の露光光学系の構
成例を示すものである。レーザ光源27から出射された
レーザビームaの光路上には、オンオフ動作及びEFM
変調をさせるための第1パルス変調器28が配置されて
いる。この第1パルス変調器28により変調されたレー
ザビームaの光路上には、λ/2板29を介して、位相
ピット25及びグルーブ26を露光するための1本の位
相ピット用ビームbとグルーブ露光時に付加する2本の
グルーブ用ビームc,dとを分離生成する第1ハーフミ
ラー30が配置されている。この第1ハーフミラー30
により分離された一方の位相ピット用ビームbの光路上
には、光量を調節する第1光量変調器31が配置されて
いる。
ような台形溝からなる位相ピット25及びグルーブ26
の形状を実現するための作製方法について説明する。図
3は、本実施例における原盤露光装置の露光光学系の構
成例を示すものである。レーザ光源27から出射された
レーザビームaの光路上には、オンオフ動作及びEFM
変調をさせるための第1パルス変調器28が配置されて
いる。この第1パルス変調器28により変調されたレー
ザビームaの光路上には、λ/2板29を介して、位相
ピット25及びグルーブ26を露光するための1本の位
相ピット用ビームbとグルーブ露光時に付加する2本の
グルーブ用ビームc,dとを分離生成する第1ハーフミ
ラー30が配置されている。この第1ハーフミラー30
により分離された一方の位相ピット用ビームbの光路上
には、光量を調節する第1光量変調器31が配置されて
いる。
【0032】また、第1ハーフミラー30により分離さ
れた他方の2本のグルーブ用ビームb,cの光路上に
は、オンオフ動作をさせる第2パルス変調器32及び光
量を調節するための第2光量変調器33が配置されてい
る。この第2光量変調器33を通過した2本のグルーブ
用ビームc,dを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラー34が設けられている。また、第2ハーフミ
ラー34により分離されたそれぞれのグルーブ用ビーム
c,dを位相ピット用ビームbの両端部の半径方向に1
/3トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ー35,36,37が配置されている。これらミラー3
5,36,37により所定の間隔の開けられた前記グル
ーブ用ビームc,dの光路中にはλ/2板38が設けら
れている。
れた他方の2本のグルーブ用ビームb,cの光路上に
は、オンオフ動作をさせる第2パルス変調器32及び光
量を調節するための第2光量変調器33が配置されてい
る。この第2光量変調器33を通過した2本のグルーブ
用ビームc,dを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラー34が設けられている。また、第2ハーフミ
ラー34により分離されたそれぞれのグルーブ用ビーム
c,dを位相ピット用ビームbの両端部の半径方向に1
/3トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ー35,36,37が配置されている。これらミラー3
5,36,37により所定の間隔の開けられた前記グル
ーブ用ビームc,dの光路中にはλ/2板38が設けら
れている。
【0033】そして、第1光量変調器31を通過した位
相ピット用ビームbと第2ハーフミラー34により1本
ずつに分離されたグルーブ用ビームc,dとが交差する
位置には、これら2つのビームを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタ39が配置されている。また、同一
方向に集光された3本のビームb,c,dの光路上に
は、λ/4板40を介して、それら集光された3本のビ
ームb,c,dにATIP情報をプリフォーマットする
ための偏向器41が配置されている。この偏向器41に
より偏向された3本のビームb,c,dは対物レンズ4
2により集光され、光ディスク原盤24上に照射され
る。前記対物レンズ42は、フォーカスアクチュエータ
43により駆動制御される。光ディスク原盤24は、ガ
ラス基板44とフォトレジスト膜45とからなってい
る。
相ピット用ビームbと第2ハーフミラー34により1本
ずつに分離されたグルーブ用ビームc,dとが交差する
位置には、これら2つのビームを同一方向に集光する偏
光ビームスプリッタ39が配置されている。また、同一
方向に集光された3本のビームb,c,dの光路上に
は、λ/4板40を介して、それら集光された3本のビ
ームb,c,dにATIP情報をプリフォーマットする
ための偏向器41が配置されている。この偏向器41に
より偏向された3本のビームb,c,dは対物レンズ4
2により集光され、光ディスク原盤24上に照射され
る。前記対物レンズ42は、フォーカスアクチュエータ
43により駆動制御される。光ディスク原盤24は、ガ
ラス基板44とフォトレジスト膜45とからなってい
る。
【0034】このような構成において、レーザ光源27
から出射されたレーザビームaは、第1,第2ハーフミ
ラー30,34により3つのビームb,c,dに分岐さ
れる。ビームbは、第1パルス変調器28により、RO
M部露光時にはEFMパターンにパルス変調がかけら
れ、グルーブ部露光時には開放のシャッタ動作が行われ
る。このビームbは第1光量変調器31により任意のレ
ーザパワーに可変することが可能である。また、ビーム
c,dは、第2パルス変調器32により、ROM部露光
時には閉のシャッタ動作が行われ、グルーブ部露光時に
は開のシャッタ動作が行われる。このビームc,dの光
量調整は、第2光量変調器33により行われる。フォト
レジスト膜45上でのビーム配置調整は、ミラー35,
37によって行われる。そして、偏光ビームスプリッタ
(PBS)39により、それら3つのビームb,c,d
は合成され、偏向器41によりウォブリングがかけら
れ、これによりCD−RのATIP情報がプリフォーマ
ットされることになる。
から出射されたレーザビームaは、第1,第2ハーフミ
ラー30,34により3つのビームb,c,dに分岐さ
れる。ビームbは、第1パルス変調器28により、RO
M部露光時にはEFMパターンにパルス変調がかけら
れ、グルーブ部露光時には開放のシャッタ動作が行われ
る。このビームbは第1光量変調器31により任意のレ
ーザパワーに可変することが可能である。また、ビーム
c,dは、第2パルス変調器32により、ROM部露光
時には閉のシャッタ動作が行われ、グルーブ部露光時に
は開のシャッタ動作が行われる。このビームc,dの光
量調整は、第2光量変調器33により行われる。フォト
レジスト膜45上でのビーム配置調整は、ミラー35,
37によって行われる。そして、偏光ビームスプリッタ
(PBS)39により、それら3つのビームb,c,d
は合成され、偏向器41によりウォブリングがかけら
れ、これによりCD−RのATIP情報がプリフォーマ
ットされることになる。
【0035】3つのビームb,c,dの光強度分布及び
フォトレジスト膜45上のビーム配置を図4に示す。こ
の場合、3つのビームb,c,dは、半径方向に(1/
3)トラックピッチ(以下、Pと呼ぶ)の間隔で配置さ
れている。ビームbは位相ピット25及びグルーブ26
を形成するための主ビームであり、ビームc,dはグル
ーブ領域の表面を位相深さで(Dp−Dg)分だけリフ
トオフするために使用される副ビームである。ビーム
b,c,dの光強度分布は、ビームbが最も大きく、ビ
ームc,dは互いに等しい。このような3つのビーム
b,c,dを合成した光強度分布を図4(a)に示す。
また、この他に、3つのビームb,c,dの配置位置を
変えた様子を図4(b)〜(d)に示し、この場合にも
図4(a)の場合と同様な効果を得ることができる。
フォトレジスト膜45上のビーム配置を図4に示す。こ
の場合、3つのビームb,c,dは、半径方向に(1/
3)トラックピッチ(以下、Pと呼ぶ)の間隔で配置さ
れている。ビームbは位相ピット25及びグルーブ26
を形成するための主ビームであり、ビームc,dはグル
ーブ領域の表面を位相深さで(Dp−Dg)分だけリフ
トオフするために使用される副ビームである。ビーム
b,c,dの光強度分布は、ビームbが最も大きく、ビ
ームc,dは互いに等しい。このような3つのビーム
b,c,dを合成した光強度分布を図4(a)に示す。
また、この他に、3つのビームb,c,dの配置位置を
変えた様子を図4(b)〜(d)に示し、この場合にも
図4(a)の場合と同様な効果を得ることができる。
【0036】次に、ハイブリットCD−R用の原盤露光
装置の露光制御系の構成を図5及び図6に基づいて説明
する。位相ピット25とグルーブ26との切換えの同期
をとるためにATIP情報を監視するCPU46が設け
られている。このCPU46は、インターフェイス用の
パラレルI/O47を介して、各ユニットの管理を行
う。このパラレルI/O47には、EFMエンコーダ4
8と、ATIPエンコーダ49と、光量変調制御回路5
0(D/Aコンバータ)と、横送りを実行させる横送り
駆動回路51と、リニアスケール52と、ターンテーブ
ルをCLV回転させるCLV駆動回路53と、対物レン
ズ42をパターンニングするためのフォトガラス基板上
にレンズセットするレンズセット回路54と、フォーカ
スエラー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォ
ーカスサーボ回路55と、フォーカスエラーモニタ56
(A/Dコンバータ)とが接続されている。
装置の露光制御系の構成を図5及び図6に基づいて説明
する。位相ピット25とグルーブ26との切換えの同期
をとるためにATIP情報を監視するCPU46が設け
られている。このCPU46は、インターフェイス用の
パラレルI/O47を介して、各ユニットの管理を行
う。このパラレルI/O47には、EFMエンコーダ4
8と、ATIPエンコーダ49と、光量変調制御回路5
0(D/Aコンバータ)と、横送りを実行させる横送り
駆動回路51と、リニアスケール52と、ターンテーブ
ルをCLV回転させるCLV駆動回路53と、対物レン
ズ42をパターンニングするためのフォトガラス基板上
にレンズセットするレンズセット回路54と、フォーカ
スエラー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォ
ーカスサーボ回路55と、フォーカスエラーモニタ56
(A/Dコンバータ)とが接続されている。
【0037】前記EFMエンコーダ48には、切換えの
ためのイネーブル信号を発生させるP/G切換え回路5
7が接続されている。前記EFMエンコーダ48と前記
ATIPエンコーダ49との間には、位相ピット25に
より記録されるEFM情報とグルーブ26により記録さ
れるATIP情報との同期をとるための同期回路58が
接続されている。前記EFMエンコーダ48及び前記A
TIPエンコーダ49とを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータ59が設けられている。また、前記
横送り駆動回路51には図示しないターンテーブルを横
送りする横送りモータ60が接続されている。前記CL
V駆動回路53にはターンテーブルモータ61が接続さ
れ、これにより光ディスク原盤の回転制御をしている。
前記レンズセット回路54には対物レンズ42をセット
するためのレンズセットモータ62が接続されている。
前記フォーカスエラーモータ56にはフォーカスエラー
検出回路63が接続されている。
ためのイネーブル信号を発生させるP/G切換え回路5
7が接続されている。前記EFMエンコーダ48と前記
ATIPエンコーダ49との間には、位相ピット25に
より記録されるEFM情報とグルーブ26により記録さ
れるATIP情報との同期をとるための同期回路58が
接続されている。前記EFMエンコーダ48及び前記A
TIPエンコーダ49とを同一のクロックで動作させる
パルスジェネレータ59が設けられている。また、前記
横送り駆動回路51には図示しないターンテーブルを横
送りする横送りモータ60が接続されている。前記CL
V駆動回路53にはターンテーブルモータ61が接続さ
れ、これにより光ディスク原盤の回転制御をしている。
前記レンズセット回路54には対物レンズ42をセット
するためのレンズセットモータ62が接続されている。
前記フォーカスエラーモータ56にはフォーカスエラー
検出回路63が接続されている。
【0038】このような構成において、本装置の制御シ
ステムを図6のフローに基づいて説明する。パターンニ
ングされる位相ピット25及びグルーブ26の情報に同
期をとるために、EFMエンコーダ48、ATIPエン
コーダ49、図示しないターンテーブルの横送り及び回
転駆動は、パルスジェネレータ59から発生した同一ク
ロックにより制御される。また、EFMエンコーダ48
とATIPエンコーダ49との同期をとるために同期回
路58によりATIPのsyncパターンを検出し、こ
のsyncパターンによりEFMエンコーダ48をスタ
ートさせる。さらに、同期回路58はCPU46からの
切換命令と前述したsyncパターンに同期して切換え
を行い、これにより位相ピット25とグルーブ26の露
光切換えをタイミング良く行わせる。実際には、CPU
46はATIPを監視し、切換時間となったら切換命令
を発生させる。この切換命令のenableと前述した
syncパターンが同時にONとなった時に位相ピット
25とグルーブ26の切換えを行う。また、光量変調を
行うには、CPU46から光量変調制御回路50にデー
タをセットし、この電圧により第1光量変調器31及び
第2光量変調器33を駆動することにより行うことがで
きる。さらに、光ディスク原盤22にビームb,c,d
をフォーカスするための、対物レンズ42のレンズセッ
ト及びフォーカスサーボ回路55も前記CPU46によ
り統括して制御される。
ステムを図6のフローに基づいて説明する。パターンニ
ングされる位相ピット25及びグルーブ26の情報に同
期をとるために、EFMエンコーダ48、ATIPエン
コーダ49、図示しないターンテーブルの横送り及び回
転駆動は、パルスジェネレータ59から発生した同一ク
ロックにより制御される。また、EFMエンコーダ48
とATIPエンコーダ49との同期をとるために同期回
路58によりATIPのsyncパターンを検出し、こ
のsyncパターンによりEFMエンコーダ48をスタ
ートさせる。さらに、同期回路58はCPU46からの
切換命令と前述したsyncパターンに同期して切換え
を行い、これにより位相ピット25とグルーブ26の露
光切換えをタイミング良く行わせる。実際には、CPU
46はATIPを監視し、切換時間となったら切換命令
を発生させる。この切換命令のenableと前述した
syncパターンが同時にONとなった時に位相ピット
25とグルーブ26の切換えを行う。また、光量変調を
行うには、CPU46から光量変調制御回路50にデー
タをセットし、この電圧により第1光量変調器31及び
第2光量変調器33を駆動することにより行うことがで
きる。さらに、光ディスク原盤22にビームb,c,d
をフォーカスするための、対物レンズ42のレンズセッ
ト及びフォーカスサーボ回路55も前記CPU46によ
り統括して制御される。
【0039】ここで、原盤露光装置の光ディスク原盤2
4の原盤露光条件を示しておく。
4の原盤露光条件を示しておく。
【0040】 フォトレジスト膜厚 :約1300Å フォトレジスト塗布条件:レジストOFPR800
2CP(東京応化製)、回転数1100rpm、プリ
ベーク90°C 30min ビームb露光パワー :4.0mW ビームc,d露光パワー:1.6〜1.8mW 形成されたパターン :位相ピット 溝幅 約
0.6μm、溝深さ 約1300Å グルーブ 溝幅 約0.6μm、溝深さ 約300
Å 現像条件 :DE−3 40%(東京
応化製) 現像時間60sec、 ポストべーク120°C 30min このような条件で作製したフォトレジストパターンを従
来技術で示した図15の作製工程を用いてスタンパを作
製することができる。
2CP(東京応化製)、回転数1100rpm、プリ
ベーク90°C 30min ビームb露光パワー :4.0mW ビームc,d露光パワー:1.6〜1.8mW 形成されたパターン :位相ピット 溝幅 約
0.6μm、溝深さ 約1300Å グルーブ 溝幅 約0.6μm、溝深さ 約300
Å 現像条件 :DE−3 40%(東京
応化製) 現像時間60sec、 ポストべーク120°C 30min このような条件で作製したフォトレジストパターンを従
来技術で示した図15の作製工程を用いてスタンパを作
製することができる。
【0041】上述したように、本実施例のように、位相
ピット25及びグルーブ26を台形溝になるように露光
制御して形成することにより、記録ピットの広がりを防
止することができ、これにより再生時の信号特性マージ
ンを増大させ、光ディスク原盤の作製の品質を安定化さ
せることができる。また、本露光光学系を用いたことに
より、位相ピット25及びグルーブ26の形状を1回の
露光で簡単にマスタリングすることが可能となり、これ
により従来法と同一の原盤作製工程を使用しても作製を
行うことができる。さらに、本露光制御系を用いたこと
により、常に安定して露光制御を行えるため、スタンパ
の品質を安定させることができる。
ピット25及びグルーブ26を台形溝になるように露光
制御して形成することにより、記録ピットの広がりを防
止することができ、これにより再生時の信号特性マージ
ンを増大させ、光ディスク原盤の作製の品質を安定化さ
せることができる。また、本露光光学系を用いたことに
より、位相ピット25及びグルーブ26の形状を1回の
露光で簡単にマスタリングすることが可能となり、これ
により従来法と同一の原盤作製工程を使用しても作製を
行うことができる。さらに、本露光制御系を用いたこと
により、常に安定して露光制御を行えるため、スタンパ
の品質を安定させることができる。
【0042】次に、本発明の第二の実施例を図7〜図9
に基づいて説明する。なお、第一の実施例と同一部分に
ついては同一符号を用いる。
に基づいて説明する。なお、第一の実施例と同一部分に
ついては同一符号を用いる。
【0043】前述した第一の実施例では3つのビーム
b,c,dを用いて位相ピット25及びグルーブ26を
形成する原盤露光方法について述べたが、ここでは2つ
のビームを用いて作製する方法について述べる。すなわ
ち、2つのビームのうち、1つの主ビームbは変わらな
いが、もう一つの副ビームとしては、前述したビーム
c,dの代わりに光ディスク面に対してデフォーカスさ
れたビームeを用いる。図7は、そのデフォーカスさせ
るための露光光学系の様子を示すものである。図3の露
光光学系を参考にして、ビームaがハーフミラー30に
より分岐されたビームeの光路上にはデフォーカスレン
ズ64が配置されており、これによりビームeはデフォ
ーカスされた状態となっている。図8(a)〜(d)
は、ビームb,eの光強度分布の様子を示すものであ
る。(a)はビームeのデフォーカスされた状態での光
強度分布65を示し、(b)は通常のビームbの状態で
の光強度分布66を示し、(c)は2つのビームb,e
の合成された光強度分布67の様子を示すものである。
b,c,dを用いて位相ピット25及びグルーブ26を
形成する原盤露光方法について述べたが、ここでは2つ
のビームを用いて作製する方法について述べる。すなわ
ち、2つのビームのうち、1つの主ビームbは変わらな
いが、もう一つの副ビームとしては、前述したビーム
c,dの代わりに光ディスク面に対してデフォーカスさ
れたビームeを用いる。図7は、そのデフォーカスさせ
るための露光光学系の様子を示すものである。図3の露
光光学系を参考にして、ビームaがハーフミラー30に
より分岐されたビームeの光路上にはデフォーカスレン
ズ64が配置されており、これによりビームeはデフォ
ーカスされた状態となっている。図8(a)〜(d)
は、ビームb,eの光強度分布の様子を示すものであ
る。(a)はビームeのデフォーカスされた状態での光
強度分布65を示し、(b)は通常のビームbの状態で
の光強度分布66を示し、(c)は2つのビームb,e
の合成された光強度分布67の様子を示すものである。
【0044】また、図9は、2ビーム露光光学系の他の
構成例を示すものである。この場合、対物レンズ42に
入射するビームeのビーム径がビームbのビーム径より
も小さくなるようにビームエキスパンダ68を配置した
場合の例を示すものである。これにより、光ディスク面
上での集光ビーム径が大きくなり、図8で示した光強度
分布と同じ分布を得ることができる。
構成例を示すものである。この場合、対物レンズ42に
入射するビームeのビーム径がビームbのビーム径より
も小さくなるようにビームエキスパンダ68を配置した
場合の例を示すものである。これにより、光ディスク面
上での集光ビーム径が大きくなり、図8で示した光強度
分布と同じ分布を得ることができる。
【0045】ここで、上述したデフォーカス法及びビー
ムエキスパンダ法の具体的な露光条件について述べてお
く。
ムエキスパンダ法の具体的な露光条件について述べてお
く。
【0046】<デフォーカス法> ビームe:露光パワー 2.0mW、デフォーカス
量 約0.05μm(対物レンズNA=0.95) ビームb:露光パワー 3.5mW なお、その他の条件は前述した3ビームの場合と同一と
する。
量 約0.05μm(対物レンズNA=0.95) ビームb:露光パワー 3.5mW なお、その他の条件は前述した3ビームの場合と同一と
する。
【0047】<ビームエキスパンダ> ビームe:露光パワー 2.0mW、ビーム径 約
1mm ビームb:露光パワー 3.5mW、ビーム径 約
3mm なお、その他の条件は前述した3ビームの場合と同一と
する。
1mm ビームb:露光パワー 3.5mW、ビーム径 約
3mm なお、その他の条件は前述した3ビームの場合と同一と
する。
【0048】上述したような条件設定により、3ビーム
法とほぼ同様の台形溝からなる位相ピット25及びグル
ーブ26を得ることができる。
法とほぼ同様の台形溝からなる位相ピット25及びグル
ーブ26を得ることができる。
【0049】
【発明の効果】請求項1記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、前記
位相ピット及び前記グルーブのディスク半径方向の断面
形状はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝
からなり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して前
記溝底面部のフラットな面の位置が等しく、かつ、前記
位相ピットの深さを前記グルーブの深さよりも大きく形
成したので、ハイブリッドCD−Rディスクの位相ピッ
ト及びグルーブ形状において記録ピットの広がりを防止
することが可能となり、これにより再生時の信号特性マ
ージンを増大させ、光ディスク原盤の品質を向上させる
ことができるものである。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、前記
位相ピット及び前記グルーブのディスク半径方向の断面
形状はそれらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝
からなり、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して前
記溝底面部のフラットな面の位置が等しく、かつ、前記
位相ピットの深さを前記グルーブの深さよりも大きく形
成したので、ハイブリッドCD−Rディスクの位相ピッ
ト及びグルーブ形状において記録ピットの広がりを防止
することが可能となり、これにより再生時の信号特性マ
ージンを増大させ、光ディスク原盤の品質を向上させる
ことができるものである。
【0050】請求項2記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記第
1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光量
変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本のグ
ルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラーに
より1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された3本のビームにATI
P情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設けたので、位相ピット及びグルーブ形状
を1回の露光で簡単にマスタリングする光学系を実現す
ることが可能であり、これにより従来と同じ工法及び工
程で光ディスク原盤を作製することができるものであ
る。
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記第
1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光量
変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本のグ
ルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラーに
より1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された3本のビームにATI
P情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設けたので、位相ピット及びグルーブ形状
を1回の露光で簡単にマスタリングする光学系を実現す
ることが可能であり、これにより従来と同じ工法及び工
程で光ディスク原盤を作製することができるものであ
る。
【0051】請求項3記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相ピ
ットにより記録されるEFM情報とグルーブにより記録
されるATIP情報との同期をとるための同期回路と、
位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるためにA
TIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイネー
ブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターンテー
ブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送りを実
行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、AT
IPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記AT
IPエンコーダを同一のクロックで動作させるパルスジ
ェネレータと、対物レンズをパターンニングするための
フォトガラス基板上にレンズセットするレンズセット回
路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカスサ
ーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制御系
を設けたので、光学系及びディスク原盤露光機の制御を
安定して実現することが可能であり、スタンパの品質を
安定化させることができるものである。
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、位相ピ
ットにより記録されるEFM情報とグルーブにより記録
されるATIP情報との同期をとるための同期回路と、
位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるためにA
TIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイネー
ブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターンテー
ブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送りを実
行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、AT
IPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記AT
IPエンコーダを同一のクロックで動作させるパルスジ
ェネレータと、対物レンズをパターンニングするための
フォトガラス基板上にレンズセットするレンズセット回
路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカスサ
ーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制御系
を設けたので、光学系及びディスク原盤露光機の制御を
安定して実現することが可能であり、スタンパの品質を
安定化させることができるものである。
【0052】請求項4記載の発明は、請求項2又は3記
載の発明において、位相ピットを形成する際には1本の
位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1
本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径方
向に1/3トラックピッチ離れた位置に配置された2本
のグルーブ用ビームとを用いるようにしたので、請求項
2記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。
載の発明において、位相ピットを形成する際には1本の
位相用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1
本の位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径方
向に1/3トラックピッチ離れた位置に配置された2本
のグルーブ用ビームとを用いるようにしたので、請求項
2記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。
【0053】請求項5記載の発明では、請求項4記載の
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する2本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くしたので、請求項2記載の発明と同様な効果を得るこ
とができるものである。
発明において、位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する2本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
くしたので、請求項2記載の発明と同様な効果を得るこ
とができるものである。
【0054】請求項6記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記第
1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光量
変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本のグ
ルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラーに
より1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された3本のビームにATI
P情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEFM
情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同期
をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切
換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCPU
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/G
切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるCL
V駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記EF
Mエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項2記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する2本のグルーブ用ビームとを分離
生成する第1ハーフミラーと、この第1ハーフミラーに
より分離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上
に配設された光量を調節する第1光量変調器と、前記第
1ハーフミラーにより分離された他方の前記2本のグル
ーブ用ビームの光路上に配設されたオンオフ動作をさせ
る第2パルス変調器及び光量を調節するための第2光量
変調器と、この第2光量変調器を通過した前記2本のグ
ルーブ用ビームを1本ずつのビームに分離させる第2ハ
ーフミラーと、この第2ハーフミラーにより分離された
前記それぞれのグルーブ用ビームを前記位相用ビームの
両端部の半径方向に1/3トラックピッチ離れた位置に
配置させるためのミラーと、前記第1光量変調器を通過
した前記位相ピット用ビームと前記第2ハーフミラーに
より1本ずつに分離された前記グルーブ用ビームとを同
一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビ
ームスプリッタにより集光された3本のビームにATI
P情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた
露光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEFM
情報とグルーブにより記録されるATIP情報との同期
をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切
換えの同期をとるためにATIP情報を監視するCPU
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/G
切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるCL
V駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記EF
Mエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項2記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。
【0055】請求項7記載の発明は、レーザ光源から出
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分離
生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分離
された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設さ
れた光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミラ
ーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビーム
の光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パルス
変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、こ
の第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビー
ムを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするための
デフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過した
前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズによ
りデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一方
向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビーム
スプリッタにより集光された1本のビームにATIP情
報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露光
光学系を設けたので、請求項2記載の発明と同様な効果
を得ることができるものである。
射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光デ
ィスク原盤上に露光することにより、EFM変調された
情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッキ
ング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光デ
ィスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レーザ
光源から出射されたレーザビームの光路上に配設された
オンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パルス
変調器と、この第1パルス変調器により変調された前記
レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグル
ーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグル
ーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分離
生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分離
された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設さ
れた光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミラ
ーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビーム
の光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パルス
変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、こ
の第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビー
ムを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするための
デフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過した
前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズによ
りデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一方
向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビーム
スプリッタにより集光された1本のビームにATIP情
報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露光
光学系を設けたので、請求項2記載の発明と同様な効果
を得ることができるものである。
【0056】請求項8記載の発明は、請求項7記載の発
明において、位相ピットを形成する際には1本の位相用
ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の位
相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に1本
のビームを付加して露光するようにしたので、請求項2
記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。
明において、位相ピットを形成する際には1本の位相用
ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の位
相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に1本
のビームを付加して露光するようにしたので、請求項2
記載の発明と同様な効果を得ることができるものであ
る。
【0057】請求項9記載の発明は、請求項8記載の発
明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上で
フォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグルー
ブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態とし
たので、請求項2記載の発明と同様な効果を得ることが
できるものである。
明において、位相ピット用ビームは光ディスク原盤上で
フォーカス状態とし、グルーブ露光時に付加するグルー
ブ用ビームは光ディスク原盤上でデフォーカス状態とし
たので、請求項2記載の発明と同様な効果を得ることが
できるものである。
【0058】請求項10記載の発明は、請求項8記載の
発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対して
グルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム径
を小さくしたので、請求項2記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。
発明において、位相ピット用ビームのビーム径に対して
グルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム径
を小さくしたので、請求項2記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。
【0059】請求項11記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された1本のビームにATIP
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEFM情
報とグルーブにより記録されるATIP情報との同期を
とるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切換
えの同期をとるためにATIP情報を監視するCPU
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/G
切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるCL
V駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記EF
Mエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項3記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームを光ディスク原盤面に対してデフォーカスするため
のデフォーカスレンズと、前記第1光量変調器を通過し
た前記位相ピット用ビームと前記デフォーカスレンズに
よりデフォーカスされた前記グルーブ用ビームとを同一
方向に集光する偏光ビームスプリッタと、この偏光ビー
ムスプリッタにより集光された1本のビームにATIP
情報をプリフォーマットするための偏向器とを備えた露
光光学系を設け、位相ピットにより記録されるEFM情
報とグルーブにより記録されるATIP情報との同期を
とるための同期回路と、位相ピットとグルーブとの切換
えの同期をとるためにATIP情報を監視するCPU
と、切換えのためのイネーブル信号を発生させるP/G
切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させるCL
V駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回路と、
EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前記EF
Mエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一のクロ
ックで動作させるパルスジェネレータと、対物レンズを
パターンニングするためのフォトガラス基板上にレンズ
セットするレンズセット回路と、フォーカスエラー信号
をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ
回路とを備えた露光制御系を設けたので、請求項3記載
の発明と同様な効果を得ることができるものである。
【0060】請求項12記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたの
で、請求項2記載の発明と同様な効果を得ることができ
るものである。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたの
で、請求項2記載の発明と同様な効果を得ることができ
るものである。
【0061】請求項13記載の発明は、レーザ光源から
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位
相ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより
記録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたので、請求項3記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。
出射されたレーザビームを対物レンズにより集光して光
ディスク原盤上に露光することにより、EFM変調され
た情報として用いられる位相ピットと、追記時にトラッ
キング用の案内溝として用いられるグルーブとを前記光
ディスク原盤上に作成する原盤露光装置において、レー
ザ光源から出射されたレーザビームの光路上に配設され
たオンオフ動作及びEFM変調をさせるための第1パル
ス変調器と、この第1パルス変調器により変調された前
記レーザビームの光路上に配設された位相ピット及びグ
ルーブを露光するための1本の位相ピット用ビームとグ
ルーブ露光時に付加する1本のグルーブ用ビームとを分
離生成するハーフミラーと、このハーフミラーにより分
離された一方の前記位相ピット用ビームの光路上に配設
された光量を調節する第1光量変調器と、前記ハーフミ
ラーにより分離された他方の前記1本のグルーブ用ビー
ムの光路上に配設されたオンオフ動作をさせる第2パル
ス変調器及び光量を調節するための第2光量変調器と、
この第2光量変調器を通過した前記1本のグルーブ用ビ
ームのビーム径を変更するためのビームエキスパンダ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記ビームエキスパンダによりビーム径の変更さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位
相ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより
記録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたので、請求項3記載の発明と同様な効果を
得ることができるものである。
【図1】本発明の第一の実施例である光ディスク原盤の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図2】グルーブ深さに対するプッシュプル振幅の様子
を示す特性図である。
を示す特性図である。
【図3】3ビーム露光光学系の様子を示す光路図であ
る。
る。
【図4】3ビーム露光の原理を示す模式図である。
【図5】露光制御系の様子を示すブロック図である。
【図6】フローチャートである。
【図7】本発明の第二の実施例である2ビーム露光光学
系の構成を示す光路図である。
系の構成を示す光路図である。
【図8】2ビーム露光の原理を示す模式図である。
【図9】2ビーム露光光学系の他の構成例を示す光路図
である。
である。
【図10】光ディスク原盤の構成を示す平面図である。
【図11】光ディスク面に形成される各種溝形状を示す
模式図である。
模式図である。
【図12】ピット深さに対する変調度の変化の度合いを
示す特性図である。
示す特性図である。
【図13】グルーブ深さに対するプッシュプル振幅の変
化の度合いを示す特性図である。
化の度合いを示す特性図である。
【図14】ピット及びグルーブに形成される溝形状を示
す側面図である。
す側面図である。
【図15】光ディスク原盤の作製工程を示す工程図であ
る。
る。
【図16】従来の露光光学系を示す光路図である。
【図17】記録ピットがV字形の場合における記録前後
の様子を示す断面図である。
の様子を示す断面図である。
【図18】記録ピットが台形溝の場合における記録前後
の様子を示す断面図である。
の様子を示す断面図である。
25 位相ピット 26 グルーブ 27 レーザ光源 28 第1パルス変調器 30 第1ハーフミラー 31 第1光量変調器 32 第2パルス変調器 33 第2光量変調器 34 第2ハーフミラー 35〜37 ミラー 39 偏光ビームスプリッタ 41 偏向器 42 対物レンズ 64 デフォーカスレンズ 68 ビームエキスパンダ
Claims (13)
- 【請求項1】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して露光することにより、EF
M変調された情報として用いられる位相ピットと、追記
時にトラッキング用の案内溝として用いられるグルーブ
とが形成された光ディスク原盤において、前記位相ピッ
ト及び前記グルーブのディスク半径方向の断面形状はそ
れらの溝底面部がフラットな面とされた台形溝からな
り、これらの台形溝はその溝深さ方向に対して前記溝底
面部のフラットな面の位置が等しく、かつ、前記位相ピ
ットの深さを前記グルーブの深さよりも大きく形成した
ことを特徴とする光ディスク原盤。 - 【請求項2】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、EFM変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びEF
M変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
2本のグルーブ用ビームとを分離生成する第1ハーフミ
ラーと、この第1ハーフミラーにより分離された一方の
前記位相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調
節する第1光量変調器と、前記第1ハーフミラーにより
分離された他方の前記2本のグルーブ用ビームの光路上
に配設されたオンオフ動作をさせる第2パルス変調器及
び光量を調節するための第2光量変調器と、この第2光
量変調器を通過した前記2本のグルーブ用ビームを1本
ずつのビームに分離させる第2ハーフミラーと、この第
2ハーフミラーにより分離された前記それぞれのグルー
ブ用ビームを前記位相用ビームの両端部の半径方向に1
/3トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ーと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記第2ハーフミラーにより1本ずつに分離さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された3本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたこ
とを特徴とする原盤露光装置。 - 【請求項3】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、EFM変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、位相ピットにより記録される
EFM情報とグルーブにより記録されるATIP情報と
の同期をとるための同期回路と、位相ピットとグルーブ
との切換えの同期をとるためにATIP情報を監視する
CPUと、切換えのためのイネーブル信号を発生させる
P/G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転させ
るCLV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動回
路と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、前
記EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同一
のクロックで動作させるパルスジェネレータと、対物レ
ンズをパターンニングするためのフォトガラス基板上に
レンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエラ
ー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカス
サーボ回路とを備えた露光制御系を設けたことを特徴と
する原盤露光装置。 - 【請求項4】 位相ピットを形成する際には1本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の
位相用ビームとこの位相用ビームの両端部の半径方向に
1/3トラックピッチ離れた位置に配置された2本のグ
ルーブ用ビームとを用いるようにしたことを特徴とする
請求項2又は3記載の原盤露光装置。 - 【請求項5】 位相ピット用ビームの露光量は位相ピッ
ト及びグルーブを形成する際には等しく、グルーブ露光
時に付加する2本のグルーブ用ビームの露光量は互いに
等しくかつ前記位相ピット用ビームの露光量よりも小さ
いことを特徴とする請求項4記載の原盤露光装置。 - 【請求項6】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、EFM変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びEF
M変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
2本のグルーブ用ビームとを分離生成する第1ハーフミ
ラーと、この第1ハーフミラーにより分離された一方の
前記位相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調
節する第1光量変調器と、前記第1ハーフミラーにより
分離された他方の前記2本のグルーブ用ビームの光路上
に配設されたオンオフ動作をさせる第2パルス変調器及
び光量を調節するための第2光量変調器と、この第2光
量変調器を通過した前記2本のグルーブ用ビームを1本
ずつのビームに分離させる第2ハーフミラーと、この第
2ハーフミラーにより分離された前記それぞれのグルー
ブ用ビームを前記位相用ビームの両端部の半径方向に1
/3トラックピッチ離れた位置に配置させるためのミラ
ーと、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用
ビームと前記第2ハーフミラーにより1本ずつに分離さ
れた前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光
ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより
集光された3本のビームにATIP情報をプリフォーマ
ットするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位
相ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより
記録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたことを特徴とする原盤露光装置。 - 【請求項7】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光す
ることにより、EFM変調された情報として用いられる
位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝として
用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成す
る原盤露光装置において、レーザ光源から出射されたレ
ーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びEF
M変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1パ
ルス変調器により変調された前記レーザビームの光路上
に配設された位相ピット及びグルーブを露光するための
1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加する
1本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラー
と、このハーフミラーにより分離された一方の前記位相
ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する第
1光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された他
方の前記1本のグルーブ用ビームの光路上に配設された
オンオフ動作をさせる第2パルス変調器及び光量を調節
するための第2光量変調器と、この第2光量変調器を通
過した前記1本のグルーブ用ビームを光ディスク原盤面
に対してデフォーカスするためのデフォーカスレンズ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記デフォーカスレンズによりデフォーカスされ
た前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光ビ
ームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより集
光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマッ
トするための偏向器とを備えた露光光学系を設けたこと
を特徴とする原盤露光装置。 - 【請求項8】 位相ピットを形成する際には1本の位相
用ビームを用い、グルーブを形成する際には前記1本の
位相用ビームとこの位相用ビームと同一トラック上に1
本のビームを付加して露光することを特徴とする請求項
7記載の原盤露光装置。 - 【請求項9】 位相ピット用ビームは光ディスク原盤上
にフォーカスされており、グルーブ露光時に付加するグ
ルーブ用ビームは光ディスク原盤上にデフォーカスされ
ていることを特徴とする請求項8記載の原盤露光装置。 - 【請求項10】 位相ピット用ビームのビーム径に対し
てグルーブ用ビームの対物レンズに入射する際のビーム
径が小さいことを特徴とする請求項8記載の原盤露光装
置。 - 【請求項11】 レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、EFM変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びE
FM変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る1本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第1光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記1本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第2パルス変調器及び光量を調
節するための第2光量変調器と、この第2光量変調器を
通過した前記1本のグルーブ用ビームを光ディスク原盤
面に対してデフォーカスするためのデフォーカスレンズ
と、前記第1光量変調器を通過した前記位相ピット用ビ
ームと前記デフォーカスレンズによりデフォーカスされ
た前記グルーブ用ビームとを同一方向に集光する偏光ビ
ームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタにより集
光された1本のビームにATIP情報をプリフォーマッ
トするための偏向器とを備えた露光光学系を設け、位相
ピットにより記録されるEFM情報とグルーブにより記
録されるATIP情報との同期をとるための同期回路
と、位相ピットとグルーブとの切換えの同期をとるため
にATIP情報を監視するCPUと、切換えのためのイ
ネーブル信号を発生させるP/G切換え回路と、ターン
テーブルをCLV回転させるCLV駆動回路と、横送り
を実行させる横送り駆動回路と、EFMエンコーダと、
ATIPエンコーダと、前記EFMエンコーダ及び前記
ATIPエンコーダを同一のクロックで動作させるパル
スジェネレータと、対物レンズをパターンニングするた
めのフォトガラス基板上にレンズセットするレンズセッ
ト回路と、フォーカスエラー信号をモニターしフォーカ
スサーボを行うフォーカスサーボ回路とを備えた露光制
御系を設けたことを特徴とする原盤露光装置。 - 【請求項12】 レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、EFM変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びE
FM変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る1本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第1光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記1本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第2パルス変調器及び光量を調
節するための第2光量変調器と、この第2光量変調器を
通過した前記1本のグルーブ用ビームのビーム径を変更
するためのビームエキスパンダと、前記第1光量変調器
を通過した前記位相ピット用ビームと前記ビームエキス
パンダによりビーム径の変更された前記グルーブ用ビー
ムとを同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、こ
の偏光ビームスプリッタにより集光された1本のビーム
にATIP情報をプリフォーマットするための偏向器と
を備えた露光光学系を設けたことを特徴とする原盤露光
装置。 - 【請求項13】 レーザ光源から出射されたレーザビー
ムを対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に露光
することにより、EFM変調された情報として用いられ
る位相ピットと、追記時にトラッキング用の案内溝とし
て用いられるグルーブとを前記光ディスク原盤上に作成
する原盤露光装置において、レーザ光源から出射された
レーザビームの光路上に配設されたオンオフ動作及びE
FM変調をさせるための第1パルス変調器と、この第1
パルス変調器により変調された前記レーザビームの光路
上に配設された位相ピット及びグルーブを露光するため
の1本の位相ピット用ビームとグルーブ露光時に付加す
る1本のグルーブ用ビームとを分離生成するハーフミラ
ーと、このハーフミラーにより分離された一方の前記位
相ピット用ビームの光路上に配設された光量を調節する
第1光量変調器と、前記ハーフミラーにより分離された
他方の前記1本のグルーブ用ビームの光路上に配設され
たオンオフ動作をさせる第2パルス変調器及び光量を調
節するための第2光量変調器と、この第2光量変調器を
通過した前記1本のグルーブ用ビームのビーム径を変更
するためのビームエキスパンダと、前記第1光量変調器
を通過した前記位相ピット用ビームと前記ビームエキス
パンダによりビーム径の変更された前記グルーブ用ビー
ムとを同一方向に集光する偏光ビームスプリッタと、こ
の偏光ビームスプリッタにより集光された1本のビーム
にATIP情報をプリフォーマットするための偏向器と
を備えた露光光学系を設け、位相ピットにより記録され
るEFM情報とグルーブにより記録されるATIP情報
との同期をとるための同期回路と、位相ピットとグルー
ブとの切換えの同期をとるためにATIP情報を監視す
るCPUと、切換えのためのイネーブル信号を発生させ
るP/G切換え回路と、ターンテーブルをCLV回転さ
せるCLV駆動回路と、横送りを実行させる横送り駆動
回路と、EFMエンコーダと、ATIPエンコーダと、
前記EFMエンコーダ及び前記ATIPエンコーダを同
一のクロックで動作させるパルスジェネレータと、対物
レンズをパターンニングするためのフォトガラス基板上
にレンズセットするレンズセット回路と、フォーカスエ
ラー信号をモニターしフォーカスサーボを行うフォーカ
スサーボ回路とを備えた露光制御系を設けたことを特徴
とする原盤露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19191192A JPH0636287A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤及び原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19191192A JPH0636287A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤及び原盤露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0636287A true JPH0636287A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16282502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19191192A Pending JPH0636287A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤及び原盤露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0636287A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
JPWO2005055224A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2007-06-28 | ソニー株式会社 | 光ディスク用原盤の製造方法および光ディスク用原盤 |
US7903535B2 (en) | 2004-10-04 | 2011-03-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium and manufacturing method of the same |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP19191192A patent/JPH0636287A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
JPWO2005055224A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2007-06-28 | ソニー株式会社 | 光ディスク用原盤の製造方法および光ディスク用原盤 |
JP4655937B2 (ja) * | 2003-12-01 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | 光ディスク用原盤の製造方法 |
US7903535B2 (en) | 2004-10-04 | 2011-03-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium and manufacturing method of the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000231745A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及びその製造方法 | |
JP3577870B2 (ja) | 記録媒体原盤の製造方法及び記録媒体 | |
US7242662B2 (en) | Optical recording/reproducing medium, mother stamper for producing optical recording/reproducing medium and optical recording/reproducing device | |
US6611492B2 (en) | Optical recording medium and master disc for preparation thereof | |
KR100913509B1 (ko) | 광 기록 매체, 광 기록 매체 제조용 원반, 광 기록 매체제조용 원반의 제조장치, 광 기록 매체 제조용 원반의제조 방법 | |
JPH0636287A (ja) | 光ディスク原盤及び原盤露光装置 | |
JP4024047B2 (ja) | 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 | |
KR20040090393A (ko) | 광학 기록 재생 매체, 광학 기록 재생 매체 제조용 원반및 광학 기록 재생 장치 | |
US6597655B2 (en) | Optical recording medium having wobbling groove extending along the tracks | |
JP4320916B2 (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 | |
JP2005032317A (ja) | 光学記録再生媒体、光学記録再生媒体製造用スタンパ及び光学記録方法 | |
JP2003059121A (ja) | 光記録媒体製造用原盤の製造方法、露光装置、並びに光記録媒体製造用原盤および光記録媒体 | |
JP4385552B2 (ja) | 光学記録再生媒体作製用原盤の記録方法、光学記録再生媒体作製用スタンパ、光学記録再生媒体及びこれを用いた光学記録再生装置 | |
JPH11296910A (ja) | 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 | |
JPH11339329A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP4320915B2 (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 | |
JP2000048409A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 | |
JP2005353277A (ja) | 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 | |
JP2000113496A (ja) | 情報記録媒体作製用原盤および情報記録媒体の製造方法と、光照射方法と、光照射装置および情報記録媒体 | |
JP2002334484A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法 | |
JP2001035017A (ja) | 光情報記録媒体およびその製造方法、および、原盤記録方法 | |
JP2003045040A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、成形用スタンパ及びこれらの製造方法、ならびに光学記録再生方法 | |
JPH11296923A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2000260070A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 | |
JP2006012266A (ja) | 光記録媒体および光記録媒体製造用原盤 |