JPH06325592A - 半導体メモリー - Google Patents
半導体メモリーInfo
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- JPH06325592A JPH06325592A JP6058787A JP5878794A JPH06325592A JP H06325592 A JPH06325592 A JP H06325592A JP 6058787 A JP6058787 A JP 6058787A JP 5878794 A JP5878794 A JP 5878794A JP H06325592 A JPH06325592 A JP H06325592A
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- packet
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- blr
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
問題が入り込まないようなマトリクスアーキテクチャー
を持つ半導体メモリーを提供する。 【構成】 メモリーセルの行と列BLからなるメモリー
セルマトリクスを具え、メモリーセル列BLはパケット
1に、パケット1はセクタに順次グループ化され、かつ
セクタは全体として上記のマトリクスを形成しており、
そして各パケット内の特定の列BLを選択する第1レベ
ル選択手段MS、各セクタ内の特定のパケットを選択す
る第2レベル選択手段MSP、少なくとも1つの欠陥メ
モリーセルを含む列BLの置換に適した冗長メモリーセ
ル列BLR、および上述の置換を実行するスイッチング
手段と認識回路を含む制御回路を具え、かつ上記の冗長
メモリーセル列BLRの各々がメモリーセル列BLの各
パケットに含まれている。
Description
と結合された冗長セル列を具えるメモリーマトリクスを
有する半導体メモリーに関する。
ーマトリクスのセルの数の制約が問題となる欠陥がしば
しば発生する。このタイプの欠陥が高い確率で起こる理
由は、半導体メモリーチップにおいて面積の大部分がメ
モリーセルのマトリクス自信により占有されるという事
実に帰している。
陥メモリーセルの存在が全チップの廃棄を強制する事態
を回避するために、製造時に、一般に「冗長セル」と呼
ばれるある数のメモリーセルを追加して製造し、集積素
子の試験の間に欠陥と証明されたセルの置換として使用
する技術が知られている。このように、冗長セルによる
欠陥セルの上述の機能的置換を行うように設計され、集
積素子が具える必要性がある回路は全体として「冗長回
路」といわれており、一方、冗長セルと冗長回路を組に
して略して「冗長」と定義している。
され、ここで単一メモリーセルがマトリクスの行(「ワ
ード線」と呼ばれる)と列(「ビット線」と呼ばれる)
の交点に位置しているので、実際に起こることは、冗長
セルの多数の行と列(それぞれ「冗長行」および「冗長
列」と呼ばれる)による欠陥セルを含む行もしくは列の
置換であり、特別の不揮発性メモリーレジスタ(例え
ば、フューズあるいはプログラマブルではあるが消去不
可メモリーセル)に各欠陥行あるいは欠陥列に対応する
アドレス信号の形態を記憶し、これににより、信号の上
記の組合せが集積素子の入力に再び示される時は、何時
でもこの置換が自動的に実行され、かつ欠陥セルをアク
セスする代わりに、それらに代わる冗長セルをアクセス
するようにする。
を設けることであり、これらの群の各々は、メモリーマ
トリクスの各セクタと結合しており、それ自身、集積素
子のデータ入出力線に関係するメモリーマトリクスの部
分を構成しているメモリーセルの所与の数のビット線か
らなっている。特定のビット線を選択する目的で、上述
のセクタの各々は一般にビット線のパケットに順次分割
され、全体として各セクタの64ビット線が例えば8ビッ
ト線の8パケットに分割される。
所与のビット線の選択は、アドレス信号の2段レベル復
号により実行される。第1レベルであるとして知られて
いる8つの信号の中の1つは、各パケットの8つのビッ
ト線の中の1つを選択するためにトリガされ、一方、第
2レベルであるとして知られている8つの信号の中の1
つをトリガすることは、8つのパケットの中の1つを選
択することになる。上記の第1および第2レベル信号
は、一般にビット線に直列に配置されかつメモリーセル
の読み取り回路にビット線を接続するトランジスタを駆
動する。
ビット線の選択もまた2段レベルの選択信号により実行
され、ここで第1レベルの信号は1群を構成する冗長ビ
ット線の中の1つの選択を実行し、一方、1つの第2レ
ベル信号は読み取り回路への冗長ビット線の群の接続を
実行する。冗長回路は、冗長ビット線に関係する第1お
よび第2レベル信号のトリガを実行し、かつ同時に、欠
陥メモリーセルを含むマトリクスのビット線を選択する
信号のトリガを禁止する。
素子のレイアウトの設計にある種の問題を課している。
メモリーセルをプログラムするために、実際には、上述
のマトリクスのビット線の各々のパケットならびに冗長
ビット線がプログラムロード回路に結合されている。こ
のプログラムロード回路はトランジスタを有し、このト
ランジスタは、単一メモリーセルに記憶されるべきデー
タに従って、第1レベル信号により選択されたビット線
をプログラミング電圧に接続する。そのプログラミング
のためにメモリーセルにより必要とされる電流は一般に
かなり高いため、上記のトランジスタの寸法はそれに従
ってかなりのものになる。
チが例えば8ビット線であるマトリクスビット線のパケ
ットと結合されたトランジスタに対して、特殊な問題を
提起することはない。しかし、冗長ビット線の群は一般
に少数のビット線により構成されているため、対応する
プログラミングトランジスタの設計に利用可能な空間は
制限され、かつその寸法あるいはその設計に不規則性を
導入する必要がある。
れはマトリクスビット線のパケットと冗長ビット線の群
の完全な複合構成が、前に述べたようなタイプの単一ロ
ード回路に結合されている。この第2のタイプのアーキ
テクチャーでは、前記の第1のタイプのアーキテクチャ
ーに見いだされた問題は起きない。というのは、2つの
連続するプログラミングトランジスタ間のピッチが多く
のビット線からなるからである。
ジスタは、もはや、第1レベル選択トランジスタのみを
通して選択ビット線に接続されるのなはなく、第1レベ
ル選択トランジスタと第2レベル選択トランジスタとの
接続を通して接続される。このことは第2レベル選択ト
ランジスタの両端の電圧の付加的降下のため、プログラ
ムされるべきメモリーセルのドレインにかかるプログラ
ミング電圧の調整を制限する。さらに、第2レベル選択
トランジスタの両端の電圧のこの付加的降下を制限する
ために、第2レベル選択信号がプログラミング電圧より
高い値を有することが必要であり、その結果として復号
回路を複雑化する。
かのビットを同時にプログラムするのが通例であるか
ら、この第2アーキテクチャーにおいて、プログラミン
グトランジスタは複数のビット線を同時に駆動できなけ
ればならない。このことはその寸法が、前に述べたタイ
プのアーキテクチャーのプログラミングトランジスタの
寸法より大きくなければならないことを意味し、したが
ってレイアウトの問題が生起することもあり得る。
の観点から、本発明の目的は、冗長動作に上述の問題が
入た込まないようなマトリクスアーキテクチャーを持つ
半導体メモリーを製造することにある。
クスそれ自身の行と列の交点に位置するメモリーセルか
らなるマトリクスを具え、このメモリーセルの1つの列
はパケットにグループ化され、このパケットはセクタに
順次グループ化され、このセクタは全体として上記のマ
トリクス自体を形成しており、そして、各パケット内の
特定の列を選択する第1レベル選択手段、各セクタ内の
特定のパケットを選択する第2レベル選択手段、少なく
とも1つの欠陥メモリーセルを含む列の置換に適した冗
長メモリーセルの列、および上述の置換を実行する制御
回路を具える半導体メモリーで、上記の冗長セル列の各
々がメモリーセル列の各パケットに含まれることを特徴
とする半導体メモリーセルによって前記の目的が達成さ
れる。
プログラムする特定ロード回路を具える必要がないメモ
リーセルのマトリクスを製造することが可能であること
が明らかになった。それは、冗長列が列のパケットのロ
ード回路に接続されているからである。これはメモリー
マトリクスのレイアウトの観点から本質的な利点を有し
ている。
付図面に非限定的な実例として例示された一実施例に基
づいて以下に詳細に説明する。図1はメモリーセルを示
す図であり、このメモリーセクタは、データ入出力線に
関係するメモリーセルのマトリクスの部分を表し、かつ
列あるいはビット線の所与の数(例えば8)のパケット
1に分割されている。パケット1の各々は、例えば8本
のマトリクスビット線BLと1つの冗長ビット線BLR
から順次構成されている。したがって、各セクタが64+
8のビット線から構成されることになる。
に、ビット線BLを選択するトランジスタMS、例えば
そのソースがビット線BLそれ自身に接続されているn
チャネルMOSトランジスタが存在し、冗長ビット線B
LRは、冗長ビット線BLR自身を選択するトランジス
タMSRのソースに順次接続されている。任意の1つの
パケット1のトランジスタMSおよびMSRのドレイン
は互いに短絡され、一方、それらのゲートは8つの信号
YN0−YN7および信号YNRにそれぞれ接続され、
その第1の信号はアドレス信号を復号する回路(図示さ
れていない)から到来し、第2の信号は欠陥メモリーセ
ルに対応するアドレス信号を認識する回路6(図2)に
より発生される。8つの信号YN0−YN7と信号YN
Rは第1レベルの選択を構成している。
MSおよびMSRの共通ドレインに対しても、図示され
ているパケット1の8つのビット線の中からそのいずれ
かを選択するトランジスタMSPのソースが接続され、
そのドレインは、そのセクタの他の7つのパケット1に
関係する7つの他のトランジスタMSPのドレインと短
絡され、さらにメモリーセルの情報内容を読み取るため
の回路2に接続されている。トランジスタMSPのゲー
トは、図2に示されるように、アドレス信号の別の復号
回路7から到来する8つの信号YM0−YM7に接続さ
れている。
およびMSRの共通ドレインに対して、プログラミング
のためのロード回路3が接続されている。このロード回
路は、pチャネルMOS型トランジスタMP1で構成さ
れ、そのドレインがトランジスタMSおよびMSRの上
述の共通ドレインに接続され、そのソースがプログラミ
ング電圧VPの線に接続され、かつそのゲートがナンド
論理機能を遂行する回路4の出力に接続されている。
型ロードトランジスタM41を含んでおり、そのソースは
電圧VPの線に接続され、そのドレインはトランジスタ
MP1のゲートに接続され、そのゲートはアース電位に
接続されている。トランジスタM41のドレインに対し
て、トランジスタM42のドレインが接続され、そしてト
ランジスタM42のソースに対して、トランジスタM43の
ドレインが接続され、トランジスタM43のソースはアー
ス電位に接続されている。トランジスタM42のゲートに
対して、8つの信号YM0−YM7の1つが接続され、
一方、トランジスタM43のゲートに対して、選択された
メモリーセルでプログラムされるべきデータを表す信号
DINが接続されている。
YNRを発生する制御回路5,6,7を示す。それは、
2つの入力線群を有するマルチプレクサ5を具え、その
入力線は、アドレス信号ADDのサブシステムA0−A
2と回路6の出力N0−N2とにそれぞれ接続され、修
復されたアドレスを認識する。上記の認識回路6(それ
自体は既知である)は、入力としてアドレス信号ADD
を順次受信し、マルチプレクサ5の制御入力CTLに接
続されている冗長動作を可能にする出力信号ENRおよ
び出力信号YNRを出力する。マルチプレクサ5は、最
後に、復号回路7(これもそれ自体は既知である)のパ
ケット1の選択のための多数の入力を構成する3つの出
力線C0−C2を具え、復号回路7の8つの出力は第2
レベル選択信号YM0−YM7を構成している。
読み取るために、アドレス信号ADDが修復されたアド
レスを認識する回路6の入力の両端間に現れる。認識回
路は、現在のアドレスが、メモリー試験ステップの間に
以前に記憶された欠陥セルのアドレスには対応せず、信
号ENRをトリガしないことを認識する。その結果、マ
ルチプレクサ5は、アドレス信号ADDのサブシステム
A0−A2をその出力C0−C2に与え、その信号A0
−A2は、ビット線BLのパケット1の1つを選択する
8つの信号YM0−YM7の1つをトリガする目的で回
路7により復号される。同時に、選択されたパケット1
の中のビット線BLを選択するために信号YN0−YN
7の1つがトリガされる。このようにして、選択された
メモリーセルのドレインに読み取り回路2が接続され、
かつその結果としてデータの読み取りが実行される。
合も同じようにする。しかし、この場合、記憶すべきデ
ータを構成する信号DINの結果として、選択されたビ
ット線BLはプログラミング電圧VPに接続される。事
実、もし信号DINが活性なら、トランジスタM43はオ
ンである。例えば信号YM0により選択されたパケット
1に関係するロード回路3は活性のナンド回路4の入力
DINおよびYM0の双方を有し、上記のナンド回路4
の出力はアース電位になり、かつそのゲートが上記のナ
ンド回路4の出力に接続されているプログラミングトラ
ンジスタMP1はオンになる。このことは選択されたビ
ット線BLがプログラミング電圧VPになることを意味
する。
のアクセスがその内容の読み取りあるいはそのプログラ
ミングのいずれかで試みられるなら、回路6はアドレス
信号ADDの組合せが欠陥セルのアドレスに対応するこ
とを認識する。回路6は、次に信号ENRをトリガし、
信号ENRはマルチプレクサ5の出力を信号N0−N2
に切り替える。この信号N0−N2は、回路6それ自身
に由来し、かつ欠陥マトリクスセルを含むビット線BL
を置換した冗長ビット線BLRの選択に有用なアドレス
を符号化形式で伝える。
号は、欠陥ビット線BLを置換した冗長ビット線BLR
を含むパケット1の選択に適した8つの信号YM0−Y
M7の1つをトリガすることを保証する。同時に、回路
6は信号YNRをトリガし、一方、全ての信号YN0−
YN7は非活性化され、従って対応する信号YM0−Y
M7により選択されたパケット1内で冗長ビット線BL
Rが選択される。
ドレス信号ADDのサブシステムA0−A2の組合せに
リンクされない信号YM0−YM7の発生に使用される
特殊なタイプの復号により、欠陥セルを含むビット線B
Lを同じセクタの8つのビット線BLRのいずれかで置
換することができる。この場合、欠陥ビット線BLが属
するパケット1のビット線は置換の対象にならない。事
実、もし信号YM0−YM7の発生に従来の複号回路が
使用され、信号YM0−YM7が信号A0−A2から出
発して常時発生されるなら、欠陥ビット線BLは、ビッ
ト線BLと同じパケット1に属する冗長ビット線BLR
によってのみ置換されることになる。このことは、パケ
ット1に2つ以上の欠陥ビット線BLが存在する場合に
は、他のパケット1には他の冗長ビット線BLRがなお
存在するにも拘わらず、常に全てのメモリーを廃棄しな
ければならないという望ましくない結果を生じる。
ト線BLRの選択のために、マトリクスのビット線BL
の選択に通常必要な信号YN0−YN7およびYM0−
YM7の全体に対して、ただ1つの付加信号YNRのみ
が必要であるに過ぎないということは注目されるべきこ
とである。ちなみに、以前の冗長動作の具体例では、冗
長ビット線BLRと同じ数の個別の選択信号が必要であ
った。
ーマトリクスのセクタを示す図である。
属するビット線のパケットの選択手段を構成する回路の
ブロック図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 メモリーセルが行と列(BL)の交点に
位置したメモリーセルのマトリクスを具え、メモリーセ
ルの列(BL)はパケット(1)にグループ化され、こ
のパケット(1)はセクタに順次グループ化され、セク
タは全体として該マトリクスを形成しており、かつ各パ
ケット(1)内の特定の列(BL)を選択するための第
1レベル選択手段(MS)と、各セクタ内の特定のパケ
ット(1)を選択するための第2レベル選択手段(MS
P)と、少なくとも1つの欠陥メモリーセルを含む列
(BL)を置換するのに適した冗長メモリーセルの列
(BLR)とを具え、該冗長セル列(BLR)の各々は
メモリーセル列(BL)の各パケット(1)に含まれ、
かつ該冗長セル列(BLR)の各々は該冗長セル列(B
LR)が属するパケット(1)のメモリーセル列(B
L)に代わって該冗長セル列(BLR)の1つを選択す
るための選択手段(MSR)を具えており、さらに該第
2レベル選択手段(MSP)を駆動するための第2レベ
ル選択信号(YM0−YM7)を発生するパケットアド
レス信号(C0−C2)を供給する復号回路(7)、お
よび、冗長セル列(BLR)により欠陥メモリーセル列
(BL)の置換を実行する制御回路(5,6)を具える
半導体メモリーにおいて、 該制御回路(5,6)が、各欠陥メモリーセル列(B
L)と各置換冗長セル列(BLR)のアドレスを記憶
し、かつメモリーに外部から供給されるアドレス信号
(ADD)と欠陥メモリーセル列(BL)のアドレスと
を比較するための認識回路(6)を具備し、さらに該制
御回路(5,6)が、外部から供給されるアドレス信号
(ADD)が欠陥メモリーセル列(BL)に対応しない
かあるいは対応するかを認識回路(6)が認識し、それ
ぞれの場合に応じて、外部から供給されるアドレス信号
(ADD)のサブシステム(A0−A2)によるか、あ
るいは1つの冗長セル列(BLR)のアドレスのサブシ
ステムを表す認識回路(6)により供給される信号(N
0−N2)によるか、いずれかにより表されたパケット
アドレス信号(C0−C2)を該復号回路(7)に供給
するように認識回路(6)により制御されるスイッチン
グ手段(5)を具備することを特徴とする半導体メモリ
ー。 - 【請求項2】 前記スイッチング手段(5)が、外部か
ら供給されるアドレス信号(ADD)の前記サブシステ
ム(A0−A2)を供給する第1入力チャネルと、1つ
の冗長セル列(BLR)のアドレスの前記サブシステム
(N0−N2)を供給する第2入力チャネルと、前記パ
ケットアドレス信号(C0−C2)を復号回路(7)に
供給する出力チャネルと、認識回路(6)により供給さ
れる制御信号(ENR)を供給する制御入力(CTL)
とを具備するマルチプレクサにより構成されることを特
徴とする請求項1に記載の半導体メモリー。 - 【請求項3】 前記第1レベル選択手段(MS)および
第2レベル選択手段(MSP)がトランジスタにより実
現されることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモ
リー。 - 【請求項4】 各セクタの各パケット(1)が、メモリ
ーセルをプログラムするためのロード回路(3)と結合
されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体メ
モリー。 - 【請求項5】 同じセクタの前記パケット(1)の各々
が前記冗長列(BLR)の1つを含むことを特徴とする
請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体メモリ
ー。
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