JPH06260899A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH06260899A
JPH06260899A JP4426693A JP4426693A JPH06260899A JP H06260899 A JPH06260899 A JP H06260899A JP 4426693 A JP4426693 A JP 4426693A JP 4426693 A JP4426693 A JP 4426693A JP H06260899 A JPH06260899 A JP H06260899A
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Sumiyuki Kamikizaki
純幸 上木崎
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】発振回路を含む半導体集積回路のテスト時に、
電流制限用抵抗による入出力信号間の遅延歪を低減する
ことにより、当該テスト環境条件を改善する。 【構成】ソースが電源に接続され、ドレインが反転増幅
器5の高電位側に接続されるPMOSトランジスタ1
と、ゲートが制御信号入力端子52にされるNMOSト
ランジスタ8と、NMOSトランジスタ8のドレインと
ソース間に並列接続される電流制限用抵抗9と、PMO
S側ゲートが制御信号入力端子52に接続され、NMO
S側ゲートがPMOSトランジスタ1のゲートに接続さ
れて、信号入力端子51と出力端子53との間に挿入接
続されるトランスファーゲート4と、トランスファーゲ
ート4のPMOS側ゲート及びNMOS側ゲートに接続
されるインバータ3を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の発振回路を形成する半導体集積回
路は、図4(a)に回路図が示されるように、外部入力
端子51、制御信号入力端子52および出力端子53に
対応して、電流制限用抵抗32および38と、インバー
タ33と、トランスファーゲート34と、PMOSトラ
ンジスタ36およびNMOSトランジスタ37を含む反
転増幅器35とを備えて構成されている。
【0003】図4(a)において、当該半導体集積回路
の動作テストを行う際には、発振回路の発振動作を停止
させ、外部より安定したクロック信号波形が入力され
る。この場合には、発振回路の発振を停止させるため
に、帰還抵抗として用いられているトランスファーゲー
ト34を、制御信号入力端子52より入力されるテスト
モード信号により遮断状態とする。これにより、反転増
幅器35は単なるインバータとしての機能を有する状態
となり、外部入力端子51より入力されるクロック信号
は、この反転増幅器35により反転されて出力端子53
より出力される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路においては、外部から入力されるテスト用のク
ロック信号が、反転増幅器35における電流制限用抵抗
32、38およびPMOSトランジスタ36およびNM
OSトランジスタ37を含む抵抗成分と、配線容量等と
により、下記の式に見られように、比較的に大きい時定
数を有する状態となる。
【0005】 τ1 =C・r1 …………………………………(1) r1 :電流制限用抵抗を含む抵抗成分 C:抵抗の持つ容量成分+MOSトランジスタのドレイ
ン容量 図4(b)に示されるのは、上記の時間遅延τ1 による
入力信号と出力信号との動作波形を示している。即ち、
当該時定数の影響による時間遅延τ1 の値が大きいため
に、半導体集積回路の動作テストを行う場合に、当該テ
ストを正常に実施することが困難であるという欠点があ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体集積
回路は、ソースが高電位側電源に接続され、ドレインが
所定の反転増幅器の高電位側に接続される第1のPMO
Sトランジスタと、前記第1のPMOSトランジスタの
ソースとドレイン間に並列接続される第1の電流制限用
抵抗と、ソースが前記第1のPMOSトランジスタのド
レインに接続され、ゲートが信号入力端子に接続され
て、ドレインが出力端子に接続される第2のPMOSト
ランジスタと、ドレインが前記出力端子に接続され、ゲ
ートが前記信号入力端子に接続されて、前記第2のPM
OSトランジスタとともに前記反転増幅器を形成する第
1のNMOSトランジスタと、ドレインが前記第1のN
MOSトランジスタのソースに接続され、ゲートが制御
信号入力端子に接続されて、ソースが低電位側電源に接
続される第2のNMOSトランジスタと、前記第2のN
MOSトランジスタのドレインとソース間に並列接続さ
れる第2の電流制限用抵抗と、PMOS側ゲートが前記
制御信号入力端子に接続され、NMOS側ゲートが前記
第1のPMOSトランジスタのゲートに接続されて、前
記信号入力端子と前記出力端子との間に挿入接続される
トランスファーゲートと、入力側が前記トランスファー
ゲートのPMOS側ゲートに接続され、出力側が前記ト
ランスファーゲートのNMOS側ゲートに接続されるイ
ンバータとを備えて構成されることを特徴としている。
【0007】また、第2の発明の半導体集積回路は、ソ
ースが高電位側電源に接続され、ゲートが信号入力端子
に接続される第1のPMOSトランジスタと、ソースが
前記第1のPMOSトランジスタのドレインに接続さ
れ、ドレインが出力端子に接続される第2のPMOSト
ランジスタと、前記第2のPMOSトランジスタのソー
スとドレイン間に並列接続される第1の電流制限用抵抗
と、ドレインが前記出力端子に接続され、ゲートが制御
信号入力端子に接続される第1のNMOSトランジスタ
と、前記第1のNMOSトランジスタのドレインとソー
ス間に並列接続される第2の電流制限用抵抗と、ドレイ
ンが前記第1のNMOSトランジスタのソースに接続さ
れ、ゲートが前記信号入力端子に接続されて、ソースが
低電位側電源に接続される第2のNMOSトランジスタ
と、PMOS側ゲートが前記制御信号入力端子に接続さ
れ、NMOS側ゲートが前記第2のPMOSトランジス
タのゲートに接続されて、前記信号入力端子と前記出力
端子との間に挿入接続されるトランスファーゲートと、
入力側が前記トランスファーゲートのPMOS側ゲート
に接続され、出力側が前記トランスファーゲートのNM
OS側ゲートに接続されるインバータとを備えて構成さ
れることを特徴としている。
【0008】更に、第3の発明の半導体集積回路は、ソ
ースが高電位側電源に接続され、ドレインが所定の反転
増幅器の高電位側に接続される第1のPMOSトランジ
スタと、前記第1のPMOSトランジスタのソースとド
レイン間に並列接続される第1の電流制限用抵抗と、ソ
ースが前記第1のPMOSトランジスタのドレインに接
続され、ゲートが信号入力端子に接続される第2のPM
OSトランジスタと、ソースが前記第2のPMOSトラ
ンジスタのドレインに接続され、ゲートが前記第1のP
MOSトランジスタのゲートに接続されて、ドレインが
出力端子に接続される第3のPMOSトランジスタと、
前記第3のPMOSトランジスタのソースとドレイン間
に並列接続される第2の電流制限用抵抗と、ドレイン前
記出力端子に接続され、ゲートが制御信号入力端子に接
続される第1のNMOSトランジスタと、前記第1のN
MOSトランジスタのドレインとソース間に並列接続さ
れる第3の電流制限用抵抗と、ドレインが前記第1のN
MOSトランジスタのソースに接続され、ゲートが前記
信号入力端子に接続される第2のNMOSトランジスタ
と、ドレインが前記第2のNMOSトランジスタのソー
スに接続され、ゲートが 前記制御信号入力端子に接続
されて、ソースが低電位側電源に接続される第3のNM
OSトランジスタと、前記第3のNMOSトランジスタ
のドレインとソース間に並列接続される第4の電流制限
用抵抗と、PMOS側ゲートが前記制御信号入力端子に
接続され、NMOS側ゲートが前記第1および第2のP
MOSトランジスタのゲートに接続されて、前記信号入
力端子と前記出力端子との間に挿入接続されるトランス
ファーゲートと、入力側が前記トランスファーゲートの
PMOS側ゲートに接続され、出力側が前記トランスフ
ァーゲートのNMOS側ゲートに接続されるインバータ
とを備えて構成されることを特徴としている。
【0009】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0010】図1(a)は本発明の第1の実施例を示す
回路図である。図1(a)に示されるように、本実施例
は、外部入力端子51、制御信号入力端子52および出
力端子53に対応して、PMOSトランジスタ1および
6と、電流制限用抵抗2および9と、インバータ3と、
トランスファーゲート4と、PMOSトランジスタ6お
よびNMOSトランジスタ7を含む反転増幅器5と、N
MOSトランジスタ8とを備えて構成される。
【0011】図1(a)において、当該半導体集積回路
の動作テストを行う際には、発振回路の発振動作を停止
させるために、制御信号入力端子52よりハイレベルの
テストモード信号が入力される。これにより、トランス
ファーゲート4はインアクティブとなり回路が遮断され
る。これによりトランスファーゲート4の帰還抵抗とし
ての役割りが停止されて、PMOSトランジスタ6およ
びNMOSトランジスタ7を含む反転増幅器5は単なる
インバータとしての役割りを果す状態となる。また、上
記テストモード信号入力により、PMOSトランジスタ
1およびNMOSトランジスタ8は共にアクティブとな
り、オンの状態となる。従ってPMOSトランジスタ1
およびNMOSトランジスタ8がオンの状態になること
により、電流制限用抵抗2および9は、これらのMOS
トランジスタによりバイパスされて、その合成抵抗は比
較的小さい数値となり、本実施例においては、下記(2)
式に示される時定数τ2 が介在する状態となる。
【0012】 τ2 =C・r1 ・r2 /(r1 +r2 )…………(2) r1 :PMOSトランジスタ1と電流制限用抵抗2を含
む抵抗成分 r2 :NMOSトランジスタ8と電流制限用抵抗9を含
む抵抗成分 C:抵抗の持つ容量成分+MOSトランジスタのドレイ
ン容量 (1) 式における時定数τ1 の値と、(2) 式における時定
数τ2 の値とを対比して明らかなように、時定数τ2
値の方が時定数τ1 の値よりも遥かに十分に小さい値で
あり、従って、当該時定数τ2 による時間遅延は、前述
の従来例に比較して極めて小さい値となる。図1(b)
に示されるのは、上記の時間遅延τ2 による入力信号と
出力信号との動作波形を示しており、当該時定数τ2
影響による時間遅延は極めて小さい量に抑制されて、回
路の動作テストを行う際の障害は回避される。
【0013】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。
【0014】図2は本発明の第2の実施例を示す回路図
である。図2に示されるように、本実施例は、外部入力
端子51、制御信号入力端子52および出力端子53に
対応して、インバータ10と、PMOSトランジスタ1
1と、電流制限用抵抗12および15と、トランスファ
ーゲート13と、NMOSトランジスタ14と、PMO
Sトランジスタ17およびNMOSトランジスタ18を
含む反転増幅器16とを備えて構成される。
【0015】図1(a)との対比により明らかなよう
に、本実施例と第1の実施例との相違点は、図2におけ
るPMOSトランジスタ11と電流制限用抵抗12の並
列回路と、NMOSトランジスタ14と電流制限用抵抗
15の並列回路とが挿入接続される位置が異なるのみで
ある。従って、制御信号入力端子52より入力されるハ
イレベルのテストモード信号により、トランスファーゲ
ート13の帰還抵抗としての役割りが停止されて反転増
幅器16が単なるインバータとなり、また、上記テスト
モード信号入力により、PMOSトランジスタ11およ
びNMOSトランジスタ14が共にオンの状態となり、
電流制限用抵抗12および15がMOSトランジスタに
よりバイパスされて、等価的な時定数が小さい値となっ
て遅延時間が小さい量に抑制され、これにより、回路の
動作テストを行う際の障害が回避される作用について
は、第1の実施例の場合と全く同様であり、その説明は
省略する。
【0016】次に、図3は本発明の第3の実施例を示す
回路図である。図3に示されるように、本実施例は、外
部入力端子51、制御信号入力端子52および出力端子
53に対応して、PMOSトランジスタ19および22
と、電流制限用抵抗20、23,26および31と、イ
ンバータ21と、トランスファーゲート24と、NMO
Sトランジスタ25および30と、PMOSトランジス
タ28およびNMOSトランジスタ29を含む反転増幅
器27とを備えて構成される。
【0017】図2との対比により明らかなように、本実
施例と第2の実施例との相違点は、図3においては、反
転増幅器27の電源側に、新たにPMOSトランジスタ
19と電流制限抵抗20の並列回路が挿入接続され、ま
た当該反転増幅器27の接地側に、同様にNMOSトラ
ンジスタ30と電流制限抵抗31の並列回路が挿入接続
されていることである。この第3の実施例においても、
第2の実施例の場合と同様に、制御信号入力端子52よ
り入力されるハイレベルのテストモード信号により、ト
ランスファーゲート24の帰還抵抗としての役割りが停
止されて反転増幅器27が単なるインバータとなり、ま
た、上記テストモード信号入力により、PMOSトラン
ジスタ19および22と、NMOSトランジスタ25お
よび30が全てオンの状態となり、電流制限用抵抗2
0、23、26および31が、それぞれ並列に接続され
るMOSトランジスタによりバイパスされて、等価的な
時定数が小さい値となって遅延時間が小さい量に抑制さ
れ、これにより、回路の動作テストを行う際の障害が回
避される作用については、第1および第2の実施例の場
合と全く同様である。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、電流制
限抵抗に並列にMOSトランジスタを接続し、回路動作
のテスト時に、所定のテストモード信号を介して発振回
路の帰還抵抗を形成するトランスファーゲートを遮断し
て発振を停止させるとともに、前記並列接続されるMO
Sトランジスタをオンの状態に設定して等価的な抵抗値
を低減させ、テスト時における入出力信号間の歪ならび
に遅延時間を低減して、半導体集積回路に対する良好な
テスト環境条件を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図および入出
力信号波形図である。
【図2】本発明の第2の実施例を示す回路図である。
【図3】本発明の第3の実施例を示す回路図である。
【図4】従来例を示す回路図および入出力信号波形図で
ある。
【符号の説明】
1、6、11、17、19、22、28、36 PM
OSトランジスタ 2、9、12、15、20、23、26、31、32、
38 電流制限用抵抗 3、10、21 インバータ 4、13、24、34 トランスファーゲート 5、16、27、35 反転増幅器 7、8、14、18、25、29、30、37 NM
OSトランジスタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ソースが高電位側電源に接続され、ドレ
    インが所定の反転増幅器の高電位側に接続される第1の
    PMOSトランジスタと、 前記第1のPMOSトランジスタのソースとドレイン間
    に並列接続される第1の電流制限用抵抗と、 ソースが前記第1のPMOSトランジスタのドレインに
    接続され、ゲートが信号入力端子に接続されて、ドレイ
    ンが出力端子に接続される第2のPMOSトランジスタ
    と、 ドレインが前記出力端子に接続され、ゲートが前記信号
    入力端子に接続されて、前記第2のPMOSトランジス
    タとともに前記反転増幅器を形成する第1のNMOSト
    ランジスタと、 ドレインが前記第1のNMOSトランジスタのソースに
    接続され、ゲートが制御信号入力端子に接続されて、ソ
    ースが低電位側電源に接続される第2のNMOSトラン
    ジスタと、 前記第2のNMOSトランジスタのドレインとソース間
    に並列接続される第2の電流制限用抵抗と、 PMOS側ゲートが前記制御信号入力端子に接続され、
    NMOS側ゲートが前記第1のPMOSトランジスタの
    ゲートに接続されて、前記信号入力端子と前記出力端子
    との間に挿入接続されるトランスファーゲートと、 入力側が前記トランスファーゲートのPMOS側ゲート
    に接続され、出力側が前記トランスファーゲートのNM
    OS側ゲートに接続されるインバータと、 を備えて構成されることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 ソースが高電位側電源に接続され、ゲー
    トが信号入力端子に接続される第1のPMOSトランジ
    スタと、 ソースが前記第1のPMOSトランジスタのドレインに
    接続され、ドレインが出力端子に接続される第2のPM
    OSトランジスタと、 前記第2のPMOSトランジスタのソースとドレイン間
    に並列接続される第1の電流制限用抵抗と、 ドレインが前記出力端子に接続され、ゲートが制御信号
    入力端子に接続される第1のNMOSトランジスタと、 前記第1のNMOSトランジスタのドレインとソース間
    に並列接続される第2の電流制限用抵抗と、 ドレインが前記第1のNMOSトランジスタのソースに
    接続され、ゲートが前記信号入力端子に接続されて、ソ
    ースが低電位側電源に接続される第2のNMOSトラン
    ジスタと、 PMOS側ゲートが前記制御信号入力端子に接続され、
    NMOS側ゲートが前記第2のPMOSトランジスタの
    ゲートに接続されて、前記信号入力端子と前記出力端子
    との間に挿入接続されるトランスファーゲートと、 入力側が前記トランスファーゲートのPMOS側ゲート
    に接続され、出力側が前記トランスファーゲートのNM
    OS側ゲートに接続されるインバータと、 を備えて構成されることを特徴とする半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 ソースが高電位側電源に接続され、ドレ
    インが所定の反転増幅器の高電位側に接続される第1の
    PMOSトランジスタと、 前記第1のPMOSトランジスタのソースとドレイン間
    に並列接続される第1の電流制限用抵抗と、 ソースが前記第1のPMOSトランジスタのドレインに
    接続され、ゲートが信号入力端子に接続される第2のP
    MOSトランジスタと、 ソースが前記第2のPMOSトランジスタのドレインに
    接続され、ゲートが前記第1のPMOSトランジスタの
    ゲートに接続されて、ドレインが出力端子に接続される
    第3のPMOSトランジスタと、 前記第3のPMOSトランジスタのソースとドレイン間
    に並列接続される第2の電流制限用抵抗と、 ドレイン前記出力端子に接続され、ゲートが制御信号入
    力端子に接続される第1のNMOSトランジスタと、 前記第1のNMOSトランジスタのドレインとソース間
    に並列接続される第3の電流制限用抵抗と、 ドレインが前記第1のNMOSトランジスタのソースに
    接続され、ゲートが前記信号入力端子に接続される第2
    のNMOSトランジスタと、 ドレインが前記第2のNMOSトランジスタのソースに
    接続され、ゲートが前記制御信号入力端子に接続され
    て、ソースが低電位側電源に接続される第3のNMOS
    トランジスタと、 前記第3のNMOSトランジスタのドレインとソース間
    に並列接続される第4の電流制限用抵抗と、 PMOS側ゲートが前記制御信号入力端子に接続され、
    NMOS側ゲートが前記第1および第2のPMOSトラ
    ンジスタのゲートに接続されて、前記信号入力端子と前
    記出力端子との間に挿入接続されるトランスファーゲー
    トと、 入力側が前記トランスファーゲートのPMOS側ゲート
    に接続され、出力側が前記トランスファーゲートのNM
    OS側ゲートに接続されるインバータと、 を備えて構成されることを特徴とする半導体集積回路。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107728042A (zh) * 2017-11-13 2018-02-23 睿力集成电路有限公司 具有保护测试的集成电路及其测试方法
CN115001303A (zh) * 2022-08-03 2022-09-02 广东汇芯半导体有限公司 半导体电路

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CN107728042B (zh) * 2017-11-13 2023-08-22 长鑫存储技术有限公司 具有保护测试的集成电路及其测试方法
CN115001303A (zh) * 2022-08-03 2022-09-02 广东汇芯半导体有限公司 半导体电路

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