JPH06236510A

JPH06236510A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH06236510A
Application number: JP3849593A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Sakata; 勝美坂田; Hironari Eguchi; 裕也江口; Tatsuo Hisamura; 達雄久村; Yoichi Inmaki; 洋一印牧
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-12-16
Filing date: 1993-02-26
Publication date: 1994-08-23

Abstract

(57)【要約】【目的】アジマス角が大きくても磁気コア断面積が十
分確保できるヘッド効率の高い磁気ヘッドを提供する。【構成】ヘッド走行方向に対して斜めに配された金属
磁性薄膜１，２を有してなる磁気コア３，４が、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜１，２同士を突合わ
せて当該金属磁性薄膜１，２間に磁気ギャップｇを形成
してなる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する
磁気記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外
のバック部が酸化物磁性材料からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）等に搭載される磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ等に使用
される磁気ヘッドとしては、図２８に示すように、クロ
ストークの低減を図ることを目的としてアジマスを持っ
た磁気ヘッドが提案されている。かかる磁気ヘッドは、
例えば非磁性材料からなる磁気コア１０１，１０２にセ
ンダスト等よりなる金属磁性薄膜１０３，１０４が磁気
ギャップ面に対して斜めに配され、その金属磁性薄膜１
０３，１０４の突合わせ面間に記録再生ギャップとして
動作する磁気ギャップｇを形成し、これら金属磁性薄膜
１０３，１０４のみによって閉磁路を構成するようにな
っている。

【０００３】ところで、上記構成の磁気ヘッドを作製す
るには、以下の工程順に従って行われる。先ず、図２９
（ａ）に示すように、長方形状よりなる非磁性基板１０
５を作製し、その一面に金属磁性薄膜１０６を同図
（ｂ）に示すように成膜する。次に、上記金属磁性薄膜
１０６が形成された非磁性基板１０５を複数形成した
後、これら非磁性基板１０５を図３０に示すように重ね
合わせ接合一体化する。

【０００４】次に、図３１に示すように、その接合一体
化された接合ブロック１０７の長手方向の両端縁側にコ
イルを巻装するための巻線溝１０８，１０９をそれぞれ
形成するとともに、その中央にブロック切断用の分断予
備溝１１０を形成する。次いで、上記接合ブロック１０
７を上記分断予備溝１１０の中央から切断して二分す
る。

【０００５】そして、二分された積層ブロック１１１，
１１２を、図３２に示すように、互いの金属磁性薄膜１
０６，１０６同士が一致するように重ね合わせ、融着ガ
ラスによって接合一体化する。次に、その接合一体化さ
れたブロックに対して、磁気記録媒体に対する当たりを
確保するために円筒研磨を施す。

【０００６】そして最後に、上記接合ブロックを、所定
のヘッドチップ形状となるように切断する。チップ切断
するに際しては、図３３中線ａ−ａ及び線ｂ−ｂで示す
位置で磁気ギャップｇに付与するアジマス角θ₁と同じ
カッティング角度α₁を持って斜めに切断する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図３４
（ａ）に示すように、アジマス角θ₁が小さい場合（逆
の見方をすれば、カッティング角度α₁が小さい場合）
には、同図（ｂ）中線ｃ−ｃで示す巻線溝１０８，１０
９が設けられる部分における金属磁性薄膜１０６，１０
６の断面積は、同図（ｃ）に示すように十分ある。

【０００８】しかしながら、図３５（ａ）に示すよう
に、アジマス角θ₂が大きくなってくると、同図（ｂ）
における巻線溝部分における金属磁性薄膜１０６，１０
６の断面積が同図（ｃ）に示すように極度に少なくな
り、磁束の流れが妨げられる。すなわち、金属磁性薄膜
１０６，１０６のコア断面積が減少することによって、
巻線溝付近の磁気抵抗が増大することになり、結果とし
て磁気ヘッドの記録再生効率が低下する。

【０００９】今後、磁気記録の分野では、高密度記録の
ために狭トラック化及び高帯域化が進むにつれて隣接ク
ロストークを減少させる必要があり、アジマス角は増大
する傾向にある。この結果、磁気コア断面積の確保がさ
らに困難なものとなり、益々ヘッド効率（ヘッド出力）
の低下が避けられなくなる。

【００１０】そこで本発明は、かかる従来の技術的な実
情に鑑みて提案されたものであって、アジマス角が大き
くても磁気コア断面積が確保できるヘッド効率の高い高
密度記録用の磁気ヘッドを提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、ヘッド走行方向に対して斜めに配され
た金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当
該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺
動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバック部が酸
化物磁性材料からなることを特徴とする。

【００１２】また本発明は、ヘッド走行方向に対して斜
めに配された金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コア
が、互いの突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突
合わせて当該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成して
なる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気
記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバ
ック部が非磁性材料と酸化物磁性材料からなることを特
徴とする。

【００１３】さらに本発明は、磁気ギャップ面に対して
金属磁性薄膜が略直交して配されていることを特徴とす
る。

【００１４】そしてさらに本発明は、請求項２記載の磁
気ヘッドにおいて、金属磁性薄膜を境として左右のコア
のうちコア体積が大きい方が非磁性材料と酸化物磁性材
料からなり、コア体積が小さい方が非磁性材料からなる
ことを特徴とする。

【００１５】

【作用】本発明の磁気ヘッドにおいては、アジマス角が
大きくなされることにより金属磁性薄膜のコア断面積が
減少した場合でも、非磁性材料よりなる磁気記録媒体摺
動面部以外のバック部が酸化物磁性材料又は酸化物磁性
材料と非磁性材料からなるので、磁気コア断面積が確保
され、磁気抵抗の増加が抑制されてヘッド効率が向上す
る。

【００１６】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、金
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、磁気
コア断面積が確保される。これにより、磁気抵抗の増加
が抑制されヘッド効率が向上する。

【００１７】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。実施例１本実施例の磁気ヘッドは、図１に示すように、ヘッド走
行方向に対して斜めに配された金属磁性薄膜１，２を有
してなる一対の磁気コア３，４が、互いの突合わせ面に
呈する金属磁性薄膜１，２の端面同士を突合わせること
により、これら金属磁性薄膜１，２間に記録再生ギャッ
プとして動作するアジマス角θを有した磁気ギャップｇ
を形成し閉磁路を構成するようになっている。

【００１８】上記一対の磁気コア３，４は、いずれも金
属磁性薄膜１，２とこの金属磁性薄膜１，２をその膜厚
方向より挾み込む非磁性材料Ｎと酸化物磁性材料Ｍから
なる複合基板５，６及び７，８とによって構成されてい
る。上記金属磁性薄膜１，２は、磁気ギャップｇが形成
される磁気ギャップ面に対して略直交して設けられ、そ
の突合わせ面に記録再生ギャップとして動作する磁気ギ
ャップｇを形成するようになっている。なお、磁気ギャ
ップ面に対して直交するといっても必ず９０度でなけれ
ばならないというわけではなく、製造工程上の誤差によ
り９０度±１度程度であれば許容される。また、これら
金属磁性薄膜１，２は、いずれも磁気記録媒体が摺接す
る磁気記録媒体摺動面９からバック面１０に至るまで連
続した膜として形成され、全体として見たときにヘッド
走行方向に対して斜交して設けられている。

【００１９】一方、複合基板５，６及び７，８は、上記
金属磁性薄膜１，２の突合わせ面間に形成される磁気ギ
ャップｇのトラック幅Ｔｗを規制するために、磁気記録
媒体摺動面部が非磁性材料Ｎとされるとともに、磁気コ
ア断面積を確保し磁気抵抗の増加を防止することを目的
として、上記磁気記録媒体摺動面部以外のバック部を酸
化物磁性材料Ｍとしている。

【００２０】上記非磁性材料Ｎは、磁気ギャップｇのト
ラック幅Ｔｗを規制するために設けられるものであるか
ら、少なくとも磁気ギャップｇのデプス零位置よりもバ
ック側に形成されている必要がある。バック側といって
もバック面１０近傍部までとすると、磁気コア断面積が
確保できなくなり、磁気抵抗の増加により磁束の流れが
妨げられ記録再生効率が低下する。このため、ヘッド効
率の観点から、上記非磁性材料Ｎを設ける位置を、磁気
ギャップｇのデプス零位置から巻線溝１１，１２の傾斜
面１１ａ，１２ａ内の範囲とすることが望ましい。換言
して言えば、非磁性材料Ｎと酸化物磁性材料Ｍの境界面
を、磁気ギャップｇのデプス零位置から巻線溝１１，１
２の傾斜面１１ａ，１２ａ内の範囲に設定する。

【００２１】なお、上記非磁性材料Ｎと酸化物磁性材料
Ｍとの境界線は、直線である必要はなく、例えば図６に
示すように突合わせ面側よりその反対側の面側に向かっ
て円弧を描くような曲線形状であってもよい。また、直
線の場合でも境界線は、ヘッドチップ底面であるバック
面１０に対して平行である必要はなく非平行であっても
よい。

【００２２】このように構成された磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性薄膜１，２と酸化物磁性材料Ｍとによって
閉磁路が構成されるため、従来の図２８に示す金属磁性
薄膜１０３，１０４のみによって閉磁路を構成する磁気
ヘッドに比べて、記録再生効率，つまりヘッド効率を大
幅に向上させることができる。ヘッド効率が向上するこ
とについては、以下に述べることによる。

【００２３】例えば、リング型の磁気ヘッド２０１の磁
路は、図２中点線で示すようになっている。これを記録
ヘッドとして用いる場合には、図３に示すように巻線２
０２にＮＩなる起磁力が与えられて磁気ギャップｇの両
端にＶ₀なる磁位差が伝達され、この結果ギャップｇ周
辺に上記Ｖ₀に比例した磁界が発生する。なお、Ｖ₀／
ＮＩは、巻線２０２から磁気ギャップｇへの磁位伝達効
率を表す。

【００２４】一方、再生ヘッドとして用いる場合には、
図４に示すように媒体の表面磁束ψｓが磁気ギャップｇ
に与えられ、その一部が巻線２０２と鎖交する有効磁束
ψｈとなる。この場合、ψｈ／ψｓが磁気ギャップｇか
ら巻線２０２への磁束伝達効率を表す。

【００２５】ここで、ヘッド効率αは、磁気ギャップ部
の磁気抵抗をＲｇ，コア磁気抵抗をＲｃ，漏洩磁気抵抗
をＲｌとしたときに、上記Ｖ₀／ＮＩとψｈ／ψｓは等
しく、次式（１）で与えられる。

【００２６】

【数１】

【００２７】また、コア磁気抵抗Ｒｃは、コアの磁路長
をｌｃ，コアの断面積をＳｃ，コアの実効透磁率をμｅ
としたときに、次式（２）で与えられる。

【００２８】

【数２】

【００２９】以上のことから、コアの断面積Ｓｃが小さ
くなると、式（２）からコア磁気抵抗Ｒｃが大きくな
り、その結果、式（１）よりヘッド効率αが低下するこ
とがわかる。

【００３０】また、本実施例の磁気ヘッドでは、アジマ
ス角θが大きくなった場合でも、コア断面積を十分確保
できるので、図２８に示す従来の磁気ヘッドに比べてヘ
ッド効率を大幅に高めることができる。例えば、図５に
示すように、磁気コア２０３の大きさを、チップ長さ１
０００μｍ，チップ厚２２０μｍ，巻線溝深さ１５０μ
ｍ，トラック幅２０μｍとした場合に、本実施例の磁気
ヘッドと従来の磁気ヘッドでのアジマス角５度と１５度
のときの巻線溝近傍部におけるコア断面積をそれぞれ測
定した。その結果を表１に示す。

【００３１】

【表１】

【００３２】かかる表１からわかるように、本実施例の
磁気ヘッドでは、アジマス角を大きくしても、コア断面
積はほとんど変化しない。また、従来の磁気ヘッドに比
べてコア断面積が大幅に大きく、特にアジマス角が１５
度の場合には比較にならないほど、コア断面積が大き
い。したがって、本実施例の磁気ヘッドでは、アジマス
角が大きくなっても、ヘッド効率が低下せず、高密度磁
気記録媒体に対しても良好に記録再生することができ
る。

【００３３】ところで、上述した磁気ヘッドを作製する
には、以下のようにして行う。先ず、図７に示すよう
に、磁性フェライト基板１３と、一対の非磁性基板１
４，１５を用意し、これらの接合面をそれぞれ鏡面加工
する。磁性フェライト基板１３には、例えばＭｎ−Ｚｎ
単結晶フェライト、Ｍｎ−Ｚｎ多結晶フェライト、Ｎｉ
−Ｚｎ単結晶フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ多結晶フェライト
等からなる基板がいずれも使用できる。一方、非磁性基
板１４，１５には、セラミックス、結晶化ガラス、非磁
性酸化物材料等よりなる基板が使用できる。

【００３４】次に、図８に示すように、上記磁性フェラ
イト基板１３の長手方向の両側面に非磁性基板１４，１
５を接合する。上記非磁性基板１４，１５の接合には、
ガラス接合法またはＡｕやＡｇ等を用いる低温金属拡散
接合法が採用できる。

【００３５】そして、その接合一体化された複合ブロッ
ク１６を、図９の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切
断する。この結果、図１０（ａ）に示すように、磁性フ
ェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長方形
状をなす複合基板１７が作製される。次に、図１０
（ｂ）に示すように、上記複合基板１７の両面を鏡面加
工した後、その一方の主面に金属磁性薄膜１８を成膜す
る。

【００３６】金属磁性薄膜１８を成膜する手法として
は、例えばスパッタリング等に代表される真空薄膜形成
技術やメッキ等の湿式成膜技術が採用される。また、こ
の金属磁性薄膜１８には、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ａｌ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８
原子％以下のＣｏ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒ
ｕ，Ａｕ，Ｐｂ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等を一種または数種添加し
た結晶質材料やＣｏ，Ｆｅに主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂの一種または数
種とＮ，Ｏ，Ｃの一種または数種を添加して構成された
微結晶材やＣｏを主としてＺｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｍｏの一種または数種添加して構成されたアモルフ
ァス材等が使用できる。

【００３７】また、上記金属磁性薄膜１８としては、単
層膜であっもよく、或いは渦電流損失を回避するために
ＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｓｉ₃Ｏ₄等の電気的絶縁物と
膜厚の薄い磁性金属膜を交互に積層した積層膜であっも
よい。このようにして成膜された金属磁性薄膜１８は、
鏡面加工された面上に形成されるので、その膜厚が均一
となり電磁変換特性に優れた膜となる。

【００３８】次に、この金属磁性薄膜１８が成膜された
複合基板１７を、数十本まとめて図１１に示すように重
ね合わせて接合一体化する。これら複合基板１７を接合
するには、例えばガラス接合法または低温金属拡散接合
法が使用できる。次いで、接合一体化された積層ブロッ
ク１９に、図１２に示すように、コイルを巻装するため
の巻線溝２０，２１とブロック切断する際の分断予備溝
２２を形成する。

【００３９】巻線溝２０，２１は、非磁性基板１４，１
５の一部にかかるようにして、上記積層ブロック１９の
長手方向の両側縁部分に断面略コ字状をなす溝としてブ
ッロク全体に亘って形成する。一方、分断予備溝２２
は、積層ブロック１９の中央部分に、やはりブロック全
体に亘って長手方向に断面略コ字状の浅い溝として形成
する。

【００４０】しかる後、巻線溝２０，２１が形成された
面１９ａを鏡面加工する。

【００４１】次に、上記積層ブロック１９を図１２中矢
印Ａ−Ａで示す分断予備溝２２のセンター位置で切断し
二分する。そして、その二分された磁気コアブロック２
３，２４の突合わせ面となる面１９ａに、ギャップ膜
（図示は省略する。）を真空薄膜形成技術法を用いて成
膜する。

【００４２】ギャップ接合をガラス接合法で行う場合に
は、ＳｉＯ₂膜を成膜する。ギャップ接合を低温金属拡
散接合法で行う場合には、Ａｕ，Ａｇ等よりなる非磁性
材よりなる膜を成膜する。

【００４３】次に、ギャップ膜が成膜された磁気コアブ
ロック２３，２４を、図１３に示すように、互いの金属
磁性薄膜１８同士が一致するようにして突合わせ、ガラ
ス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化す
る。次いで、磁気記録媒体摺動面となる面を円筒研磨
（Ｒ加工）した後、図１４中破線で示すように磁気ギャ
ップにアジマスを付与するために、この磁気コアブロッ
ク２３，２４を斜めにカッティングする。

【００４４】この結果、図１に示す磁気ヘッドが作製さ
れる。

【００４５】実施例２本実施例の磁気ヘッドは、図１５及び１６に示すよう
に、先の実施例１の磁気ヘッドに対して非磁性材料Ｎよ
りなる磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が非磁性材
料Ｎと酸化物磁性材料Ｍからなる。さらに、各磁気コア
３，４の金属磁性薄膜１，２を境として左右のコアのう
ちコア体積が大きい方が非磁性材料Ｎと酸化物磁性材料
Ｍとされるとともにコア体積が小さい方が非磁性材料Ｎ
のみによって形成されている。

【００４６】このように、磁気記録媒体摺動面部以外の
バック部を酸化物磁性材料Ｍと非磁性材料Ｎの組合せと
し、しかも金属磁性薄膜１，２を境としてコア体積の大
きい方を酸化物磁性材料Ｍと非磁性材料Ｎの組合せとす
ることによって、磁気コアのコア断面積を確保すること
ができる。したがって、この磁気ヘッドにおいては、ア
ジマス角が大きくなったとしても、磁気抵抗の増加を抑
制することができ、ヘッド効率を向上させることができ
る。

【００４７】なお、この磁気ヘッドは、上述の点を除き
先の実施例１の磁気ヘッドと同じ構成である。したがっ
て、同一の構成部分については、その説明を省略する。

【００４８】上記構成の磁気ヘッドを作製するには、以
下のようにして行う。先ず、先の実施例１の磁気ヘッド
を作製する要領で、図１７に示すように磁性フェライト
基板２５と、一対の非磁性基板２６，２７を用意し、こ
れらの接合面をそれぞれ鏡面加工する。ここで用いる磁
性フェライト基板２５と非磁性基板２６，２７には、先
の実施例１で使用した材料がいずれも適用できる。

【００４９】次に、これら磁性フェライト基板２５と非
磁性基板２６，２７の接合面をそれぞれ鏡面加工した
後、図１８に示すようにして、上記磁性フェライト基板
２５の長手方向の両側面に非磁性基板２６，２７を接合
する。そして、その接合一体化された複合ブロック２８
を、図１９の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切断す
る。

【００５０】この結果、図２０（ａ）に示すように、磁
性フェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長
方形状をなす複合基板２９が作製される。

【００５１】次に、図２０（ｂ）に示すように、上記複
合基板２９の両面を鏡面加工した後、その一方の主面に
金属磁性薄膜３０を成膜する。上記金属磁性薄膜３０に
は、やはり先の実施例１の磁気ヘッドと同一の磁性材料
が使用できる。また、このときの金属磁性薄膜３０は、
単層膜または積層膜であっても差し支えない。

【００５２】次いで、図２１（ａ）に示すように、上記
複合基板２９と同一形状の非磁性材料よりなる非磁性基
板３１を複数形成する。そして、この非磁性基板３１の
両面を鏡面加工した後、図２１（ｂ）に示すように一方
の面にのみ金属磁性薄膜３２を成膜する。

【００５３】次に、上記複合基板２９と非磁性基板３１
を交互に数十本配置して、図２２に示すように重ね合わ
せて接合一体化する。次いで、接合一体化された積層ブ
ロック３３に、図２３に示すように、コイルを巻装する
ための巻線溝３４，３５とブロック切断する際の分断予
備溝３６を形成する。

【００５４】巻線溝３４，３５は、複合基板２９の長手
方向に設けられる非磁性基板２６，２７の一部にかかる
ようにして、上記積層ブロック３３の長手方向の両側縁
部分に断面略コ字状をなす溝としてブッロク全体に亘っ
て形成する。一方、分断予備溝３６は、積層ブロック３
３の中央部分に、やはりブッロク全体に亘って長手方向
に断面略コ字状の浅い溝として形成する。

【００５５】しかる後、巻線溝３４，３５が形成された
面３３ａを鏡面加工する。

【００５６】次に、上記積層ブロック３３を、図２３中
矢印線Ｂ−Ｂで示す分断予備溝３６のセンター位置で切
断し二分する。そして、その二分された磁気コアブロッ
ク３７，３８の突合わせ面となる面に、ギャップ膜（図
示は省略する。）を真空薄膜形成技術法を用いて成膜す
る。なお、ギャップ接合は、先の実施例１と同じくガラ
ス接合法または低温金属拡散接合法が採用できる。

【００５７】次に、ギャップ膜が成膜された磁気コアブ
ロック３７，３８を、図２４に示すように、金属磁性薄
膜３０，３２を一列ずらして、各磁気コアブロック３
７，３８の金属磁性薄膜３０，３２同士が一致するよう
にして突合わせる。逆の見方をすれば、非磁性基板３１
と複合基板２９とが相対向するように突合わせる。そし
て、この状態でこれら磁気コアブロック３７，３８を、
ガラス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化
する。

【００５８】次いで、磁気記録媒体摺動面となる面を円
筒研磨（Ｒ加工）した後、図２５中破線で示すように磁
気ギャップにアジマスを付与するために、この磁気コア
ブロック３７，３８を斜めにカッティングする。この結
果、図１５及び図１６に示す磁気ヘッドが作製される。

【００５９】ところで、上述の工程において、図２６
（ａ）に示すようにアジマス角θを小さくしてチップ切
断した場合（つまり、突合わせ面に対して９０゜＋カッ
ティング角度αとして線Ｃ−Ｃ及び線Ｄ−Ｄ位置で切断
した場合）には、同図（ｂ）中線Ｅ−Ｅで示す巻線溝３
４，３５が設けられる部分のコア断面積は同図（ｃ）に
示すように十分確保される。つまり、金属磁性薄膜３
０，３２に加えて酸化物磁性材料Ｍによって十分なコア
断面積が確保される。

【００６０】これに対して、図２７（ａ）に示すように
アジマス角θを大きくしてチップ切断した場合（線Ｆ−
Ｆ及び線Ｇ−Ｇで示すように図２６よりもさらに大きく
した場合）には、同図（ｂ）中線Ｈ−Ｈで示す巻線溝３
４，３５が設けられる部分のコア断面積は同図（ｃ）に
示すように金属磁性薄膜３０，３２が少なくても酸化物
磁性材料Ｍが十分にあるため、コア断面積が十分に確保
される。つまり、本実施例では、アジマス角θが大きく
なっても、巻線溝３４，３５部分における磁気コア断面
積を十分に確保することができるため、磁気抵抗の増大
を抑制することができ、結果として磁気ヘッドの記録再
生効率を高めることができる。

【００６１】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、高密度記録に対応してアジ
マス角を大きくした場合であっても、非磁性材料よりな
る磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が酸化物磁性材
料又は酸化物磁性材料と非磁性材料からなるので、磁気
コア断面積を十分に確保することができ、ヘッド効率を
高めることができる。特に、本発明では、高周波損失の
少ないフェライトを磁路に用いているため、周波数特性
の高い高性能な磁気ヘッドを提供できる。

【００６２】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、金
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、やは
りアジマス角を大きくした場合でも磁気コア断面積を十
分確保することができ、これによりヘッド効率を高める
ことができる。したがって、本発明によれば、高密度記
録用の磁気ヘッドとして使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】ヘッド効率を説明するためのもので、ヘッドの
磁路構成を示す模式図である。

【図３】ヘッド効率を説明するためのもので、記録側効
率を示す回路図である。

【図４】ヘッド効率を説明するためのもので、再生側効
率を示す回路図である。

【図５】従来の磁気ヘッドと本発明の磁気ヘッドのヘッ
ド効率を比較する際に使用した磁気コアの大きさを示す
斜視図である。

【図６】実施例１の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図で
ある。

【図７】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程を
示す斜視図である。

【図８】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工程
を示す斜視図である。

【図９】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、カッティング工程を示す斜視図である。

【図１０】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、（ａ）は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、（ｂ）はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。

【図１１】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。

【図１２】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。

【図１３】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。

【図１４】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。

【図１５】実施例２の磁気ヘッドの斜視図である。

【図１６】実施例２の磁気ヘッドを磁気記録媒体摺動面
よりみた状態を示す平面図である。

【図１７】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程
を示す斜視図である。

【図１８】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工
程を示す斜視図である。

【図１９】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、カッティング工程を示す斜視図である。

【図２０】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、（ａ）は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、（ｂ）はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。

【図２１】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、（ａ）は非磁性基板作製工程を示す斜視図
であり、（ｂ）はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜
する工程を示す斜視図である。

【図２２】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。

【図２３】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。

【図２４】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。

【図２５】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。

【図２６】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程のうち
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくし
て切断した場合を示すもので、（ａ）はその切断位置を
示す図であり、（ｂ）は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、（ｃ）は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。

【図２７】実施例２の磁気ヘッドを製造する工程のうち
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくし
て切断した場合を示すもので、（ａ）はその切断位置を
示す図であり、（ｂ）は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、（ｃ）は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。

【図２８】従来の磁気ヘッドの斜視図である。

【図２９】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、（ａ）は非磁性基板作製工程を示す斜視図であ
り、（ｂ）はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。

【図３０】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、接合ブロック作製工程を示す斜視図である。

【図３１】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視図で
ある。

【図３２】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、積層ブロックの接合工程を示す斜視図である。

【図３３】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視図で
ある。

【図３４】従来の磁気ヘッドを製造する工程のうちヘッ
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくして切
断した場合を示すもので、（ａ）はその切断位置を示す
図であり、（ｂ）は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、（ｃ）は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。

【図３５】従来の磁気ヘッドを製造する工程のうちヘッ
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくして切
断した場合を示すもので、（ａ）はその切断位置を示す
図であり、（ｂ）は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、（ｃ）は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。

【符号の説明】

１，２，１８，３０，３２・・・金属磁性薄膜３，４・・・磁気コア５，６，７，８・・・複合基板１１，１２，２０，２１，３４，３５・・・巻線溝１３，２５・・・磁性フェライト基板１４，１５，２６，２７・・・非磁性基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者印牧洋一東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ヘッド走行方向に対して斜めに配された
金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの突
合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当該
金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺動面部が非磁性
材料よりなり、それ以外のバック部が酸化物磁性材料か
らなることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】ヘッド走行方向に対して斜めに配された
金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの突
合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当該
金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺動面部が非磁性
材料よりなり、それ以外のバック部が非磁性材料と酸化
物磁性材料からなることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項３】磁気ギャップ面に対して金属磁性薄膜が
略直交して配されていることを特徴とする請求項１又は
請求項２記載の磁気ヘッド。
【請求項４】金属磁性薄膜を境として左右のコアのう
ちコア体積が大きい方が非磁性材料と酸化物磁性材料か
らなり、コア体積が小さい方が非磁性材料からなること
を特徴とする請求項２記載の磁気ヘッド。