JPH06236510A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH06236510A JPH06236510A JP3849593A JP3849593A JPH06236510A JP H06236510 A JPH06236510 A JP H06236510A JP 3849593 A JP3849593 A JP 3849593A JP 3849593 A JP3849593 A JP 3849593A JP H06236510 A JPH06236510 A JP H06236510A
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- Japan
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- magnetic
- head
- metal
- recording medium
- thin films
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アジマス角が大きくても磁気コア断面積が十
分確保できるヘッド効率の高い磁気ヘッドを提供する。 【構成】 ヘッド走行方向に対して斜めに配された金属
磁性薄膜1,2を有してなる磁気コア3,4が、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜1,2同士を突合わ
せて当該金属磁性薄膜1,2間に磁気ギャップgを形成
してなる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する
磁気記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外
のバック部が酸化物磁性材料からなる。
分確保できるヘッド効率の高い磁気ヘッドを提供する。 【構成】 ヘッド走行方向に対して斜めに配された金属
磁性薄膜1,2を有してなる磁気コア3,4が、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜1,2同士を突合わ
せて当該金属磁性薄膜1,2間に磁気ギャップgを形成
してなる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する
磁気記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外
のバック部が酸化物磁性材料からなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ(VTR)等に搭載される磁気ヘッドに関する。
コーダ(VTR)等に搭載される磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ等に使用
される磁気ヘッドとしては、図28に示すように、クロ
ストークの低減を図ることを目的としてアジマスを持っ
た磁気ヘッドが提案されている。かかる磁気ヘッドは、
例えば非磁性材料からなる磁気コア101,102にセ
ンダスト等よりなる金属磁性薄膜103,104が磁気
ギャップ面に対して斜めに配され、その金属磁性薄膜1
03,104の突合わせ面間に記録再生ギャップとして
動作する磁気ギャップgを形成し、これら金属磁性薄膜
103,104のみによって閉磁路を構成するようにな
っている。
される磁気ヘッドとしては、図28に示すように、クロ
ストークの低減を図ることを目的としてアジマスを持っ
た磁気ヘッドが提案されている。かかる磁気ヘッドは、
例えば非磁性材料からなる磁気コア101,102にセ
ンダスト等よりなる金属磁性薄膜103,104が磁気
ギャップ面に対して斜めに配され、その金属磁性薄膜1
03,104の突合わせ面間に記録再生ギャップとして
動作する磁気ギャップgを形成し、これら金属磁性薄膜
103,104のみによって閉磁路を構成するようにな
っている。
【0003】ところで、上記構成の磁気ヘッドを作製す
るには、以下の工程順に従って行われる。先ず、図29
(a)に示すように、長方形状よりなる非磁性基板10
5を作製し、その一面に金属磁性薄膜106を同図
(b)に示すように成膜する。次に、上記金属磁性薄膜
106が形成された非磁性基板105を複数形成した
後、これら非磁性基板105を図30に示すように重ね
合わせ接合一体化する。
るには、以下の工程順に従って行われる。先ず、図29
(a)に示すように、長方形状よりなる非磁性基板10
5を作製し、その一面に金属磁性薄膜106を同図
(b)に示すように成膜する。次に、上記金属磁性薄膜
106が形成された非磁性基板105を複数形成した
後、これら非磁性基板105を図30に示すように重ね
合わせ接合一体化する。
【0004】次に、図31に示すように、その接合一体
化された接合ブロック107の長手方向の両端縁側にコ
イルを巻装するための巻線溝108,109をそれぞれ
形成するとともに、その中央にブロック切断用の分断予
備溝110を形成する。次いで、上記接合ブロック10
7を上記分断予備溝110の中央から切断して二分す
る。
化された接合ブロック107の長手方向の両端縁側にコ
イルを巻装するための巻線溝108,109をそれぞれ
形成するとともに、その中央にブロック切断用の分断予
備溝110を形成する。次いで、上記接合ブロック10
7を上記分断予備溝110の中央から切断して二分す
る。
【0005】そして、二分された積層ブロック111,
112を、図32に示すように、互いの金属磁性薄膜1
06,106同士が一致するように重ね合わせ、融着ガ
ラスによって接合一体化する。次に、その接合一体化さ
れたブロックに対して、磁気記録媒体に対する当たりを
確保するために円筒研磨を施す。
112を、図32に示すように、互いの金属磁性薄膜1
06,106同士が一致するように重ね合わせ、融着ガ
ラスによって接合一体化する。次に、その接合一体化さ
れたブロックに対して、磁気記録媒体に対する当たりを
確保するために円筒研磨を施す。
【0006】そして最後に、上記接合ブロックを、所定
のヘッドチップ形状となるように切断する。チップ切断
するに際しては、図33中線a−a及び線b−bで示す
位置で磁気ギャップgに付与するアジマス角θ1 と同じ
カッティング角度α1 を持って斜めに切断する。
のヘッドチップ形状となるように切断する。チップ切断
するに際しては、図33中線a−a及び線b−bで示す
位置で磁気ギャップgに付与するアジマス角θ1 と同じ
カッティング角度α1 を持って斜めに切断する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図34
(a)に示すように、アジマス角θ1 が小さい場合(逆
の見方をすれば、カッティング角度α1 が小さい場合)
には、同図(b)中線c−cで示す巻線溝108,10
9が設けられる部分における金属磁性薄膜106,10
6の断面積は、同図(c)に示すように十分ある。
(a)に示すように、アジマス角θ1 が小さい場合(逆
の見方をすれば、カッティング角度α1 が小さい場合)
には、同図(b)中線c−cで示す巻線溝108,10
9が設けられる部分における金属磁性薄膜106,10
6の断面積は、同図(c)に示すように十分ある。
【0008】しかしながら、図35(a)に示すよう
に、アジマス角θ2 が大きくなってくると、同図(b)
における巻線溝部分における金属磁性薄膜106,10
6の断面積が同図(c)に示すように極度に少なくな
り、磁束の流れが妨げられる。すなわち、金属磁性薄膜
106,106のコア断面積が減少することによって、
巻線溝付近の磁気抵抗が増大することになり、結果とし
て磁気ヘッドの記録再生効率が低下する。
に、アジマス角θ2 が大きくなってくると、同図(b)
における巻線溝部分における金属磁性薄膜106,10
6の断面積が同図(c)に示すように極度に少なくな
り、磁束の流れが妨げられる。すなわち、金属磁性薄膜
106,106のコア断面積が減少することによって、
巻線溝付近の磁気抵抗が増大することになり、結果とし
て磁気ヘッドの記録再生効率が低下する。
【0009】今後、磁気記録の分野では、高密度記録の
ために狭トラック化及び高帯域化が進むにつれて隣接ク
ロストークを減少させる必要があり、アジマス角は増大
する傾向にある。この結果、磁気コア断面積の確保がさ
らに困難なものとなり、益々ヘッド効率(ヘッド出力)
の低下が避けられなくなる。
ために狭トラック化及び高帯域化が進むにつれて隣接ク
ロストークを減少させる必要があり、アジマス角は増大
する傾向にある。この結果、磁気コア断面積の確保がさ
らに困難なものとなり、益々ヘッド効率(ヘッド出力)
の低下が避けられなくなる。
【0010】そこで本発明は、かかる従来の技術的な実
情に鑑みて提案されたものであって、アジマス角が大き
くても磁気コア断面積が確保できるヘッド効率の高い高
密度記録用の磁気ヘッドを提供することを目的とする。
情に鑑みて提案されたものであって、アジマス角が大き
くても磁気コア断面積が確保できるヘッド効率の高い高
密度記録用の磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、ヘッド走行方向に対して斜めに配され
た金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当
該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺
動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバック部が酸
化物磁性材料からなることを特徴とする。
めに、本発明は、ヘッド走行方向に対して斜めに配され
た金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの
突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当
該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺
動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバック部が酸
化物磁性材料からなることを特徴とする。
【0012】また本発明は、ヘッド走行方向に対して斜
めに配された金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コア
が、互いの突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突
合わせて当該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成して
なる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気
記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバ
ック部が非磁性材料と酸化物磁性材料からなることを特
徴とする。
めに配された金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コア
が、互いの突合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突
合わせて当該金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成して
なる磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体が摺接する磁気
記録媒体摺動面部が非磁性材料よりなり、それ以外のバ
ック部が非磁性材料と酸化物磁性材料からなることを特
徴とする。
【0013】さらに本発明は、磁気ギャップ面に対して
金属磁性薄膜が略直交して配されていることを特徴とす
る。
金属磁性薄膜が略直交して配されていることを特徴とす
る。
【0014】そしてさらに本発明は、請求項2記載の磁
気ヘッドにおいて、金属磁性薄膜を境として左右のコア
のうちコア体積が大きい方が非磁性材料と酸化物磁性材
料からなり、コア体積が小さい方が非磁性材料からなる
ことを特徴とする。
気ヘッドにおいて、金属磁性薄膜を境として左右のコア
のうちコア体積が大きい方が非磁性材料と酸化物磁性材
料からなり、コア体積が小さい方が非磁性材料からなる
ことを特徴とする。
【0015】
【作用】本発明の磁気ヘッドにおいては、アジマス角が
大きくなされることにより金属磁性薄膜のコア断面積が
減少した場合でも、非磁性材料よりなる磁気記録媒体摺
動面部以外のバック部が酸化物磁性材料又は酸化物磁性
材料と非磁性材料からなるので、磁気コア断面積が確保
され、磁気抵抗の増加が抑制されてヘッド効率が向上す
る。
大きくなされることにより金属磁性薄膜のコア断面積が
減少した場合でも、非磁性材料よりなる磁気記録媒体摺
動面部以外のバック部が酸化物磁性材料又は酸化物磁性
材料と非磁性材料からなるので、磁気コア断面積が確保
され、磁気抵抗の増加が抑制されてヘッド効率が向上す
る。
【0016】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、金
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、磁気
コア断面積が確保される。これにより、磁気抵抗の増加
が抑制されヘッド効率が向上する。
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、磁気
コア断面積が確保される。これにより、磁気抵抗の増加
が抑制されヘッド効率が向上する。
【0017】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。実施例1 本実施例の磁気ヘッドは、図1に示すように、ヘッド走
行方向に対して斜めに配された金属磁性薄膜1,2を有
してなる一対の磁気コア3,4が、互いの突合わせ面に
呈する金属磁性薄膜1,2の端面同士を突合わせること
により、これら金属磁性薄膜1,2間に記録再生ギャッ
プとして動作するアジマス角θを有した磁気ギャップg
を形成し閉磁路を構成するようになっている。
いて図面を参照しながら詳細に説明する。実施例1 本実施例の磁気ヘッドは、図1に示すように、ヘッド走
行方向に対して斜めに配された金属磁性薄膜1,2を有
してなる一対の磁気コア3,4が、互いの突合わせ面に
呈する金属磁性薄膜1,2の端面同士を突合わせること
により、これら金属磁性薄膜1,2間に記録再生ギャッ
プとして動作するアジマス角θを有した磁気ギャップg
を形成し閉磁路を構成するようになっている。
【0018】上記一対の磁気コア3,4は、いずれも金
属磁性薄膜1,2とこの金属磁性薄膜1,2をその膜厚
方向より挾み込む非磁性材料Nと酸化物磁性材料Mから
なる複合基板5,6及び7,8とによって構成されてい
る。上記金属磁性薄膜1,2は、磁気ギャップgが形成
される磁気ギャップ面に対して略直交して設けられ、そ
の突合わせ面に記録再生ギャップとして動作する磁気ギ
ャップgを形成するようになっている。なお、磁気ギャ
ップ面に対して直交するといっても必ず90度でなけれ
ばならないというわけではなく、製造工程上の誤差によ
り90度±1度程度であれば許容される。また、これら
金属磁性薄膜1,2は、いずれも磁気記録媒体が摺接す
る磁気記録媒体摺動面9からバック面10に至るまで連
続した膜として形成され、全体として見たときにヘッド
走行方向に対して斜交して設けられている。
属磁性薄膜1,2とこの金属磁性薄膜1,2をその膜厚
方向より挾み込む非磁性材料Nと酸化物磁性材料Mから
なる複合基板5,6及び7,8とによって構成されてい
る。上記金属磁性薄膜1,2は、磁気ギャップgが形成
される磁気ギャップ面に対して略直交して設けられ、そ
の突合わせ面に記録再生ギャップとして動作する磁気ギ
ャップgを形成するようになっている。なお、磁気ギャ
ップ面に対して直交するといっても必ず90度でなけれ
ばならないというわけではなく、製造工程上の誤差によ
り90度±1度程度であれば許容される。また、これら
金属磁性薄膜1,2は、いずれも磁気記録媒体が摺接す
る磁気記録媒体摺動面9からバック面10に至るまで連
続した膜として形成され、全体として見たときにヘッド
走行方向に対して斜交して設けられている。
【0019】一方、複合基板5,6及び7,8は、上記
金属磁性薄膜1,2の突合わせ面間に形成される磁気ギ
ャップgのトラック幅Twを規制するために、磁気記録
媒体摺動面部が非磁性材料Nとされるとともに、磁気コ
ア断面積を確保し磁気抵抗の増加を防止することを目的
として、上記磁気記録媒体摺動面部以外のバック部を酸
化物磁性材料Mとしている。
金属磁性薄膜1,2の突合わせ面間に形成される磁気ギ
ャップgのトラック幅Twを規制するために、磁気記録
媒体摺動面部が非磁性材料Nとされるとともに、磁気コ
ア断面積を確保し磁気抵抗の増加を防止することを目的
として、上記磁気記録媒体摺動面部以外のバック部を酸
化物磁性材料Mとしている。
【0020】上記非磁性材料Nは、磁気ギャップgのト
ラック幅Twを規制するために設けられるものであるか
ら、少なくとも磁気ギャップgのデプス零位置よりもバ
ック側に形成されている必要がある。バック側といって
もバック面10近傍部までとすると、磁気コア断面積が
確保できなくなり、磁気抵抗の増加により磁束の流れが
妨げられ記録再生効率が低下する。このため、ヘッド効
率の観点から、上記非磁性材料Nを設ける位置を、磁気
ギャップgのデプス零位置から巻線溝11,12の傾斜
面11a,12a内の範囲とすることが望ましい。換言
して言えば、非磁性材料Nと酸化物磁性材料Mの境界面
を、磁気ギャップgのデプス零位置から巻線溝11,1
2の傾斜面11a,12a内の範囲に設定する。
ラック幅Twを規制するために設けられるものであるか
ら、少なくとも磁気ギャップgのデプス零位置よりもバ
ック側に形成されている必要がある。バック側といって
もバック面10近傍部までとすると、磁気コア断面積が
確保できなくなり、磁気抵抗の増加により磁束の流れが
妨げられ記録再生効率が低下する。このため、ヘッド効
率の観点から、上記非磁性材料Nを設ける位置を、磁気
ギャップgのデプス零位置から巻線溝11,12の傾斜
面11a,12a内の範囲とすることが望ましい。換言
して言えば、非磁性材料Nと酸化物磁性材料Mの境界面
を、磁気ギャップgのデプス零位置から巻線溝11,1
2の傾斜面11a,12a内の範囲に設定する。
【0021】なお、上記非磁性材料Nと酸化物磁性材料
Mとの境界線は、直線である必要はなく、例えば図6に
示すように突合わせ面側よりその反対側の面側に向かっ
て円弧を描くような曲線形状であってもよい。また、直
線の場合でも境界線は、ヘッドチップ底面であるバック
面10に対して平行である必要はなく非平行であっても
よい。
Mとの境界線は、直線である必要はなく、例えば図6に
示すように突合わせ面側よりその反対側の面側に向かっ
て円弧を描くような曲線形状であってもよい。また、直
線の場合でも境界線は、ヘッドチップ底面であるバック
面10に対して平行である必要はなく非平行であっても
よい。
【0022】このように構成された磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性薄膜1,2と酸化物磁性材料Mとによって
閉磁路が構成されるため、従来の図28に示す金属磁性
薄膜103,104のみによって閉磁路を構成する磁気
ヘッドに比べて、記録再生効率,つまりヘッド効率を大
幅に向上させることができる。ヘッド効率が向上するこ
とについては、以下に述べることによる。
は、金属磁性薄膜1,2と酸化物磁性材料Mとによって
閉磁路が構成されるため、従来の図28に示す金属磁性
薄膜103,104のみによって閉磁路を構成する磁気
ヘッドに比べて、記録再生効率,つまりヘッド効率を大
幅に向上させることができる。ヘッド効率が向上するこ
とについては、以下に述べることによる。
【0023】例えば、リング型の磁気ヘッド201の磁
路は、図2中点線で示すようになっている。これを記録
ヘッドとして用いる場合には、図3に示すように巻線2
02にNIなる起磁力が与えられて磁気ギャップgの両
端にV0 なる磁位差が伝達され、この結果ギャップg周
辺に上記V0 に比例した磁界が発生する。なお、V0/
NIは、巻線202から磁気ギャップgへの磁位伝達効
率を表す。
路は、図2中点線で示すようになっている。これを記録
ヘッドとして用いる場合には、図3に示すように巻線2
02にNIなる起磁力が与えられて磁気ギャップgの両
端にV0 なる磁位差が伝達され、この結果ギャップg周
辺に上記V0 に比例した磁界が発生する。なお、V0/
NIは、巻線202から磁気ギャップgへの磁位伝達効
率を表す。
【0024】一方、再生ヘッドとして用いる場合には、
図4に示すように媒体の表面磁束ψsが磁気ギャップg
に与えられ、その一部が巻線202と鎖交する有効磁束
ψhとなる。この場合、ψh/ψsが磁気ギャップgか
ら巻線202への磁束伝達効率を表す。
図4に示すように媒体の表面磁束ψsが磁気ギャップg
に与えられ、その一部が巻線202と鎖交する有効磁束
ψhとなる。この場合、ψh/ψsが磁気ギャップgか
ら巻線202への磁束伝達効率を表す。
【0025】ここで、ヘッド効率αは、磁気ギャップ部
の磁気抵抗をRg,コア磁気抵抗をRc,漏洩磁気抵抗
をRlとしたときに、上記V0 /NIとψh/ψsは等
しく、次式(1)で与えられる。
の磁気抵抗をRg,コア磁気抵抗をRc,漏洩磁気抵抗
をRlとしたときに、上記V0 /NIとψh/ψsは等
しく、次式(1)で与えられる。
【0026】
【数1】
【0027】また、コア磁気抵抗Rcは、コアの磁路長
をlc,コアの断面積をSc,コアの実効透磁率をμe
としたときに、次式(2)で与えられる。
をlc,コアの断面積をSc,コアの実効透磁率をμe
としたときに、次式(2)で与えられる。
【0028】
【数2】
【0029】以上のことから、コアの断面積Scが小さ
くなると、式(2)からコア磁気抵抗Rcが大きくな
り、その結果、式(1)よりヘッド効率αが低下するこ
とがわかる。
くなると、式(2)からコア磁気抵抗Rcが大きくな
り、その結果、式(1)よりヘッド効率αが低下するこ
とがわかる。
【0030】また、本実施例の磁気ヘッドでは、アジマ
ス角θが大きくなった場合でも、コア断面積を十分確保
できるので、図28に示す従来の磁気ヘッドに比べてヘ
ッド効率を大幅に高めることができる。例えば、図5に
示すように、磁気コア203の大きさを、チップ長さ1
000μm,チップ厚220μm,巻線溝深さ150μ
m,トラック幅20μmとした場合に、本実施例の磁気
ヘッドと従来の磁気ヘッドでのアジマス角5度と15度
のときの巻線溝近傍部におけるコア断面積をそれぞれ測
定した。その結果を表1に示す。
ス角θが大きくなった場合でも、コア断面積を十分確保
できるので、図28に示す従来の磁気ヘッドに比べてヘ
ッド効率を大幅に高めることができる。例えば、図5に
示すように、磁気コア203の大きさを、チップ長さ1
000μm,チップ厚220μm,巻線溝深さ150μ
m,トラック幅20μmとした場合に、本実施例の磁気
ヘッドと従来の磁気ヘッドでのアジマス角5度と15度
のときの巻線溝近傍部におけるコア断面積をそれぞれ測
定した。その結果を表1に示す。
【0031】
【表1】
【0032】かかる表1からわかるように、本実施例の
磁気ヘッドでは、アジマス角を大きくしても、コア断面
積はほとんど変化しない。また、従来の磁気ヘッドに比
べてコア断面積が大幅に大きく、特にアジマス角が15
度の場合には比較にならないほど、コア断面積が大き
い。したがって、本実施例の磁気ヘッドでは、アジマス
角が大きくなっても、ヘッド効率が低下せず、高密度磁
気記録媒体に対しても良好に記録再生することができ
る。
磁気ヘッドでは、アジマス角を大きくしても、コア断面
積はほとんど変化しない。また、従来の磁気ヘッドに比
べてコア断面積が大幅に大きく、特にアジマス角が15
度の場合には比較にならないほど、コア断面積が大き
い。したがって、本実施例の磁気ヘッドでは、アジマス
角が大きくなっても、ヘッド効率が低下せず、高密度磁
気記録媒体に対しても良好に記録再生することができ
る。
【0033】ところで、上述した磁気ヘッドを作製する
には、以下のようにして行う。先ず、図7に示すよう
に、磁性フェライト基板13と、一対の非磁性基板1
4,15を用意し、これらの接合面をそれぞれ鏡面加工
する。磁性フェライト基板13には、例えばMn−Zn
単結晶フェライト、Mn−Zn多結晶フェライト、Ni
−Zn単結晶フェライト、Ni−Zn多結晶フェライト
等からなる基板がいずれも使用できる。一方、非磁性基
板14,15には、セラミックス、結晶化ガラス、非磁
性酸化物材料等よりなる基板が使用できる。
には、以下のようにして行う。先ず、図7に示すよう
に、磁性フェライト基板13と、一対の非磁性基板1
4,15を用意し、これらの接合面をそれぞれ鏡面加工
する。磁性フェライト基板13には、例えばMn−Zn
単結晶フェライト、Mn−Zn多結晶フェライト、Ni
−Zn単結晶フェライト、Ni−Zn多結晶フェライト
等からなる基板がいずれも使用できる。一方、非磁性基
板14,15には、セラミックス、結晶化ガラス、非磁
性酸化物材料等よりなる基板が使用できる。
【0034】次に、図8に示すように、上記磁性フェラ
イト基板13の長手方向の両側面に非磁性基板14,1
5を接合する。上記非磁性基板14,15の接合には、
ガラス接合法またはAuやAg等を用いる低温金属拡散
接合法が採用できる。
イト基板13の長手方向の両側面に非磁性基板14,1
5を接合する。上記非磁性基板14,15の接合には、
ガラス接合法またはAuやAg等を用いる低温金属拡散
接合法が採用できる。
【0035】そして、その接合一体化された複合ブロッ
ク16を、図9の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切
断する。この結果、図10(a)に示すように、磁性フ
ェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長方形
状をなす複合基板17が作製される。次に、図10
(b)に示すように、上記複合基板17の両面を鏡面加
工した後、その一方の主面に金属磁性薄膜18を成膜す
る。
ク16を、図9の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切
断する。この結果、図10(a)に示すように、磁性フ
ェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長方形
状をなす複合基板17が作製される。次に、図10
(b)に示すように、上記複合基板17の両面を鏡面加
工した後、その一方の主面に金属磁性薄膜18を成膜す
る。
【0036】金属磁性薄膜18を成膜する手法として
は、例えばスパッタリング等に代表される真空薄膜形成
技術やメッキ等の湿式成膜技術が採用される。また、こ
の金属磁性薄膜18には、Fe−Al−Si,Fe−N
i−Al−Si,Fe−Al−Ge等、及びそれらに8
原子%以下のCo,Ti,Cr,Nb,Mo,Ta,R
u,Au,Pb,N,C,O等を一種または数種添加し
た結晶質材料やCo,Feに主としてZr,Ta,T
i,Hf,Mo,Nb,Si,Al,Bの一種または数
種とN,O,Cの一種または数種を添加して構成された
微結晶材やCoを主としてZr,Ta,Ti,Hf,N
b,Moの一種または数種添加して構成されたアモルフ
ァス材等が使用できる。
は、例えばスパッタリング等に代表される真空薄膜形成
技術やメッキ等の湿式成膜技術が採用される。また、こ
の金属磁性薄膜18には、Fe−Al−Si,Fe−N
i−Al−Si,Fe−Al−Ge等、及びそれらに8
原子%以下のCo,Ti,Cr,Nb,Mo,Ta,R
u,Au,Pb,N,C,O等を一種または数種添加し
た結晶質材料やCo,Feに主としてZr,Ta,T
i,Hf,Mo,Nb,Si,Al,Bの一種または数
種とN,O,Cの一種または数種を添加して構成された
微結晶材やCoを主としてZr,Ta,Ti,Hf,N
b,Moの一種または数種添加して構成されたアモルフ
ァス材等が使用できる。
【0037】また、上記金属磁性薄膜18としては、単
層膜であっもよく、或いは渦電流損失を回避するために
SiO2 ,Al2 O3 ,Si3 O4 等の電気的絶縁物と
膜厚の薄い磁性金属膜を交互に積層した積層膜であっも
よい。このようにして成膜された金属磁性薄膜18は、
鏡面加工された面上に形成されるので、その膜厚が均一
となり電磁変換特性に優れた膜となる。
層膜であっもよく、或いは渦電流損失を回避するために
SiO2 ,Al2 O3 ,Si3 O4 等の電気的絶縁物と
膜厚の薄い磁性金属膜を交互に積層した積層膜であっも
よい。このようにして成膜された金属磁性薄膜18は、
鏡面加工された面上に形成されるので、その膜厚が均一
となり電磁変換特性に優れた膜となる。
【0038】次に、この金属磁性薄膜18が成膜された
複合基板17を、数十本まとめて図11に示すように重
ね合わせて接合一体化する。これら複合基板17を接合
するには、例えばガラス接合法または低温金属拡散接合
法が使用できる。次いで、接合一体化された積層ブロッ
ク19に、図12に示すように、コイルを巻装するため
の巻線溝20,21とブロック切断する際の分断予備溝
22を形成する。
複合基板17を、数十本まとめて図11に示すように重
ね合わせて接合一体化する。これら複合基板17を接合
するには、例えばガラス接合法または低温金属拡散接合
法が使用できる。次いで、接合一体化された積層ブロッ
ク19に、図12に示すように、コイルを巻装するため
の巻線溝20,21とブロック切断する際の分断予備溝
22を形成する。
【0039】巻線溝20,21は、非磁性基板14,1
5の一部にかかるようにして、上記積層ブロック19の
長手方向の両側縁部分に断面略コ字状をなす溝としてブ
ッロク全体に亘って形成する。一方、分断予備溝22
は、積層ブロック19の中央部分に、やはりブロック全
体に亘って長手方向に断面略コ字状の浅い溝として形成
する。
5の一部にかかるようにして、上記積層ブロック19の
長手方向の両側縁部分に断面略コ字状をなす溝としてブ
ッロク全体に亘って形成する。一方、分断予備溝22
は、積層ブロック19の中央部分に、やはりブロック全
体に亘って長手方向に断面略コ字状の浅い溝として形成
する。
【0040】しかる後、巻線溝20,21が形成された
面19aを鏡面加工する。
面19aを鏡面加工する。
【0041】次に、上記積層ブロック19を図12中矢
印A−Aで示す分断予備溝22のセンター位置で切断し
二分する。そして、その二分された磁気コアブロック2
3,24の突合わせ面となる面19aに、ギャップ膜
(図示は省略する。)を真空薄膜形成技術法を用いて成
膜する。
印A−Aで示す分断予備溝22のセンター位置で切断し
二分する。そして、その二分された磁気コアブロック2
3,24の突合わせ面となる面19aに、ギャップ膜
(図示は省略する。)を真空薄膜形成技術法を用いて成
膜する。
【0042】ギャップ接合をガラス接合法で行う場合に
は、SiO2 膜を成膜する。ギャップ接合を低温金属拡
散接合法で行う場合には、Au,Ag等よりなる非磁性
材よりなる膜を成膜する。
は、SiO2 膜を成膜する。ギャップ接合を低温金属拡
散接合法で行う場合には、Au,Ag等よりなる非磁性
材よりなる膜を成膜する。
【0043】次に、ギャップ膜が成膜された磁気コアブ
ロック23,24を、図13に示すように、互いの金属
磁性薄膜18同士が一致するようにして突合わせ、ガラ
ス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化す
る。次いで、磁気記録媒体摺動面となる面を円筒研磨
(R加工)した後、図14中破線で示すように磁気ギャ
ップにアジマスを付与するために、この磁気コアブロッ
ク23,24を斜めにカッティングする。
ロック23,24を、図13に示すように、互いの金属
磁性薄膜18同士が一致するようにして突合わせ、ガラ
ス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化す
る。次いで、磁気記録媒体摺動面となる面を円筒研磨
(R加工)した後、図14中破線で示すように磁気ギャ
ップにアジマスを付与するために、この磁気コアブロッ
ク23,24を斜めにカッティングする。
【0044】この結果、図1に示す磁気ヘッドが作製さ
れる。
れる。
【0045】実施例2 本実施例の磁気ヘッドは、図15及び16に示すよう
に、先の実施例1の磁気ヘッドに対して非磁性材料Nよ
りなる磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が非磁性材
料Nと酸化物磁性材料Mからなる。さらに、各磁気コア
3,4の金属磁性薄膜1,2を境として左右のコアのう
ちコア体積が大きい方が非磁性材料Nと酸化物磁性材料
Mとされるとともにコア体積が小さい方が非磁性材料N
のみによって形成されている。
に、先の実施例1の磁気ヘッドに対して非磁性材料Nよ
りなる磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が非磁性材
料Nと酸化物磁性材料Mからなる。さらに、各磁気コア
3,4の金属磁性薄膜1,2を境として左右のコアのう
ちコア体積が大きい方が非磁性材料Nと酸化物磁性材料
Mとされるとともにコア体積が小さい方が非磁性材料N
のみによって形成されている。
【0046】このように、磁気記録媒体摺動面部以外の
バック部を酸化物磁性材料Mと非磁性材料Nの組合せと
し、しかも金属磁性薄膜1,2を境としてコア体積の大
きい方を酸化物磁性材料Mと非磁性材料Nの組合せとす
ることによって、磁気コアのコア断面積を確保すること
ができる。したがって、この磁気ヘッドにおいては、ア
ジマス角が大きくなったとしても、磁気抵抗の増加を抑
制することができ、ヘッド効率を向上させることができ
る。
バック部を酸化物磁性材料Mと非磁性材料Nの組合せと
し、しかも金属磁性薄膜1,2を境としてコア体積の大
きい方を酸化物磁性材料Mと非磁性材料Nの組合せとす
ることによって、磁気コアのコア断面積を確保すること
ができる。したがって、この磁気ヘッドにおいては、ア
ジマス角が大きくなったとしても、磁気抵抗の増加を抑
制することができ、ヘッド効率を向上させることができ
る。
【0047】なお、この磁気ヘッドは、上述の点を除き
先の実施例1の磁気ヘッドと同じ構成である。したがっ
て、同一の構成部分については、その説明を省略する。
先の実施例1の磁気ヘッドと同じ構成である。したがっ
て、同一の構成部分については、その説明を省略する。
【0048】上記構成の磁気ヘッドを作製するには、以
下のようにして行う。先ず、先の実施例1の磁気ヘッド
を作製する要領で、図17に示すように磁性フェライト
基板25と、一対の非磁性基板26,27を用意し、こ
れらの接合面をそれぞれ鏡面加工する。ここで用いる磁
性フェライト基板25と非磁性基板26,27には、先
の実施例1で使用した材料がいずれも適用できる。
下のようにして行う。先ず、先の実施例1の磁気ヘッド
を作製する要領で、図17に示すように磁性フェライト
基板25と、一対の非磁性基板26,27を用意し、こ
れらの接合面をそれぞれ鏡面加工する。ここで用いる磁
性フェライト基板25と非磁性基板26,27には、先
の実施例1で使用した材料がいずれも適用できる。
【0049】次に、これら磁性フェライト基板25と非
磁性基板26,27の接合面をそれぞれ鏡面加工した
後、図18に示すようにして、上記磁性フェライト基板
25の長手方向の両側面に非磁性基板26,27を接合
する。そして、その接合一体化された複合ブロック28
を、図19の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切断す
る。
磁性基板26,27の接合面をそれぞれ鏡面加工した
後、図18に示すようにして、上記磁性フェライト基板
25の長手方向の両側面に非磁性基板26,27を接合
する。そして、その接合一体化された複合ブロック28
を、図19の破線で示す位置でそれぞれ縦と横に切断す
る。
【0050】この結果、図20(a)に示すように、磁
性フェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長
方形状をなす複合基板29が作製される。
性フェライトの両端部に非磁性材料が設けられてなる長
方形状をなす複合基板29が作製される。
【0051】次に、図20(b)に示すように、上記複
合基板29の両面を鏡面加工した後、その一方の主面に
金属磁性薄膜30を成膜する。上記金属磁性薄膜30に
は、やはり先の実施例1の磁気ヘッドと同一の磁性材料
が使用できる。また、このときの金属磁性薄膜30は、
単層膜または積層膜であっても差し支えない。
合基板29の両面を鏡面加工した後、その一方の主面に
金属磁性薄膜30を成膜する。上記金属磁性薄膜30に
は、やはり先の実施例1の磁気ヘッドと同一の磁性材料
が使用できる。また、このときの金属磁性薄膜30は、
単層膜または積層膜であっても差し支えない。
【0052】次いで、図21(a)に示すように、上記
複合基板29と同一形状の非磁性材料よりなる非磁性基
板31を複数形成する。そして、この非磁性基板31の
両面を鏡面加工した後、図21(b)に示すように一方
の面にのみ金属磁性薄膜32を成膜する。
複合基板29と同一形状の非磁性材料よりなる非磁性基
板31を複数形成する。そして、この非磁性基板31の
両面を鏡面加工した後、図21(b)に示すように一方
の面にのみ金属磁性薄膜32を成膜する。
【0053】次に、上記複合基板29と非磁性基板31
を交互に数十本配置して、図22に示すように重ね合わ
せて接合一体化する。次いで、接合一体化された積層ブ
ロック33に、図23に示すように、コイルを巻装する
ための巻線溝34,35とブロック切断する際の分断予
備溝36を形成する。
を交互に数十本配置して、図22に示すように重ね合わ
せて接合一体化する。次いで、接合一体化された積層ブ
ロック33に、図23に示すように、コイルを巻装する
ための巻線溝34,35とブロック切断する際の分断予
備溝36を形成する。
【0054】巻線溝34,35は、複合基板29の長手
方向に設けられる非磁性基板26,27の一部にかかる
ようにして、上記積層ブロック33の長手方向の両側縁
部分に断面略コ字状をなす溝としてブッロク全体に亘っ
て形成する。一方、分断予備溝36は、積層ブロック3
3の中央部分に、やはりブッロク全体に亘って長手方向
に断面略コ字状の浅い溝として形成する。
方向に設けられる非磁性基板26,27の一部にかかる
ようにして、上記積層ブロック33の長手方向の両側縁
部分に断面略コ字状をなす溝としてブッロク全体に亘っ
て形成する。一方、分断予備溝36は、積層ブロック3
3の中央部分に、やはりブッロク全体に亘って長手方向
に断面略コ字状の浅い溝として形成する。
【0055】しかる後、巻線溝34,35が形成された
面33aを鏡面加工する。
面33aを鏡面加工する。
【0056】次に、上記積層ブロック33を、図23中
矢印線B−Bで示す分断予備溝36のセンター位置で切
断し二分する。そして、その二分された磁気コアブロッ
ク37,38の突合わせ面となる面に、ギャップ膜(図
示は省略する。)を真空薄膜形成技術法を用いて成膜す
る。なお、ギャップ接合は、先の実施例1と同じくガラ
ス接合法または低温金属拡散接合法が採用できる。
矢印線B−Bで示す分断予備溝36のセンター位置で切
断し二分する。そして、その二分された磁気コアブロッ
ク37,38の突合わせ面となる面に、ギャップ膜(図
示は省略する。)を真空薄膜形成技術法を用いて成膜す
る。なお、ギャップ接合は、先の実施例1と同じくガラ
ス接合法または低温金属拡散接合法が採用できる。
【0057】次に、ギャップ膜が成膜された磁気コアブ
ロック37,38を、図24に示すように、金属磁性薄
膜30,32を一列ずらして、各磁気コアブロック3
7,38の金属磁性薄膜30,32同士が一致するよう
にして突合わせる。逆の見方をすれば、非磁性基板31
と複合基板29とが相対向するように突合わせる。そし
て、この状態でこれら磁気コアブロック37,38を、
ガラス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化
する。
ロック37,38を、図24に示すように、金属磁性薄
膜30,32を一列ずらして、各磁気コアブロック3
7,38の金属磁性薄膜30,32同士が一致するよう
にして突合わせる。逆の見方をすれば、非磁性基板31
と複合基板29とが相対向するように突合わせる。そし
て、この状態でこれら磁気コアブロック37,38を、
ガラス接合法或いは低温金属拡散接合法にて接合一体化
する。
【0058】次いで、磁気記録媒体摺動面となる面を円
筒研磨(R加工)した後、図25中破線で示すように磁
気ギャップにアジマスを付与するために、この磁気コア
ブロック37,38を斜めにカッティングする。この結
果、図15及び図16に示す磁気ヘッドが作製される。
筒研磨(R加工)した後、図25中破線で示すように磁
気ギャップにアジマスを付与するために、この磁気コア
ブロック37,38を斜めにカッティングする。この結
果、図15及び図16に示す磁気ヘッドが作製される。
【0059】ところで、上述の工程において、図26
(a)に示すようにアジマス角θを小さくしてチップ切
断した場合(つまり、突合わせ面に対して90゜+カッ
ティング角度αとして線C−C及び線D−D位置で切断
した場合)には、同図(b)中線E−Eで示す巻線溝3
4,35が設けられる部分のコア断面積は同図(c)に
示すように十分確保される。つまり、金属磁性薄膜3
0,32に加えて酸化物磁性材料Mによって十分なコア
断面積が確保される。
(a)に示すようにアジマス角θを小さくしてチップ切
断した場合(つまり、突合わせ面に対して90゜+カッ
ティング角度αとして線C−C及び線D−D位置で切断
した場合)には、同図(b)中線E−Eで示す巻線溝3
4,35が設けられる部分のコア断面積は同図(c)に
示すように十分確保される。つまり、金属磁性薄膜3
0,32に加えて酸化物磁性材料Mによって十分なコア
断面積が確保される。
【0060】これに対して、図27(a)に示すように
アジマス角θを大きくしてチップ切断した場合(線F−
F及び線G−Gで示すように図26よりもさらに大きく
した場合)には、同図(b)中線H−Hで示す巻線溝3
4,35が設けられる部分のコア断面積は同図(c)に
示すように金属磁性薄膜30,32が少なくても酸化物
磁性材料Mが十分にあるため、コア断面積が十分に確保
される。つまり、本実施例では、アジマス角θが大きく
なっても、巻線溝34,35部分における磁気コア断面
積を十分に確保することができるため、磁気抵抗の増大
を抑制することができ、結果として磁気ヘッドの記録再
生効率を高めることができる。
アジマス角θを大きくしてチップ切断した場合(線F−
F及び線G−Gで示すように図26よりもさらに大きく
した場合)には、同図(b)中線H−Hで示す巻線溝3
4,35が設けられる部分のコア断面積は同図(c)に
示すように金属磁性薄膜30,32が少なくても酸化物
磁性材料Mが十分にあるため、コア断面積が十分に確保
される。つまり、本実施例では、アジマス角θが大きく
なっても、巻線溝34,35部分における磁気コア断面
積を十分に確保することができるため、磁気抵抗の増大
を抑制することができ、結果として磁気ヘッドの記録再
生効率を高めることができる。
【0061】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、高密度記録に対応してアジ
マス角を大きくした場合であっても、非磁性材料よりな
る磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が酸化物磁性材
料又は酸化物磁性材料と非磁性材料からなるので、磁気
コア断面積を十分に確保することができ、ヘッド効率を
高めることができる。特に、本発明では、高周波損失の
少ないフェライトを磁路に用いているため、周波数特性
の高い高性能な磁気ヘッドを提供できる。
明の磁気ヘッドにおいては、高密度記録に対応してアジ
マス角を大きくした場合であっても、非磁性材料よりな
る磁気記録媒体摺動面部以外のバック部が酸化物磁性材
料又は酸化物磁性材料と非磁性材料からなるので、磁気
コア断面積を十分に確保することができ、ヘッド効率を
高めることができる。特に、本発明では、高周波損失の
少ないフェライトを磁路に用いているため、周波数特性
の高い高性能な磁気ヘッドを提供できる。
【0062】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、金
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、やは
りアジマス角を大きくした場合でも磁気コア断面積を十
分確保することができ、これによりヘッド効率を高める
ことができる。したがって、本発明によれば、高密度記
録用の磁気ヘッドとして使用することができる。
属磁性薄膜を境として左右のコアのうちコア体積が大き
い方が非磁性材料と酸化物磁性材料からなるので、やは
りアジマス角を大きくした場合でも磁気コア断面積を十
分確保することができ、これによりヘッド効率を高める
ことができる。したがって、本発明によれば、高密度記
録用の磁気ヘッドとして使用することができる。
【図1】実施例1の磁気ヘッドの斜視図である。
【図2】ヘッド効率を説明するためのもので、ヘッドの
磁路構成を示す模式図である。
磁路構成を示す模式図である。
【図3】ヘッド効率を説明するためのもので、記録側効
率を示す回路図である。
率を示す回路図である。
【図4】ヘッド効率を説明するためのもので、再生側効
率を示す回路図である。
率を示す回路図である。
【図5】従来の磁気ヘッドと本発明の磁気ヘッドのヘッ
ド効率を比較する際に使用した磁気コアの大きさを示す
斜視図である。
ド効率を比較する際に使用した磁気コアの大きさを示す
斜視図である。
【図6】実施例1の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図7】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程を
示す斜視図である。
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程を
示す斜視図である。
【図8】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工程
を示す斜視図である。
すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工程
を示す斜視図である。
【図9】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、カッティング工程を示す斜視図である。
すもので、カッティング工程を示す斜視図である。
【図10】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、(a)は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、(b)はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
示すもので、(a)は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、(b)はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
【図11】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。
【図12】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。
【図13】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。
【図14】実施例1の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。
【図15】実施例2の磁気ヘッドの斜視図である。
【図16】実施例2の磁気ヘッドを磁気記録媒体摺動面
よりみた状態を示す平面図である。
よりみた状態を示す平面図である。
【図17】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程
を示す斜視図である。
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板作製工程
を示す斜視図である。
【図18】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工
程を示す斜視図である。
示すもので、磁性フェライト基板と非磁性基板の接合工
程を示す斜視図である。
【図19】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、カッティング工程を示す斜視図である。
示すもので、カッティング工程を示す斜視図である。
【図20】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、(a)は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、(b)はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
示すもので、(a)は複合基板作製工程を示す斜視図で
あり、(b)はその複合基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
【図21】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、(a)は非磁性基板作製工程を示す斜視図
であり、(b)はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜
する工程を示す斜視図である。
示すもので、(a)は非磁性基板作製工程を示す斜視図
であり、(b)はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜
する工程を示す斜視図である。
【図22】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。
示すもので、積層ブロック形成工程を示す斜視図であ
る。
【図23】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。
示すもので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視
図である。
【図24】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。
示すもので、磁気コアブロックの接合工程を示す斜視図
である。
【図25】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程を順次
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。
示すもので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視
図である。
【図26】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程のうち
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくし
て切断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を
示す図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくし
て切断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を
示す図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。
【図27】実施例2の磁気ヘッドを製造する工程のうち
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくし
て切断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を
示す図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。
ヘッドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくし
て切断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を
示す図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッド
の側面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝
部における断面図を示す。
【図28】従来の磁気ヘッドの斜視図である。
【図29】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、(a)は非磁性基板作製工程を示す斜視図であ
り、(b)はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
もので、(a)は非磁性基板作製工程を示す斜視図であ
り、(b)はその非磁性基板に金属磁性薄膜を成膜する
工程を示す斜視図である。
【図30】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、接合ブロック作製工程を示す斜視図である。
もので、接合ブロック作製工程を示す斜視図である。
【図31】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視図で
ある。
もので、巻線溝及び分断予備溝形成工程を示す斜視図で
ある。
【図32】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、積層ブロックの接合工程を示す斜視図である。
もので、積層ブロックの接合工程を示す斜視図である。
【図33】従来の磁気ヘッドを製造する工程を順次示す
もので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視図で
ある。
もので、ヘッドチップへの切り出し工程を示す斜視図で
ある。
【図34】従来の磁気ヘッドを製造する工程のうちヘッ
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくして切
断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を示す
図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を小さくして切
断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を示す
図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。
【図35】従来の磁気ヘッドを製造する工程のうちヘッ
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくして切
断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を示す
図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。
ドチップへの切り出し工程でアジマス角を大きくして切
断した場合を示すもので、(a)はその切断位置を示す
図であり、(b)は切断されて得られた磁気ヘッドの側
面図を示し、(c)は得られた磁気ヘッドの巻線溝部に
おける断面図を示す。
1,2,18,30,32・・・金属磁性薄膜 3,4・・・磁気コア 5,6,7,8・・・複合基板 11,12,20,21,34,35・・・巻線溝 13,25・・・磁性フェライト基板 14,15,26,27・・・非磁性基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 印牧 洋一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 ヘッド走行方向に対して斜めに配された
金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの突
合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当該
金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、 磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺動面部が非磁性
材料よりなり、それ以外のバック部が酸化物磁性材料か
らなることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 ヘッド走行方向に対して斜めに配された
金属磁性薄膜を有してなる一対の磁気コアが、互いの突
合わせ面に露出する金属磁性薄膜同士を突合わせて当該
金属磁性薄膜間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、 磁気記録媒体が摺接する磁気記録媒体摺動面部が非磁性
材料よりなり、それ以外のバック部が非磁性材料と酸化
物磁性材料からなることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項3】 磁気ギャップ面に対して金属磁性薄膜が
略直交して配されていることを特徴とする請求項1又は
請求項2記載の磁気ヘッド。 - 【請求項4】 金属磁性薄膜を境として左右のコアのう
ちコア体積が大きい方が非磁性材料と酸化物磁性材料か
らなり、コア体積が小さい方が非磁性材料からなること
を特徴とする請求項2記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3849593A JPH06236510A (ja) | 1992-12-16 | 1993-02-26 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4-353864 | 1992-12-16 | ||
JP35386492 | 1992-12-16 | ||
JP3849593A JPH06236510A (ja) | 1992-12-16 | 1993-02-26 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06236510A true JPH06236510A (ja) | 1994-08-23 |
Family
ID=26377757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3849593A Pending JPH06236510A (ja) | 1992-12-16 | 1993-02-26 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06236510A (ja) |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP3849593A patent/JPH06236510A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020604 |