JPH06204325A - 静電吸着装置およびその吸着方法 - Google Patents

静電吸着装置およびその吸着方法

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JPH06204325A
JPH06204325A JP34817592A JP34817592A JPH06204325A JP H06204325 A JPH06204325 A JP H06204325A JP 34817592 A JP34817592 A JP 34817592A JP 34817592 A JP34817592 A JP 34817592A JP H06204325 A JPH06204325 A JP H06204325A
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JP
Japan
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electrostatic
adsorption
voltage
electrode plate
dielectric
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JP34817592A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Kitsunai
浩之 橘内
Hiromitsu Tokisue
裕充 時末
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 静電吸着装置によってウエハの反りが矯正
され、確実に固定されたか否かの確認手段となる、静電
吸着装置のモニター方法を提供する。 【構成】 静電吸着式の試料保持装置の誘電体および電
極板を、二つ以上に分割した対の構造2,5、3,6、
4,7として、各々独立に電位差を発生させる電源を有
する電源8,9,10、回路に流れる電流を計測する手
段11,12,13を備え付ける。計測された電流値に
よって、ウエハ1の平坦化の状態を判断し、制御装置1
7により電圧値のコントロールを行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、静電吸着装置およびそ
の吸着方法に係り、特に、例えば、導体またはシリコン
ウエハのような半導体など微細加工に供される試料を固
定保持するのに好適な静電吸着装置およびその吸着方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体ウエハ等の試料に対し、
エッチング,スパッタ,気相成長法(CVD)等により
成膜を施す場合には、試料を装置の所定の位置に固定保
持することが必要となる。特に、半導体ウエハ上に微細
パターンを加工する場合には、ウエハのパターン焼き付
けのため、反りを矯正して平坦化を図る、あるいは、ス
ッパッタ,成膜時の熱伝導率向上を図るなどの目的で、
ウエハを確実に保持手段に密着固定することが要求され
る。
【0003】従来から、このような用途の試料保持手段
として、真空中でも使用でき、またウエハ裏面全面にて
吸着力を発生させることができる静電吸着装置が用いら
れている。さらに、真空中でウエハ保持ができるため、
真空中高速搬送の保持装置としても利用されている。こ
の静電吸着装置は、電極板と誘電体とを積み重ね(積
層)して構成され、電極板と試料との間に電位差を生じ
させることによりクーロン力を発生させ、誘電体上に試
料を吸着保持させるものである。このような静電吸着装
置に関しては、例えば、特開昭58−114437号公
報、特開昭59−79545号公報等が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、すでに述べ
たように半導体製造行程におけるエッチング,スパッ
タ,CVD等、半導体ウエハ上に微細パターンを加工す
る場合には、ウエハの反りを矯正して平坦化を行う、あ
るいは、熱伝導率を向上するためウエハを確実に保持手
段に密着固定すること等が要求される。しかし、前記特
開昭58−114437号公報に記載された開示例で
は、静電吸着装置によってウエハの反りが矯正され、確
実に固定保持されたか否かの確認手段が考慮されていな
かった。
【0005】また、特開昭59−79545号公報に記
載された開示例においては、静電吸着の確認手段として
静電吸着装置を構成する回路に流れる電流値によって、
ウエハが固定保持されたか否かの確認手段としている
が、プロセスを経てきたウエハの被吸着面には、プロセ
スの種類によって異なった膜が形成されており、抵抗値
が異なることから、測定された電流値によって真に平坦
化されたか否かを判断する基準が明確でなく不十分なも
のであった。さらに、上記の開示例では、いずれも電圧
の印加方法、すなわち吸着のさせ方に配慮が足らず、効
果的なウエハ平坦度の矯正がなされていなかった。
【0006】本発明は、上記従来技術の問題点を解決す
るためになされたもので、本発明の目的は、まず第一
に、ウエハの反りが矯正され、被保持物が確実に吸着固
定されたことを確認しうる静電吸着装置を提供すること
にある。第二に、被保持物が確実に吸着固定されたか否
か、また平坦化されたか否かモニターできる静電吸着装
置の電圧印加方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記第一の目的を達成す
るために、本発明の静電吸着装置に係る第一の発明の構
成は、電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極板と被保
持物体との間に電位差を生じさせることによって前記誘
電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着装置におい
て、前記電極板、あるいは電極板および誘電体を二つ以
上に分割し、かつ、分割された部分を電気的に絶縁され
る構造として、それぞれ独立に電位差を発生させる電源
と、各回路に流れる電流を計測する手段とを設けたもの
である。
【0008】また、上記第一の目的を達成するために、
本発明の静電吸着装置に係る第二の発明の構成は、電極
板と誘電体とを積み重ね、前記電極板と被保持物体との
間に電位差を生じさせることによって前記誘電体に前記
被保持物体を吸着させる静電吸着装置において、前記吸
着力を発生させる誘電体および電極板内に、これとは独
立に誘電体および電極板を積み重ね、前記吸着力を発生
させる手段とは独立に、それぞれ電位差を発生させる電
源と各回路に流れる電流を計測する手段とを備えた吸着
確認手段を、前記吸着力を発生させる手段の電極板との
間を絶縁して二つ以上設けたものである。
【0009】上記第二の目的を達成するために、本発明
に係る静電吸着装置の吸着方法の構成は、電極板と誘電
体とを積み重ね、前記電極板と被保持物体との間に電位
差を生じさせることによって前記誘電体に前記被保持物
体を吸着させる静電吸着方法において、前記電極板、あ
るいは電極板および誘電体を、互いの間を絶縁し二つ以
上に分割して、それぞれ独立に電位差を発生させる電源
と吸着確認手段とを有する構成とし、前記吸着確認手段
からの情報によって、分割された静電吸着部分それぞれ
への印加電圧の大きさ、また、それぞれの電圧印加の開
始時間を、それぞれ独立に変化させるようにしたもので
ある。
【0010】より詳しくは、吸着確認手段は、被保持物
体が下に凸の形状に変形があると判断したときは、ま
ず、二つ以上に分割した静電吸着部の中央部の静電吸着
部の電極に電圧を印加し、ついで周辺部の静電吸着部の
電極に向かって順次に、各静電吸着部に設けられた吸着
確認手段が、前記被保持物体の吸着を確認するまで電圧
を印加する。
【0011】また、吸着確認手段は、被保持物体が上に
凸の形状に変形があると判断したときは、まず、二つ以
上に分割した静電吸着部の最周辺部の一静電吸着部の電
極に、吸着確認手段が吸着を確認するまで電圧を印加
し、ついで中央部、さらに最初吸着したのと反対側の最
周辺部の静電吸着部の電極に向かって順次に、各静電吸
着部に設けられた吸着確認手段が、前記被保持物体の吸
着を確認するまで電圧を印加する。さらに、静電吸着装
置において、被保持物体の吸着完了後、一旦徐々に電圧
を低下させて吸着を解除し、再び電圧を印加して前記被
保持物体を吸着し、その後、上述の吸着が解除された電
圧より若干高い値に電圧を設定するものである。
【0012】なお付記すると次のとおりである。上記第
一の目的は、静電吸着式試料保持装置の電極板、または
誘電体および電極板を、互いの間を絶縁して二つ以上に
分割し、各々独立に電位差を発生させる電源を有する回
路とし、かつ、各回路に流れる電流を計測する手段を付
加することによって達成される。
【0013】また、上記第二の目的は、静電吸着装置の
静電吸着部分を二つ以上の分割構造として、各々独立に
電位差を発生させる電源,吸着確認手段を有する構成と
し、吸着確認手段からの情報によって、分割された静電
吸着部分、各々への印加電圧の大きさ、また、各々の電
圧印加の開始時間を変化させる制御を行う。また、吸着
を開始させる時のみ大電圧を印加し、一旦、吸着した後
は電圧を降下させるよう電圧の制御を行うことによって
達成される。
【0014】
【作用】本発明の試料保持装置は、電極板、あるいは誘
電体および電極板を互いの間を絶縁し分割構造にしてあ
り、各々独立に電位差を発生させる電源を有し、さらに
各回路に流れる電流を計測できる構成になっている。し
たがって、分割構造にした各静電吸着部に流れる電流値
が全て同等の値になった場合に平坦化は達成され、確実
に吸着保持されたと判断することができる。もし、平坦
化が達成されておらず、例えばウエハに反りが残ってい
る場合、分割されたいずれかの静電吸着部分はウエハと
接触しておらず電流が流れない。このときは、静電吸着
部分の印加する電圧を増加させればよい。
【0015】また、平坦化が達成されておらずウエハに
反りが残っている場合、静電吸着を行う部分を分割し、
吸着モニターからの情報によって、分割された静電吸着
部分、各々への印加電圧の大きさ、また、各々の電圧印
加の開始時間を変化させる制御を行えば、単に吸着面全
体に一様な力を発生させるよりも効果的にウエハの平坦
化を図ることが可能となる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図1ないし図14
を参照して説明する。 〔実施例 1〕図1は、本発明の一実施例に係る静電吸
着装置の構成を示す断面図、図2は、図1の装置におけ
るウエハ吸着作用を説明する要部拡大図である。図1,
2において、1は、固定保持され搬送される被保持物
体、例えば半導体ウエハ(以下単にウエハという)、
2,3,4は、それぞれ静電吸着装置を構成する分割さ
れた誘電体、5,6,7は、それぞれ静電吸着装置を構
成する分割された電極板、14は、ウエハ1から取られ
る導通部、8,9,10は、ウエハ1と電極板5,6,
7との間に電位差を発生させる電源、11,12,13
は、各回路に流れる電流を検知する電流計である。誘電
体2,3,4は、電極板5,6,7の上に積み重ねて積
層状態となっており、16は、分割された部分を電気的
に絶縁する絶縁材である。
【0017】導通部14は、確実にウエハ1から導通を
取るため弱いばね系15を介してウエハ1に接触してい
る。また、誘電体2,3,4の抵抗率は使用温度で抵抗
率109mから1011Ωcmが好ましい。前記の各誘電
体2,3,4、電極板5,6,7、電源8,9,10、
電流計11,12,13は、吸着確認センサーと言うべ
き吸着モニターを構成している。17は、前記各センサ
ーから送られてくる距離の情報に従って、各電源8,
9,10により印加される電圧を制御する制御装置であ
る。18はアースを示す。
【0018】このように構成された静電吸着装置におけ
るモニター方法の動作について説明する。まず、ウエハ
1は静電吸着装置の吸着面2´,3´,4´に載せら
れ、電源8,9,10により、所定の電圧が電極板5,
6,7とウエハ1との間に印加される。そして、ウエハ
1は、このとき発生する静電気力によって吸着面2´,
3´,4´に吸着保持される
【0019】ここで、誘電体2,3,4は同じ材質の誘
電体であり、抵抗率は同じ値であるから、もし、ウエハ
1が確実に平坦化されていれば、各回路には誘電体の単
位面積あたり同じ電流が流れていることになり、電流計
11,12,13は各誘電体の単位面積に換算すると同
じ電流値を検知する。すなわち、例えば、誘電体2,
3,4のウエハとの接触面積が同じであれば同じ電流値
となる。なお、上述の場合は誘電体は同じ材質であった
が、材質が異なっていても本発明の方法は予め電流値を
較正しておくことにより達成できる。
【0020】もし、ウエハ1の一部の変形が矯正され
ず、誘電体2,3,4と接触していないような場合に
は、その部分の静電吸着装置を構成する回路に流れる電
流が他に比べて小さな値を示す。例えば、図2に示すよ
うに、ウエハ1は下に凸に変形しており、ウエハ1の周
辺部で、静電吸着装置の誘電体4に接触していない。静
電気力がウエハ1の変形力に勝てず、隙間hが空いてい
る状態である。この場合は、電流計12に比べて、電流
計13は小さな電流値を示すことになる。もし、全く接
触していなければ電流値はゼロを示す。
【0021】このように、独立の回路を持った分割構造
の静電吸着装置を用い、各回路に流れる電流値を比較す
ることによって、ウエハ1が、各誘電体2,3,4の吸
着面2´,3´,4´に倣ったかどうかを判断させる。
これによって、ウエハ1全面が確実に固定保持され、平
坦化が達成されたかどうかをモニターする。もし、いず
れかの電流計が検知した電流値が他より低ければその部
分の印加電圧を上げて吸着力を増加させれば良い。静電
吸着力はウエハ1に反りがあり、ウエハ1と吸着面2
´,3´,4´に隙間が存在するときはその値が小さ
く、比較的大きな電圧が必要とされるが、一旦吸着固定
されれば、ウエハ1と吸着面との間に隙間がなくなるた
めに、吸着を維持するための電圧は比較的小さな電圧で
よい。
【0022】したがって、電圧を増加させた後は、速や
かに他と同じ電圧まで降下させ、他と同等の電流値を示
せば平坦化が達成されたと判断して良い。また、ある電
圧のしきい値を決め、その値以上電圧を上げても平坦化
できない場合は、ウエハ1の初期たわみがありすぎ不良
であると判断するよう制御装置17に制御させれば、加
工プロセスをより円滑に進めることが可能になる。
【0023】すでに述べたように、静電吸着力はウエハ
1に反りがあり、ウエハ1と吸着面に隙間が存在すると
きはその値が小さく、比較的大きな電圧が必要とされる
が、一旦吸着固定されれば、ウエハ1と吸着面との間に
隙間がなくなるために、吸着を維持するための電圧は比
較的小さな電圧でよい。したがって、制御装置17に吸
着を開始させるときのみ大電圧を印加し、一旦、吸着し
た後は電圧を降下させるよう電圧コントロールさせれ
ば、ウエハ1に必要以上の電圧を長時間かける必要がな
くなり、省電力にもなる。
【0024】〔実施例 2〕先の実施例1では、各回路
の電極板が一枚であり、ウエハから導通を取る方式のい
わゆる単極型の静電吸着装置に関して説明したが、図3
に示すような双極型の静電吸着装置においても同様にモ
ニター動作ができる。図3は、本発明の他の実施例に係
る双極型静電吸着装置の構成を示す説明図である。図
中、図1と同一符号のものは先の実施例と同等機能のも
のである。この場合、電極板は5a,5b、6a,6
b、7a,7bの各2枚ずつ電極間に電圧が印加され
る。また、本実施例では、両端部、中央部と分割する構
造の例を示したが、特にこの構造に限られるものではな
く、例えば同心円状に分割する構造としても同様の効果
が得られる。
【0025】〔実施例 3〕次に、第二の発明の実施例
を図4を参照して説明する。図4は、本発明のさらに他
の実施例に係る静電吸着装置の構成を示す断面図であ
る。図中、図1と同一符号のものは先の実施例と同等部
分であるから、その説明を省略する。図4において、1
9は誘電体、23は電極板で、これらは積層されて静電
吸着装置を構成している。20,21,22は、誘電体
19に対して小さな断面積を持つ独立した複数個(本例
では3個)の誘電体、24,25,26は、それぞれ誘
電体20,21,22と積層された電極であり、それぞ
れ電源28,29,30、電流計31,32,33を備
え付けた回路構成となっている。すなわち、誘電体1
9,電極23の対には、静電吸着の役割をさせ、誘電体
20,21,22、電極24,25,26の対には、被
保持物体を吸着したか否かの吸着確認センサー、すなわ
ちモニターの役割をさせる。
【0026】ここで、誘電体20,21,22は同じ材
質の誘電体であり、抵抗率は同じ値であるから、もし、
被保持物体であるウエハ1が確実に平坦化されていれ
ば、各回路には誘電体の単位面積あたり同じ電流が流れ
ていることになる。誘電体20,21,22を同じ表面
積とすれば、電流計31,32,33は同じ値の電流値
を検知する。そして、ウエハ1の一部の変形が矯正され
ず、平坦化が達成されていないような場合には、その部
分の静電吸着装置を構成する回路に流れる電流が他に比
べて小さな値を示し、もし、全く接触していなければ電
流値はゼロを示す。
【0027】このように、独立の回路を持った誘電体,
電極の対20,24、21,25、22,26を、静電
吸着を行う誘電体,電極の対19,23の中に埋め込
み、それぞれの回路に流れる電流値を比較することによ
って、ウエハ1が、静電吸着面19´に倣ったかどうか
を判断させる。これによって、ウエハ1全面が確実に固
定保持され、平坦化が達成されたかどうかをモニターす
る。もし、いずれかの電流計が検知した電流値が他より
低ければ、静電吸着装置への印加電圧を上げて吸着力を
増加させれば良い。
【0028】なお、本実施例では静電吸着を行う誘電
体,電極板はそれぞれ1枚の例を示したが、第一の実施
例に示したように複数枚に分割して、それぞれ独立に電
気回路を設けて、独立に吸着力を発生させても良い。
【0029】〔実施例 4〕また、上記実施例3では、
静電吸着装置の電極板が一枚であり、ウエハから導通を
取る方式のいわゆる単極型の静電吸着装置に関して説明
したが、双極型の静電吸着装置においても同様のモニタ
ー動作が可能である。図5は、本発明のさらに他の実施
例に係る双極型静電吸着装置の構成を示す説明図であ
る。図中、図4と同一符号のものは先の実施例と同等機
能のものである。図5の装置においては、静電吸着を行
う電極板は23a,23bであり、吸着のモニターを行
う部分の電極板は20a,20b、21a,21b、2
2a,22bの各2個ずつである。また、図3に示した
ように、静電吸着を行う誘電体,電極板を複数個持った
構造としても同様の効果が得られる。
【0030】〔実施例 5〕次に本発明の静電吸着方法
に関する実施例を図6ないし図14を参照して説明す
る。本実施例は、第二の発明の実施例に示したウエハ吸
着モニターを用いた静電吸着装置を例にして説明する。
図6は、本発明のさらに他の実施例に係る静電吸着装置
の全体構成を示す説明図、図7は、ウエハが下方向に凸
に変形している状態を示す断面図、図8は、ウエハが吸
着された状態を示す断面図、図9は、図6の静電吸着装
置への電圧印加方法を説明する線図である。
【0031】静電気力は隙間の距離の2乗に比例して小
さくなるので、ウエハの変形量が大きく誘電体との隙間
が大きいような場合は平坦化が達成されないことがあ
る。図6において、静電吸着を行う誘電体は、34,3
5,36の三つに分割されており、それぞれに電極板3
7,38,39、電源40,41,42が備えられてい
る。それぞれの静電吸着を行う誘電体34,35,36
には、これらに対して小さな断面積を持つ複数個の誘電
体20,21,22と電極24,25,26の対に、そ
れぞれ電源28,29,30、電流計31,32,33
を備え付けた吸着確認手段に係る吸着モニターが内蔵さ
れている。
【0032】まず、図7ないし図9を参照して、具体的
吸着方法の一例を、ウエハ1が下方向に凸に変形してい
る場合について説明する。図7,8では、図6に示した
ような電源系統の図示は省略してある。電極板37,3
8,39に所定の電圧V1を印加し、吸着力を発生させ
る。これで平坦化が達成されれば良いが、ウエハ1の変
形量が大きく誘電体との隙間が大きいような場合は平坦
化が達成されない。
【0033】このような場合、まず両端の電極板37,
39への印加電圧を吸着モニターの誘電体,電極の対2
0,24、21,25、22,26が平坦化を検知する
まで増加させる(電圧V2,V3)。この場合、隙間が
小さい方がウエハ1への吸着力は大きく作用するから、
ウエハが吸着面34´,36´から離れる部分43,4
4から、外側に向かって徐々に吸着され平坦化されるこ
とになる。
【0034】ところで、ウエハ上の素子保護のため、印
加する電圧は小さい方が好ましい。一旦吸着され、平坦
化が達成されるとウエハ1と吸着面34´,35´,3
6´には隙間がなくなり、吸着力はウエハ1が変形して
いて隙間があった時点に比べて大きくなっている。した
がって、吸着を維持するためだけであれば、印加電圧を
落とすことができる。予め所定の電圧が決まっている場
合にはその電圧まで落として良い。特に所定の電圧が決
まっていない場合、吸着維持のための最低電圧で使用す
ればウエハ1へのダメージが少なくなり好ましい。も
し、所定の電圧まで落とす途中でウエハ1が離れてしま
った場合、あるいは最低電圧を見いだすため電圧を下げ
ていった際にウエハ1が離れてしまった場合(電圧V
4)は、もう一度、電圧V1,V2,V3を印加してウ
エハ1を吸着させ、あらためてウエハ1がはずれてしま
った電圧V4より少し高めに設定した電圧V5にすれば
良い。
【0035】次に、図10ないし図14を参照して、ウ
エハ1が上方向に凸に変形している場合について説明す
る。図10は、ウエハが上方向に凸に変形している状態
を示す断面図、図11は、ウエハの周辺部のみ吸着され
た状態を示す断面図、図12は、ウエハの一方の周辺部
が吸着された状態を示す断面図、図13は、ウエハが前
面に吸着された状態を示す断面図、図14は、図6の静
電吸着装置への電圧印加方法を説明する線図である。図
10ないし図13では、図6に示したような電源系統の
図示を省略してある。
【0036】電極板37,38,39に所定の電圧V1
を印加し、吸着力を発生させる。ウエハ1の変形量が大
きく誘電体との隙間が大きいような場合は図11に示す
ようにウエハ1の周辺部だけ吸着面34´,36´に吸
着され、中央部は吸着されない。中央部のウエハ1の変
形を修正するためには、ウエハ1は周辺部に向かって変
形している分、伸びなければならない。しかしこの場
合、ウエハ1は周辺部で吸着され、拘束されるために中
央部電極板38への印加電圧を増加させても、変形の修
正がされずらい。したがって、一旦印加電圧を落とし
(t2)、再びウエハ1の端の方の吸着部のうちいずれ
か一方に電圧を印加する。
【0037】本実施例では誘電体36の電極板39に電
圧を印加するものとする(図12)。吸着モニターであ
る誘電体,電極の対22,26が吸着を検知するまで電
圧は印加する(V1)。この場合、図示のようにウエハ
の中央部に行くに従って、ウエハ1は吸着面36´,3
5´から離れている。次いで中央部の吸着面の電極板3
8に、吸着モニターである誘電体,電極の対21,25
が吸着を検知するまで電圧を印加する(V2)。すでに
述べたように、隙間が小さい方がウエハ1への吸着力は
大きく作用するから、ウエハ1が吸着面35´,36か
ら離れる部分47から内側に向かって徐々に吸着され
る。
【0038】そして最後に、吸着面34´の電極板37
に、吸着モニターである誘電体,電極の対20,24が
吸着を検知するまで電圧を印加する(V3)。このよう
にすることによって、効果的に平坦化を達成させること
が可能となる。また、図7ないし図9の実施例で説明し
たように所定の電圧、あるいは吸着維持のための最低電
圧で使用すれば、ウエハ上の素子保護、省電力になる。
【0039】このように、吸着モニターである誘電体,
電極の対20,24、21,25、22,26からの、
吸着されたか否かの信号を受けて、分割した各静電吸着
部の電極37,38,39への印加電圧を制御装置17
によって制御すれば、効果的な静電吸着を行うことがで
き、かつ、ウエハ1へのダメージを最低限に抑え、省電
力にも役立つ。
【0040】なお、本発明は、静電吸着を効果的に行う
方法に関するものである。本実施例では、誘電体、電
極、電源、電流計からなる吸着モニターを使用した例を
挙げたが、特にこの吸着モニター方法に限定さえるもの
ではなく、例えば、変位センサー、静電容量センサーな
どをモニター手段としても同様の効果が得られる。
【0041】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ウエハの反りが矯正され、被保持物が確実に吸着
固定されたことを確認しうる静電吸着装置を提供するこ
とができる。また、本発明によれば、被保持物が確実に
吸着固定されたか否か、また平坦化されたか否かモニタ
ーできる静電吸着装置の電圧印加方法を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る静電吸着装置の構成を
示す断面図である。
【図2】図1の装置におけるウエハの吸着作用を説明す
る要部拡大図である。
【図3】本発明の他の実施例に係る双極型静電吸着装置
の構成を示す説明図である。
【図4】本発明のさらに他の実施例に係る静電吸着装置
の構成を示す断面図である。
【図5】本発明のさらに他の実施例に係る双極型静電吸
着装置の構成を示す説明図である。
【図6】本発明のさらに他の実施例に係る静電吸着装置
の全体構成を示す説明図である。
【図7】ウエハが下方向に凸に変形している状態を示す
断面図である。
【図8】ウエハが吸着された状態を示す断面図である。
【図9】図6の静電吸着装置への電圧印加方法を説明す
る線図である。
【図10】ウエハが上方向に凸に変形している状態を示
す断面図である。
【図11】ウエハの周辺部のみ吸着された状態を示す断
面図である。
【図12】ウエハの一方の周辺部が吸着された状態を示
す断面図である。
【図13】ウエハが全面に吸着された状態を示す断面図
である。
【図14】図6の静電吸着装置への電圧印加方法を説明
する線図である。
【符号の説明】
1 ウエハ2,3,4,19,20,21,22,3
4,35,36 誘電体 5,6,7,23,24,25,26,37,38,3
9 電極板 8,9,10,27,28,29,30,40,41,
42 電源 11,12,13,31,32,33 電流計 16 絶縁材 17 制御装置

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極
    板と被保持物体との間に電位差を生じさせることによっ
    て前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着装
    置において、 少なくとも前記電極板を二つ以上に分割し、かつ、分割
    された部分を電気的に絶縁される構造として、それぞれ
    独立に電位差を発生させる電源と、各回路に流れる電流
    を計測する手段とを設けたことを特徴とする静電吸着装
    置。
  2. 【請求項2】 電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極
    板と被保持物体との間に電位差を生じさせることによっ
    て前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着装
    置において、 前記電極板および誘電体を、二つ以上に分割し、かつ、
    分割された部分を電気的に絶縁される構造として、それ
    ぞれ独立に電位差を発生させる電源と、各回路に流れる
    電流を計測する手段とを設けたことを特徴とする静電吸
    着装置。
  3. 【請求項3】 電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極
    板と被保持物体との間に電位差を生じさせることによっ
    て前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着装
    置において、 前記吸着力を発生させる誘電体および電極板内に、これ
    とは独立に誘電体および電極板を積み重ね、前記吸着力
    を発生させる手段とは独立に、それぞれ電位差を発生さ
    せる電源と各回路に流れる電流を計測する手段とを備え
    た吸着確認手段を、前記吸着力を発生させる手段の電極
    板との間を絶縁して二つ以上設けたことを特徴とする静
    電吸着装置。
  4. 【請求項4】 電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極
    板と被保持物体との間に電位差を生じさせることによっ
    て前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着方
    法において、 少なくとも前記電極板を、互いの間を絶縁し二つ以上に
    分割して、それぞれ独立に電位差を発生させる電源と吸
    着確認手段とを有する構成とし、 前記吸着確認手段からの情報によって、分割された静電
    吸着部分それぞれへの印加電圧の大きさ、また、それぞ
    れの電圧印加の開始時間を、それぞれ独立に変化させる
    ことを特徴とする静電吸着装置の吸着方法。
  5. 【請求項5】 電極板と誘電体とを積み重ね、前記電極
    板と被保持物体との間に電位差を生じさせることによっ
    て前記誘電体に前記被保持物体を吸着させる静電吸着方
    法において、 前記電極板および誘電体を、互いの間を絶縁し二つ以上
    に分割して、それぞれ独立に電位差を発生させる電源と
    吸着確認手段とを有する構成とし、 前記吸着確認手段からの情報によって、分割された静電
    吸着部分それぞれへの印加電圧の大きさ、また、それぞ
    れの電圧印加の開始時間を、それぞれ独立に変化させる
    ことを特徴とする静電吸着装置の吸着方法。
  6. 【請求項6】 吸着確認手段は、被保持物体が下に凸の
    形状に変形があると判断したときは、まず、二つ以上に
    分割した静電吸着部の中央部の静電吸着部の電極に電圧
    を印加し、ついで周辺部の静電吸着部の電極に向かって
    順次に、各静電吸着部に設けられた吸着確認手段が、前
    記被保持物体の吸着を確認するまで電圧を印加すること
    を特徴とする請求項4または5記載のいずれかの静電吸
    着装置の吸着方法。
  7. 【請求項7】 吸着確認手段は、被保持物体が上に凸の
    形状に変形があると判断したときは、まず、二つ以上に
    分割した静電吸着部の最周辺部の一静電吸着部の電極
    に、吸着確認手段が吸着を確認するまで電圧を印加し、
    ついで中央部、さらに最初吸着したのと反対側の最周辺
    部の静電吸着部の電極に向かって順次に、各静電吸着部
    に設けられた吸着確認手段が、前記被保持物体の吸着を
    確認するまで電圧を印加することを特徴とする請求項4
    または5記載のいずれかの静電吸着装置の吸着方法。
  8. 【請求項8】 静電吸着装置において、被保持物体の吸
    着完了後、一旦徐々に電圧を低下させて吸着を解除し、
    再び電圧を印加して前記被保持物体を吸着し、その後、
    上述の吸着が解除された電圧より若干高い値に電圧を設
    定することを特徴とする請求項4ないし7記載のいずれ
    かの静電吸着装置の吸着方法。
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Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09167794A (ja) * 1995-12-15 1997-06-24 Sony Corp 静電チャックおよびプラズマ処理方法
JPH09237826A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Kyocera Corp 静電チャック
JPH11150176A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Tokyo Electron Ltd 基板保持方法,基板保持装置及び基板処理方法
JP2002217277A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Hitachi Chem Co Ltd 静電チャック
JP2003037159A (ja) * 2001-07-25 2003-02-07 Toto Ltd 静電チャックユニット
JP2003302913A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Shin-Etsu Engineering Co Ltd フラットパネル用基板の貼り合わせ装置
JP2003302912A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Shin-Etsu Engineering Co Ltd フラットパネル用基板の貼り合わせ装置
JP2004233672A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Shin-Etsu Engineering Co Ltd 基板貼り合わせ装置
JP2005136025A (ja) * 2003-10-29 2005-05-26 Trecenti Technologies Inc 半導体製造装置、半導体装置の製造方法及びウエハステージ
JP2012060175A (ja) * 2011-12-19 2012-03-22 Fujitsu Semiconductor Ltd 基板検知装置及び方法
KR20140069198A (ko) * 2011-09-30 2014-06-09 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 정전 척
JP2018085498A (ja) * 2016-09-06 2018-05-31 エスピーティーエス テクノロジーズ リミティド ウェハ基板の変形を監視及び制御する方法及びシステム
CN109913842A (zh) * 2017-12-13 2019-06-21 佳能特机株式会社 静电吸盘装置、掩模安装装置、成膜装置、成膜方法及电子设备的制造方法
KR20190078439A (ko) * 2017-12-26 2019-07-04 캐논 톡키 가부시키가이샤 정전척, 이를 포함하는 성막장치, 기판의 보유지지 및 분리방법, 이를 포함하는 성막방법, 및 이를 사용하는 전자 디바이스의 제조방법
KR20190079450A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 캐논 톡키 가부시키가이샤 정전척, 성막 장치, 기판 흡착/박리 방법, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
JP2019125603A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 株式会社アルバック 吸着方法
JP2019186433A (ja) * 2018-04-12 2019-10-24 東京エレクトロン株式会社 静電チャック、基板処理装置、及び、基板保持方法
JP2019216230A (ja) * 2018-06-11 2019-12-19 キヤノントッキ株式会社 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
JP2019216215A (ja) * 2018-06-14 2019-12-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2020021925A (ja) * 2018-07-31 2020-02-06 キヤノントッキ株式会社 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
JP2021007122A (ja) * 2019-06-27 2021-01-21 株式会社アルバック 真空装置、吸着装置、吸着方法
CN112635381A (zh) * 2019-10-08 2021-04-09 长鑫存储技术有限公司 控制方法、控制***及半导体制造设备
KR20220091281A (ko) * 2020-12-23 2022-06-30 한국세라믹기술원 센서 칩이 장착된 정전척 및 이를 이용한 정전용량 및 척킹력 측정 방법

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09167794A (ja) * 1995-12-15 1997-06-24 Sony Corp 静電チャックおよびプラズマ処理方法
JPH09237826A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Kyocera Corp 静電チャック
JPH11150176A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Tokyo Electron Ltd 基板保持方法,基板保持装置及び基板処理方法
JP2002217277A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Hitachi Chem Co Ltd 静電チャック
JP2003037159A (ja) * 2001-07-25 2003-02-07 Toto Ltd 静電チャックユニット
JP2003302913A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Shin-Etsu Engineering Co Ltd フラットパネル用基板の貼り合わせ装置
JP2003302912A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Shin-Etsu Engineering Co Ltd フラットパネル用基板の貼り合わせ装置
JP2004233672A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Shin-Etsu Engineering Co Ltd 基板貼り合わせ装置
JP2005136025A (ja) * 2003-10-29 2005-05-26 Trecenti Technologies Inc 半導体製造装置、半導体装置の製造方法及びウエハステージ
KR20140069198A (ko) * 2011-09-30 2014-06-09 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 정전 척
JP2012060175A (ja) * 2011-12-19 2012-03-22 Fujitsu Semiconductor Ltd 基板検知装置及び方法
JP2018085498A (ja) * 2016-09-06 2018-05-31 エスピーティーエス テクノロジーズ リミティド ウェハ基板の変形を監視及び制御する方法及びシステム
CN109913842A (zh) * 2017-12-13 2019-06-21 佳能特机株式会社 静电吸盘装置、掩模安装装置、成膜装置、成膜方法及电子设备的制造方法
CN109913842B (zh) * 2017-12-13 2022-03-29 佳能特机株式会社 静电吸盘装置、掩模安装装置、成膜装置、成膜方法及电子设备的制造方法
JP2019106532A (ja) * 2017-12-13 2019-06-27 キヤノントッキ株式会社 静電チャック装置、マスク取付装置、成膜装置、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法
KR20190078439A (ko) * 2017-12-26 2019-07-04 캐논 톡키 가부시키가이샤 정전척, 이를 포함하는 성막장치, 기판의 보유지지 및 분리방법, 이를 포함하는 성막방법, 및 이를 사용하는 전자 디바이스의 제조방법
JP2019117923A (ja) * 2017-12-26 2019-07-18 キヤノントッキ株式会社 静電チャック、これを含む成膜装置、基板の保持及び分離方法、これを含む成膜方法、及びこれを用いる電子デバイスの製造方法
KR20190079450A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 캐논 톡키 가부시키가이샤 정전척, 성막 장치, 기판 흡착/박리 방법, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
JP2019125603A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 株式会社アルバック 吸着方法
JP2019186433A (ja) * 2018-04-12 2019-10-24 東京エレクトロン株式会社 静電チャック、基板処理装置、及び、基板保持方法
JP2019216230A (ja) * 2018-06-11 2019-12-19 キヤノントッキ株式会社 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
JP2019216215A (ja) * 2018-06-14 2019-12-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2020021925A (ja) * 2018-07-31 2020-02-06 キヤノントッキ株式会社 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
JP2021007122A (ja) * 2019-06-27 2021-01-21 株式会社アルバック 真空装置、吸着装置、吸着方法
CN112635381A (zh) * 2019-10-08 2021-04-09 长鑫存储技术有限公司 控制方法、控制***及半导体制造设备
CN112635381B (zh) * 2019-10-08 2022-03-22 长鑫存储技术有限公司 控制方法、控制***及半导体制造设备
KR20220091281A (ko) * 2020-12-23 2022-06-30 한국세라믹기술원 센서 칩이 장착된 정전척 및 이를 이용한 정전용량 및 척킹력 측정 방법

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