JPH06195973A - ダイナミックram - Google Patents
ダイナミックramInfo
- Publication number
- JPH06195973A JPH06195973A JP4273247A JP27324792A JPH06195973A JP H06195973 A JPH06195973 A JP H06195973A JP 4273247 A JP4273247 A JP 4273247A JP 27324792 A JP27324792 A JP 27324792A JP H06195973 A JPH06195973 A JP H06195973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sense amplifier
- signal
- level
- selection
- transfer gate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
- G11C7/1006—Data managing, e.g. manipulating data before writing or reading out, data bus switches or control circuits therefor
Landscapes
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 センス動作時にビット線をメモリセル側とセ
ンスアンプ側に分離するためのトランスファゲートに対
して、二重ワード線方式を用いたダイナミックRAMに
適した駆動方式および回路を提供する。 【構成】 トランスファゲートの駆動回路もワード線と
同様に分散配置する。駆動回路のドライバトランジスタ
にnMOSトランジスタを用い、非選択時には昇圧電位
からnMOSトランジスタの閾値電圧だけ低いレベルに
設定する。その後、センスアンプ電源活性化信号でセン
スアンプ動作と同時に選択側を昇圧電位レベル、非選択
側を接地レベルに設定する。リセット時には選択側と選
択逆側をバランスすることにより、双方を非選択時のレ
ベルに戻す。
ンスアンプ側に分離するためのトランスファゲートに対
して、二重ワード線方式を用いたダイナミックRAMに
適した駆動方式および回路を提供する。 【構成】 トランスファゲートの駆動回路もワード線と
同様に分散配置する。駆動回路のドライバトランジスタ
にnMOSトランジスタを用い、非選択時には昇圧電位
からnMOSトランジスタの閾値電圧だけ低いレベルに
設定する。その後、センスアンプ電源活性化信号でセン
スアンプ動作と同時に選択側を昇圧電位レベル、非選択
側を接地レベルに設定する。リセット時には選択側と選
択逆側をバランスすることにより、双方を非選択時のレ
ベルに戻す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリに関し、
特にダイナミックRAMに関するものである。
特にダイナミックRAMに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ダイナミツクRAMにおいて、図4に示
すようにセンスアンプ12の動作時にビット線をメモリ
セル10,14側とセンスアンプ12側とに分離するト
ランスファゲートTGをnMOSトランジスタで構成す
る場合、その制御信号の高電位レベルは、センスアンプ
の高電位を完全にメモリセル側に伝達するために昇圧電
位を用いる必要がある。従って、二重ワード線方式を用
いたダイナミックRAMにおいてトランスファゲート駆
動回路(TG駆動回路)を図5に示すようにワードドラ
イバ列とセンスアンプ列の交差する部分に分散配置する
場合には、図6のような回路となり、その動作は図7の
ようになる。スタンバイ時にはメイントランスファゲー
ト信号MTG0,MTG1は共に接地電位GNDとなっ
ており、サブトランスファゲート信号STG00,ST
G01は共に昇圧電位VPPとなっている。すなわち、
ビット線のメモリセル側とセンスアンプ側は、接続され
た状態となっている。センスアンプが選択されると、選
択側のメインTG信号、例えばMTG0はGNDレベル
のままで、選択逆側のメインTG信号、例えばMTG1
はVPPレベルに引き上げられる。すなわち、選択逆側
のサブTG信号STG01だけがGNDレベルに引き落
とされ、ビット線のメモリセル側とセンスアンプ側が切
り離される。
すようにセンスアンプ12の動作時にビット線をメモリ
セル10,14側とセンスアンプ12側とに分離するト
ランスファゲートTGをnMOSトランジスタで構成す
る場合、その制御信号の高電位レベルは、センスアンプ
の高電位を完全にメモリセル側に伝達するために昇圧電
位を用いる必要がある。従って、二重ワード線方式を用
いたダイナミックRAMにおいてトランスファゲート駆
動回路(TG駆動回路)を図5に示すようにワードドラ
イバ列とセンスアンプ列の交差する部分に分散配置する
場合には、図6のような回路となり、その動作は図7の
ようになる。スタンバイ時にはメイントランスファゲー
ト信号MTG0,MTG1は共に接地電位GNDとなっ
ており、サブトランスファゲート信号STG00,ST
G01は共に昇圧電位VPPとなっている。すなわち、
ビット線のメモリセル側とセンスアンプ側は、接続され
た状態となっている。センスアンプが選択されると、選
択側のメインTG信号、例えばMTG0はGNDレベル
のままで、選択逆側のメインTG信号、例えばMTG1
はVPPレベルに引き上げられる。すなわち、選択逆側
のサブTG信号STG01だけがGNDレベルに引き落
とされ、ビット線のメモリセル側とセンスアンプ側が切
り離される。
【0003】センス動作終了時には、再び選択逆側のメ
インTG信号MTG1がGNDレベルに引き落とされ、
サブTG信号STG01がVPPレベルに引き上げられ
て、センスアンプの両側がメモリセルと接続されて、ス
タンバイ状態に戻る。
インTG信号MTG1がGNDレベルに引き落とされ、
サブTG信号STG01がVPPレベルに引き上げられ
て、センスアンプの両側がメモリセルと接続されて、ス
タンバイ状態に戻る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のダイナミックR
AMでは、センス動作時にビット線をメモリセル側とセ
ンスアンプ側に分離するためのトランスファゲートの駆
動回路は、昇圧電位を用いた回路となるためウェルを別
に設ける必要があり、特に分散配置するためにはチップ
面積が増加し、コストの上昇を招いていた。
AMでは、センス動作時にビット線をメモリセル側とセ
ンスアンプ側に分離するためのトランスファゲートの駆
動回路は、昇圧電位を用いた回路となるためウェルを別
に設ける必要があり、特に分散配置するためにはチップ
面積が増加し、コストの上昇を招いていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、二重ワード線
方式における各ブロックのワードドライバ列とセンスア
ンプ列の交差する部分に、センスアンプ動作時にビット
線をメモリセル側とセンスアンプ側に分離するためのト
ランスファゲートの駆動回路を分散配置し、分割駆動す
るのに適した駆動回路を備えている。
方式における各ブロックのワードドライバ列とセンスア
ンプ列の交差する部分に、センスアンプ動作時にビット
線をメモリセル側とセンスアンプ側に分離するためのト
ランスファゲートの駆動回路を分散配置し、分割駆動す
るのに適した駆動回路を備えている。
【0006】
【実施例】図1に本発明の実施例の回路図を示す。ま
た、その動作波形を図2に示す。ドライバトランジスタ
Q1,Q2,Q3,Q4にnMOSトランジスタを用い
る。非選択時には、メインTG信号MTG0,MTG1
は共にVPPレベルであり、トランジスタQ2,Q4に
よりサブTG信号STG00,STG01は共にVPP
レベルよりnMOSトランジスタの閾値電圧VTNだけ
低い電圧レベルに設定される。センス動作時には図2に
示すように選択側のメインTG信号(ここではMTG
0)はVPPレベルを保ち、選択逆側のメインTG信号
MTG1はGNDレベルに引き落とされる。従って、選
択側サブTG信号STG00はVPP−VTNのレベル
を保ち、選択逆側のサブTG信号STG01はトランジ
スタQ5を通してGNDレベルに引き落とされる。
た、その動作波形を図2に示す。ドライバトランジスタ
Q1,Q2,Q3,Q4にnMOSトランジスタを用い
る。非選択時には、メインTG信号MTG0,MTG1
は共にVPPレベルであり、トランジスタQ2,Q4に
よりサブTG信号STG00,STG01は共にVPP
レベルよりnMOSトランジスタの閾値電圧VTNだけ
低い電圧レベルに設定される。センス動作時には図2に
示すように選択側のメインTG信号(ここではMTG
0)はVPPレベルを保ち、選択逆側のメインTG信号
MTG1はGNDレベルに引き落とされる。従って、選
択側サブTG信号STG00はVPP−VTNのレベル
を保ち、選択逆側のサブTG信号STG01はトランジ
スタQ5を通してGNDレベルに引き落とされる。
【0007】その後、センスアンプ電源活性化信号SA
NSが活性化され、GNDレベルから内部電源電圧VC
Cレベルまで引き上げられる。SANSが活性化される
ことによりトランジスタQ6のゲートである節点N1が
ブーストされ選択側サブTG信号STG00はVPPレ
ベルに昇圧される。
NSが活性化され、GNDレベルから内部電源電圧VC
Cレベルまで引き上げられる。SANSが活性化される
ことによりトランジスタQ6のゲートである節点N1が
ブーストされ選択側サブTG信号STG00はVPPレ
ベルに昇圧される。
【0008】センス動作終了後には再びMTG1がVP
Pレベルに引き上げられ、トランジスタQ4がオンし、
STG01がVPP−VTNのレベルまで引き上げられ
る。その際、Q7,Q8は共にオンしているため、ST
G00とSTG01はバランスしながらSTG01は引
き上げられる。すなわち、このときVPPレベルに引き
上げられている選択側サブTG信号STG00もVPP
−VTNのレベルまで引き下げられ、非選択時の状態に
戻される。
Pレベルに引き上げられ、トランジスタQ4がオンし、
STG01がVPP−VTNのレベルまで引き上げられ
る。その際、Q7,Q8は共にオンしているため、ST
G00とSTG01はバランスしながらSTG01は引
き上げられる。すなわち、このときVPPレベルに引き
上げられている選択側サブTG信号STG00もVPP
−VTNのレベルまで引き下げられ、非選択時の状態に
戻される。
【0009】
【発明の効果】図6のような従来例の回路を用いた場
合、ドライバにVPPレベルを電源とするpMOSトラ
ンジスタを用いるため、図3に示すようにVPPレベル
のNウェルNWELL2を設ける必要がある。また、セ
ンスアンプのnMOSトランジスタはメモリセルトラン
ジスタと同様基板電圧を通常負の電圧VSUBに引いて
いるためVSUBのPウェルが必要となり、その周囲に
基板と分離するためのVCCレベルのNウェルNWEL
L1が必要となる。さらに、TG駆動回路部のNWEL
L2とセンスアンプ部のNWELL1は電位が異なるた
め、この2つを分離するためのGNDレベルのPウェル
が必要となる。以上より、TG駆動回路とセンスアンプ
部のウェル構造は図3(b)のようになる。
合、ドライバにVPPレベルを電源とするpMOSトラ
ンジスタを用いるため、図3に示すようにVPPレベル
のNウェルNWELL2を設ける必要がある。また、セ
ンスアンプのnMOSトランジスタはメモリセルトラン
ジスタと同様基板電圧を通常負の電圧VSUBに引いて
いるためVSUBのPウェルが必要となり、その周囲に
基板と分離するためのVCCレベルのNウェルNWEL
L1が必要となる。さらに、TG駆動回路部のNWEL
L2とセンスアンプ部のNWELL1は電位が異なるた
め、この2つを分離するためのGNDレベルのPウェル
が必要となる。以上より、TG駆動回路とセンスアンプ
部のウェル構造は図3(b)のようになる。
【0010】これに対して図1の本発明の回路では、V
PPレベルのPウェルを設ける必要がなく、TG駆動回
路とセンスアンプ部のウェル構造は図3(a)のように
なり、センスアンプと共通のPウェルを用いることがで
きる。従って、本発明のTG駆動回路は、従来例の回路
と比べて素子数は増加しているが、分離のためのウェル
の面積を考慮すると本発明のTG駆動回路の方が面積を
小さくできる。また、サブトランスファゲート信号を接
地電位レベルに引き落とすためにpMOSトランジスタ
を用いているが、このトランジスタの電源は内部電源V
CCを用いている。VCCレベルのNウェルはセンスア
ンプ用にすでに存在し、ウェルを共通にすることができ
るため、これによる面積の増加はほとんどない。
PPレベルのPウェルを設ける必要がなく、TG駆動回
路とセンスアンプ部のウェル構造は図3(a)のように
なり、センスアンプと共通のPウェルを用いることがで
きる。従って、本発明のTG駆動回路は、従来例の回路
と比べて素子数は増加しているが、分離のためのウェル
の面積を考慮すると本発明のTG駆動回路の方が面積を
小さくできる。また、サブトランスファゲート信号を接
地電位レベルに引き落とすためにpMOSトランジスタ
を用いているが、このトランジスタの電源は内部電源V
CCを用いている。VCCレベルのNウェルはセンスア
ンプ用にすでに存在し、ウェルを共通にすることができ
るため、これによる面積の増加はほとんどない。
【0011】また、選択側のトランスファゲート信号を
VPPレベルに昇圧するのに、すでに配線されているセ
ンスアンプ電源活性化信号を用いているので、このこと
による配線の増加、回路の増加もない。
VPPレベルに昇圧するのに、すでに配線されているセ
ンスアンプ電源活性化信号を用いているので、このこと
による配線の増加、回路の増加もない。
【0012】さらに、選択逆側のトランスファゲートの
振幅はVPP−VTNとなる。これは、従来例の振幅V
PPより小さく、消費電流をVTN/VPPだけ削減す
ることができる。
振幅はVPP−VTNとなる。これは、従来例の振幅V
PPより小さく、消費電流をVTN/VPPだけ削減す
ることができる。
【図1】本発明の実施例の回路図である。
【図2】実施例の回路の動作波形図である。
【図3】実施例および従来例のウェル構造を示す断面図
である。
である。
【図4】ダイナミックRAMに用いるトランスファゲー
ト回路を説明する図である。
ト回路を説明する図である。
【図5】トランスファゲート駆動回路の分散配置図であ
る。
る。
【図6】従来例の回路図である。
【図7】従来例の回路の動作波形図である。
VPP 昇圧電位 VCC 内部電源電位 GND 接地電位 MTG0,MTG1 メインTG信号 STG00,STG01 サブTG信号 SANS センスアンプ電源活性化信号 Q1〜Q8 nMOSトランジスタ N1 昇圧節点
Claims (3)
- 【請求項1】 分割された複数個のブロックからなり、
各々のブロックにワードドライバ列、センスアンプ列を
有する二重ワード線方式を用いたダイナミックRAMに
おいて、ビット線をメモリセル側とセンスアンプ側に分
離するためのトランスファゲートもワード線と同様に駆
動回路を分散配置し、トランスファゲートの電圧レベル
として非選択時には昇圧電位よりnMOSトランジスタ
の閾値電圧分低い電位、選択時の選択側には昇圧電位、
選択時の選択逆側には接地電位の3電位を用いることを
特徴とするダイナミックRAM。 - 【請求項2】 請求項1を実現する分散配置されたトラ
ンスファゲート駆動回路において、その活性化信号にセ
ンスアンプ電源活性化信号を用いることを特徴とするダ
イナミックRAM。 - 【請求項3】 請求項2のトランスファゲート駆動回路
において、リセット時には、選択側と選択逆側とをバラ
ンスさせながら昇圧電位よりnMOSトランジスタの閾
値電圧分低い電位まで戻すことを特徴とするダイナミッ
クRAM。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4273247A JPH06195973A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | ダイナミックram |
US08/133,868 US5400291A (en) | 1992-10-12 | 1993-10-12 | Dynamic RAM |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4273247A JPH06195973A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | ダイナミックram |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06195973A true JPH06195973A (ja) | 1994-07-15 |
Family
ID=17525178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4273247A Pending JPH06195973A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | ダイナミックram |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5400291A (ja) |
JP (1) | JPH06195973A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3183699B2 (ja) * | 1992-03-13 | 2001-07-09 | 沖電気工業株式会社 | 半導体記憶装置 |
US5999461A (en) * | 1996-06-07 | 1999-12-07 | Ramtron International Corporation | Low voltage bootstrapping circuit |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5792486A (en) * | 1980-10-10 | 1982-06-09 | Inmos Corp | Folded bit line-common use sensing amplifier structure in mos memory |
JPS5823388A (ja) * | 1981-08-05 | 1983-02-12 | Nec Corp | メモリ装置 |
JPS58164092A (ja) * | 1982-03-02 | 1983-09-28 | シ−メンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 書込み・読出しicメモリ |
JPS6063791A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Toshiba Corp | 電圧センス増幅回路 |
JPH02156497A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH0386992A (ja) * | 1989-06-06 | 1991-04-11 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3660819A (en) * | 1970-06-15 | 1972-05-02 | Intel Corp | Floating gate transistor and method for charging and discharging same |
-
1992
- 1992-10-12 JP JP4273247A patent/JPH06195973A/ja active Pending
-
1993
- 1993-10-12 US US08/133,868 patent/US5400291A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5792486A (en) * | 1980-10-10 | 1982-06-09 | Inmos Corp | Folded bit line-common use sensing amplifier structure in mos memory |
JPS5823388A (ja) * | 1981-08-05 | 1983-02-12 | Nec Corp | メモリ装置 |
JPS58164092A (ja) * | 1982-03-02 | 1983-09-28 | シ−メンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 書込み・読出しicメモリ |
JPS6063791A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Toshiba Corp | 電圧センス増幅回路 |
JPH02156497A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH0386992A (ja) * | 1989-06-06 | 1991-04-11 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5400291A (en) | 1995-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4061121B2 (ja) | ワードライン放電方法及び半導体メモリ装置 | |
US9123435B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JP2812099B2 (ja) | 半導体メモリ | |
EP0905904B1 (en) | Semiconductor integrated circuit having tri-state logic gate circuit | |
JP3478953B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3024687B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US5016224A (en) | Semiconductor memory device | |
US5103113A (en) | Driving circuit for providing a voltage boasted over the power supply voltage source as a driving signal | |
JP2000200489A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3093771B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH04212791A (ja) | メモリ | |
JPH0817226B2 (ja) | ワード線ドライバ回路 | |
US7002862B2 (en) | Semiconductor memory device with sense amplifier driver having multiplied output lines | |
KR100283542B1 (ko) | 입력 신호의 오버슈트, 언더슈트를 피엔 접합을 이용한 회로에의해 클램프하는 반도체 기억 장치 | |
JP3453552B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US5953259A (en) | Integrated circuit memory devices having cross-coupled isolation gate controllers which provide simultaneous reading and writing capability to multiple memory arrays | |
JPH05144270A (ja) | デコーダ回路 | |
EP0503524A2 (en) | Semiconductor memory device | |
KR100316418B1 (ko) | 감지증폭기의pmos소오스를풀업시키는n채널mos트랜지스터를갖는반도체메모리장치 | |
JPH0973780A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH06195973A (ja) | ダイナミックram | |
EP0712134A2 (en) | Semiconductor memory | |
JP4125540B2 (ja) | 半導体装置 | |
US7733681B2 (en) | Ferroelectric memory with amplification between sub bit-line and main bit-line | |
US6906979B2 (en) | Semiconductor memory device having bit line kicker |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19950627 |