JPH06163353A

JPH06163353A - 投影露光装置

Info

Publication number: JPH06163353A
Application number: JP4314838A
Authority: JP
Inventors: Takechika Nishi; 健爾西
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1992-11-25
Filing date: 1992-11-25
Publication date: 1994-06-10
Anticipated expiration: 2017-10-21
Also published as: JP3336441B2

Abstract

(57)【要約】【目的】ウエハ又はレチクルが載置されたステージを
加速する際に、その駆動力の反作用によりそのステージ
の支持部の傾きや変形が生じないようにする。【構成】ベース１上に防振ばね２Ａ，２Ｂを介してコ
ラム１２Ａ及び１２Ｂを載置し、第１コラム１２Ａ内に
ウエハ６のステージ系４，５を配置し、第２コラム１２
Ｂ上にレチクル１１のステージ系９を配置する。ベース
１上に植設された固定コラム１３の電磁石部１５Ａ，１
９Ａからコラム１２Ａ，１２Ｂの永久磁石埋め込み部１
４Ａ，１８Ａにリニアモーター方式で力を付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば所謂スリットス
キャン露光方式でレチクルのパターンの像をウエハ上に
露光する投影露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等をリソグ
ラフィ工程で製造する際に、露光光のもとでフォトマス
ク又はレチクル（以下「レチクル」と総称する）のパタ
ーン像を投影光学系を介して感光基板上に投影する投影
露光装置が使用されている。斯かる投影露光装置におい
ては、レチクル上のより大きいチップパターンの像を感
光基板上に露光する大フィールド化に対する要求が高ま
っている。大フィールド化に対する要求に応えるために
は、レチクル及び感光基板を例えばスリット状又は円弧
状の照明領域に対して同期して走査する所謂スリットス
キャン露光方式が有効である。これにより、レチクル上
のその照明領域よりも広いパターンの像を感光基板上に
露光することができる。

【０００３】図４は従来のスリットスキャン露光方式の
投影露光装置を示し、この図４において、ベース１上に
防振ばね２Ａ及び２Ｂを介してインバー（低膨張率の合
金）よりなる第１コラム３が載置されている。第１コラ
ム３の内部にはＹステージ４及びＸステージ５が載置さ
れ、Ｘステージ５上に感光基板としてのウエハ６が保持
されている。また、第１コラム３の上部に鏡筒７が固定
され、鏡筒７の内部に投影光学系ＰＬが収納されてい
る。Ｙステージ４は、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な面
（水平面）内で図４の紙面に垂直な方向にウエハ６の位
置決めを行い、Ｘステージ５は、水平面内でＹ軸に垂直
なＸ方向にウエハ６の位置決めを行う。なお、図示省略
するも、Ｘステージ５とウエハ６との間には、ウエハ６
を投影光学系ＰＬの光軸方向であるＺ方向に位置決めす
るＺステージ等も介装されている。

【０００４】第１コラム３上にインバーよりなる第２コ
ラム８が固定され、第２コラム８の上部にＸ方向に摺動
自在なレチクル走査ステージ９が載置され、レチクル走
査ステージ９上に転写用のパターンが形成されたレチク
ル１１が保持されている。レチクル１１上のパターンは
照明光学系１０から射出された露光光ＩＬに照明され、
レチクル１１上のパターン像が投影光学系ＰＬを介して
ウエハ６上に投影露光される。この場合、照明光学系１
０によるレチクル１１上の照明領域は、例えば矩形のス
リット状であり、その照明領域だけではレチクル１１上
の全パターン領域が照明されない。

【０００５】そこで、露光時にはレチクル走査ステージ
９を駆動することにより、その照明領域に対して、レチ
クル１１をその照明領域の長手方向に垂直な方向である
Ｘ方向に一定速度Ｖ１で走査する。これに同期して、Ｘ
ステージ５を駆動することにより、ウエハ６をその照明
領域内のレチクル像に対して−Ｘ方向に一定速度Ｖ２で
走査する。投影光学系ＰＬによるレチクル１１からウエ
ハ６への投影倍率をβとすると、速度Ｖ２はβ・Ｖ１で
ある。このようにして、レチクル１１及びウエハ５を同
期して走査することにより、レチクル１１の全パターン
の像がウエハ６上に投影露光される。その後、Ｙステー
ジ４及びＸステージ５を駆動することにより、ウエハ６
上の次の露光領域が投影光学系ＰＬの露光フィールド内
に移動する。

【０００６】この際に、レチクル走査ステージ９、Ｙス
テージ４及びＸステージ５の駆動により発生する振動は
第１コラム３及び第２コラム８により減衰される。ま
た、ベース１が設置されている床側からの振動は、防振
ばね２Ａ及び２Ｂにより吸収されて第１コラム３側には
ほとんど伝わらないようになっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に於いては、レチクル１１及びウエハ６をそれぞれ等速
度で走査する必要があり、ステージ静止状態から等速度
走査に達するまでの間、又は等速度走査からステージ静
止状態に達するまでの間は、Ｘステージ５及びレチクル
走査ステージ９に対してそれぞれを支持している第１コ
ラム３及び第２コラム８から所定の駆動力を与える必要
がある。

【０００８】例えば図５（ａ）に示すように、レチクル
走査ステージ９及びＸステージ５のの質量をそれぞれＭ
１及びＭ２として、レチクル走査ステージ９及びＸステ
ージ５に与えた加速度をそれぞれｇ１及びｇ２とする
と、レチクル走査ステージ９及びＸステージ５に与えた
駆動力はそれぞれＭ１・ｇ１及びＭ２・ｇ２で表される
（簡単の為に摩擦による誤差は除く）。それらステージ
がそれぞれ一定の走査速度に達するまでそれら駆動力は
与えられ続ける。この過程で、その反作用によって対応
する第２コラム８及び第１コラム３にもそれぞれ反対方
向の力Ｆ１（＝−Ｍ１・ｇ１）及びＦ２（＝−Ｍ２・ｇ
２）が加えられることになり、第１コラム３及び第２コ
ラム８の全体が傾く虞があった。また、図５（ｂ）に示
すように、レチクル走査ステージ９に加速度ｇ３を与え
るために、第２コラム８に力Ｆ３が加わるような場合
に、第２コラム８の弱い部分８ａ及び８ｂが変形したり
する虞もあった。

【０００９】このように第１コラム３及び第２コラム８
の傾斜や第２コラム８の変形等が発生すると、レチクル
１１とウエハ６との相対的位置関係が変化して、レチク
ル１１上のパターンをウエハ６上の既に形成されている
回路パターン上に重ねて露光する際の重ね合わせ精度が
悪化するという不都合がある。また、これを防ぐ為に第
１コラム３及び第２コラム８を剛性の高い構造にする
と、それらコラムの設計が困難になると共に、それらコ
ラムが複雑化し且つ大型化するという不都合がある。更
に、各コラムの傾斜や変形による振動が外力となり、レ
チクル１１とウエハ６との位置制御性を劣化させるとい
う不都合もあった。

【００１０】本発明は斯かる点に鑑み、ウエハ又はレチ
クルが載置されたステージを加速する際に、その駆動力
の反作用によりそのステージの支持部が逆方向の力を受
けた場合でも、その支持部の傾きや変形が生じないよう
な投影露光装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による投影露光装
置は、例えば図１に示す如く、所定形状の照明領域内を
照明する照明光学系（１０）と、マスク（１１）を保持
してその照明領域に対してマスク（１１）を相対的に走
査するマスク走査手段（９）と、マスク走査手段（９）
が載置されたマスクベース（１２Ｂ）と、その照明領域
内のマスク（１１）上のパターンの像を感光基板（６）
上に投影する投影光学系（ＰＬ）と、感光基板（６）を
保持してその照明領域の共役像に対して感光基板（６）
を相対的に走査する基板走査手段（５）と、基板走査手
段（５）が載置された基板ベース（１２Ａ）とを有し、
その照明領域に対して相対的にマスク（１１）及び感光
基板（６）を同期して走査することにより、その照明領
域よりも広いマスク（１１）上の領域のパターンの像を
感光基板（６）上に投影する投影露光装置において、基
板ベース（１２Ａ）とは独立に配置された固定部材（１
３）に、基板ベース（１２Ａ）に対して付勢力を与える
基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７Ａ）を設け、感光基
板（６）をその照明領域の共役像に対して相対走査する
際に基板ベース（１２Ａ）に与えられる力と逆方向で大
きさが等しい力を基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７
Ａ）から基板ベース（１２Ａ）に与えるようにしたもの
である。

【００１２】この場合、マスクベース（１２Ｂ）を基板
ベース（１２Ａ）上に載置し、固定部材（１４）にマス
クベース（１２Ｂ）に対して付勢力を与えるマスクベー
ス付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）を設け、マスク（１１）
をその照明領域に対して相対走査する際にマスクベース
（１２Ｂ）に与えられる力と逆方向で大きさが等しい力
をマスクベース付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）からマスク
ベース（１２Ｂ）に与えるようにすることが望ましい。

【００１３】また、基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７
Ａ）及びマスクベース付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）は、
それぞれ非接触で基板ベース（１２Ａ）及びマスクベー
ス（１２Ｂ）に付勢力を与えることが望ましい。非接触
の基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７Ａ）及びマスクベ
ース付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）の一例はリニアモータ
ーである。

【００１４】

【作用】斯かる本発明によれば、基板走査手段（５）を
駆動する際に、基板ベース（１２Ａ）とは別体の固定部
材（１３）の基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７Ａ）よ
り、基板ベース（１２Ａ）に与えられる反作用と同じ大
きさで逆方向の力を同期してその基板ベース（１２Ａ）
に対して与えているので、その基板ベース（１２Ａ）の
傾き又は変形が生じない。従って、マスク（１１）の共
役像と感光基板（６）との重ね合わせ精度が向上する。

【００１５】更に、固定部材（１３）にマスクベース
（１２Ｂ）に対して付勢力を与えるマスクベース付勢手
段（１９Ａ，２１Ａ）を設けた場合には、マスク走査手
段（９）を駆動する際にマスクベース（１２Ｂ）に与え
られる反作用と同じ大きさで逆方向の力をマスクベース
（１２Ｂ）に与えることにより、そのマスクベース（１
２Ｂ）の傾き又は変形が生じない。従って、重ね合わせ
精度等がより向上する。

【００１６】また、基板ベース付勢手段（１５Ａ，１７
Ａ）及びマスクベース付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）が、
それぞれ非接触で基板ベース（１２Ａ）及びマスクベー
ス（１２Ｂ）に付勢力を与える場合には、固定部材（１
３）側の振動等が基板ベース（１２Ａ）側に伝わること
がない。特に、それら基板ベース付勢手段（１５Ａ，１
７Ａ）及びマスクベース付勢手段（１９Ａ，２１Ａ）が
リニアモーター方式である場合には、固定部材（１３）
から基板ベース（１２Ａ）及びマスクベース（１２Ｂ）
に新たな振動が伝わらない。そして、固定部材（１３）
に与えた力によって固定部材（１３）に歪みや変形が生
じた場合も、固定部材（１３）と基板ベース（１２Ａ）
とは独立した防振台等によって支持されている。従っ
て、リニアモーターの電源をオフにすれば、その固定部
材（１３）の歪み等の影響が直接基板ベース（１２Ａ）
に伝わることがない。

【００１７】

【実施例】以下、本発明による投影露光装置の一実施例
につき図１〜図３を参照して説明する。本実施例はスリ
ットスキャン露光方式の投影露光装置に本発明を適用し
たものであり、図１〜図３において図４に対応する部分
には同一符号を付してその詳細説明を省略する。

【００１８】図１は本実施例の投影露光装置を示し、こ
の図１において、ベース１の上に防振ばね２Ａ及び２Ｂ
を介してインバー（低膨張率の合金）よりなる第１コラ
ム１２Ａを載置し、第１コラム１２Ａ上にインバーより
なる第２コラム１２Ｂを固定する。第１コラム１２Ａの
内部にはＹステージ４及びＸステージ５を介してウエハ
６が保持され、第１コラム１２Ａの上段に鏡筒７を介し
て投影光学系ＰＬが保持されている。また、第２コラム
１２Ｂの上部にレチクル走査ステージ９を介してレチク
ル１１が保持されている。本例の照明光学系１０もレチ
クル１１上のスリット状の照明領域を照明し、レチクル
１１をその照明領域に対してＸ方向に走査するのと同期
して、ウエハ６を−Ｘ方向に走査することにより、スリ
ットスキャン露光方式でレチクル１１のパターンの像が
ウエハ６上に露光される。

【００１９】本例ではベース１上の周縁部にインバーよ
りなる固定コラム１３を植設する。そして、第１コラム
１２ＡのＸ方向の一方の側面の凸部１２ａの上面に３個
の永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃを形成し（図１で
は１４Ａのみが現れている）、それら永久磁石埋め込み
部１４Ａ〜１４Ｃに対向するように、固定コラム１３の
凸部１３ａの底部に３個の電磁石部１５Ａ〜１５Ｃを形
成する（図１では１５Ａのみが現れている）。これと対
称に、第１コラム１２ＡのＸ方向の他方の側面の凸部１
２ｂの上面に３個の永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃ
を形成し（図１では１６Ａのみが現れている）、それら
永久磁石埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃに対向するように、
固定コラム１３の凸部１３ｂの底部に３個の電磁石部１
７Ａ〜１７Ｃを形成する（図１では１５Ａのみが現れて
いる）。永久磁石埋め込み部１４Ａ〜１４Ｃと対応する
電磁石部１５Ａ〜１５Ｃとで３組のリニアモーターが構
成されている。

【００２０】また、第２コラム１２Ｂの上端のＸ方向の
一方の凸部１２ｃの上面に２個の永久磁石埋め込み部１
８Ａ及び１８Ｂを形成し（図１では１８Ａのみが現れて
いる）、それら永久磁石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂに
対向するように、固定コラム１３の上端の凸部１３ｃの
底部に２個の電磁石部１９Ａ及び１９Ｂを形成する（図
１では１９Ａのみが現れている）。これと対称に、第２
コラム１２Ｂの上端のＸ方向の他方の凸部１２ｄの上面
に２個の永久磁石埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂを形成し
（図１では２０Ａのみが現れている）、それら永久磁石
埋め込み部２０Ａ及び２０Ｂに対向するように、固定コ
ラム１３の上端の凸部１３ｄの底部に２個の電磁石部２
１Ａ及び２１Ｂを形成する（図１では２１Ａのみが現れ
ている）。

【００２１】図２は図１のＡＡ線に沿う断面図であり、
この図２に示すように、３個の永久磁石埋め込み部１４
Ａ〜１４ＣをＹ方向に配列する。そして、両端の永久磁
石埋め込み部１４Ａ及び１４ＣにはそれぞれＸ方向に順
次永久磁石のＮ極部２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ極部２２
Ｂを埋め込み、中央の永久磁石埋め込み部１４ＢにはＹ
方向に順次永久磁石のＮ極部２２Ａ、Ｓ極部２３及びＮ
極部２２Ｂを埋め込む。また、図１の電磁石部１５Ａは
電磁石をＸ方向に配列して構成し、永久磁石埋め込み部
１４Ｂ及び１４Ｃに対向する電磁石部はそれぞれＹ方向
及びＸ方向に電磁石を配列して構成する。

【００２２】従って、永久磁石埋め込み部１４Ａ及び電
磁石部１５Ａからなるリニアモーター及び永久磁石埋め
込み部１４Ｃ及び対応する電磁石部からなるリニアモー
ターにより、第１コラム１２Ａに対してそれぞれＸ方向
に任意の力Ｆ４Ａ及びＦ４Ｃを付与することができ、中
央の永久磁石埋め込み部１４Ｂ及び対応する電磁石部か
らなるリニアモーターにより、第１コラム１２Ａに対し
てＹ方向に任意の力Ｆ４Ｂを付与することができる。

【００２３】また、第１コラム１２Ａの右側の永久磁石
埋め込み部１６Ａ〜１６Ｃには、それぞれ永久磁石埋め
込み部１４Ａ〜１６Ｃと同様の配列で永久磁石を埋め込
み、対応する電磁石部１７Ａ〜１７Ｃにはそれぞれ対向
する永久磁石の配列方向に電磁石を配列する。そして、
永久磁石埋め込み部１６Ａ，１６Ｂ及び１６Ｃを含むリ
ニアモーターにより、それぞれ第１コラム１２Ａに対し
てＸ方向の任意の力Ｆ５Ａ、Ｙ方向の任意の力Ｆ５Ｂ及
びＸ方向の任意の力Ｆ５Ｃを付与することができる。従
って、左側の３組のリニアモーター及び右側の３組のリ
ニアモーターにより、第１コラム１２Ａに対して水平面
（ＸＹ平面）内で任意の方向の力を付与することがで
き、更に第１コラム１２Ａに対して任意の回転力をも付
与することができる。そこで、スリットスキャン露光時
等にＸステージ５及びＹステージ４に加速度を付与する
際にその反作用が第１コラム１２Ａに加わる場合には、
それら６組のリニアモーターから第１コラム１２Ａに対
してその反作用を打ち消すような力を与えるようにす
る。

【００２４】一方、図１において、第２コラム１２Ｂ上
の左側の２個の永久磁石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂに
はそれぞれＸ方向に永久磁石を埋め込み、対応する電磁
石部１９Ａ及び１９ＢもそれぞれＸ方向に電磁石を配列
して構成する。また、第２コラム１２Ｂ上の右側の２個
の永久磁石埋め込み部２０Ａ及び２０ＢにもそれぞれＸ
方向に永久磁石を埋め込み、対応する電磁石部２１Ａ及
び２１ＢもそれぞれＸ方向に電磁石を配列して構成す
る。従って、永久磁石埋め込み部１８Ａ及び１８Ｂをそ
れぞれ含む２個のリニアモーターにより第２コラム１２
Ｂに対してＸ方向の任意の力が付与され、永久磁石埋め
込み部２０Ａ及び２０Ｂをそれぞれ含む２個のリニアモ
ーターからも第２コラム１２Ｂに対してＸ方向の任意の
力が付与される。

【００２５】この実施例では、レチクル１１はレチクル
走査ステージ９によりＸ方向に走査されるため、第２コ
ラム１２Ｂに対する反作用はＸ方向に働く。従って、第
２コラム１２Ｂに対してその反作用を打ち消すためにリ
ニアモーターから付与する力は、Ｘ方向の力のみで十分
である。なお、レチクル１１をＹ方向にも駆動する場合
には、Ｙ方向への力を独立に付与するためのリニアモー
ターを並列に装着すればよい。

【００２６】次に、本実施例の動作につき図３を参照し
て説明する。本実施例でスリットスキャン露光を開始す
るときには、図３に示すように、レチクル１１にＸ方向
の加速度ｇ１が加わり、ウエハ６に−Ｘ方向の加速度ｇ
２が加わり、それらの反作用として第２コラム１２Ｂに
は−Ｘ方向の力Ｆ１が付与され、第１コラム１２Ａには
Ｘ方向の力Ｆ２が付与される。そこで、永久磁石埋め込
み部１８Ａ及び電磁石部１９Ａよりなるリニアモーター
及び第２コラム１２Ｂの上部の他の３個のリニアモータ
ーにより、第２コラム１２Ｂに対してＸ方向に合計でＦ
１の力を与える。

【００２７】また、永久磁石埋め込み部１４Ａ及び電磁
石部１５Ａよりなるリニアモーター及び第１コラム１２
Ａの側面部の他の５個のリニアモーターにより、第１コ
ラム１２Ａに対して−Ｘ方向に合計でＦ２の力を与え
る。なお、永久磁石部１４Ａ等及び電磁石部１５Ａ等は
共に固定されているので、リニアモーターとして力を発
生する場合でも実際の移動は行われない。これにより、
第１コラム１２Ａ及び第２コラム１２Ｂに働く力がそれ
ぞれ零となり、第１コラム１２Ａ及び第２コラム１２Ｂ
の傾斜又は変形は生ずることがなく、レチクル１１の共
役像とウエハ６との重ね合わせ精度は高精度に維持され
る。

【００２８】また、図２に示すように、Ｙステージ４の
位置及びＸステージ５の位置によりステージ系の重心が
投影光学系ＰＬの光軸からずれた場合で、且つＹステー
ジ４をも駆動するような場合には、そのステージ系には
２種類の力ベクトル〈ＦＹ〉及び〈ＦＸ〉が作用する。
このような場合には、図２において左側の３個のリニア
モーターにより第１コラム１２Ａに付与する力ベクトル
を〈ＦＡ〉、右側の３個のリニアモーターにより第１コ
ラムに付与する力ベクトルを〈ＦＢ〉として、これらの
力配分を次のようにする。〈ＦＡ〉＋〈ＦＢ〉＝〈ＦＸ〉＋〈ＦＹ〉これにより、第１コラム１２Ａに作用するねじれ力が零
になる。

【００２９】なお、リニアモーターは発熱量が比較的大
きいが、本例のリニアモーターはレチクル１１、投影光
学系ＰＬ及びウエハ６を含む投影露光部から離れて配置
されているので、その影響は無視できる程度である。但
し、それらリニアモーターにそれぞれ空冷又は液冷方式
等の発熱防止機構を装着することにより、その発熱の影
響をより小さくすることができる。

【００３０】また、上述実施例では、第１コラム１２Ａ
及び第２コラム１２Ｂに対して固定コラム１３からリニ
アモーター方式で力を付与しているが、例えば圧縮空気
を吹き付けるような方式で第１コラム１２Ａ及び第２コ
ラム１２Ｂに対して力を与えるようにしてもよい。更
に、例えば固定コラム１３と第１コラム１２Ａとの間に
圧縮コイルばねを介装して、固定コラム１３側からその
圧縮コイルばねを介して第１コラム１２Ａに力を付与す
るようにしてもよい。圧縮コイルばねを用いる場合に
は、ほとんど非接触方式と同等に、固定コラム１３側の
振動等が第１コラム１２Ａに伝わるのを防止することが
できる。

【００３１】なお、上述実施例では、固定コラム１３を
ベース１上に配置しているが、ベース１以外であって
も、ステージ４，５，９の査定時に振動しない部材が存
在すれば、この部材に固定コラム１３を固定するように
しても良い。また、上述実施例ではウエハ側の電磁石部
１５Ａ〜１５Ｃ，１７Ａ〜１７Ｃとレチクル側の電磁石
部１９Ａ〜１９Ｃ，２１Ａ〜２１Ｃは共に固定コラム１
３に固定されているが、ウエハ側の電磁石部とレチクル
側の電磁石部とをそれぞれ別の固定コラムに固定するよ
うにしても良い。

【００３２】また、図１の実施例では、第１コラム１２
Ａの内部にＹステージ４及びＸステージ５が収納され、
その底部とベース１との間に防振ばね２Ａ，２Ｂが介装
されているが、その第１コラム１２Ａを鏡筒７の保持部
を中心として左右に拡げて、このように拡げられた部分
とベース１との間にそれぞれ防振ばね２Ａ，２Ｂを介装
しても良い。この場合には、第１コラムの鏡筒７の保持
部の下に、Ｕ字型のコラムを好ましくは一体の金物とし
て取り付けて、このＵ字型のコラム上にそれらＹステー
ジ４及びＸステージ５を載置すると良い。このような構
成により、振動の影響が更に低減される。

【００３３】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、基板ベースに与えられ
る力と逆方向で大きさが等しい力を基板ベース付勢手段
からその基板ベースに与えるようにしたので、基板ベー
スの傾きや変形が生ずることがなく、マスクと感光基板
との相対位置関係が変化しにくいという利点がある。ま
た、マスクベースに与えられる力と逆方向で大きさが等
しい力をマスクベース付勢手段からそのマスクベースに
与えるようにした場合には、マスクベースの傾きや変形
をも抑制することができ、マスクと感光基板との相対位
置関係をより安定に維持できる利点がある。更に、基板
ベース及びマスクベースにかかる力が零になるため、基
板ベース及びマスクベースとして剛性の比較的小さな部
材を使用することができ、設計上及び製造上も有利であ
る。

【００３５】また、その基板ベース付勢手段及びそのマ
スクベース付勢手段が、それぞれ非接触でその基板ベー
ス及びそのマスクベースに付勢力を与える場合には、固
定部材側の振動等がそれら基板ベース及びマスクベース
に伝わることが無い。特に、それら基板ベース付勢手段
及びマスクベース付勢手段が、それぞれリニアモーター
である場合には、全体の構成が簡略化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による投影露光装置の一実施例を示す構
成図である。

【図２】図１のＡＡ線に沿う断面図である。

【図３】図１の実施例で第１コラム１２Ａ及び第２コラ
ム１２Ｂに作用する力を示す説明図である。

【図４】従来の投影露光装置を示す構成図である。

【図５】（ａ）は図４の投影露光装置がステージ駆動時
に傾斜する状態を示す図、（ｂ）は図４の投影露光装置
のコラムがステージ駆動時に変形する様子を示す図であ
る。

【符号の説明】

１ベース２Ａ，２Ｂ防振ばね４Ｙステ−ジ５Ｘステージ６ウエハＰＬ投影光学系７鏡筒９レチクル走査ステージ１０照明光学系１１レチクル１２Ａ第１コラム１２Ｂ第２コラム１３固定コラム１４Ａ，１６Ａ，１８Ａ，２０Ａ永久磁石埋め込み部１５Ａ，１７Ａ，１９Ａ，２１Ａ電磁石部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定形状の照明領域内を照明する照明光
学系と、マスクを保持して前記照明領域に対して前記マ
スクを相対的に走査するマスク走査手段と、該マスク走
査手段が載置されたマスクベースと、前記照明領域内の
前記マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投
影光学系と、前記感光基板を保持して前記照明領域の共
役像に対して前記感光基板を相対的に走査する基板走査
手段と、該基板走査手段が載置された基板ベースとを有
し、前記照明領域に対して相対的に前記マスク及び前記感光
基板を同期して走査することにより、前記照明領域より
も広い前記マスク上の領域のパターンの像を前記感光基
板上に投影する投影露光装置において、前記基板ベースとは独立に配置された固定部材に、前記
基板ベースに対して付勢力を与える基板ベース付勢手段
を設け、前記感光基板を前記照明領域の共役像に対して
相対走査する際に前記基板ベースに与えられる力と逆方
向で大きさがほぼ等しい力を前記基板ベース付勢手段か
ら前記基板ベースに与えるようにした事を特徴とする投
影露光装置。
【請求項２】前記マスクベースを前記基板ベース上に
載置し、前記固定部材に前記マスクベースに対して付勢
力を与えるマスクベース付勢手段を設け、前記マスクを
前記照明領域に対して相対走査する際に前記マスクベー
スに与えられる力と逆方向で大きさがほぼ等しい力を前
記マスクベース付勢手段から前記マスクベースに与える
ようにした事を特徴とする請求項１記載の投影露光装
置。
【請求項３】前記基板ベース付勢手段及び前記マスク
ベース付勢手段は、それぞれ非接触で前記基板ベース及
び前記マスクベースに付勢力を与える事を特徴とする請
求項２記載の投影露光装置。
【請求項４】前記基板ベース付勢手段及び前記マスク
ベース付勢手段は、それぞれリニアモーターである事を
特徴とする請求項３記載の投影露光装置。