JP4586872B2 - 露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明において、一例として、その柔構造の支持手段はロッドを有している。これによって、その支持手段を容易に構成できる。
また、本発明において、さらに、その構造体とは分離して配置されるベース部材(7)を備え、その基板ステージは、その基板を保持する基板テーブル(20)と、そのベース部材上でその基板テーブルを支持する少なくとも3つの支持方向に対して伸縮可能な支持脚(31A〜31C)と、この支持脚とそのベース部材との間に配置された流体軸受け機構(32A〜32C)と、を有することができる。
また、支持方向に対して所定範囲内で伸縮可能な支持脚の伸縮量を制御することにより、基板テーブルの傾斜角、又は高さ方向の位置を制御することができ、簡単な構成で基板(3)の表面を投影光学系(2)の像面に合わせ込んで露光を行うことができる。
また、本発明による露光方法は、本発明の露光装置を用いてそのパターンの像を基板上に転写するものである。
また、本発明によるデバイスの製造方法は、本発明の露光装置を用いて基板を露光することを含むものである。
図1は、本例の投影露光装置を示し、この図1において、露光時には照明光学系(不図示)からの水銀ランプのi線、又はKrF、ArF、F2 等のエキシマレーザ光等の露光光が、レチクル1のパターン面の照明領域を照明する。そして、レチクル1の照明領域内のパターン像が投影光学系2を介して所定の投影倍率β(βは通常1/4,1/5等)で、フォトレジストが塗布されたウエハ3上に投影露光される。以下、振動がない状態での投影光学系2の光軸AXに平行にZ軸を取り、その光軸AXに垂直な平面内での直交座標系をX軸、Y軸として説明する。
レチクルステージ4は、特開平8−63231号公報に開示されているようなガイドレスステージであり、X軸方向、Y軸方向、及び投影光学系2の光軸AX回りの回転方向に駆動自在である。また、レチクルステージ4の側面に固定されたコイルと、対向してレチクルベース9上に固定された1対のモータマグネット11A,11Bとからレチクルステージ4を駆動する1対のリニアモータが構成され、レチクルベース9は構造体6の上面10に対して空気軸受けのような流体軸受け(不図示)を介して支持されている。モータマグネット11A,11Bの端部から構造体6上に設置されたコイルユニット12A,12Bの端部が挿入され、モータマグネット11A,11Bとコイルユニット12A,12Bとから構成される1対のリニアモータによって、構造体6に対して、レチクルベース9をX軸方向に位置決めする。そして、構造体6は4本の脚部6aを介して防振パッド49により床上に支持されており、床からの振動を低減する。
図2は、本例の露光装置の投影光学系2を示し、この図2において、光軸AX上で物体平面15と像面16を縮小投影倍率比β(=a/bとする)で内分する点を投影光学系2の基準点17とする。この基準点17を中心として光軸AXと直交する平面内の任意の軸に対して投影光学系2が微小回転しても、物体平面15と像面16の位置関係は変化しない。この基準点17を通り光軸AXに垂直な平面上に、参照鏡13,14の中心が設定され、これらの中心にレーザビームが照射されている。従って、投影光学系2が外乱振動により揺動した場合であっても、基準点17を含み、かつ投影光学系2の光軸AXと直交する平面と投影光学系2を包む鏡筒の外面との交点(参照鏡13,14)と、レチクルステージ4、及びウエハステージ5との相対変位を常にレーザ干渉計18X,18Yで計測し、その計測値と目標値とが一致するようにレチクルステージ4、及びウエハステージ5を制御することにより、ウエハ3上に形成されるパターンの位置ずれを防ぐことができる。
図1に示すように、ウエハステージ5は、ウエハベース7上で位置決めされ、ウエハベース7は、垂直方向に数百μmの変位が可能なエレベータ駆動部8により支持されている。また、ウエハベース7とエレベータ駆動部8との間に粘弾性体(不図示)が備えられており、床からの振動を低減することができるようになっている。また、ウエハベース7には5つの速度センサ(図16にその内の2つ36A,36Bを示す)が備えられ、ウエハステージ5の動きが計測されている。なお速度センサの代わりに加速度センサを使用してもよい。
図5は、図3の案内部材22A及び案内軸22Bを拡大して示し、この図5において、案内軸22Bの両端部には弾性体としてのばね27A,27Bが備えられている。ウエハテーブル20がキャリア21に対して往復運動を行う際には、先ず図5(a)に示すように、ウエハテーブル20の持つ運動エネルギーが案内部材22Aを介してポテンシャルエネルギーに変換され、ばね27Aに貯えられる。次に、図5(b)のように、ばね27Aに貯えられたポテンシャルエネルギーは再びウエハテーブル20の運動エネルギーに変換され、図1のウエハステージ制御系25はその運動エネルギーを利用してウエハテーブル20を−Vの速度で等速移動するように制御する。そして、図5(c)のように、支持部材22Aがバネ27Bに当たると、バネ27Bには+Fの反発力が発生し再びウエハテーブル20の運動エネルギーはポテンシャルエネルギーに変換され、ばね27Bに貯えられる。従って、ウエハテーブル20の往復運動を行う際に消費される力学的エネルギーは主にウエハテーブル20の空気に対する粘性抵抗と弾性体が変形するときの発熱とだけになり、リニアモータ23A,24A及び23B,24Bの発熱量は極めて小さなものとなる。
図10は、ばね27A,27Bを備えた案内軸22Bの端部におけるばね27A,27Bの抗力を示し、この図10において、横軸は案内軸22Bの端部からの距離D(m)、縦軸はばね27A,27Bの抗力FP (N)を表す。ウエハテーブル20を案内軸22Bの端部に静止位置決めするためには、リニアモータ23A,24A及び23B,24Bがばね27A,27Bの抗力とつり合うだけの大きな推力(50N)を発生する必要があり、発熱量が増加してしまう。そこで、このような場合には、案内軸22Bの端部に磁気部材を取り付け、その吸引力を利用してウエハテーブル20を静止位置決めする際に生じる発熱量を低減することが望ましい。
図15(a)は、ウエハテーブル20の支持脚31A等を示す拡大図、図15(b)はその側面図であり、この図15において、支持脚31Aにはすり割り部31Aa及び31Abの底部が変位部34となっている。また変位部34の底部に球面軸受け35を介して流体軸受け32Aが回転できるように取り付けられている。同様に、図3に示すように、他の支持脚31B,31Cにも流体軸受け32B,32Cが取り付けられている。流体軸受け32Aは図3のウエハベース7の上に静圧気体軸受け方式で載置されている。また、図3(c)の支持脚31Bで示すように、支持脚31A〜31Cにピエゾアクチュエータ33が取り付けられ、ピエゾアクチュエータ33は取り付け部材53を介してウエハテーブル20に固定されている。
図17(a)は、本例の露光装置のウエハ搬送機構の一部を示す平面図、図17(b)はその側面図であり、この図17において、先ず、露光を終えたウエハ3Aを載置したウエハステージ5は露光終了位置Aからウエハ搬出位置Bに移動し、ウエハ3Aは位置P1に移動する。このとき、ウエハ搬送アーム40Aの3本のアームはウエハテーブル20の深溝38とウエハ3Aとに囲まれた空間に入り込み、ウエハテーブル20と接触することはない。ウエハ搬送アーム40Aは、回転及びZ方向への伸縮ができる回転上下部69Aを介して支持部67Aに載置され、支持部67Aは駆動部68Aによって搬送ベース45上を移動する。他方のウエハ搬送アーム40Bにも、支持部67B、回転上下部69B、及び駆動部(不図示)が備えられている。ウエハステージ5が静止すると、ウエハテーブル20がウエハ3Aの真空吸着による固定を解除し、ウエハ搬送アーム40Aがウエハ3Aを真空吸着し、回転上下部69Aによって上昇する。そして、露光を終えたウエハ3Aが図18に示されているウエハカセット48に回収される。
Claims (14)
- 投影光学系を介して基板上にパタ−ンを露光する露光装置において、
前記基板を保持して移動する基板ステージと、
前記基板ステージとは分離した構造体と、
前記構造体から前記投影光学系を吊り下げ支持する柔構造の支持手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記柔構造の支持手段はロッドを有していることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記柔構造の支持手段は前記投影光学系の外周部を吊り下げ支持することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記構造体とは分離して配置されるベース部材を備え、
前記基板ステージは、
前記基板を保持する基板テーブルと、
前記ベース部材上で前記基板テーブルを支持する少なくとも3つの支持方向に対して伸縮可能な支持脚と、
該支持脚と前記ベース部材との間に配置された流体軸受け機構と、を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記支持脚は、前記ベース部材の表面に平行な方向の変位を前記ベース部材の表面に垂直な方向の変位に変換するリンク機構を有することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 露光時に前記基板は走査露光されると共に、
前記基板の傾斜角及び高さを検出し、該検出結果に基づいて、前記伸縮可能な支持脚を制御することを特徴とする請求項4又は5に記載の露光装置。 - 前記構造体と前記基板ステージとは、防振機構を介して接続されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターンが形成されたマスクを保持するマスクステージと、
前記マスクステージと前記構造体との間に設けられ、該構造体に伝達する振動を低減する振動低減部と、をさらに備えたことを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記基板ステージと前記マスクステージとの少なくとも一方の位置を計測する干渉計を有し、該干渉計は、前記構造体に設置されていることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記マスクステージを案内するステージベースを有し、該ステージベースは前記構造体に移動可能に支持されていることを特徴とする請求項8又は9に記載の露光装置。
- 前記ステージベースは、該ステージベースの変位量を測定した結果を用いて位置決めされることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。
- 前記支持手段は、前記投影光学系の物体平面よりも下から該投影光学系を吊り下げ支持することを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記パターンの像を基板上に転写することを特徴とする露光方法。
- 請求項1から12のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することを含むデバイスの製造方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63153819A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-27 | Canon Inc | 露光装置のステ−ジ搭載機構 |
JPH01129415A (ja) * | 1987-11-16 | 1989-05-22 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置における構造体の結合方法 |
JPH0497513A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-03-30 | Toshiba Corp | 光転写装置 |
JPH06163353A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH08293455A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
JPH09178486A (ja) * | 1995-10-24 | 1997-07-11 | Yokogawa Electric Corp | 防振装置 |
JPH09283415A (ja) * | 1996-04-18 | 1997-10-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
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Patent Citations (8)
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---|---|---|---|---|
JPS63153819A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-27 | Canon Inc | 露光装置のステ−ジ搭載機構 |
JPH01129415A (ja) * | 1987-11-16 | 1989-05-22 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置における構造体の結合方法 |
JPH0497513A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-03-30 | Toshiba Corp | 光転写装置 |
JPH06163353A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH08293455A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
JPH09178486A (ja) * | 1995-10-24 | 1997-07-11 | Yokogawa Electric Corp | 防振装置 |
JPH09283415A (ja) * | 1996-04-18 | 1997-10-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
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