JPH0547733A - ウエーハの洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体製造工程のエッチング，洗浄時におけ
るウエーハからの発塵防止の手法に関し，簡単な構造で
発塵を生じない洗浄の手法を得ることを目的とする。 【構成】 ウエーハのシャワー式洗浄方法において, ウ
エーハ１を収納するキャリア２の内壁に洗浄水３が当た
らないように, ウエーハ１の上部から洗浄水３を掛ける
ように，また，ウエーハ１をキャリア２に搭載して水洗
槽に挿入後, 送水管４のシャワーバルブ５がウエーハ１
の上部, 或いは斜め上に移動し, 作動するように，ま
た，シャワーバルブ５の取付けピッチがウエーハ１のキ
ャリア２に対する収納ピッチと同一であるように，更
に，シャワーバルブ５の吹き出し口は，細長いスリット
形状であるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は，半導体製造工程のエッ
チング，洗浄時におけるウエーハからの発塵防止の手法
に関する。

【０００２】エンチング，洗浄工程の中でも，特に弗酸
処理でのウエーハからの発塵，そしてそのまま塵（Part
icle) がウエーハへ付着するという現状況を改める必要
がある。

【０００３】

【従来の技術】図３は従来例の説明図である。図におい
て，７はウエーハ，８はキャリア，９は洗浄水，10は送
水管, 11はシャワーバルブである。

【０００４】従来，ウエーハの弗酸処理後の水洗におい
て, シャワー水洗は行わない場合が多かった。また, 図
3 に示すように, シャワー水洗を行う場合でも, 発塵が
多く，シャワーによる塵の付着量減少の効果が上がって
いなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】シャワー水洗を行って
も，発塵が起こる原因として，第１にシャワーバルブ11
から噴出する洗浄水９が一度キャリア８に触れてから，
ウエーハ７に当たること，第２にシャワーバルブ11の吹
き出し口が少なく，洗浄水９がウエーハ７に一様に当た
らないこと等があり，従来の洗浄槽にシャワーバルブ11
の吹き出し口を沢山つけることは構造上無理がある。

【０００６】本発明は, 以上の点を鑑み, 簡単な構造で
発塵を生じない洗浄の手法を得ることを目的として提供
される。

【０００７】

【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理説明
図である。図において，１はウエーハ，２はキャリア，
３は洗浄水，４は送水管，５はシャワーバルブ，６は吹
き出し口である。

【０００８】上記の問題点を解決するため，本発明で
は，シャワーのバルブを可動式にし，ウエーハを槽に沈
めてからバルブを移動し，キャリアに水が当たらない位
置からシャワー水洗を行う。

【０００９】また，シャワーの吹き出し口のピッチをウ
エーハのピッチと同間隔にした。即ち，本発明の目的
は，ウエーハのシャワー式洗浄方法において,図１に示
すように，該ウエーハ１を収納するキャリア２の内壁に
洗浄水３が当たらないように, 該ウエーハ１の上部から
洗浄水３を掛けることにより，また，前記ウエーハ１を
キャリア２に搭載して水洗槽４に挿入後, 送水管４のシ
ャワーバルブ５がウエーハ１の上部, 或いは斜め上に移
動し, 作動することにより，或いは，前記シャワーバル
ブ５の取付けピッチが前記ウエーハ１の該キャリア２に
対する収納ピッチと同一であることにより，更に，前記
シャワーバルブ５の吹き出し口６は，細長いスリット形
状であることにより達成される。

【００１０】

【作用】上記の構造にすれば，シャワーの水はウエーハ
だけに当たり，また，全てのウエーハに一様に水が当た
ることとなり，ウエーハからの発塵を抑えることができ
る。

【００１１】さらに，シャワーの吹き出し口の形状をス
リット状にすることにより，ウエーハに当たる水の量も
一様となる。

【００１２】

【実施例】図１は本発明の原理説明図，図２は本発明の
一実施例の説明図である。本発明の一実施例について，
図１，図２により説明する。矢印は水の流れを示す。

【００１３】図１は送水管４のシャワーバルブ５の中を
洗浄水３が通り，ウエーハ１に洗浄水３が吹き出し口６
よりシャワー洗浄される様子を示す。図のように，ウエ
ーハ１の間に一つづつシャワーバルブ５の吹き出し口６
を取付ければ，ウエーハ１に一様に水が当たる。

【００１４】図２（ａ）は，シャワーバルブ５の一つを
拡大したものの断面図であり，図２（ｂ）と（ｃ）はそ
のＡーＡ’ラインでカットしたシャワーバルブ５の断面
図である。

【００１５】シャワーバルブ５断面の洗浄水３の吹き出
し口６は丸型，角形どちらでも良く，斜線で囲まれた部
分から洗浄水３が吹き出すようになっている。表１はウ
エーハ１への塵の粒子（Particle) の付着数の比較を示
したものである。

【００１６】

【表１】

【００１７】条件Ａはウエーハに対するシャワー洗浄を
行なわなかった場合，条件Ｂはシャワー洗浄をキャリア
の横から行った場合，条件Ｃは本発明の方法により，シ
ャワー洗浄の水がキャリアに触らない様に行った場合で
ある。

【００１８】表中，Ｓは 0,3μｍ〜 0.5μｍ，Ｍは 0.5
μｍ〜 2.0μｍ，Ｌは２μｍ以上の塵の粒子サイズであ
る。キャリアに触らないようにシャワー水洗を行えば，
発塵量は可なり減少することが分かる。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように, 本発明によれば,
ウエーハから発塵し，ウエーハへ付着する塵の粒子数が
減少する。

【００２０】また，シャワー水洗を行うことにより，水
洗の効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の原理説明図

【図２】 本発明の一実施例の説明図

【図３】 従来例の説明図

【符号の説明】

１ ウエーハ ２ キャリア ３ 洗浄水 ４ 送水管 ５ シャワーバルブ ６ 吹き出し口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 健 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 中嶋 和司 愛知県春日井市高蔵寺町二丁目1844番２ 富士通ヴイエルエスアイ株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエーハ(1) のシャワー式洗浄方法にお
   いて, 該ウエーハ(1) を収納するキャリア(2) の内壁に洗浄水
   (3) が当たらないように, 該ウエーハ(1) の上部から洗
   浄水(3) を掛けることを特徴とするウエーハの洗浄方
   法。
2. 【請求項２】 前記ウエーハ(1) をキャリア(2) に搭載
   して水洗槽(4) に挿入後, 送水管(4) のシャワーバルブ
   (5) がウエーハ(1) の上部, 或いは斜め上に移動し, 作
   動することを特徴とする請求項１記載のウエーハの洗浄
   方法。
3. 【請求項３】 前記シャワーバルブ(5) の取付けピッチ
   が前記ウエーハ(1)の該キャリア(2) に対する収納ピッ
   チと同一であることを特徴とする請求項１，或いは２記
   載のウエーハの洗浄方法。
4. 【請求項４】 前記シャワーバルブ(5) の吹き出し口
   は，細長いスリット形状であることを特徴とする請求項
   １，或いは２，或いは３記載のウエーハの洗浄方法。